JPS63285552A - 高分子量ポリシリレン正孔移送化合物を含む感光性像形成部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般に感光性像形成部材に関し、さらに詳細に
は、本発明は正孔移送物質として高分子量ポリシリレン
化合物を含有する改良された感光性像形成部材に関する
０本発明の１つの重要な実施態様においては、低分子量
画分を除去したポリシリレン正孔移送化合物と光励起層
とを含み、特に液体現像像形成法において有用である多
層型感光性像形成部材が提供される。さらに、本発明の
特定の局面においては、支持基体、光励起層、およびこ
れと接触したポリシリレン化合物、特に、重量平均分子
量約４００．０００〜約１００，０００を有し分子量約
４，０００〜約４０．０００を有するもののような低分
子量画分を除去したポリ　（メチルフェニルシリレン）
、ポリ（ｎ−プロビルメチルーコーシクロヘキシルメチ
ルシリレン）、または他の同様なポリシリレンを含む正
孔移送層とを含む改良された多層型感光性像形成部材が
提供される。さらに、この像形成部材に関しては、ポリ
シリレン正孔移透化合物層は像形成部材のトップ層とし
て位置させることができ、あるいは支持基体と光励起層
との間に位置させることもできる。さらにまた、本発明
は電子写真、特に、形成させた像を可視像とするのに液
状および乾式現像剤組成物を使用する方法を包含する静
電複写像形成法における本発明の改良された像形成部材
の使用に間する。

〔従来の技術〕

光導電性材料の像形成表面上の静電潜像の形成および現
像は周知である。使用する感光体は表面に光導電性絶縁
材料の層（単数または複数の）を含む伝導性基体を含み
、基体と光導電性層間には薄いバリヤ一層が存在して帯
電時に基体から光導電性層中への電荷注入を防止してい
る。静電複写用の多くの種々の光導電部材が公知であり
、例えば、ガラス質セレンのような単一材料の均質層ま
たは他の物質中に分散させた光導電性化合物を含む複合
多層型像形成部材があるや静電複写で使用する複合光導
電性層の１つのタイプの例は、例えば、米国特許第３．
１２１，００６号に記載されており、該米国特許には電
気絶縁性有機樹脂バイイダー中に分散させた光導電性無
機化合物の微分割粒子を含む層が多数開示されている。

また、電荷キャリヤー励起および電荷キャリヤー移送の
両機能を独立した各連続層によって達成する他の無機ま
たは有機材料を含む感光体材料も公知である。さらに、
電気絶縁性高分子材料のオーバーコーテイング層を含む
感光体材料も従来技術において開示されており、このオ
ーバーコーテイング型感光体においては、多くの像形成
方法が提案されている。しかしながら、静電複写技術は
進歩し続けており、性能標準の向上を特に液体現像剤組
成物において可能にし、またより高品質の像を得るよう
なより厳格な要求をコピー装置が満すよう求められてい
る。本発明の光導電性像形成部材はそのような改良され
た部材を提供し後述するような他の利点を有している。

最近、米国特許第４．２６５．９９０号において開示さ
れているような励起層と移送層を含む像形成部材、右よ
び移送層をオーバーコーテイングし、次いで光励起層を
オーバーコーテイングした正孔注入層と絶縁性有機樹脂
のトップコーティングとを有するオーバーコーテイング
型感光性材料（米国特許第４，２５１，６１２号参照）
を包含する多層型像形成部材が開発されている。これら
米国特許に開示された光励起層の例には三方晶セレンお
よび金属または無金属フタロシアニンがある。使用でき
る移送化合物の具体的例はこれら特許に開示されている
ようなある種の芳香族アミンがある。これら米国特許、
即ち、米国特許第４，２６５．９９０号および第４．２
５１．６１２号の記載はすべて参考として本明細書に引
用する。＝９９０号米国特許は、この米国特許の正孔移
送物質がアリールアミン化合物を含むのに対し本発明に
おいては正孔移送物質が特定のポリシリレンである以外
は本発明の像形成部材と同様な多層型感光性像形成部材
を開示している点で特に興味あるものである。

励起用物質を含む多層型像形成部材を開示している他の
多くの特許が存在しており、例えば、米国特許第３．０
４１．１６７号は伝導性基体、光導電性絶縁層および電
気絶縁性高分子材料のオーバーコーテイング層とを含む
オーバーコーテイング型像形成部材を含む電子写真像形
成部材を記載している。

この部材は、電子写真複写法において、例えば、部材を
第１極性の静電荷でもって先ず帯電させ、像形成的に露
光してその後現像して可視像を形成できる静電潜像を形
成することによって使用される。

米国特許第３，０４１，１１６号においては、記録用基
体上に存在するガラス質セレンの層上にオーバーコーテ
イングした透明プラスチック材料を有する光ａｍ電性材
料が開示されている。明らかに、操作においては、透明
プラスチックの自由表面を所望の極性に静帯電させ、次
いで像形成部材を活性化照射に露光させて、光導電性層
中に正孔電子対を励起し電子がプラスチック層に移動し
プラスチック層の自由表面上に含まれる電荷層を中和し
、それによって静電像を形成している。また、米国特許
第４，２３２．１０２号および第４．２３３．３８３号
には、三方晶セレンを含む炭酸ナトリウムドーピングお
よび炭酸バリウムドーピング怒光性像形成部材が開示さ
れている（これら米国特許の記載はすべて参考として本
発明書に引用する）、他の多層型感光性像形成部材を開
示している代表的な特許には米国特許第４．１１５．１
１６号、第４．０４７，９４９号および第４．０８１．
２７４号がある。

さらに、種々のスクアライン化合物を使用している多層
型感光性像形成部材も公知である（例えば、米国特許第
４，５５２．８２２号、第４，４１５．６３９号、第４
．４７１，０４１号および第４．４８６，５２０号参照
、これら特許の各々の記載はすべて参考として本明細書
に引用する）。

また、米国特許第４，６１８．５５Ｌ号には、本発明の
像形成部材と同様な感光性部材を開示しているが、主た
る違いは本発明の感光性像形成部材は平均分子量約４０
０，０００〜１，０００，０００を有し例えば、約４．
０００〜約５０，０００の低分子量画分を除去した特定
のポリシリレンを含有することである。さらに詳細には
、該米国特許においては、像形成部材で用いるためのポ
リシリレン正孔移送化合物が開示されており、この化合
物は特許請求の範囲１に示されるような式を示し、ポリ
シリレンの特定の例は平均分子量５０，０００以上のポ
リ　（メチルフェニルシリレン）である、さらに、該米
国特許には、ポリシリレンの分子量が約３００，０００
〜約ｓｏｏ、ｏｏｏであるとの記載が存在する。しかし
ながら、これらのポリシリレンはまた低分子量、即ち、
約４．０００〜約５０．０００の両分も含有しており、
この低分子量画分は得られる像形成部材を液体現像剤へ
の耐性を小さくするものと信じられている。

さらにまた、米国特許第４．６１８．５５１号のポリシ
リレンを含む像形成部材は検品質に悪影響を及ぼす使用
によるクラッキングを受けやすく、クラッキングの程度
によっては、像すらも形成し得ない。

しかも、米国特許第４．６１８．５５１号のポリシリレ
ンでは、例えば、該ポリシリレンを含む多層型像形成部
材をアイソバールＬに浸漬したのち液体インクベヒクル
に露出したとき、像形成部材が幾分クラッキングを受け
やすくなる。これに対し、低分子量画分を除去した特に
重量平均分子量約４．０００〜約４０．０００を有する
分子量画分が実質的に存在しない重量平均分子量約４０
０．０００〜約１．０００，０００のポリシリレンを含
む本発明の像形成部材はアイソバールＬに浸漬したとき
クラッキングせず、これらの像形成部材は後述するよう
な利点を有する。

米国特許第４．５８８．８０１号には、ポリシリレン正
ホトレジスト材料およびその調製方法が開示されている
。さらに詳細には、該米国特許の第１１欄２３行からの
記載には、ポリシリレンが小ロシリレン好ましくはジク
ロロシリレンをアルカリ金属触媒好ましくはナトリウム
とトルエンのような不活性溶媒との存在下、例えば、９
０℃〜１００℃の温度で還流下に重合させることによっ
て調製されることが開示されている（第１２欄、実施例
１．２１行〜第ｔ　３４１ＪＬ　ｓ行の記載参照）、同
様な教示は米国特許第４．５８７，２０５号および第４
，４６４．４６０号に存在する。

〔発明が解決しようとする課題〕

各種正孔移送物質を含む像形成部材は意図する目的には
適しているけれども、改良された部材、特に特定のポリ
シリレンを含む液体現像剤組成物に実質的に完全に耐え
る多層型部材が求められている。さらに、受は入れ可能
な像を形成するだけでなく多数回の像形成サイクルにお
いて装置環境または周囲条件からの劣下なしで繰返し使
用できる特定の多層型像形成部材が求められている。さ
らに、各々の層特に正孔移送層に使用する材料がこれら
部材の使用者に実質的に無害である改良された多層型像
形成部材が求められている。さらに、最小数の処理工程
で製造でき各層が互いに十分に接着して繰返しの像形成
工程においてこれら像形成部材の連続使用を可能にする
改良された感光性像形成部材が求められている。また、
保護オーバーコーテイング層としておよび各種像形成部
材の界面材料としても有用である新規な正孔移送化合物
が求められている。さらにまた、有機材料を含む光励起
物質用のバインダーとしても有用である正孔移送ポリシ
リレン化合物が求められている。

また、多層型像形成部材中で正孔の増大したモビリティ
を与える新規な正孔移送物質が求められている。同様に
、増大した安定性を有する、例えば、液体現像剤を用い
て静電潜像を可視像とするときに使用する多層型像形成
部材からの抽出のない正孔移送化合物が求められている
。さらにまた、多くの他の公知の正孔移送化合物に比較
し暗中で優れた絶縁体でありかくして得られた像形成部
材をサイクル安定性を維持しながら高電場に帯電できま
た改良された現像性を与える、多層型像形成部材におい
て有用な正孔移送化合物が求められている。また、樹脂
バインダーとして機能できる新規な正孔移送化合物を含
む像形成部材が求められている。さらに、トルエン、ベ
ンゼン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサンおよび塩
化メチレン以外のハロゲン化溶媒を包含する種々の溶媒
の使用を可能にする新規な正孔移送化合物を含む像形成
部材の製造法が求められている。

さらにまた、約４　、０００〜約４０．０００の低分子
量画分を除去しそれによってクラッキングに耐え電子写
真像形成法特に液体現像剤組成物を使用する方法で使用
できるポリシリレンを含む多層型感光性像形成部材が求
められている。また、重量平均分子量約４００．０００
〜約ｉ、　ｏｏｏ、　ｏｏｏを有し重量平均分子量対数
平均分子量の比が約１．３〜約３．０であるポリシリレ
ンを含む可撓性多層型像形成部材が求められている。

従って、本発明の目的はある種の分子量を有するポリシ
リレンを含む改良された像形成部材を提供することであ
る。

本発明の別の目的は低分子量部分を除去したポリシリレ
ン正孔移送物質を含有する多層型感光性像形成部材を提
供することである。

本発明のさらに別の目的は支持基体と本発明のポリシリ
レンを含む正孔移送層との間に置かれた光励起層を有す
る改良された感光性像形成部材を提供することである。

本発明のさらに別の目的は支持基体と光励起層との間に
置かれたポリシリレン正孔移送化合物層を含む改良され
た感光性像形成部材を提供することである。

本発明のさらに別の目的は正孔移送化合物および光励起
顔料、および保護オーバーコーテイングとしての上記ポ
リシリレン化合物とを含む改良された感光性像形成部材
を提供することである。

本発明のさらに別の目的は上記ポリシリレン化合物が光
励起顔料用のバインダーポリマーとして機能する改良さ
れた感光性像形成部材を提供することである。

本発明のさらに別の目的は表面上に上記ポリシリレンの
保護オーバーコーテイングを有する無定形ケイ素感光性
像形成部材を提供することである。

本発明のさらに別の目的は改良された像形成部材による
像形成方法を提供することである。

本発明の別の目的は正孔移送ポリシリレン化合物を含み
、得られた部材用の暗中での改良された絶縁特性を与え
それによってサイクル安定性を維持しながら高電場に帯
電させ現像性を改良させ得る多層型像形成部材を提供す
ることである。

本発明のさらに別の改良された安定性の正孔移送ポリシ
リレン化合物を含みそれによって例えば液体現像剤組成
物による正孔移送化合物の望ましくない抽出を回避する
多層型像形成部材を提供することである。

本発明のさらに別の目的はトルエン、ベンゼン、テトラ
ヒドロフラン、および塩化メチレン以外のハロゲン化炭
化水素を包含する種々の溶媒によって製造できる多層型
像形成部材を提供することである。

さらに、本発明の別の目的は低分子量画分即ち、約４，
０００〜約５０，０００の百分を除去し重量平均分子量
約４００　、０００〜約１．０００．０００を有するポ
リシリレンを得る正孔移送成分として有用なポリシリレ
ンの調製を行う方法を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の上記および他の目的はある種のポリシリレンを
含む像形成部材を提供することによって達成される。さ
らに詳細には、本発明は光励起層、およびこれと接触し
た重量平均分子量約４００．０００〜約１．０００，０
００を有し重量平均分子量対数平均分子量の比が１．３
〜約３．０であるポリシリレンを含む正孔移送層を含む
改良された怒光性像形成部材に関する。

１つの特定の実施態様においては、本発明は支持基体、
任意に不活性樹脂バインダー中に分散させた無機または
有機光導電性顔料を含む光励起層、および約４，０００
〜約ｓｏ、ｏｏｏの分子量画分を除去した上述のポリシ
リレン正孔移送化合物を含む層とを含む改良された感光
性像形成部材に関する。本発明の他の特定の感光性像形
成部材は支持基体を光励起層との間に置かれた上述のポ
リシリレン正孔移送化合物を含む。

本発明のポリシリレン正孔移送化合物は一般に重量平均
分子量約４００．０００〜約１，０００，０００を存し
重量平均対数平均分子量の比が約１．３〜約３．０であ
るポリマー特に次式のホモポリマー、コポリマーまたは
ターポリマーである： （式中、Ｒ＋、Ｒｉ、Ｒ５、Ｒ４、Ｒ３およびＲ４は、
個々に、アルキル、了り−ル、置換アルキル、置換アリ
ールおよびアルコキシからなる群から選ばれ、ｍ、ｎお
よびｐは全ポリマー化合物中の特定のモノマ一単位の割
合を示す数であり、Ｑ　＋ｍ＋ｐの総計は１００％に等
しい；また５０＋０００以下特に約４，０００〜約５０
．０００の重量平均分子量画分を有するポリシリレンは
除去される） 式中、例えば、０％はｎより小さいか等しく、またはｎ
は１００％より小さいか等しく；また０％はｐより小さ
いか等しく、またはｐは１００％より小さいか等しい。

アルキル基の例には１〜約２４個の炭素原子好ましくは
１〜約８個の炭素原子を有する線状または枝分れのもの
が包含され、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、アミル、ヘキシル、オクチル、ノニル、デシル、ペ
ンタデシル、ステアリル；およびアリルを包含する不飽
和アルキル、および他の類似の置換基がある。特定の好
ましいアルキル基はメチル、エチル、プロピルおよびシ
クロヘキシルブチルである。アリール置換基はフェニル
、ナフチル、アンスリル等を包含する約６〜約２４個の
炭素原子を有するものである。これらのアルキルおよび
アリール基はアルキル、アリール、ハロゲン、ニトロ、
アミノ、アルコキシ、シアノおよび他の関連置換基で置
換し得る。アルコキシ基の例にはメトキシ、エトキシ、
プロポキシ、ブトキシ、および他の同様な置換基を包含
する炭素数１〜約ＩＯ個のものがある。

本発明の範囲に包含され、前述の分子量を有する前述の
式に含まれるポリシリレン正孔移送化合物の具゛体的な
特定の例には、ポリ　（メチルフェニルシリレン）、ポ
リ　（メチルフェニルシリレンーコージメチルシリレン
）、ポリ　（シクロヘキシルメチルシリレン）、ポリ　
（ターシャリ−ブチルメチルシリレン）、ポリ（フェニ
ルエチルシリレン）、ポリ　（ｎ−プロピルメチルシリ
レン）、ポリ　（ｐ−トリルメチルシリレン）、ポリ　
（シクロトリメチレンシリレン）、ポリ　（シクロテト
ラメチレンシリレン）、ポリ　（シクロペンタメチレン
シリレン）、ポリ　（ジーｔ−プチルシリレンーコージ
メチルシリレン〉、ポリ（ジフェニルシリレンーコーフ
ェニルメチルシリレン）、ポリ（シアノエチルメチルシ
リレン）、ポリ（２−アセトキシエチルメチルシリレン
）、ポリ（２−カルボメトキシエチルメチルシリレン）
、ポリ（フェニルメチルシリレン）であり、これら化合
物的９０％と約１０重量％の分散したアリールアミン特
にＮ、Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）１．１’−ビ
フェニル−４，４′−ジアミン等を含む。

本発明の改良された感光性像形成部材は多くの公知方法
で作製でき、そのプロセスパラメーターふよび各層のコ
ーティング順序は所望する部材による。例えば、本発明
の改良された感光性部材は任意構成成分としての正孔ブ
ロッキング層を有する伝導性基体を用意し；この基体に
溶媒コーティング法、ラミネーティング法または他の方
法で光励起層と前記のポリシリレン正孔移送層とを適用
することによって作製できる。他の方法には溶融押出法
、ディップコーティング法およびスプレー法がある。

さらに本発明に関しては、支持基体、その上の任意構成
成分としての接着ブロッキング層、これと接触して不活
性樹脂バインダー組成物中に必要に応じて分散させた光
励起顔料を含む電荷キャリヤー光励起層、およびその上
の前述したポリシリレン正孔移送物質を含む正孔移送層
とを含む負帯電型感光性像形成部材を作製することがで
きる。

本発明の別の実施態様においては、正孔移送層は支持基
体と光励起層との間に置いて正帯電型像形成部材を得る
こともできる。さらに詳しくは、本発明の負帯電型感光
性像形成部材は、上述の順序で、アルミニウム処理マイ
ラーの伝導性支持基体、任意構成成分としての接着ブロ
ッキング層、樹脂バインダー中に分散させた三方晶セレ
ン光励起顔料または他の同様な無機顔料または有機顔料
を含む光励起層、および重量平均分子量約５００．００
０〜約７００．０００を有し重量平均分子量／数平均分
子量比が１．６〜１．８であるポリ　（メチルフェニル
シリレン）を含む正孔移送層を含み得る。

さらにまた、本発明の負帯電感光性像形成部材はアルミ
ニウム処理マイラーの伝導性支持基体、任意構成成分と
しての接着ブロッキング層、ポリシリレン樹脂バインダ
ー中に分散させた三方晶セレン、バナジルフタロシアニ
ン、カドミウム−硫黄−セレンを包含する無機または有
機光励起顔料を含む光励起層、および重量平均分子量約
ｓｏｏ、ｏｏ。

〜約７００，０００を有し重量平均分子Ｎ／数平均分子
量比が１．６〜１．８であるポリ　（メチルフェニルシ
リレン）を含む正孔移送層とを含み得る。

さらに、本発明の正帯電型感光性像形成部材はアルミニ
ウム処理マイラーの伝導性支持基体、これと接触した前
述のポリシリレンを含む正孔移送層、樹脂バインダー中
に必要に応じて分散させた無定形セレン、三方晶セレン
、バナジルフタロシアニン、カドミウム−黄硫−セレン
を包含する光励起顔料を含む光励起層、および保護オー
バーコーテイング層を含み得る。

本発明の別の正帯電型像形成部材は伝導性支持基体、前
述のポリ　（メチルフェニルシリレン）を含む正孔移送
層、樹脂バインダー中に分散させた薄着光励起顔料を含
む光励起層、およびポリカーボネートのような樹脂バイ
ンダー中に分散させた米国特許出願第３４６．４２３号
（現在放棄されているが、その記載はすべて参考として
本明細書に引用する）のシランのようなオーバーコーテ
イング層とを含み、このオーバーコーテイングはまたそ
の中にカーボンブラック粒子を含む、これらのオーバー
コーテイングは電荷を保持しない（米国特許第４．５１
５．８８２号参照、その記載はすべて参考として本明細
書に引用する）。

支持基体層は不透明または実質的に透明であり得、必定
の機械的強度を有する任意の適当な材料を含み得る。即
ち、基体は無機または有機高分子物質のような非伝導性
材料の層、表面に施した伝導性表面層を有する有機また
は無機材料の層、または例えば、アルミニウム、クロム
、ニッケル、インジウム、酸化錫、黄銅等のような伝導
性材料を含み得る。基体は軟質または硬質であり得、例
えば、プレート、円筒状ドラム、スクロール、エンドレ
ス可撓性ベルト等の任意の多（の種々の形状を有し得る
。基体層の厚さは経済性を含む多くの要因による。即ち
、基体層は装置に悪影響がない限り、例えば、１００ミ
ル（２，５４ｍ■）以上の実質的厚さまたは最小厚さを
有し得る。１つの好ましい実施Ｌｉ様においては、この
層の厚さは約３ミル〜約１０ミル（約７６゜２μｍ〜約
２５４μｍ）の範囲にある。

光励起顔料の例には、前述したように、無定形セレン、
Ａｓ、Ｓｅ、のようなセレン合金、三方晶セレン、無金
属フタロシアミン、金属フタロシアニン、バナジルフタ
ロシアニン、スクアライン等があり、好ましいのはＡｓ
ｚＳｅ、、である。典型的には、この層は約０．３ミク
ロン〜約１０ミクロンまたはそれ以上の厚さを有するが
、５〜１００容量％で変化し得る光導電性顔料の容量に
よっては、他の厚さであってもよい、一般には、この厚
さは像形成露光段階でこの層に向けられた照射光の約９
０％以上を吸収するのに十分な厚さで作製することが望
ましい、この層の最大厚さは声として機械的考慮例えば
、可撓性の感光性像形成部材が望まれるかどうかのよう
な要因による。

光励起顔料用の任意成分である樹脂バインダーは、例え
ば、米国特許第３，１２１．００６号に記載されている
ようなポリマー類（該米国特許の記載はすべて参考とし
て本明細書に引用する）、即ち、ポリエステル、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルカルバゾール、ポリカーボ
ネート、エポキシ樹脂、ポリヒドロキシエーテル樹脂等
である。この層は本発明の目的が達成される限り他の厚
さを有し得る；即ち、例えば、蒸着光励起顔料を用いる
ときには、この層の厚さは約０．５ミクロン〜約３ミク
ロンである。

また、本発明の像形成部材に関しては前述のポリシリレ
ンの正孔移送層としての使用が重要であり、このポリシ
リレンは必要に応じて不活性樹脂バインダー中に分散さ
せ得る。一般に、ポリシリレンは多くの方法で調製でき
（前出の・５５１号米特待許参照）、これらの方法は、
例えば、“ザジャーナル　オブ　オルガノメタリック　
ケミストリー（ｔｈｅ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇ
ａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ）、１９８
、Ｃ２７、（１９８０）、Ｒ，Ｅ、Ｔｒｕｊｉｌｌｏ’
　；および“ザ　ジャーナル　オブボリマー　サイエン
ス（ｔｈｅ　Ｊｏｕｒｒ＋ａｌ　ｏｆ　Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｓｅｔｅｎｃｅ）、ポリマー　ケミストリー　エディジ
ョン（Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　Ｅｄｉｔ
ｔｏｎ）、Ｖｏｌ、　２２．２２５−２２８　　（１９
８４）　　”に１己載されている。

しかしながら、これらのポリシリレンは通常２００　、
０００以上で１．０００．ＯＯＯまでの重量平均分子量
を有する高分子量画分が存在しまた典型的には約４　、
０００〜約５０．０００好ましくは約４．０００〜約２
５，０００の重量平均分子量を有する低分子量画分が存
在する分子量の２極分布を有する。ポリシリレンが上記
の低分子量画分、即ち、５０．０００以下および約４　
、０００〜約２５．０００の分子量画分を含有する場合
には、移送層の実質的量がこの材料を、例えば、アイソ
バルーまたは他の石油溶媒のような脂肪族インクベヒク
ルを含有する液体インク組成物に露出したとき、その外
観から容易に観察できるような応力タラフキングをこう
むる。本発明によれば、脂肪族インクに耐え前述したよ
うな他の利点を有するポリシリレン特にポリ　（メチル
フェニルシリレン）が、ジハロメチルフェニルシリレン
とアルカリ金属との縮合、即ち、鉱油、または軽パラフ
ィン油、高容量アルカン等の他の適当な脂肪族ベヒクル
中のナトリウム分散体を調整した速度で激しく攪拌しな
がら連続的にトルエン、キシレン、またはこれら溶媒と
アルカンとの混合物のような適当な溶媒中のジハロシリ
レン溶液に加えることによって得られる。さらに詳細に
は、本発明のこの方法は前述の分子量を有するポリシリ
レンを与え、このポリシリレンは約ｓｏ、ｏｏｏ以下の
低分子量画分を実質的に含まないものである。

さらに詳細には、重量平均分子量約４００，０００〜約
２，０００，０００を有し重量平均分子量対数平均分子
量の比が１．３〜３．０であり、低分子量画分、例えば
、重量平均分子量４．０００〜４０．０００を有する画
分を実質的に含まないポリシリレンは、不活性ガス雰囲
気中で、約０．５モル〜約１０モルのジハロジ置換シリ
レンモノマー、例えば、ジクロロジアルキルシリレン、
ジクロロジアリールシリレン、ジクロロアルキルアリー
ルシリレン等（ここに、アルキルはメチル、エチル、プ
ロピル、ブチルおよびヘキシルのような約１〜約１０個
の炭素原子を含み；アリールはフェニル、トリル、キシ
ロイルおよびナフチルのような約６〜約２４個の炭素原
子を含み；ハロはクロロ、フルオロ、イオドおよびブロ
モである）であってトルエン、ベンゼン、キシレンまた
はこれらの混合物のような有機溶媒中に約１〜約５０％
のモノマー溶液を与える量で溶解させたものを約１モル
〜約２０モルのナトリウム、カリウムまたはこれらの混
合物のようなアルカリ金属と反応させることによって得
られる。

その後、上記混合物を約り０℃〜約１８０℃または使用
する溶媒の沸点により他の適当な有効温度に加熱し、そ
の間、混合物を連続的に攪拌する。

続いて、アルカリ金属含有量が約１０〜約８０％である
鉱油ような油中に分散させたアルカリ金属を含むものと
信じられているアルカリ金属分散体を調製するが、この
分散体はアルドリッチケミカル社より商業的に入手可能
である。次いで、この市販のアルカリ分散体を反応混合
物に連続滴下法で約５分〜約１時間に亘って攪拌しなが
ら還流下にあるいは約り０℃〜約１５０℃の温度で添加
し、加熱および攪拌を約３０分〜約１時間続行して重合
を完了させる。冷却後、得られた混合物を濾過し、沈澱
を捨て、液状濾液をメタノール、エタノール、デカンお
よびヘキサンのような適当な非溶媒物質中に例えばｔｒ
ｉｏの比で液状濾液（これは所望ポリマーの溶液である
）を滴下法により上記非溶媒にゆっ（り加えることによ
って注入する。

ゲル濾過クロマトグラフィー（Ｇ　Ｐ　Ｃ）により測定
したとき、重量平均分子１ｉ４００，０００〜約１，０
００，０００を有し、有意量の重量平均分子量約４　、
０００〜約４０．０００を有する低分子量成分または画
分を実質的にまたは全く含まないポリシリレンを得る。

本発明の上記ポリシリレンは無定形セレン、セレン合金
を包含する種々の感光体部材；トップ層としてセレン−
ひ素合金を含む多層型部材（０ｖｅｒｅｏａｔｅｄ　Ｐ
ｈｏｔｏｒｅｓｐｏｎｓｔｖｅ　Ｄｅｖｉｃｅｓ　”な
る名称の米国特許出願第４８７．９３５号参照、その記
載はすべて参考として本明細書に引用する）；および光
励起層とジアミン正孔移送層とを含む多層型像形成部材
（前述の米国特許第４．２６５．９９０号参照）用の保
護オーバーコーテイング材料としても有用である。この
実施態様においては、ポリシリレンはオーバーコーテイ
ングとして約０゜５ミクロン〜約７．０ミクロン好まし
くは約１．０ミクロン〜約４゜０ミクロンの厚さで像形
成部材に適用する。さらに、前述したように、本発明の
ポリシリレン化合物は三方晶セレン、セレン合金、水素
化無定形ケイ素、ケイ素−ゲルマニウム合金およびバナ
ジルフタロシアニンのような無機および有機光励起体を
包含する前述の像形成部材用の樹脂バインダーとしても
使用できる。この実施態様においては、例えば、像形成
部材は支持基体、ポリシリレン化合物中に分散させた三
方晶セレンまたはバナジルフタロシアニンの光励起顔料
を含む光励起層（ここではポリシリレンは樹脂バインダ
ーとして機能する）、およびトップ層としてのアリール
アミン正孔移送化合物（前述の・９９０号米国粋許参照
）またポリシリレンとを含む。

さらに、本発明のポリシリレン化合物は界面層としても
機能し得る。界面層としては、ポリシリレンは、例えば
、支持基体と光励起層の間または光励起層と正孔移送層
との間に適用し、各層の改良された接着を与える０本発
明の像形成部材で有用な他の界面層には、例えば、ポリ
エステルおよび他の等価の物質がある。これらの接着層
は約０．０５５ミフロン〜２ミクロンの厚さを有する。

本発明の像形成部材は静電潜像を感光性像形成部材上に
形成し、次いでその現像、適当な基体への転写および得
られた像の定着を行う種々の電子写真像形成装置特に静
電複写装置において有用である。さらに詳細には、前述
のポリシリレンを含む本発明の像形成部材は公知の液体
現像剤組成物を用いる像形成装置において特に有用であ
る。液体現像剤は通常分散させた顔料粒子と他の安定剤
のような添加剤とを含むオイルベースからなる。

約０．００２〜０．５ミクロンの厚さで存在する接着性
ブロッキング層の例にはアミノプロピルトリエトキシシ
ラン等の各種公知の材料がある。

〔実施例〕

以下、本発明を特定の好ましい実施態様に沿って詳細に
説明するが、これらの実施例は単に例示を目的とするも
のであることを理解されたい０本発明を実施例で記載し
た材料、条件、プロセスパラメーター等に限定する積り
はない、すべての部およびパーセントは特に断わらない
限り１ｉＮによる。

実施例１ ポリシリレンを先ず反応フラスコに１００ｍ！！の乾燥
トルエン中の１５ｍｊ！のジクロロフェニルメチルシラ
ンを加えることによって調製した。その後、滴下連続法
により１２＋ｓｊ！のナトリウム分散体（軽油中４０重
量％のナトリウム、アルドリッチケミカル社より商業的
に入手できる）を２５分間で加え、その添加は不活性乾
燥ガスアルゴン雰囲気中で行った。その後φアルゴンガ
ス雰囲気下で、反応フラスコの内容物を１１０℃で３時
間加熱撹拌し、次いでこれに５０ｎｌのトルエンを加え
た。暗色スラリーを得、これを冷却後濾過し、濾液７０
−１を７００ｍｊ？のヘキサンにゆっ（り加えて白色沈
澱を得、これを濾過し乾燥して集めた。このポリシリレ
ン沈澱物１．３５ｇは、ＧＰＣで測定したとき、重量平
均分子量５１９，０００　、重量平均分子量／数平均分
子量比１．６を有し実質的に４．０００〜２０．０００
の分子量画分を含んでいなかった。

実施例２ ポリシリレンを実施例１の手順を繰返すことによって調
製したが、ナトリウム分散体を１５分間で加えて、ＧＰ
Ｌで測定したとき、重量平均分子量７１７，０００　、
重量平均分子Ｉ／数平均分子量比１．７を有し、４．０
００〜２０．０００の分子量画分を実質的に含まないポ
リシリレンを得た。

実施例３ 感光性像形成部材を、厚さ３ミルのアルミニウム処理マ
イラー基体を用意し、次いでこれにマルチプルクリアラ
ンスフィルムアプリケーターでもって０．５ミクロンの
厚さで３−アミノプロピルトリエトキシシラン（フロリ
ダのＰＣＲリサーチケミカルズ社より入手できる）とエ
タノールの１：５０容量比の接着ブロッキング層を適用
することによって作製した。次いで、この層を室温で５
分間乾燥させ、次いで強制送風炉中で１００℃、１０分
間硬化させた。厚さ０．４ミクロンの無定形セレンの光
励起層をこのシラン層に適用した。その後、この無定形
セレン光励起層を実施例１の方法により得たポリ　（メ
チルフェニルシリレン）の移送層でトルエンとテトラヒ
ドロフラン容量比２：１の溶液からオーバーコーテイン
グした、このコーティングはスプレー法により行った。

乾燥律、厚さ１０ミクロンの電荷移送層を得た。

次に、この部材を約４００・ＩｌｌのアイソバールＧを
含む５００＋ｓｊ！ビーカー中に入れ、ビーカー中に１
日間保持した。ビーカーから取り出した後の像形成部材
の検査はその上にクラックがないことを示していた。こ
れに対し、この試験を２０．０００の低分子量画分を含
みまた４００．０００〜１，０００．０００の高分子量
画分も含むポリ　（メチルフェニルシリレン）を含む像
形成部材において繰返したときには、１日後に像形成部
材上に実質的にクラックを生じ、これはこの像形成部材
が液体現像剤による静電複写像形成法では使用できない
ことを示していた。さらに詳細には、この部材上には５
０以上のクラックが観察された。

静電潜像を、実施例１のポリ（メチルフェニルシリレン
）を含む上記で作製した像形成部材上に、この部材を静
電複写像形成試験装置に組み込むことによって形成させ
ることができ、部材を１　、０００ボルトの負電圧に帯
電後、得られた像を９２重量％のスチレンｎ−ブチルメ
タクリレートコポリマー（５Ｂ／４２）　、８重量％の
カーボンブラック粒子および２重量％の帯電促進添加剤
セチルピリジニウムクロライドを含むトナー組成物で現
像できた。肉眼観察により測定したとき、２５，０００
像形成サイクルで優れた解像力と優れた品質を有する現
像を得た。同様な結果は約９２％の水、７重量％のカー
ボンブラックのような染料および１％のポリビニルアル
コールを含有する液体現像剤組成物によっても得ること
ができた。

実施例４ 感光性像形成部材を実施例３の手順を繰返すことによっ
て作製したが、光励起顔料として無定形セレンの代りに
ひ素−セレン合金（９９，９重１％のセレンと０．５重
量％のひ素）を用いた。この像形成部材を用いて実施例
３の手順に従って２５．０００サイクルで像を得たとき
、実質的に同様な結果を得ることができた。

本発明の特定の好ましい実施態様に関連して説明して来
たけれども、これらに限定する積りはなく、むしろ当業
者ならば本発明の精神および本発明の範囲内で多くの変
形および修正をなし得ることを認めるであろう。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、重量平均分子量約４００，０００〜約１，０００，
   ０００を有し、重量平均分子量対数平均分子量の比が約
   １．３〜約３．０であり、 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５およ
   びＲ＿６は、個々に、アルキル、アリール、置換アルキ
   ル、置換アリール、およびアルコキシからなる群より選
   ばれ、ｎ、ｍおよびｐはポリシリレン化合物中のモノマ
   ー単位の割合を示す数である）を含む多層型像形成部材
   用のポリシリレン正孔移送化合物。 ２、Ｒ置換基が線状または枝分れアルキル基から選ばれ
   る請求項１記載の正孔移送化合物。 ３、ｎが０％〜１００％であり、ｍが０％〜１００％で
   あり、ｐが０％〜１００％であり、ｎ＋ｍ＋ｐの総計が
   １００％に等しい請求項１記載の正孔移送化合物。 ４、アルキル置換基が１〜１０個の炭素原子を有し、ア
   リール置換基が６〜約２４個の炭素原子を有する請求項
   １記載の正孔移送化合物。 ５、アルキルがメチルである請求項４記載の正孔移送化
   合物。 ６、アリールがフェニルである請求項４記載の正孔移送
   化合物。 ７、支持基体、光励起層、および請求項１記載のポリシ
   リレンを含む正孔移送層を含む改良された多層型感光性
   像形成部材。 ８、支持基体、光励起層、およびこれらの間に置かれた
   請求項１記載のポリシリレンを含むポリシリレン正孔移
   送層を含む改良された多層型感光性像形成部材。 ９、支持基体が伝導性である請求項７記載の改良された
   多層型感光性像形成部材。 １０、光励起層が無機光導電性顔料および有機光導電性
   顔料から選ばれた光励起顔料を含む請求項７記載の改良
   された多層型感光性像形成部材。 １１、無機顔料が無定形セレン、セレン合金または三方
   晶セレンである請求項１０記載の改良された多層型感光
   性像形成部材。 １２、有機顔料が金属フタロシアニン、無金属フタロシ
   アニン、またはバナジルフタロシアニンである請求項１
   ０記載の改良された多層型感光性像形成部材。 １３、ポリシリレンがポリ（メチルフェニルシリレン）
   である請求項７記載の改良された多層型感光性像形成部
   材。 １４、ポリシリレンがポリ（ｎ−プロピルメチルシリレ
   ン）−コ−メチルフェニルシリレンである請求項７記載
   の改良された多層型感光性像形成部材。 １５、ポリシリレンがポリ（メチルフェニルシリレン）
   である請求項８記載の改良された多層型感光性像形成部
   材。 １６、さらに、上面に保護オーバーコーティングを含む
   請求項７記載の改良された多層型感光性像形成部材。 １７、さらに、上面に保護オーバーコーティングを含む
   請求項８記載の改良された多層型感光性像形成部材。 １８、請求項７記載の像形成部材を用意し、その上に静
   電潜像を形成し、その後この像の現像を行い、次いで現
   像した像を適当な基体に転写し、必要に応じて像を基体
   に定着させることを含む像形成方法。 １９、請求項８記載の像形成部材を用意し、その上に静
   電潜像を形成し、その後この像の現像を行い、次いで現
   像した像を適当な基体に転写し、必要に応じて像を基体
   に定着させることを含む像形成方法。 ２０、ポリシリレンがポリ（メチルフェニルシリレン）
   、ポリ（ｎ−プロピルメチルシリレン）−コ−メチルフ
   ェニルシリレンまたはポリ（ｎ−プロピルメチルシリレ
   ン）である請求項１８記載の現像した静電潜像の形成方
   法。 ２１、ポリシリレンがポリ（メチルフェニルシリレン）
   、ポリ（ｎ−プロピルメチルシリレン）−コ−メチルフ
   ェニルシリレンまたはポリ（ｎ−プロピルメチルシリレ
   ン）である請求項１９記載の現像した静電潜像の形成方
   法。 ２２、現像剤組成物として液体インクを使用する請求項
   １８記載の方法。 ２３、像形成部材が１００，０００回の像形成サイクル
   においてその電気特性を保持する請求項２２記載の方法
   。