JP2915193B2 - 新規なシクロブタン誘導体及びその製造法 - Google Patents
新規なシクロブタン誘導体及びその製造法Info
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規シクロブタン誘導体
及びその製造法に関するものである。
及びその製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】抗ウィルス作用あるいは制癌作用を有す
る核酸関連物質として、下式（Ａ）
る核酸関連物質として、下式（Ａ）
【０００３】
【化４】
【０００４】で示される化合物が知られており、又この
化合物は医薬品として期待される化合物である。（特開
平２−６４７８、特開平３−９５１６５）
化合物は医薬品として期待される化合物である。（特開
平２−６４７８、特開平３−９５１６５）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記式
（Ａ）で示される化合物の合成上重要な中間体として期
待される新規シクロブタン誘導体及びその製造法を提供
するものである。
（Ａ）で示される化合物の合成上重要な中間体として期
待される新規シクロブタン誘導体及びその製造法を提供
するものである。
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（１）
【０００６】
【化５】
【０００７】〔式中、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ独立に水
素原子または水酸基の保護具を示し、Ｘは−ＮＣＯまた
は−ＣＯＯＲ3 （Ｒ3 は水素原子またはＣ1 〜Ｃ4 の低
級アルキル基を示す。）で示されるオキシカルボニル基
を示す。〕で表わされる新規シクロブタン誘導体。及
び、 2) 一般式（２）
素原子または水酸基の保護具を示し、Ｘは−ＮＣＯまた
は−ＣＯＯＲ3 （Ｒ3 は水素原子またはＣ1 〜Ｃ4 の低
級アルキル基を示す。）で示されるオキシカルボニル基
を示す。〕で表わされる新規シクロブタン誘導体。及
び、 2) 一般式（２）
【０００８】
【化６】
【０００９】〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記と同じ〕で表
わされる化合物に光を作用させることを特徴とする一般
式（１ａ）
わされる化合物に光を作用させることを特徴とする一般
式（１ａ）
【００１０】
【化７】
【００１１】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 は前記と同じ〕
で表される新規シクロブタン誘導体の製造法に関する。
で表される新規シクロブタン誘導体の製造法に関する。
【００１２】一般式（１）（１ａ）及び（２）におい
て、水酸基の保護基としては、一般に保護具として使用
されるものならば特に制限はなく、エステル型保護基、
例えばアセチル基、ベンゾイル基等のアシル基、又はエ
ーテル型保護基、例えばはtert−ブチルジメチルシリル
基、tert−ブチルジフェニルシリル基等の置換シリル
基、メトキシメチル基等の（Ｃ1 〜Ｃ4 アルコキシ）Ｃ
1 〜Ｃ4 アルキル基、テトラヒドロピラニル基等の環状
アセタール基、又はベンジル基、４−メトキシベンジル
基、トリチル基等の置換又は無置換フェニル基で一つ以
上置換されたメチル基が挙げられる。一般式（１）、
（１ａ）において、低級アルキル基としては、メチル、
エチル、プロピル、tertブチル基等が挙げられる。
て、水酸基の保護基としては、一般に保護具として使用
されるものならば特に制限はなく、エステル型保護基、
例えばアセチル基、ベンゾイル基等のアシル基、又はエ
ーテル型保護基、例えばはtert−ブチルジメチルシリル
基、tert−ブチルジフェニルシリル基等の置換シリル
基、メトキシメチル基等の（Ｃ1 〜Ｃ4 アルコキシ）Ｃ
1 〜Ｃ4 アルキル基、テトラヒドロピラニル基等の環状
アセタール基、又はベンジル基、４−メトキシベンジル
基、トリチル基等の置換又は無置換フェニル基で一つ以
上置換されたメチル基が挙げられる。一般式（１）、
（１ａ）において、低級アルキル基としては、メチル、
エチル、プロピル、tertブチル基等が挙げられる。
【００１３】一般式（１）におけるＸが−ＣＯＯＲ3 で
ある一般式（１ａ）の化合物を得るには、一般式（２）
の化合物に光を作用させればよい。この光を作用させる
反応として、例えばwolff 転位反応があげられる。具体
的には、メタノール、エターノルやブタノールなどのア
ルコール、水あるいは、それらのアルコールや水とアセ
トン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ＤＭＦあるい
はアセトニトリル等化学的あるいは光化学的に不活性な
溶媒との混合溶媒中で０℃〜８０℃好ましくは２０℃〜
４０℃で波長３００ｎｍ以上、好ましくは３００〜５８
０ｎｍで２００Ｗ以上好ましくは４００Ｗ以上の出力を
有するランプを用いた光を１〜８時間、好ましくは２〜
５時間、一般式（２）の化合物に作用させればよい。な
お、この反応をアルコールの存在下におこなうとＲ3 が
アルキルである化合物が、又、酸もしくはアルカリ及び
水分の存在下におこなうとＲ3 がＨの化合物が得られ
る。又、Ｒ3 がＨの化合物は、Ｒ3 がアルキルの化合物
に水又はメタノール等のアルコールなどの溶媒中、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、あるいは水酸化リチウ
ム等の水酸化物や炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のア
ルカリ金属炭酸塩などを作用させて常法により加水分解
することによっても得ることができる。
ある一般式（１ａ）の化合物を得るには、一般式（２）
の化合物に光を作用させればよい。この光を作用させる
反応として、例えばwolff 転位反応があげられる。具体
的には、メタノール、エターノルやブタノールなどのア
ルコール、水あるいは、それらのアルコールや水とアセ
トン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ＤＭＦあるい
はアセトニトリル等化学的あるいは光化学的に不活性な
溶媒との混合溶媒中で０℃〜８０℃好ましくは２０℃〜
４０℃で波長３００ｎｍ以上、好ましくは３００〜５８
０ｎｍで２００Ｗ以上好ましくは４００Ｗ以上の出力を
有するランプを用いた光を１〜８時間、好ましくは２〜
５時間、一般式（２）の化合物に作用させればよい。な
お、この反応をアルコールの存在下におこなうとＲ3 が
アルキルである化合物が、又、酸もしくはアルカリ及び
水分の存在下におこなうとＲ3 がＨの化合物が得られ
る。又、Ｒ3 がＨの化合物は、Ｒ3 がアルキルの化合物
に水又はメタノール等のアルコールなどの溶媒中、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、あるいは水酸化リチウ
ム等の水酸化物や炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のア
ルカリ金属炭酸塩などを作用させて常法により加水分解
することによっても得ることができる。
【００１４】一般式（１）で示される化合物のうち、一
方の異性体を得たい場合は、クロマトグラフィー等によ
って分離するか、又は下式の方法によって分離すればよ
い。
方の異性体を得たい場合は、クロマトグラフィー等によ
って分離するか、又は下式の方法によって分離すればよ
い。
【００１５】
【化８】
【００１６】また、一般式（Ｉ）で示される化合物のう
ち、光学活性体を得たい場合は、ラセミ体として製造し
た一般式（Ｉ）で示される化合物でＸが−ＣＯＯＨであ
るカルボン酸と光学活性なアミン等各種のアミンと混合
して得られるジアステレオマー塩から、各々のジアステ
レオマーをクロマトグラフィー法及び結晶化等で単離
し、各々のジアステレオマーを分解して光学活性なカル
ボン酸に導びくか、あるいは、光学活性な原料を使用す
ることによって光学活性体として製造すればよい。
ち、光学活性体を得たい場合は、ラセミ体として製造し
た一般式（Ｉ）で示される化合物でＸが−ＣＯＯＨであ
るカルボン酸と光学活性なアミン等各種のアミンと混合
して得られるジアステレオマー塩から、各々のジアステ
レオマーをクロマトグラフィー法及び結晶化等で単離
し、各々のジアステレオマーを分解して光学活性なカル
ボン酸に導びくか、あるいは、光学活性な原料を使用す
ることによって光学活性体として製造すればよい。
【００１７】一般式（１）におけるＸが−ＮＣＯである
化合物は、上記方法で得られた一般式（１ａ）の化合物
（Ｒ3 ＝Ｈ）から、シュミット転位、ロフセン転位、ホ
フマン転位及びクルチウス転位などの転位反応により、
得ることができる。シュミット転位は硫酸あるいはポリ
リン酸等の溶媒中、アジ化ナトリウム等の試薬を式（１
ａ）の化合物に、この化合物に対し、１〜２当量３０〜
６０℃で５〜１０時間作用させ、次いで得られた酸アジ
ドをベンゼン、トルエン等の不活性溶媒中で１００〜１
２０℃、１〜３時間加熱すればよい。ロフセン転位は、
例えば硫酸あるいはポリリン酸等の溶媒中、ビドロキシ
ルアミン１〜２当量を１５０〜１７０℃好ましくは１６
０〜１６５℃で１０〜３０分間作用させればよい。この
場合、一般式（１）におけるＸが−ＮＣＯである化合物
だけでなく、さらに加水分解された−ＮＨ2 である化合
物が得られる。ホフマン転位は、例えば一般式（１ａ）
の化合物（Ｒ3 ＝Ｈ）を通常の方法つまりシュウ酸クロ
リドあるいは塩化チオニル等を作用させて酸クロリドに
した後、アンモニアガスを反応させて、酸アミド誘導体
へと変換する。この酸アミド誘導体を水中、水酸化ナト
リウム４〜６当量及び臭素１〜１．２当量を反応させ
て、７５〜８０℃で１０〜３０分間加熱すればよい。こ
の場合、ロッセン転位の場合と同様一般式（１）におけ
るＸが−ＮＨ2 である化合物も得られる。 クルチウス転位は、例えばアセトン、テトラヒドロフラ
ン等の溶媒中、クロロギ酸エステル及びトリエチルアミ
ン等の塩基を式（１）の化合物に夫々２〜３当量０〜１
０℃、３０〜６０分間作用させ、混合酸無水物を生成さ
せた後、その温度でアジ化ナトリウム３〜４当量を加
え、３０〜６０分間反応させる。次いで得られた酸アジ
ドをベンゼン、トルエン等不溶性溶媒中で１００〜１２
０℃、１〜３時間加熱すればよい。本発明の化合物の製
造経路を例示すると、次の通りである。
化合物は、上記方法で得られた一般式（１ａ）の化合物
（Ｒ3 ＝Ｈ）から、シュミット転位、ロフセン転位、ホ
フマン転位及びクルチウス転位などの転位反応により、
得ることができる。シュミット転位は硫酸あるいはポリ
リン酸等の溶媒中、アジ化ナトリウム等の試薬を式（１
ａ）の化合物に、この化合物に対し、１〜２当量３０〜
６０℃で５〜１０時間作用させ、次いで得られた酸アジ
ドをベンゼン、トルエン等の不活性溶媒中で１００〜１
２０℃、１〜３時間加熱すればよい。ロフセン転位は、
例えば硫酸あるいはポリリン酸等の溶媒中、ビドロキシ
ルアミン１〜２当量を１５０〜１７０℃好ましくは１６
０〜１６５℃で１０〜３０分間作用させればよい。この
場合、一般式（１）におけるＸが−ＮＣＯである化合物
だけでなく、さらに加水分解された−ＮＨ2 である化合
物が得られる。ホフマン転位は、例えば一般式（１ａ）
の化合物（Ｒ3 ＝Ｈ）を通常の方法つまりシュウ酸クロ
リドあるいは塩化チオニル等を作用させて酸クロリドに
した後、アンモニアガスを反応させて、酸アミド誘導体
へと変換する。この酸アミド誘導体を水中、水酸化ナト
リウム４〜６当量及び臭素１〜１．２当量を反応させ
て、７５〜８０℃で１０〜３０分間加熱すればよい。こ
の場合、ロッセン転位の場合と同様一般式（１）におけ
るＸが−ＮＨ2 である化合物も得られる。 クルチウス転位は、例えばアセトン、テトラヒドロフラ
ン等の溶媒中、クロロギ酸エステル及びトリエチルアミ
ン等の塩基を式（１）の化合物に夫々２〜３当量０〜１
０℃、３０〜６０分間作用させ、混合酸無水物を生成さ
せた後、その温度でアジ化ナトリウム３〜４当量を加
え、３０〜６０分間反応させる。次いで得られた酸アジ
ドをベンゼン、トルエン等不溶性溶媒中で１００〜１２
０℃、１〜３時間加熱すればよい。本発明の化合物の製
造経路を例示すると、次の通りである。
【００１８】
【化９】
【化１０】
【００１９】上記製造経路において、原料である化合物
１は、公知の化合物である（『ジャーナル・オブ・アメ
リカン・ケミカル・ソサイエティ』１０７巻、３３４３
頁〜３３４５頁、１９８５年）。本発明化合物を原料と
して前記式（Ａ）の化合を得るには、例えば式（１）に
おいてＸがーＮＣＯであるイソシアネートを水酸化ナト
リウム、水酸化リチウム又は含水ピリジン等のアルカリ
条件下、又は希塩酸、希硫酸又は含水酢酸等の酸性条件
下に分解してアミンとし、次いで、公知の方法によりア
ミン部分をグアニンにすればよい（特開平３−２１５４
８６号、特開平３−２４０７８８号）。
１は、公知の化合物である（『ジャーナル・オブ・アメ
リカン・ケミカル・ソサイエティ』１０７巻、３３４３
頁〜３３４５頁、１９８５年）。本発明化合物を原料と
して前記式（Ａ）の化合を得るには、例えば式（１）に
おいてＸがーＮＣＯであるイソシアネートを水酸化ナト
リウム、水酸化リチウム又は含水ピリジン等のアルカリ
条件下、又は希塩酸、希硫酸又は含水酢酸等の酸性条件
下に分解してアミンとし、次いで、公知の方法によりア
ミン部分をグアニンにすればよい（特開平３−２１５４
８６号、特開平３−２４０７８８号）。
【実施例】次に、実施例を挙げて、本発明化合物の製造
について具体的に説明する。
について具体的に説明する。
【００２０】実施例１． 化合物２（（３α、４β）−
３，４−bis(ヒドロキシメチル）−１−シクロペンチリ
デン）の合成 １０００mlの４口フラスコにアルゴン雰囲気下、水素化
アルミニウムリチウム１７．４ｇ（０．４５８mol)を無
水ＴＨＦ２００mlにけん濁し、５〜１０℃を冷却した。
次いで、化合物１ ６７．５ｇ（０．１５１mol)の無水
ＴＨＦ溶液２００mlを滴下し、１時間反応させた。反応
終了時、エタノール（約２００ml) 、水(約２００ml)
を発泡しなくなるまで順次加えた後、生成した沈殿物を
セライト等を用いて濾過洗浄した。得られた濾液を２０
０mlまで濃縮後、エーテル６００mlを３回に分けて抽出
を行ない、エーテル層を１Ｎ−ＨＣｌ、水、飽和ＮａＨ
ＣＯ3 水、食塩水の順に洗浄を行ない、硫酸ナトリウム
で乾燥後、濃縮して残渣５３．０ｇを得た。精製はシリ
カゲルクロマトグラフィーによって行ない。（Ｓｉ
Ｏ2 ：６００ｇ ヘキサン／酢酸エチル＝１／１→１／
６）、化合物２１２．４１ｇを得た（収率：５７．６
％）。
３，４−bis(ヒドロキシメチル）−１−シクロペンチリ
デン）の合成 １０００mlの４口フラスコにアルゴン雰囲気下、水素化
アルミニウムリチウム１７．４ｇ（０．４５８mol)を無
水ＴＨＦ２００mlにけん濁し、５〜１０℃を冷却した。
次いで、化合物１ ６７．５ｇ（０．１５１mol)の無水
ＴＨＦ溶液２００mlを滴下し、１時間反応させた。反応
終了時、エタノール（約２００ml) 、水(約２００ml)
を発泡しなくなるまで順次加えた後、生成した沈殿物を
セライト等を用いて濾過洗浄した。得られた濾液を２０
０mlまで濃縮後、エーテル６００mlを３回に分けて抽出
を行ない、エーテル層を１Ｎ−ＨＣｌ、水、飽和ＮａＨ
ＣＯ3 水、食塩水の順に洗浄を行ない、硫酸ナトリウム
で乾燥後、濃縮して残渣５３．０ｇを得た。精製はシリ
カゲルクロマトグラフィーによって行ない。（Ｓｉ
Ｏ2 ：６００ｇ ヘキサン／酢酸エチル＝１／１→１／
６）、化合物２１２．４１ｇを得た（収率：５７．６
％）。
【００２１】ＩＲ (film) ：３３００、２９２０、１６
５５、１０３５、８７５（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：１．９７（２Ｈ、ｂｓ）
１．９９（２Ｈ、ｍ） ２．４８（２Ｈ、ｍ） ３．４１（２Ｈ、ｍ） ３．７
５（２Ｈ、ｍ） ４．８２（２Ｈ、ｂｓ） ３．３〜
３．８（２Ｈ（ＯＨ）：ｂｓ）13 C-NMR(400MHZ,CDCl3) δ：３６．４、４８．０、６
６．１、１０５．９、１４８．９
５５、１０３５、８７５（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：１．９７（２Ｈ、ｂｓ）
１．９９（２Ｈ、ｍ） ２．４８（２Ｈ、ｍ） ３．４１（２Ｈ、ｍ） ３．７
５（２Ｈ、ｍ） ４．８２（２Ｈ、ｂｓ） ３．３〜
３．８（２Ｈ（ＯＨ）：ｂｓ）13 C-NMR(400MHZ,CDCl3) δ：３６．４、４８．０、６
６．１、１０５．９、１４８．９
【００２２】実施例２． 化合物３（（３α、４β）−
３，４−bis （ベンジルオキシメチル）−１−シクロペ
ンチリデン）の合成 １０００ml４口フラスコに、アルゴン雰囲気下、水素化
ナトリウム（６０％湿潤）１２．７ｇ（０．３１８mol)
を無水ＤＭＦ１００mlにけん濁し、室温下で攪拌しなが
ら、化合物２ １１．６１ｇ（０．０８１４mol)の無水
ＤＭＦ溶液１００mlを滴下した。水素ガスの発泡が消え
た後、ベンジルブロマイド４８．０ｇの無水ＤＭＦ溶液
１００mlを室温下に滴下し、さらに−中夜攪拌した。反
応終了後メタノール３０ml及び水５００mlを加えた後、
エーテル１０００mlを４回に分けて抽出を行ない、有機
層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥、減圧
下に濃縮を行ない、５８ｇの残渣を得た。精製はシリカ
ゲルクロマトグラフィーによって行ない（ＳｉＯ2 １５
０ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）、化合物３
２３．８ｇを得た（収率：９０．７％）。
３，４−bis （ベンジルオキシメチル）−１−シクロペ
ンチリデン）の合成 １０００ml４口フラスコに、アルゴン雰囲気下、水素化
ナトリウム（６０％湿潤）１２．７ｇ（０．３１８mol)
を無水ＤＭＦ１００mlにけん濁し、室温下で攪拌しなが
ら、化合物２ １１．６１ｇ（０．０８１４mol)の無水
ＤＭＦ溶液１００mlを滴下した。水素ガスの発泡が消え
た後、ベンジルブロマイド４８．０ｇの無水ＤＭＦ溶液
１００mlを室温下に滴下し、さらに−中夜攪拌した。反
応終了後メタノール３０ml及び水５００mlを加えた後、
エーテル１０００mlを４回に分けて抽出を行ない、有機
層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥、減圧
下に濃縮を行ない、５８ｇの残渣を得た。精製はシリカ
ゲルクロマトグラフィーによって行ない（ＳｉＯ2 １５
０ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）、化合物３
２３．８ｇを得た（収率：９０．７％）。
【００２３】ＩＲ(film)：２８６０、１６６０、１５０
０、１１００、８７５、７４０、７００、（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：２．１５（ｂｓ、２Ｈ）
２．１６（ｍ、２Ｈ） ２．５３（ｍ、２Ｈ） ３．３５（ｍ、２Ｈ） ３．５１（ｍ、２Ｈ） ４．４９（ｓ、４Ｈ） ４．８２（ｍ、２Ｈ） ７．２５〜７．３７（ｍ、１０Ｈ）
０、１１００、８７５、７４０、７００、（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：２．１５（ｂｓ、２Ｈ）
２．１６（ｍ、２Ｈ） ２．５３（ｍ、２Ｈ） ３．３５（ｍ、２Ｈ） ３．５１（ｍ、２Ｈ） ４．４９（ｓ、４Ｈ） ４．８２（ｍ、２Ｈ） ７．２５〜７．３７（ｍ、１０Ｈ）
【００２４】実施例３． 化合物４ （（３α、４β）
−３，４−bis(ベンジルオキシメチル）−１−シクロペ
ンタノン）の合成 ５００mlフラスコに化合物３ １２．６ｇ（０．０３９
mol)、ＴＨＦ６５ml及び水１００mlを加え室温下で激し
く攪拌した。次に四酸化オスミウムのｔブタノール溶液
（ＯｓＯ4 １．０８／１５ml) ６．３ml（１．６４mmo
l) 及び過ヨウ素酸ナトリウム２２．５ｇ（０．１０５m
ol)を加え、６時間反応させた。反応終了後、酢酸エチ
ル２００mlを加えた後、白色の沈殿物をセライトを用い
てろ過し、酢酸エチル２００mlで十分に沈殿物を洗浄し
た。集めた有機層をＺＮ−ＮａＯＨ水溶液で洗浄、更に
水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥、減圧
下に濃縮を行ない、残渣１３．２ｇを得た。精製はシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーによって行ない（Ｓｉ
Ｏ2 ４６０ｇ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）、化合
物４ １８．６ｇを得た（収率 ７８．３％）。
−３，４−bis(ベンジルオキシメチル）−１−シクロペ
ンタノン）の合成 ５００mlフラスコに化合物３ １２．６ｇ（０．０３９
mol)、ＴＨＦ６５ml及び水１００mlを加え室温下で激し
く攪拌した。次に四酸化オスミウムのｔブタノール溶液
（ＯｓＯ4 １．０８／１５ml) ６．３ml（１．６４mmo
l) 及び過ヨウ素酸ナトリウム２２．５ｇ（０．１０５m
ol)を加え、６時間反応させた。反応終了後、酢酸エチ
ル２００mlを加えた後、白色の沈殿物をセライトを用い
てろ過し、酢酸エチル２００mlで十分に沈殿物を洗浄し
た。集めた有機層をＺＮ−ＮａＯＨ水溶液で洗浄、更に
水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥、減圧
下に濃縮を行ない、残渣１３．２ｇを得た。精製はシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーによって行ない（Ｓｉ
Ｏ2 ４６０ｇ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）、化合
物４ １８．６ｇを得た（収率 ７８．３％）。
【００２５】ＩＲ(film)：２８５０、１７３５、１４９
５、１４５０、１４００、１３６２、１０９０、７３
５、６９５（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：２．１６（２Ｈ、ｍ） ２．４４（２Ｈ、ｂｓ） ２．４４（２Ｈ、ｍ） ３．５１（４Ｈ、ｍ） ４．５０（４Ｈ、ｓ） ７．２５〜７．３５（１０Ｈ、Complex)
５、１４５０、１４００、１３６２、１０９０、７３
５、６９５（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：２．１６（２Ｈ、ｍ） ２．４４（２Ｈ、ｂｓ） ２．４４（２Ｈ、ｍ） ３．５１（４Ｈ、ｍ） ４．５０（４Ｈ、ｓ） ７．２５〜７．３５（１０Ｈ、Complex)
【００２６】実施例４． 化合物５ （（３α、４β）
−２−ジアゾ−３，４−ビス（ベンジルオキシメチル）
−１−シクロペンタノン）の合成 ２００ml２口フラスコにアルゴン雰囲気下、無水エタノ
ール１０ml及び金属ナトリウム４３０mg（０．０１９mo
l)を加えて、溶解後減圧下に濃縮乾固した。得られた白
色粉末を無水ＴＨＦ１００mlにけん濁し、氷冷下化合物
４ ３．５６ｇ（０．０１１mol)の無水ＴＨＦ溶液４０
mlを４０分間かけて滴下し、滴下終了後更にギ酸エチル
２．１ｇ（０．０２２mol)の無水ＴＨＦ溶液１０mlを加
え、３時間攪拌した。反応終了後、反応液を水１００ml
に注入し、酢酸エチル２００mlで副生成物を抽出した。
水層を氷冷下にて１Ｎ−ＨＣｌ水でゆっくりとｐＨが６
〜７になるまで中和した。遊離した油状物質をジエチル
エーテル３００ml（３回に分けて）で抽出、飽和食塩水
で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥を行ない、さらに減圧
下に濃縮し、かっ色油状物３．７２ｇを得た。得られた
油状物３．７２ｇを無水塩化メチレン５０mlに溶解し、
トリエチルアミン３．６ml（０．０２５mol)及びパラト
ルエンスルホン酸アジド２．３８ｇ（０．０１２mol)を
加え、室温下−中夜攪拌した。反応終了後、塩化メチレ
ン１００mlに希釈し、水、食塩水の順に洗浄を行ない、
有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、更に減圧下に濃縮し
て油状残渣約６．５ｇを得た。精製はシリカゲルカラム
クロマトグラフィーによって行ない（ＳｉＯ2 ２５０
ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）、黄色の化合物５
３．０７ｇを得た（収率 ７９．６％）。
−２−ジアゾ−３，４−ビス（ベンジルオキシメチル）
−１−シクロペンタノン）の合成 ２００ml２口フラスコにアルゴン雰囲気下、無水エタノ
ール１０ml及び金属ナトリウム４３０mg（０．０１９mo
l)を加えて、溶解後減圧下に濃縮乾固した。得られた白
色粉末を無水ＴＨＦ１００mlにけん濁し、氷冷下化合物
４ ３．５６ｇ（０．０１１mol)の無水ＴＨＦ溶液４０
mlを４０分間かけて滴下し、滴下終了後更にギ酸エチル
２．１ｇ（０．０２２mol)の無水ＴＨＦ溶液１０mlを加
え、３時間攪拌した。反応終了後、反応液を水１００ml
に注入し、酢酸エチル２００mlで副生成物を抽出した。
水層を氷冷下にて１Ｎ−ＨＣｌ水でゆっくりとｐＨが６
〜７になるまで中和した。遊離した油状物質をジエチル
エーテル３００ml（３回に分けて）で抽出、飽和食塩水
で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥を行ない、さらに減圧
下に濃縮し、かっ色油状物３．７２ｇを得た。得られた
油状物３．７２ｇを無水塩化メチレン５０mlに溶解し、
トリエチルアミン３．６ml（０．０２５mol)及びパラト
ルエンスルホン酸アジド２．３８ｇ（０．０１２mol)を
加え、室温下−中夜攪拌した。反応終了後、塩化メチレ
ン１００mlに希釈し、水、食塩水の順に洗浄を行ない、
有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、更に減圧下に濃縮し
て油状残渣約６．５ｇを得た。精製はシリカゲルカラム
クロマトグラフィーによって行ない（ＳｉＯ2 ２５０
ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）、黄色の化合物５
３．０７ｇを得た（収率 ７９．６％）。
【００２７】ＩＲ(film)：２８６０、２０８０、１６６
７、１４５０、１３００、１０９７、７３５、７００
（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：２．２３（ｄｄ，Ｊ＝１
９．５、６．８、１Ｈ） ２．２４（ｍ、１Ｈ） ２．５４（ｄｄ，Ｊ＝１９．５、１０．８、１Ｈ） ３．４４（ｍ、２Ｈ） ３．５１（ｍ、２Ｈ） ３．８０（ｍ、１Ｈ） ４．５１（ｓ、２Ｈ） ４．５３（ｓ、２Ｈ） ７．２〜７．４（ｍ、１０Ｈ）
７、１４５０、１３００、１０９７、７３５、７００
（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：２．２３（ｄｄ，Ｊ＝１
９．５、６．８、１Ｈ） ２．２４（ｍ、１Ｈ） ２．５４（ｄｄ，Ｊ＝１９．５、１０．８、１Ｈ） ３．４４（ｍ、２Ｈ） ３．５１（ｍ、２Ｈ） ３．８０（ｍ、１Ｈ） ４．５１（ｓ、２Ｈ） ４．５３（ｓ、２Ｈ） ７．２〜７．４（ｍ、１０Ｈ）
【００２８】実施例５−（１） （１α（β）、２α、
３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシメチル）−１−
シクロブチルカルボン酸メチル（化合物６ａ）の合成 （３α、４β）−２−ジアゾ−３，４−ビス（ベンジル
オキシメチル）−１−シクロペンタノン（化合物５）
６．０ｇ（１７．１３mol)のメタノール溶液２０００ml
を２０００mlフラスコに入れ、十分に脱気しアルゴン置
換した後、高圧水銀ランプ（４００Ｗ pyrex filter)
でバス温を３０〜４０℃に保ちながら、原料が消えるま
で光照射した。反応終了後、反応液を減圧下に濃縮し、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
よって精製を行ない、（１α（β）、２α、３β）−
２，３−ビス（ベンジルオキシメチル）−１−シクロブ
チルカルボン酸メチル５．０４ｇ（１４．２２mmol) を
得た（収率 ８３．０％）。１α：１β＝約１：１ ＩＲ ν（film) ：２８７０、１７３０、１１７０、７
４０、７００
３β）−２，３−ビス（ベンジルオキシメチル）−１−
シクロブチルカルボン酸メチル（化合物６ａ）の合成 （３α、４β）−２−ジアゾ−３，４−ビス（ベンジル
オキシメチル）−１−シクロペンタノン（化合物５）
６．０ｇ（１７．１３mol)のメタノール溶液２０００ml
を２０００mlフラスコに入れ、十分に脱気しアルゴン置
換した後、高圧水銀ランプ（４００Ｗ pyrex filter)
でバス温を３０〜４０℃に保ちながら、原料が消えるま
で光照射した。反応終了後、反応液を減圧下に濃縮し、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
よって精製を行ない、（１α（β）、２α、３β）−
２，３−ビス（ベンジルオキシメチル）−１−シクロブ
チルカルボン酸メチル５．０４ｇ（１４．２２mmol) を
得た（収率 ８３．０％）。１α：１β＝約１：１ ＩＲ ν（film) ：２８７０、１７３０、１１７０、７
４０、７００
【００２９】実施例５−２ （１α（β）、２α、３
β）−２，３−ビス（ベンジルオキシメチル−１−シク
ロブチルカルボン酸tert−ブチルの合成 （化合物６ｂ） （３α、４β）−２−ジアゾ−３，４−ビス（ベンジル
オキシメチル）−１−シクロペンタノン（化合物５）
１．２ｇ（３．４１mmol) のtertBUOH 溶液５００mlを
１０００mlフラスコに入れ、十分に脱気にしアルゴン置
換した後、高圧水銀ランプ（４００Ｗ Pyrex filter)
でバス温を３０〜４０℃に保ちながら、原料が消えるま
で光照射した。反応終了後、反応液を減圧下に濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精
製を行ない、（１α（β）、２α、３β）−２，３−ビ
ス（ベンジルオキシメチル）−１−シクロブチルカルボ
ン酸tertブチル０．９６ｇ（２．４２mmol) を得た (収
率 ７１．０％）。１α＝１β：約１：１ ＩＲ（film) ：２８５０、１７２０、１３６３、１２５
０、１２１０、１１５０、７３５、６９５（cm-1)
β）−２，３−ビス（ベンジルオキシメチル−１−シク
ロブチルカルボン酸tert−ブチルの合成 （化合物６ｂ） （３α、４β）−２−ジアゾ−３，４−ビス（ベンジル
オキシメチル）−１−シクロペンタノン（化合物５）
１．２ｇ（３．４１mmol) のtertBUOH 溶液５００mlを
１０００mlフラスコに入れ、十分に脱気にしアルゴン置
換した後、高圧水銀ランプ（４００Ｗ Pyrex filter)
でバス温を３０〜４０℃に保ちながら、原料が消えるま
で光照射した。反応終了後、反応液を減圧下に濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精
製を行ない、（１α（β）、２α、３β）−２，３−ビ
ス（ベンジルオキシメチル）−１−シクロブチルカルボ
ン酸tertブチル０．９６ｇ（２．４２mmol) を得た (収
率 ７１．０％）。１α＝１β：約１：１ ＩＲ（film) ：２８５０、１７２０、１３６３、１２５
０、１２１０、１１５０、７３５、６９５（cm-1)
【００３０】実施例６． （１α（β）、２α、３β）
−２，３−ビス（ベンジルオキシメチル）−１−シクロ
ブチルカルボン酸（化合物２）の合成 （１α（β）、２α、３β）−２，３−ビス（ベンジル
オキシメチル）−１−シクロブチルカルボン酸メチル
（化合物６ａ）５．００ｇ（１４．１１mmol) のメタノ
ール溶液３０mlを５００mlフラスコに入れ、更に水酸化
カリウム９．３ｇ（１６５．８mmol) のメタノール溶液
２３０mlを加え、室温下にて２２時間、４５℃で４時間
攪拌した。反応終了後、反応液を半量まで減圧下に濃縮
し、水３００ml及びエーテル２００mlを加え抽出した。
水層を希塩酸で中和後遊離したカルボン酸を酢酸エチル
２００ml（×２回）で抽出、飽和食塩水で洗浄後、硫酸
ナトリウムで乾燥、減圧濃縮を行ない、化合物７ ４．
８１ｇ（収率 １００％）を得た。 ＩＲ（film) ：２５００〜３３００、１７０２、１４５
０、７４０、７００（cm-1)
−２，３−ビス（ベンジルオキシメチル）−１−シクロ
ブチルカルボン酸（化合物２）の合成 （１α（β）、２α、３β）−２，３−ビス（ベンジル
オキシメチル）−１−シクロブチルカルボン酸メチル
（化合物６ａ）５．００ｇ（１４．１１mmol) のメタノ
ール溶液３０mlを５００mlフラスコに入れ、更に水酸化
カリウム９．３ｇ（１６５．８mmol) のメタノール溶液
２３０mlを加え、室温下にて２２時間、４５℃で４時間
攪拌した。反応終了後、反応液を半量まで減圧下に濃縮
し、水３００ml及びエーテル２００mlを加え抽出した。
水層を希塩酸で中和後遊離したカルボン酸を酢酸エチル
２００ml（×２回）で抽出、飽和食塩水で洗浄後、硫酸
ナトリウムで乾燥、減圧濃縮を行ない、化合物７ ４．
８１ｇ（収率 １００％）を得た。 ＩＲ（film) ：２５００〜３３００、１７０２、１４５
０、７４０、７００（cm-1)
【００３１】実施例７． （１α（β）、２α−３β）
−２，３−ビス（ベンジルオキシメチル）−１−シクロ
ブチルイソシアナート（化合物８）の合成 １００mlフラスコ（１α（β）、２α、３β）−２，３
−ビス（ベンジルオキシメチル）−１−シクロブチルカ
ルボン酸（化合物７）１１１．３mg（０．３３mmol) 及
びアセトン４mlを加え、氷冷下、トリエチルアミン、３
９．７mg（０．３９mmol) 及びクロロ炭酸、エチル４
６．１mg（０．４３mmol) を加え、１時間攪拌後、アジ
化ナトリウム３１．９mg（０．４９mmol) の水溶液１．
５mlを滴下した。反応終了後冷水１０mlで希釈し、ジエ
チルエーテル１０mlで２回抽出した。エーテル層を飽和
食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮を行
ない、油状の酸アジド１０６．３mgを得た。得られた油
状物を精製することなく、無水トルエン７mlに溶解し、
８０〜９０℃の油浴上１時間加熱した。冷却後、減圧濃
縮を行ない、化合物８ １０６．９mg（０．３３mol)
（収率：１００％）を得た。 ＩＲ（film) ：２８６０、２２７０、１１００、７４
０、７００（cm-1)
−２，３−ビス（ベンジルオキシメチル）−１−シクロ
ブチルイソシアナート（化合物８）の合成 １００mlフラスコ（１α（β）、２α、３β）−２，３
−ビス（ベンジルオキシメチル）−１−シクロブチルカ
ルボン酸（化合物７）１１１．３mg（０．３３mmol) 及
びアセトン４mlを加え、氷冷下、トリエチルアミン、３
９．７mg（０．３９mmol) 及びクロロ炭酸、エチル４
６．１mg（０．４３mmol) を加え、１時間攪拌後、アジ
化ナトリウム３１．９mg（０．４９mmol) の水溶液１．
５mlを滴下した。反応終了後冷水１０mlで希釈し、ジエ
チルエーテル１０mlで２回抽出した。エーテル層を飽和
食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮を行
ない、油状の酸アジド１０６．３mgを得た。得られた油
状物を精製することなく、無水トルエン７mlに溶解し、
８０〜９０℃の油浴上１時間加熱した。冷却後、減圧濃
縮を行ない、化合物８ １０６．９mg（０．３３mol)
（収率：１００％）を得た。 ＩＲ（film) ：２８６０、２２７０、１１００、７４
０、７００（cm-1)
【００３２】実施例８． （１α（β）、２α、３β）
−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−１−シクロブチ
ルカルボン酸（化合物９） （１α（β）、２α、３部）−２，３−ビス（ベンジル
オキシメチル）−１−シクロブチルカルボン酸（化合物
７）４．８ｇ（１４．１１mmol) を１００mlを入れ、メ
タノール５００ml及び１０％パラジウム炭素０．９ｇを
加えた。次いで水素雰囲気下、常圧、室温で４時間激し
くかくはんした。反応終了後、触媒を濾過し、濾液を濃
縮乾固して、目的の化合物８ ２．２５ｇ（１５．０５
mmol) を得た（収率 ９９．６％）。 ＩＲ（film) ：３４００、２９５０、１７５０、１１６
５、１０４０（cm-1)
−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−１−シクロブチ
ルカルボン酸（化合物９） （１α（β）、２α、３部）−２，３−ビス（ベンジル
オキシメチル）−１−シクロブチルカルボン酸（化合物
７）４．８ｇ（１４．１１mmol) を１００mlを入れ、メ
タノール５００ml及び１０％パラジウム炭素０．９ｇを
加えた。次いで水素雰囲気下、常圧、室温で４時間激し
くかくはんした。反応終了後、触媒を濾過し、濾液を濃
縮乾固して、目的の化合物８ ２．２５ｇ（１５．０５
mmol) を得た（収率 ９９．６％）。 ＩＲ（film) ：３４００、２９５０、１７５０、１１６
５、１０４０（cm-1)
【００３３】実施例９． 化合物１０ａ及び１０ｂの合
成 （１α（β）、２α、３β）−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−１−シクロブチルカルボン酸（化合物９）
１．５０ｇ（９．３７mmol) を１００mlフラスコに入
れ、無水ＤＭＦ２８ml、パラトルエンスルホン酸１９０
mg及びモレキュラーシーブス・４Ａ ２．０ｇを加え、
室温下２日間はげしくかくはんした。ＴＬＣで、化合物
（１０ｂ；ラクトン体）の生成を確認後、酢酸無水物
７．５ml（約８０mmol) 及びピリジン１２．８ml (約１
６０mmol) を加え、更に４時間室温下にて攪拌した。反
応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和（ｐＨ
＝８〜９）後、酢酸エチル１００mlで２回抽出した。有
機層は飽和食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムの乾燥後減圧
濃縮を行ない、油状物１．７ｇを得た。精製はシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーによって行ない、化合物１
０ｂ（ラクトン体）２７６．５mg（１．５０mmol) を得
た（収率 ３２．１％）。
成 （１α（β）、２α、３β）−２，３−ビス（ヒドロキ
シメチル）−１−シクロブチルカルボン酸（化合物９）
１．５０ｇ（９．３７mmol) を１００mlフラスコに入
れ、無水ＤＭＦ２８ml、パラトルエンスルホン酸１９０
mg及びモレキュラーシーブス・４Ａ ２．０ｇを加え、
室温下２日間はげしくかくはんした。ＴＬＣで、化合物
（１０ｂ；ラクトン体）の生成を確認後、酢酸無水物
７．５ml（約８０mmol) 及びピリジン１２．８ml (約１
６０mmol) を加え、更に４時間室温下にて攪拌した。反
応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和（ｐＨ
＝８〜９）後、酢酸エチル１００mlで２回抽出した。有
機層は飽和食塩水で洗浄、硫酸ナトリウムの乾燥後減圧
濃縮を行ない、油状物１．７ｇを得た。精製はシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーによって行ない、化合物１
０ｂ（ラクトン体）２７６．５mg（１．５０mmol) を得
た（収率 ３２．１％）。
【００３４】ＩＲ（film) ：２９６０、１７７０、１７
４０、１２５０、（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：２．０８（３Ｈ、ｓ） ２．２９（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．８３Ｈｚ） ２．３０（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．３５Ｈｚ） ２．７０（１Ｈ、ｍ） ２．９９（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．３５、１３．２Ｈｚ） ３．０７（１Ｈ、ｄｄｄ、Ｊ＝０．９８、６．３５、１
３．２Ｈｚ） ４．１２（２Ｈ、ｍ） ４．２７（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝０．９８、９．７７Ｈｚ） ４．３７（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．３５、９．７７Ｈｚ）
４０、１２５０、（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：２．０８（３Ｈ、ｓ） ２．２９（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．８３Ｈｚ） ２．３０（１Ｈ、ｄ、Ｊ＝６．３５Ｈｚ） ２．７０（１Ｈ、ｍ） ２．９９（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．３５、１３．２Ｈｚ） ３．０７（１Ｈ、ｄｄｄ、Ｊ＝０．９８、６．３５、１
３．２Ｈｚ） ４．１２（２Ｈ、ｍ） ４．２７（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝０．９８、９．７７Ｈｚ） ４．３７（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．３５、９．７７Ｈｚ）
【００３５】更に、水層部を氷冷下、６Ｎ−塩酸で中和
（ｐＨ＝３〜４）し、遊離したカルボン酸を酢酸エチル
１００mlで２回抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄、硫酸
ナトリウムで乾燥後減圧下に濃縮し、粗残渣１．１２ｇ
を得た。精製はシリカゲルクロマトグラフィーによって
行ない、目的の化合物１０ａ １．０６ｇ（４．３６mm
ol) を得た。（収率 ９３．１％）。
（ｐＨ＝３〜４）し、遊離したカルボン酸を酢酸エチル
１００mlで２回抽出し、水及び飽和食塩水で洗浄、硫酸
ナトリウムで乾燥後減圧下に濃縮し、粗残渣１．１２ｇ
を得た。精製はシリカゲルクロマトグラフィーによって
行ない、目的の化合物１０ａ １．０６ｇ（４．３６mm
ol) を得た。（収率 ９３．１％）。
【００３６】ＩＲ（film) ：３２００、２９６０、１７
３５、１７１２、１２４０（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：２．００（１Ｈ、ｍ） ２．０７（３Ｈ、ｓ） ２．０８（３Ｈ、ｓ） ２．２８（１Ｈ、ｍ） ２．４０（１Ｈ、ｍ） ２．６８（１Ｈ、ｍ） ２．９０（１Ｈ、ｍ） ４．０〜４．２（４Ｈ、Complex)
３５、１７１２、１２４０（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：２．００（１Ｈ、ｍ） ２．０７（３Ｈ、ｓ） ２．０８（３Ｈ、ｓ） ２．２８（１Ｈ、ｍ） ２．４０（１Ｈ、ｍ） ２．６８（１Ｈ、ｍ） ２．９０（１Ｈ、ｍ） ４．０〜４．２（４Ｈ、Complex)
【００３７】実施例１０． （１β、２β、３α）−
２，３−ビス（アセトキシメチル）−１−シクロブチル
イソシアナートの合成（化合物１１） （１β、２β、３α）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−１−シクロブチルカルボン酸（化合物１０ａ）
０．６２ｇ（２．５４mmol) 及びアセトン４０mlを２０
０mlフラスコに入れ、氷冷下攪拌しながら、トリエチル
アミン０．４４ml（３．１８mmol) 及びクロロ炭酸エチ
ル０．３４ml（３．５６mmol) を加え１時間反応させ
た。次いで、アジ化ナトリウム２６７mgの水溶液３．０
mlを加え、更に７時間反応させた。抽出は実施例７と同
様な方法によって行ない、酸アジド０．６２ｇを得、精
製することなく無水トルエン１０mlに溶解し、８０℃で
３０分間加熱後、濃縮乾固することによって目的の化合
物の０．５８ｇ（２．４０mmol) を得た（収率 ９４．
７％）。
２，３−ビス（アセトキシメチル）−１−シクロブチル
イソシアナートの合成（化合物１１） （１β、２β、３α）−２，３−ビス（アセトキシメチ
ル）−１−シクロブチルカルボン酸（化合物１０ａ）
０．６２ｇ（２．５４mmol) 及びアセトン４０mlを２０
０mlフラスコに入れ、氷冷下攪拌しながら、トリエチル
アミン０．４４ml（３．１８mmol) 及びクロロ炭酸エチ
ル０．３４ml（３．５６mmol) を加え１時間反応させ
た。次いで、アジ化ナトリウム２６７mgの水溶液３．０
mlを加え、更に７時間反応させた。抽出は実施例７と同
様な方法によって行ない、酸アジド０．６２ｇを得、精
製することなく無水トルエン１０mlに溶解し、８０℃で
３０分間加熱後、濃縮乾固することによって目的の化合
物の０．５８ｇ（２．４０mmol) を得た（収率 ９４．
７％）。
【００３８】ＩＲ（film) ：２９６５、２２７０、１７
４０、１２４０、（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：１．７７（１Ｈ、ｍ） ２．０７（１Ｈ、ｍ） ２．０８（３Ｈ、ｓ） ２．０９（３Ｈ、ｓ） ２．４２（２Ｈ、ｍ） ３．６９（１Ｈ、ｍ） ４．０４（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．３５、１１．２３Ｈ
ｚ） ４．１０（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝５．３７、１１．２３Ｈ
ｚ） ４．１２（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝５．８６Ｈｚ）
４０、１２４０、（cm-1) 1 H-NMR(400MHZ, CDCl3)δ：１．７７（１Ｈ、ｍ） ２．０７（１Ｈ、ｍ） ２．０８（３Ｈ、ｓ） ２．０９（３Ｈ、ｓ） ２．４２（２Ｈ、ｍ） ３．６９（１Ｈ、ｍ） ４．０４（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝６．３５、１１．２３Ｈ
ｚ） ４．１０（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝５．３７、１１．２３Ｈ
ｚ） ４．１２（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝５．８６Ｈｚ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−240788（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−117244（ＪＰ，Ａ) 米国特許3139395（ＵＳ，Ａ) Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅ ｄ．Ｅｎｇｌ．，８［３］（1969）, 208−209. Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔ ｓ，68：86612. (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 69/757 C07C 67/475 C07C 265/10 ＢＥＩＬＳＴＥＩＮ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＣＡＰＬＵＳ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＷＰＩＤＳ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ独立に水素原子または
水酸基の保護基を示し、Ｘは−ＮＣＯまたは−ＣＯＯＲ
3 （Ｒ3 は水素原子またはＣ1 〜Ｃ4 の低級アルキル基
を示す。）で示されるオキシカルボニル基を示す。〕で
表わされる新規シクロブタン誘導体。 - 【請求項２】一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ独立に水素原子または
水酸基の保護基を示す。）で表わされる化合物に光を作
用させることを特徴とする一般式（１ａ） 【化３】 〔式中Ｒ1 、Ｒ2 は前記と同じ、Ｒ3 は水素原子又はＣ
1 〜Ｃ4 の低級アルキル基を示す〕で表される新規シク
ロブタン誘導体の製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3337930A JP2915193B2 (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 新規なシクロブタン誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3337930A JP2915193B2 (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 新規なシクロブタン誘導体及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05148187A JPH05148187A (ja) | 1993-06-15 |
| JP2915193B2 true JP2915193B2 (ja) | 1999-07-05 |
Family
ID=18313337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3337930A Expired - Lifetime JP2915193B2 (ja) | 1991-11-28 | 1991-11-28 | 新規なシクロブタン誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2915193B2 (ja) |
-
1991
- 1991-11-28 JP JP3337930A patent/JP2915193B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．，８［３］（１９６９），２０８−２０９． |
| Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ，６８：８６６１２． |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05148187A (ja) | 1993-06-15 |
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