JPH02186358A - 電子写真感光体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電子写真感光体およびその製造方法に係り、
特に高湿下で印刷しても良好な画像を形成することがで
きる水素化アモルファスシリコン系材料よりなる電子写
真感光体、およびその’ｆＩＩ造方法造言法に電子写真
装置に関する。

〔従来の技術〕

電子写真用感光体としては、従来からＳｅ。

ＣｄＳ、Ａｓ１Ｓｅ３などの無機アモルファス光な材料
、もしくはフタロシアニン系顔料に代表されるような有
機光導電材料が用いられている。

これらの材料は、耐電、光応答、光導電等の電子写真特
性が優れている。

しかし１機械的特性においては、硬度が小さく。

耐摩耗性に劣るなどの欠点がある。

これに対して、水素化アモルファスシリコン系材料を用
いた感光体（以下ｒａ−５ｉ：Ｈ感光体」と記す。）は
、硬度が大きく、耐摩耗性に優れていることから長寿命
の電子写真用感光体として期待されている。

しかし、ａ−５ｉ：Ｈ感光体も、耐湿性に劣るという欠
点がある。

このため、ａ　−Ｓ　ｉ　Ｃ：　Ｉ−１などを表面保膜
として用いるのが一般的となっているが、十分とはいえ
ない。

電子写真の印字プロセスにおいては、コロナ放電による
＊ａプロセスが存在するため、印字プロセスの繰り返し
により表面保護層が酸化し、耐湿性が劣化する。

特に、高湿下では画像流れが生じるようになる。

このような耐湿性の劣化を防止するため１表面保護層と
して、例えば特開昭５５−７０８４８号公報。

同５５−１４２３５２号公報に記載されているように熱
可塑性樹脂膜、あるいは特開昭６２−２０６５５９号公
報に記載されているようにメチルシリコーン樹脂又はフ
ッ素系化合物含有樹脂を含む膜などを用いることが知ら
れている。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の従来技術は、電子写真感光体の表面保護層として
要求される特性、すなわち、耐摩耗性。

クリーニング性などと、耐湿性とが必ずしも並立せず、
各々の特性を十分に満足するには至らなかった。

特に、フッ素系材料を表面保護層に用いる場合には、耐
湿性が大きく向上するものの、耐摩耗性およびクリーニ
ング性が著しく劣化するという欠点があった。

さらに、フッ素系材料は、水素化アモルファスシリコン
との親和性、密着性に乏しく、長時間の印字プロセスの
繰り返し後に画像流れが発生する。

したがって、ａ−８ｉ：Ｈ感光体の欠点を十分に克服で
きなかった。

本発明の目的は、コロナ照射を繰り返した後においても
耐湿性に優れ、かつ耐摩耗性、クリーニング性にも優れ
るａ−５ｉ：Ｈ感光体およびその製造方法を提供するこ
とにある。

さらに、本発明の目的は１本発明のａ−８ｉ：Ｈ感光体
を用いた電子写真装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の電子写真感光体は、支持体上に水素化アモルフ
ァスシリコン系材料よりなる光導電層を具備し、光導電
層は、その最表面部に、下記一般式 ％式％（） （式中、Ｒｘはパーフルオロポリオキシアルキルグルー
プ又はパーフルオロポリオキシアルキレングループ、Ｒ
ｚは−ＣＯＮ　Ｈ−−ＣＯＯ−−ＣＨｔＯ−１Ｒｚは炭
素数２〜４のアルキレン基、Ｒａは炭素数１〜３のオキ
シアルキル基、ｍは１〜３を示す、） で表わされる化合物を有する。

また１本発明の電子写真感光体における光導電層は、そ
の最表面部に、パーフルオロポリオキシアルキルグルー
プ又はパーフルオロポリオキシアルキレングループと、
末端にシラノール基を有する非フッ素含有グループとが
結合した構造をもつ化合物を有する。

パーフルオロポリオキシアルキルグループ又はパーフル
オロポリオキシアルキレングループとしては、下記一般
式 ％式％ （式中、Ｘ、Ｙ、Ｚは１以上の整数、望ましくは又は５
以上、Ｙは１０〜１５．Ｚは１０〜５Ｇである。） で示されるものを用いることが好ましい。

これらのフッ素化合物には、デュポン社から市販されて
いるクライトックス４３又はモンテフルオス社から市販
されているホンプリンＹ、ホンプリンＺ等がある。

さらに、パーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
パーフルオロポリオキシアルキレングループと、末端に
シラノール基を有する非フッ素含有グループとが結合し
た構造の有機化合物としては、下記一般式 ％式％） （式中、Ｒ□はパーフルオロポリオキシアルキルグルー
プ又はパーフルオロポリオキシアルキレングループを示
す、） で示されるものを用いることが好ましい。

本発明に用いる有機化合物は、末端のシラノール基が、
感光体表面の無機物と反応し、オキサン結合を形成する
。

したがって、感光体はプラズマＣＶＤ法、スパッタリン
グ法、蒸着法などによって形成でき、本発明に用いる有
機化合物を直接、感光体表面に結合させることができる
。

感光体の表面は、ａ−８ｉ　：ｔｒ、　ａ−ｓｉｃ：Ｈ
，ａ−５ｉＮ：Ｈ，ａ−Ｃ：Ｈ，ａ−Ｃ：Ｈ：Ｆなど適
宜選定してよい。

また１本発明に用いる有機化合物を含有する有機表面保
護層をａ−８ｉ：Ｈ感光体の表面層に形成してもよい。

この場合に用いる有機表面保護層は特に限定されないが
、硬化後一部架橋していることが必要であり、硬化温度
３００℃以下、望ましくは２５０℃以下で硬化するもの
が好適である。

具体的な例としては、フェノール硬化型エポキシ樹脂、
スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポ
リアミド樹脂等がある。

次に、ａ−８ｉ、：Ｈ感光体表面に本発明の化合物を結
合させる方法の代表例について示す。

本発明に用いる有機化合物を１例えばフロンソルベント
などの溶剤に適量混合、溶解する。

この溶液を感光体表面に形成する。

形成法は、浸漬法２回転塗布法など適宜選択してよい。

その後、温度１００℃〜２００℃の状態で、時間０．５
ｈ　〜２ｈ程度の熱処理を施す、これにより、有機化合
物末端のシラノール基が、感光体表面のＳｉ、Ｃ，Ｎな
どとオキサン結合を形成して、有機化合物が感光体表面
に固定される。

本発明に用いる有機化合物を有機表面保護層中に含有さ
せる場合を次に示す。

例えばフロンソルベントなどの溶剤に、本発明に用いる
有機化合物を溶解し、溶液１を作製する。

更に、三次元硬化型バインダー剤又は熱可塑性バインダ
ー剤を、これらが良く溶解する有機溶剤、例えばメチル
エチルケトンと酢酸ブチルセルソルブとを混合したもの
、に溶解し、溶液２を作製する。

その後、溶液１と溶液２とを混合し、塗布液を作製する
。

この塗布液を、浸漬法９回転塗布法など適宜選択し、感
光体表面に形成する。

その後、温度８０℃〜１５０℃の状態で。時間０．５ｈ
　〜３ｈ程度の前段熱処理を施し、更に。

温度１８０’ｃ〜３００℃の状態で１ｈ〜３ｈ程度の後
段熱処理を施す。

前段熱処理は、主として溶剤の蒸発が、後段熱処理は、
主として有機表面保護層の架橋が、目的である。

有機表面体、１［層中に有機化合物を分散、含有させる
場合、有機表面保護層の厚さは、１μｍ以下が望ましく
、０．１〜０．５μｍがより好適である。

厚すぎると電子写真感光体の残留特性などが悪化する。

厚さが１μｍ以下であれば上述の有機表面保護層を形成
しても光導電性、帯電特性等に影響を及ぼすことはない
。

有機表面保護層としてエポキシ樹脂を用いる場合には、
インシアネー（・基を含有するフッ素化合物、例えば下
記−数式で表わされる化合物を、シラノール基を有する
化合物に替えて用いることができる。

Ｒ，−Ｒ−（Ｒ’　）、−（ＮＧＯ）。

又は （Ｒｊ）−（Ｒ−（Ｒ’　）−−（ＮＣＯ）−）ｚ（式
中、Ｒｔはパーフルオロポリオキシアルキル基又はパー
フルオロポリオキシアルキレン基、Ｒハ結合基チー　Ｃ
ＯＮ　Ｈ−−ＯＣＯＮ　Ｈ−又は−ＣＩｈＯＣＯＮＩｌ
−、Ｒ’は２価若しくは３価の飽和脂肪族炭化水１ｆ４
ＪＡで炭素数が５〜２０のもの又は２価若しくは３価の
芳香族炭化水素基で チル結合、アミド結合又は−〇　ＣＩ４　＊露−で繰り
返し毎に違っていても良く、Ｘは１以上の整数で好まし
くは１〜３．ｎ及びａは１又は２を示す。）含フッ素化
合物の具体的な例を下記に示す。

１、　Ｒｔ−ＣＯＮＨ−ＣＨｘ−Ｃ（ＣＨａ）ｚ−ＣＨ
ｚ−ＣＨ（ＣＨａ）−ＣＨｚ−ＣＨｚ−ＮＣＯ ２、Ｒｔ−ＣＯＮＨ−（ＣＨｚ）ａ−ＣＨ−（ＣＨｚ）
ａ−ＮＧＯＣＨｚ−ＮＧＯ のものが好ましく、ｍは０以上の整数であり、１が好ま
しく、ｎは１又は２を表わす、）（式中、Ｒｘはパーフ
ルオロポリオキシアルキル基、又はパーフルオロポリオ
キシアルキレン基、Ｒ＋は直接結合、アミド結合、−Ｃ
Ｉ４ｚ−又は−Ｃｏ−、Ｒｚは直接結合、エーテル結合
、ニス５、（Ｒｒ）−（ＣＯＮＨＣＨｚＣ（ＣＨａ）ｚ
−ＣＨｚＣＨ（ＣＨｓ）ＣＨｚＣＨｚ−ＮＣＯ）ｚ６、
（Ｒｚ）（ＣＯＮＨ−（ＣＨｚ）ａ−ＣＨ−（ＣＨｄ４
−ＮＧＯ）ｚＧＨｚ−ＮＧＯ ９、　Ｒｎ　ＣＨｚＯＣＯＮＨ−ＣＩ４ｚＣ（ＣＨａ）
ｚ−ＣＨｚＣＩ４（ＣＨｓ）−ＣＨｚＣＨｚ−ＮＣＯ 大中はＲｔは既に述べたものと同じ、ツク−フルオロポ
リオキシアルキル基である。

これらのイソシアネート基は、フェノール若しくはクレ
ゾール等のフェノール類、第１級アミン類又はアルコー
ル類などでマスクされ、加熱して始めて反応する。

上記の含フッ素化合物を作製する場合には５例えばイソ
シアネート基をマスクしている含フッ素系化合物と、多
官能エポキシ化合物、フェノール化合物、アミン化合物
、ポリアミド化合物などの硬化剤とからなる塗料を作製
するとよい。

塗料の作製に用いる溶剤は、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、Ｎ、Ｎジメチルホルムアミド、エチレン
グリコールメチルエーテル等が望ましい。

この塗液に感光体を含浸し塗膜を形成し、加熱すると、
イソシアネート基はマスクが外れて、エポキシ基と反応
し、オキサゾリドン環を介してエポキシ化合物と化学結
合する。

加熱温度２時間などの熱処理条件は前述のものと同様で
よい。

〔作用〕

シラノール基を末端にもつ非フッ素含有グループと、パ
ーフルオロポリオキシアルキルグループ又はパーフルオ
ロポリオキシアルキレングループと、が結合した有機化
合物は、末端のシラノール基がａ−８ｉ：Ｈ感光体の表
面と反応し１強固な結合を形成して感光体表面に固定さ
れる。

又、有機表面保護層内に有機化合物が含有される場合に
は、有機表面保護層とシラノール基とが反応し、一部の
有機化合物が有機表面保護層内に強固に固定され、他の
有機化合物は表面に固定される。

有機化合物のパーフルオロポリオキシアルキルグループ
又はパーフルオロポリオキシアルキレングループは、感
光体表面を覆い、炭化フッ素の長鎖をもつため、はつ水
性、クリーニング性及び耐摩耗性に効果を及ぼし、ａ−
３ｉ：Ｈ感光体に適用した場合に５画像流れの生じない
高信頼性の長寿命感光体が実現できる。

イソシアネート基を用いる場合も同様である。

〔実施例〕

実施例１ 以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。

第１図は、本発明によるａ−８ｉ：Ｈ感光体の膜構造を
示した概略図である。

第１図において、符号１０１はＡＱ素管、１０２は電荷
注入阻止層、１０３は電荷搬送層、１０４は電荷発生層
、１０５は表面保護層、１０６は有機化合物層、１０７
は有機化合物、１０８は非フッ素含有基、１０９はパー
フルオロポリオキシアルキル基をそれぞれ意味する。

φ１２０ｍＸＱ４００ｍのＡＱ素管１０１上に。

■　モノシラン、エチレン、ジボラン及び水素の混合ガ
スを用いて、ａ　−Ｓ　ｉ　Ｃ：　Ｈ：　Ｂの電荷注入
阻止層１０２を。

■　モノシラン、ジボラン及び水素の混合ガスを用いて
、ａ−８ｉ：Ｈ：Ｂの電荷搬送層１０３を。

■　モノシラン、ゲルマン及び水素の混合ガスを用いて
、ａ−５ｉＧｅ：Ｈの電荷発生層１０４を、 ■　モノシラン、エチレン及び水素の混合ガスを用いて
、ａ−８ｉＣ：Ｈの表面保護１０５を。

１３．５６ＭＨｚ　　の高周波を印加するプラズマ気相
反応装置内で、順次形成した。

各層の膜厚は、電荷注入阻止層１０２が２μｍ。

電荷搬送層１０３が３０μｍ、電荷発生Ｍ１０４が１μ
ｍ１表面保護層１０５が０．５μｍである。

次に、この感光体をプラズマ気相反応装置より取り出し
１本発明になる有機化合物層１０６を設けた。

有機化合物層１０６の形成に用いた塗布液は、下記の化
学桔造式 ％式％） （式中、ＲｔはＦＣＣＦ（ＣＦａ）−ＣＦｚＯ）ｎ−Ｃ
Ｆ（ＣＦａ）−を示し、ｎは平均１４である。）で示さ
れる有機化合物１０ｇを、フロンソルベント１９９０ｇ
中に溶解して作製した。

この溶液に、上述した感光体を浸漬して表面に塗膜を形
成した。

この後、大気中、温度１５０℃の状態で１時間の間熱処
理を施し、有機化合物１０７の非フッ素含有基１０８の
末端のシラノール基と表面保護層１０５のＳｉ又はＣと
を反応させ、パーフルオロポリオキシアルキル基１０９
で覆われた有機化合物層１０６を作製した。

このようにして得た感光体を感光体特性評価機に装着し
、感光体を静止したままでコロナ照射試験を実施した。

コロナ照射試験後の耐湿性を、水と感光体との接触角に
より評価した。

結果を第３図に示す。

第３図は、コロナ照射時間（ｈ）と接触角（度）との関
係を示したグラフである。

第３図中には比較例として有機化合物層１０６を設けて
いない感光体の結果も合せて示した。

本発明になる感光体は、コロナ照射４０時間後でも接触
角が高く、良好な耐湿性を示した。

また、本発明になる感光体を用いて、波長７８００ｍの
半導体レーザーを光源とし、毎分１２０頁の印刷スピー
ドを有するプリンターに搭載して印刷試験を行った。

その結果、湿度８０％ＲＨの条件下において。

３００万頁印刷後でもフィルミングや画像流れなどの問
題が起らず、鮮明な画像が得られた。

更に、画像を低倍率の顕微鏡で観察し、解像度などを調
べた結果、初期の画像品質と変わらず良好であった。

一方、クリーニングブラシによる耐摩耗性を、水と感光
体との接触角により評価した。

結果を第４図に示す。

第４図は、クリーニングブラシによる摩耗時間（ｈ）と
接触角（度）との関係を示したグラフである。

第４図中には比較例として有機化合物層１０６を設けて
いない感光体の結果も合せて示した。

本発明になる感光体は、クリーニングブラシによる摩耗
時間３５時間後でも接触角が高く、良好な耐摩耗性を示
した。

実施例２ 以下１本発明の他の実施例を第２図により説明する。

第２図は１本発明によるａ−８ｉ：ＩＩ感光体の膜構造
を示した概略図である。

第２図に示した感光体は、実施例１と同様にＡＱ素管１
０１上に、符号１０２〜１０５の膜を積層して４層構造
のａ−８ｉ、：Ｈ感光体を作製した。

次にこの感光体をプラズマ気相反応装置より取出し１本
発明の有機化合物１０７を含有する有機表面保護層１１
２を塗布した。

塗布液として、実施例１に示したと同様の化学４１ｉ造
を有する有機化合物５ｇを、フロンソルベント９９５ｇ
中に溶解した溶液１を作製し、次に。

メチルエチルケトン８００ｇ、酢酸エチレングリコール
七ノーｎ−ブチルエーテルｌｏｏｇを混合した溶剤に、
エポキシ樹脂５９．５ｇ　　、　フェノール樹脂４０．
５　ｇ　及びトリエチルアンモニウｔ１カリボール塩０
．６ｇ　を溶解した溶液２を作製し、溶液１と溶液２と
を混合したものを作製した。

この溶液にＬ述したａ　−Ｓ　ｉ、　：　Ｈ感光体を浸
漬して１表面に有機バインダー層１１」及び有機化金物
層１０６からなる有機表面保護ｌｍ１１２を形成した。

この後、温度１００℃の状態で１時間の間前段熱処理を
施し、温度２００℃の状態で２時間の間後段熱処理（バ
インダーの加熱硬化）を施し、有機表面保護層１１２を
完成した。

そしてパーフルオロポリアルキル基１０９及び末端にシ
ラノール基を有する非フッ素含有基１０８からなる有機
化合物１０７は有機バインダＪ！１１１と化学結合し、
有機バインダ層１１１内部あるいは有機バインダ層１１
１表面に固定される。

このようにして得た感光体も実施例１と同様、水と感光
体との接触角が高く、良好な耐湿性を示した。

更に、実施例１と同様、湿度８０％ＲＨの条件下におい
て、３００万頁印刷後でも画像流れなどの問題は生じず
、鮮明な画像が得られた。

実施例３ 実施例１と同様にして４層構造のａ−８ｉ：Ｈ感光体を
作製した。

次にこの感光体に本発明の含フッ素化合物を含有するエ
ポキシ樹脂よりなる有機表面保護層を塗布法にて形成し
た。

（式中、Ｒｚは、Ｆ（ＣＦ（ＣＦｓ）−ＣｚＦｚＯ）＊
−ＣＦ（ＣＦａ）−でｎ＋平均１４である。）で示され
る化合物４　ｇ　ｐエポキシ樹脂３７．９　。

フェノール樹脂６２．１ｇ、エポキシ樹脂の硬化促進剤
としてトリエチルアンモニウムカリボール塩０．３８　
ｇ　　を、メチルエチルケトン１５９６ｇ。

酢酸エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル２０
０ｇ及びフロンソルベント１００ｇを混合したものに溶
解し、塗布法を作製した。

この溶液に上述のａ−５ｉ：Ｈ感光体を浸漬し。

表面にエポキシ樹脂よりなる有機表面保護層を形成した
後、温度１００℃の状態で１時間の間前段熱処理（予備
加熱処理）を施し、温度２００℃の状態で２時間の間後
段熱処理（加熱硬化処理）を施し、有機表面保護層を完
成した。

含フッ素化合物のイソシアネート基は、エポキシ基と化
学結合し、有機バインダ層内部あるいは有機バインダＪ
！表面に固定される。

尚、実施例３の膜構造は実施例２の膜もｌＩ造と同様で
ある。

このようにして得た感光体も実施例１と同様、水と感光
体との接触角が高く、良好な耐湿性を示した。

更に、実施例１と同様、湿度８０％ＲＴ（の条件下にお
いて、３００万頁印刷後でも画像流れなどの問題は生じ
ず、鮮明な画像が得られた。

第５図は１本発明の感光体を用いた電子写真装置の構成
図である。

第５図において、符号５０１はａ−５ｉ：Ｈ感光ドラム
、５０２は帯電器、５０３は光学系。

５０４は現像器、５０６は転写器、５０７はクリーナ、
５０８は電源・回路部、５０９はトナー５１１は用紙、
５１２はフェードランプ、５１３はイレーズランプ、５
１４はプレヒータ、５１Ｇはヒートロール、５１７はレ
ーザ光をそれぞれ示す。

感光ドラム５０１は、帯ｆ！！、器５０２により′Ｉｒ
ｒ１ｔする。

帯電した感光ドラム５０１の表面に、光学系５０３を介
し、レーザ光５１７が照射し感光ドラム５０１上に潜像
が形成される。

現像器５０４は、感光ドラム５０１との潜像にトナー５
０９を付着させ、印字パターンを形成させる。

フェードランプ５１２は、感光ドラム５０１上のトナー
を効率よく用紙５１１に転写するため設置される。

転写器５０６において、用紙５１１に感光ドラム上の印
字パターンを転写する。

印字パターンを転写された用紙５１１は、ブレヒータ５
１４．ヒートロール５１６を通り、トナーが固定される
。

一方、感光ドラム５０１上の残ったトナーは。

イレーズランプ５１３．クリーナ５０７により取り除か
れる。

こうした装置により、フィルミングや画像流れなどのな
い印刷が可能となる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、長時間繰り返し使用しても耐湿性に優
れ、かつ耐摩耗性、クリーニング性にも優れる長寿命の
電子写真感光体を実現できる。

更に、本発明のａ−８ｉ：Ｈ感光体を用いた電子写真装
置により、フィルミングや画像流れなどのない鮮明な画
像の電子写真装置を実現できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例であり、有機化合物をａ−
８ｉ：Ｈ感光体表面に直接反応させた場合の感光体構造
図、第２図は、本発明の他の実施例であり、有機化合物
を有機バインダ層に含有させた場合の感光体構造図、第
３図は、コロナ照射時間と接触角との関係を示したグラ
フ、第４図は。 クリーニングブラシによる摩耗時間と接触角との関係を
示したグラフ、第５図は、本発明の感光体を用いた電子
写真装置の構成図である。 １０１・・・ＡＱｌｉ４管５１０２・・・電荷注入阻止
層、１０３・・・電荷搬送層、１０４・・・電荷発生層
、１０５・・・表面保護層、１０６・・・有機化合物層
、１０７・・・有機化合物、１０８・・・非フッ素含有
基、１０９・・・パーフルオロポリオキシアルキル基、
１１１・・・有第１図 第　　３　　図 第２図 コロナ照射時間　（ｈ） 図 第 図 クリーニングプランによる摩耗時間 （ｈ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、支持体上に水素化アモルファスシリコン系材料より
   なる光導電層を具備する電子写真感光体において、 前記光導電層の最表面部に、下記一般式 Ｒ＿ｆ−Ｒ＿１−Ｒ＿２−Ｓｉ（Ｒ＿３）＿ｍ（式中、
   Ｒ＿ｆはパーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
   パーフルオロポリオキシアルキレングループ、Ｒ＿１は
   −ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＿２Ｏ−、Ｒ＿２は
   炭素数２〜４のアルキレン基、Ｒ＿３は炭素数１〜３の
   オキシアルキル基、ｍは１〜３を示す。） で表わされる化合物を有することを特徴とする電子写真
   感光体。 ２、支持体上に水素化アモルファスシリコン系材料より
   なる光導電層を具備する電子写真感光体において、 前記光導電層の最表面部に、パーフルオロポリオキシア
   ルキルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキレン
   グループと、末端にシラノール基を有する非フッ素含有
   グループとが結合した構造をもつ化合物を有することを
   特徴とする電子写真感光体。 ３、支持体上に水素化アモルファスシリコン系材料から
   なる光導電層と表面保護層とを有する電子写真感光体に
   おいて、 前記表面保護層の最表面部に、下記一般式 Ｒ＿ｆ−Ｒ＿１−Ｒ＿２−Ｓｉ（Ｒ＿３）＿ｍ（式中、
   Ｒ＿ｆはパーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
   パーフルオロポリオキシアルキレングループ、Ｒ＿１は
   −ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＿２Ｏ−、Ｒ＿２は
   炭素数２〜４のアルキレン基、Ｒ＿３は炭素数１〜３の
   オキシアルキル基、ｍは１〜３を示す。） で表わされる化合物を有することを特徴とする電子写真
   感光体。 ４、導電性支持体上に、電荷注入阻止層、電荷搬送層、
   電荷発生層及び表面保護層を順次有し、前記電荷搬送層
   と前記電荷発生層とがいずれも水素化アモルファスシリ
   コン系材料からなり、前記両層が光導電層を形成する電
   子写真感光体において、 前記表面保護層の最表面部に、パーフルオロポリオキシ
   アルキルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキレ
   ングループと、末端にシラノール基を有する非フッ素含
   有グループとが結合した構造をもつ化合物を有すること
   を特徴とする電子写真感光体。 ５、支持体上に水素化アモルファスシリコン系材料より
   なる光導電層を具備する電子写真感光体において、 前記光導電層の最表面に有機表面保護層を有し、該有機
   表面保護層中に、下記一般式 Ｒ＿ｆ−Ｒ＿１−Ｒ＿２−Ｓｉ（Ｒ＿３）＿ｍ（式中、
   Ｒ＿ｆはパーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
   パーフルオロポリオキシアルキレングループ、Ｒ＿１は
   −ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＿２Ｏ−、Ｒ＿２は
   炭素数２〜４のアルキレン基、Ｒ＿３は炭素数１〜３の
   オキシアルキル基、ｍは１〜３を示す。） で表わされる化合物を含むことを特徴とする電子写真感
   光体。 ６、支持体上に水素化アモルファスシリコン系材料から
   なる光導電層を具備する電子写真感光体において、 前記光導電層の最表面に有機表面保護層を有し、該有機
   表面保護層中に、パーフルオロポリオキシアルキルグル
   ープ又はパーフルオロポリオキシアルキレングループと
   、末端にシラノール基を有する非フッ素含有グループと
   が結合した構造をもつ化合物を含み、前記パーフルオロ
   ポリオキシアルキルグループ又はパーフルオロポリオキ
   シアルキレングループの一部が、前記有機表面保護層の
   表面上に存在していることを特徴とする電子写真感光体
   。 ７、前記有機表面保護層の膜厚が、１０〜１０００ｎｍ
   であることを特徴とする請求項５又は６記載の電子写真
   感光体。 ８、請求項２において、前記非フッ素含有グループが、
   下記一般式 −Ｒ＿１−Ｒ＿２−Ｓｉ（Ｒ＿３）＿ｍ （式中、Ｒ＿は−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＿２
   Ｏ−、Ｒ＿２は炭素数２〜４のアルキレン基、Ｒ＿３は
   炭素数１〜３のオキシアルキル基、ｍは１〜３を示す。 ） で表わされることを特徴とする電子写真感光体。 ９、支持体上に水素化アモルファスシリコン系材料より
   なる光導電層と表面保護層とを具備する電子写真感光体
   において、 前記表面保護層の最表面部に、パーフルオロポリオキシ
   アルキルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキレ
   ングループと、末端にシラノール基を有する非フッ素含
   有グループとが結合した構造をもつ化合物を有し、該化
   合物と前記表面保護層とが化学結合していることを特徴
   とする電子写真感光体。 １０、前記化学結合が、オキサン結合であることを特徴
   とする請求項９記載の電子写真感光体。 １１、ドラム状の支持体上に水素化アモルファスシリコ
   ン系材料よりなる光導電層を有する電子写真用感光体ド
   ラムにおいて、 前記光導電層の最表面部が、下記一般式 Ｒ＿ｆ−Ｒ＿１−Ｒ＿２−Ｓｉ（Ｒ＿３）＿ｍ（式中、
   Ｒ＿ｆはパーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
   パーフルオロポリオキシアルキレングループ、Ｒ＿１は
   −ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＿２Ｏ−、Ｒ＿２は
   炭素数２〜４のアルキレン基、ｍは１〜３を示す。） で表わされる化合物を有していることを特徴とする電子
   写真用感光ドラム。 １２、水素化アモルファスシリコン系材料よりなる光導
   電層と該光導電層の支持体とを具備する電子写真感光体
   の製造方法において、 前記光導電層の最表面部に、熱処理によつて下記一般式
   、 Ｒ＿ｆ−Ｒ＿１−Ｒ＿２−Ｓｉ（Ｒ＿３）＿ｍ（式中、
   Ｒ＿ｆはパーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
   パーフルオロポリオキシアルキレングループ、Ｒ＿１は
   −ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＿２Ｏ−、Ｒ＿２は
   炭素数２〜４のアルキレン基、Ｒ＿３は炭素数１〜３の
   オキシアルキル基、ｍは１〜３を示す。） となる化合物を形成し、その後熱処理を施して前記化合
   物を形成することを特徴とする電子写真感光体の製造方
   法。 １３、支持体上に水素化アモルファスシリコン系材料よ
   りなる光導電層を具備する感光ドラムと該感光ドラムを
   帯電する帯電系と、 前記感光ドラムに潜像を形成する光学系と、潜像を形成
   した前記感光ドラムにトナーを付着させ印字パターンを
   形成する現像系と、 前記感光ドラム上の印字パターンを用紙に転写する転写
   系と、 前記感光ドラム上に残つたトナーを除却するクリーニン
   グ系とを具備する電子写真装置において、 前記感光ドラムの最表面部に、パーフルオロポリオキシ
   アルキルグループ又はパーフルオロポリオキシアルキレ
   ングループと、末端にシラノール基を有する非フッ素含
   有グループとが結合した構造をもつ化合物を有すること
   を特徴とする電子写真装置。 １４、支持体上に水素化アモルファスシリコン系材料よ
   りなる光導電層を具備する電子写真感光体において、 前記光導電層の最表面部に、下記一般式 Ｒ＿ｆ−Ｒ＿１−Ｒ＿２−Ｓｉ（Ｒ＿３）＿ｍ（式中、
   Ｒ＿ｆはパーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
   パーフルオロポリオキシアルキレングループ、Ｒ＿１は
   −ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＿２Ｏ−、Ｒ＿２は
   炭素数２〜４のアルキレン基、Ｒ＿３は炭素数１〜３の
   オキシアルキル基、ｍは１〜３を示す。） で表わされる化合物を有し、 該化合物が有機表面物質に覆われていて、前記化合物の
   一部が有機表面物質上に存在していることを特徴とする
   電子写真感光体。 １５、支持体上に、水素化アモルファスシリコン系材料
   よりなり、光を照射することにより潜像を形成する光導
   電層を有する電子写真感光体において、 前記光の照射される面に、下記一般式 Ｒ＿ｆ−Ｒ＿１−Ｒ＿２−Ｓｉ（Ｒ＿３）＿ｍ（式中、
   Ｒ＿ｆはパーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
   パーフルオロポリオキシアルキレングループ、Ｒ＿１は
   −ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＿２Ｏ−、Ｒ＿２は
   炭素数２〜４のアルキレン基、Ｒ＿３は炭素数１〜３の
   オキシアルキル基、ｍは１〜３を示す。） で表わされる化合物を有することを特徴とする電子写真
   感光体。 １６、支持体に水素化アモルファスシリコン系材料より
   なる光導電層を具備する電子写真感光体において、 前記光導電層の最表面部にエポキシ樹脂を有する表面保
   護層を有し、 該表面保護層中に下記一般式 Ｒ＿ｆ−Ｒ−（Ｒ′）＿ｍ−（ＮＣＯ）＿ｎ又は ｛Ｒ＿ｆ｝−｛Ｒ−（Ｒ′）＿ｍ−（ＮＣＯ）＿ｎ｝＿
   ２（式中、Ｒ＿ｆはパーフルオロポリオキシアルキル基
   又はパーフルオロポリオキシアルキレン基、Ｒは結合基
   で−ＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＮＨ−又は−ＣＨ＿２ＯＣＯ
   ＮＨ−、Ｒ′は２価若しくは３価の飽和脂肪族炭化水素
   基若しくは芳香族炭化水素基、ｍは０以上の整数、ｎは
   １又は２を示す。）で表わされるイソシアネート基を有
   するフッ素化合物を含有することを特徴とする電子写真
   感光体。 １７、支持体に水素化アモルファスシリコン系材料より
   なる光導電層を具備する電子写真感光体において、 前記光導電層の最表面部にエポキシ樹脂を有する表面保
   護層を有し、 該表面保護層中に下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿ｆはパーフルオロポリオキシアルキル基又
   はパーフルオロポリオキシアルキレン基、Ｒ＿１は直接
   結合、アミド結合、−ＣＨ＿２−又は−ＣＯ−、Ｒ＿２
   は直接結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合
   又は−ＯＣ＿■Ｈ＿２＿■−（繰り返し毎に違つていて
   もよい。）、ｘは１以上の整数、ｎ及びｌは１又は２を
   示す。）で表わされるイソシアネート基を有するフッ素
   化合物を含有することを特徴とする電子写真感光体。 １８、前記イソシアネート基を有するフッ素化合物の前
   記イソシアネート基が、フェノール類でマスクされてい
   ることを特徴とする請求項１６又は１７の電子写真感光
   体。 １９、支持体上に、水素化アモルファスシリコン系材料
   よりなりる光導電層を具備する電子写真感光体において
   、 前記光導電層の最表面部が、下記一般式 Ｒ＿ｆ−Ｒ＿１−Ｒ＿２−Ｓｉ（Ｒ＿３）＿ｍ（式中、
   Ｒ＿ｆはパーフルオロポリオキシアルキルグループ又は
   パーフルオロポリオキシアルキレングループ、Ｒ＿１は
   −ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ＿２Ｏ−、Ｒ＿２は
   炭素数２〜４のアルキレン基、Ｒ＿３は炭素数１〜３の
   オキシアルキル基、ｍは１〜３を示す。） で有する化合物で覆われていることを特徴とする電子写
   真感光体。