JPS5816247A - 感光体用剥離被覆材料 - Google Patents

感光体用剥離被覆材料

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JPS5816247A
JPS5816247A JP57106082A JP10608282A JPS5816247A JP S5816247 A JPS5816247 A JP S5816247A JP 57106082 A JP57106082 A JP 57106082A JP 10608282 A JP10608282 A JP 10608282A JP S5816247 A JPS5816247 A JP S5816247A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般的に云えば、特定の架橋シロキシポリマ
ーを含有する静電写真像形成装置に関し、更に詳しく云
えば、本発明は、架橋したシロキシポリマーから成る剥
離材料、および感光装置、特に上記のクロき材料を含む
被覆型多層装置であって、その剥離材料が上記の装置か
らのトナー像のすぐれた剥離と転写を達成する装置に関
する。
感光装置gを使用する像の形成および現像は周知であり
、最も広く使用されている方法の1つは、米国特許第2
,297,691号明細書に記載のゼログラフィーであ
る。この方法においては、静電潜像にトナー粒子を施着
して、その像を現像し、次いでそのような現像した像を
紙のり11き永久基体に転写している。現像は多数の公
知の技術により達成することができ、このような公知の
現像方法としては、カスケード現像方法、パウダークラ
ウド現像方法、磁気ブラシ現像方法、液体現像方法等が
ある。
近年、ゼログラフ像形成装置用および後に説明する二重
帯電方法を使用する像形成装置用として、層状にしたM
機感光体装置と層状にした無機感光体装置を有する被覆
mM機機影形成部材開発されている。このような感光体
装置においては、正孔注入層で被覆され、次いで正孔輸
送層で被覆され、更に次に正孔発生層で被覆され、且つ
最上層として絶縁性の有機樹脂被覆全■する基体を使用
し7ている。このような装置は各種の像形成装置におい
て非常に有用であり、且つ高品質の像が得られるととも
K、その被覆層が一義的にも保護層として作用するとい
う利点があるということが認められている。この種の被
覆型感光体は、「誘電被覆型感光性像形成部材および像
形成方法J(J、Y、C。
ChuおよびS、 Tutihasl )  という米
国特許第4.251,612号明細書(この開示はすべ
て参照文献として本明細書に包含される。)に詳しく開
示されている。
上記の特許明細4t! VCg己載された好ましい操作
方法は、まず最初に感光性部材を負の電荷の静電荷で帯
電させ、次いで第2回目として正の極性の静電荷で帯電
させて、該部材の畦気絶嫌性表面に存在する電荷を実質
的に中和し、次いで該部材を活性化電磁放射線からなる
像パターンに露光して静電潜像を形成する方法である。
次いで、この像を現像すれば可視像が形成でき、この可
視像は、受像部材に転写することができる。次いで、こ
の感光性部材は、消去とクリーニングを行った後、再使
用して別の複写を行うことができる。
ある種の被覆型有機感光体を像形成部+1.で使用する
と、現像と、得られた現像後の隊の転写に関して種々の
問題が発生している。例えば、トナー粒子が感光体表面
から十分に剥離しないで感光体表面に不要のトナー粒子
が残り、このようなトナー粒子が次いで感光体表面中に
埋込まれ、あるいは後の像形成工程で像形成表面から転
写し、その結果、低品質および/または高い・櫂ツタグ
ランドの望ましくない像を生じることになる。また、あ
る場合には、乾燥トナー粒子が、感光体表面に対するト
ナー粒子の接着性引力のために、バックグラウト領域に
おいて僧形成部材に接着する。このような現象は、被覆
材料としてシリコーン樹脂、あるいはエラストマーポリ
マー全使用した場合は、それらの溶融トナー剥離特性の
故に特に問題となり易い。低分子量のシリコーン成分は
、シリコーンポリマ一層の表面に移行することがあり、
且つゼログラフィー像形成方法の如くの像形成方法の現
像工程中に、該成分と接触した乾燥トナー粒子に対して
接着剤として作用することがある。しかして、上記のト
ナー粒子は、転写と定着を同時に熱で行う場合は、トナ
ー像と一緒に受像シートに有効に転写されるため、望ま
しくない高い・寸ツクグラウンドの印刷物が得られる。
本発明の目的は、上述の欠点を克服した改良された被覆
型感光装置を提供することである。
本発明の別の目的は、ビフェノール−Aコポリマーの如
く、ある種の架橋したシロキシ結合ジヒドロキン化合物
であって多層被覆型装置の如き被覆型感光装置の被覆剤
として使用すると、像形成光面からトナー粒子を良く剥
離し且つ転写するのに有用な化合物を提供することにあ
る。
本発明の更に別の目的は、特定の分子蓋のある種の架a
したシロキシ結合ビスフェノール−Aコポリマーおよび
/またはターポリマーであって、使いすての感光装置を
含む感光装置の被覆として使用すると、トナー粒子が該
感光層に粘着するのを防止することができるポリマーを
提供することにある。
本発明の更に別の目的は、架橋したシロキシ連結ビスフ
ェノール−Aコポリマーマタハターyj? IJママ−
およびこのようなポリマーを金石する被覆型感光装置で
あって、定着を加熱と圧力により同時に行うもの(本発
明ではトランスフィックスと称する)を提供することで
ある。
本発明の上記の目的および他の目的は、約2.0叩〜約
250.000、好ましくは約40.000〜約100
.000  の分子量を有するビスフェノール−Aコポ
リマーの妬き架橋したシロキシ連結ジヒドロキシ化合物
コポリマーを提供すること、およびこのようなシリコー
ンポリマーを含何する感光装置、%に多層被覆型感光装
置を提供することによ1 シ達成された。更に詳しく云えば、本発明は一夷流態様
においては、被覆型感光装置からトナー粒子を迅速に剥
離し、永久基体に迅速に転写させるために、被覆型感元
装[aに使用する剥離材料に関する。該剥離材料は、次
式のシリコーンポリマーカラ族る架橋したシロキシ連結
ジヒドロキシポリマーから構成される。
上記式中のRおよびR′は、アルキル、tIt換アシア
ルキルリールおよび直換アリールからなる群から独立し
て選ばれ、R1はアルクンおよび置換アルケンからなる
群から選ばれ、Yはジヒドロキシ基であり、且つm、!
:nとは約2.000〜約250.000の分子量を有
するポリマーになるに十分な値の数値である。本発明は
、別の実施態様においては、五層の被覆型感光装置に関
し、該装置は、導電性基体と、該導電性基体を被覆しポ
リマー中に分散2 させたカーはンブラックまたはグラファイトから成りそ
の表面に存する層中に正孔を注入し得る層と、正孔注入
材料層と接触している正孔輸送層と、該正孔輸送層を被
覆し無機または有機光導電性物質から成多底荷輸送層と
接触してい;)[荷発生材料層と、該電荷発生材料層の
上方に存し絶縁性有機樹脂から成る最上層とから成シ、
該最上ノー中に剥離材料として次式の架橋したシリコー
ン& IJママ−含む。
上記式中におけるRおよびR′は、アルキル、置換アル
キル、アリールおよび置換アリールからなる群から独立
して選ばれ、R1はアルケンおよび置換アルク/からな
る群から選ばれ、Yはジヒドロキシ基であり、且つnl
、:nとは、約2,000〜約250,000の分子量
を有する4リマーになるのに十分な値の数値である。
上述の式におけるmは約80〜約99.9の数であり、
且つnは約0.1〜20の数である。
架橋することができ、且つ本発明に適している材料ハ、
シロキシ連結コポリマーあるいはターポリマー(本明細
書ではシリコーンポリマーと称する)を包含し、これら
のポリマーは、シロキサンとジヒドロキシ化合物とから
成るコポリマーまたはターポリマーから成シ、このよう
なシリコーンポリマーは次式のものである。
上記式中のRおよびR′は、アルキル、置換アルキル、
アリールおよび置換アリールからなる群から独立して選
ばれ、RIはアルケンおよび置換アルケンからなる群か
ら選ばれ、Yはジヒドロキシ基であり、且つmとnとは
、前記の通)、約2,000〜約250,000の分子
量をMするポリマーになるのに十分な値の数値である。
アルキル基の例としては、メチル、エチル、プロピル、
ブチル、イソブチル、n−ブチル、ペンチル、インペン
チル、ヘキシル、へブチル、オクチル、デシル、ペンタ
デシル、エイコシル等の如く約1〜約20個の炭素原子
、好ましくは約1〜約10個の炭素原子を含むアルカン
(これらに限定されない)を包含し、一方、アルケンの
例としてハ、エチレン、プロピレン、ブチレン、4ンチ
レン、ヘキシレン、ヘデチレン、オクチレン、デシンン
、ペンタデシルン、エイコシレン等の如キ2〜約20個
の炭素原子、好ましくは2〜約10個の炭素原子を含ゼ
するもの(これらに限定されない)を包含する。アリー
ル基はフェニル、ナフチル、アンスリル等の如き約6〜
約20個の炭素原子全方するもの(これらに限定されな
い)全包含する。前記の基は、塩素、臭素、フッ素およ
びヨー素の如きハロゲン、上記の如きアルキル基等(こ
れらに限定されない)の種々のl1111il!!基を
有し得る。
ジヒドロキシ基Yは、エチレングリコール、ブ5 チレングリコール、プロピレングリコール、イソプロピ
レングリコール、トリメチレングリコール、1.3−ブ
タンジオール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチ
レングリコールグ・リセロール、ビフェノール等から誘
導されたものの如き少なくとも2個の水酸基を有する基
(これらに限定されない)を包含し、好ましいものはビ
フェノールである。ビフェノールの例としては、2.2
−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ノロパン(ビス
フェノール−A ) : 2,4’−ジヒドロキシジフ
ェニル−メタン;ビス=(2−ヒドロキシフェニル)−
メタン:ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−メタン;
ビス−(4−ヒドロキシ−5−二トロフェニル)−メタ
ン;ビス−(4−ヒドロキシ−2゜6−シメチルー3−
メトキシフェニル)−メタン;1.1−ビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−エタン:1,2−ビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)−エタ2:1,1−ビス−(4−ヒ
ドロキシ−2−クロロフェニル)−エタン:1.1−ビ
ス−(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−
6 エタy:1.s−ビス−(3−メチル−4−ヒト90キ
シフエニル)フロzfン:2,2−ビス−(3−イソプ
ロピル−4−ヒドロキシフェニル)−フロパン:2,2
−ビス−(4−ヒドロキシナフチル)−プロパン;2,
2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ペンタン;3
,5−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ペンタン:
2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−へブタン
;ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−フェニルメタン
;ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキシル
メタン;1,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−
1,3−ビス(フェニル)エタン;2゜2−ビス−(ヒ
ドロキシフェニル)−1,3−ビス−(フェニル)プロ
パン;2.2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−1
−7エニルノロノヤン等を包含する。
シリコーンポリマー(このポリマーは次いで架橋される
)を形成させる一方の反応剤として使用することができ
るシラン材料の例としては、例えば、ジブチルジクロロ
シラン、メチルフェニルジクロロシラン、ジフェニルジ
クロロシラン、メチルジクロロシラン、ジブチルジクロ
ロシラン、ツメチルジブロモシラ/、メチルオクチルジ
クロロシラン、メチルオクチルジクロロシラン、メチル
ビニルジクロロシラン、メチルアリルジクロロシラン、
ビスージメチルアミノツメチルシラン等ヲ包含する。反
応剤として使用される好ましいシランとしては、ジブチ
ルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシランおよ
びメチルビニルジクロロシランを包含する。
本発明の特定のシリコーンポリマーの例としてハ、ジメ
チルシロキン連結ビスフェノール−A1メチルオクチル
シロキシ連結ビスフェノール−^、メチルフェニルシロ
キシ連結ビスフェノール−A1ジメチルシロキシ連結2
.4′−ジヒドロキシジフェニル−メタン、ツメチルシ
ロキシ連結ビス−(2−ヒドロキシフェニル)メタン、
ジメチルシロキシ連結1.2−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)市エタン、メチルオクチルシロキシ連結ビス
−(2−ヒドロキシフェニルノーメタン、メチルオクチ
ルシロキシ連結2.4′−ゾヒドロキシジフェニルメタ
ン、メチルオクチルシロキシ連結ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−メタン、メチルオクチル−シロキシ連結1
.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エタン、メチ
ルオクチルシロキシ連結1.3−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−エタン、メチルオクチルシロキシ連結2
゜2−ビス−(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル
)フロパン、メチルオクチルシロキシ連結2゜2−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、ツメチルシロ
キシ−ビスフェノール−A/メチルビニルシロキシ−ビ
スフェノール−A;メチルフェニルシロキシ−ビスフェ
ノール−A/メチルビニルシロキシ−ビスフェノール−
A;ツメチルシロキシ−ビスフェノール−A/メチル−
アリルシロキシ−ビスフェノール−A:メチルフエ二ル
シロキシービスフェノールーA/メチルアリルシロキシ
〜ビスフェノール−Aニジエチルシロキシ−ビスフェノ
ール−^/メチルはニルシロキシ−ビスフェノール−A
;メチルオクチルシロキシ連結9 スフエノール−A/メチルビニルシロキシ−ビスフェノ
ール−八等を包含する。
本発明の架橋シリコーンポリマーの形成に使用できる1
つの考えられる装備機構は、架橋添加剤中に存在するケ
イ素上の反応性水素が、下記に示ス如く、シロキシ連結
ビスフェノール−AコホIJマー中のケイ素上のビニル
基に、ある所定の割合で付加する機構である。
RC シリコーンポリマーは、従来技術、すなわち上記のシリ
コーンポリマーに、ユニオンΦカーパイ0 ド社からし−31として入手できるシラニック水素架橋
液の如き架橋剤あるいはテトラメチルジシロキサン:1
,5,5.7−チトラメチルシクロテトラシロキサン等
の如き他の架橋剤を加えることを包含する技術に従って
架橋される。更に詳しく云えば、架橋反応は、例えばビ
ニル基の如き灰石部位を予め決めた濃度で有する適当な
シリコーンタリマー溶液を上述のユニオン験カーバイト
社のし−31の如きケイ化水素架橋剤と混合し、且つ付
加反応’fr4成するのに十分な量の、例えば塩化白金
酸の如き触媒と混合することにより達成される。使用す
る架橋剤の量は、所望の架橋度に従って、化学量論的濃
度より十分低い濃度から微かに過剰の量の範囲である。
適用し、且つ溶剤の蒸発後、室温で長時間を要してポリ
マーフィルムを硬化(架橋)させることができ、あるい
は比較的温和な温度、すなわち400〜約120 ’C
K71G!%してわずか数分間で反応を達成することが
できる。
使用するシリコーンターポリマー(このポリマーは1実
施態様において後に架橋されるンに関しては、このポリ
マーは、一般的には、適当な複数のシランヲ、ビスフェ
ノール−Aの如t[を当なビフェノールと攪拌下にフラ
スコ中で反応させることにより得られる。好ましい調製
方法では、ビスフェノール−Aの如きビフェノールを、
[押下にモートン(Morton )フラスコ中で約2
5℃の温度でベンゼンおよびピリシンの如き適当な溶剤
とともに、該ビスフェノール−Aが溶解するまで加熱ス
ル。次に、ジクロロシランの如き適当な複数のシランを
、約1〜2時間を要し、且つ約り0℃〜約60℃の温度
で溶解混合物に添加する。次に、この反応混合物を加熱
して反応を完結させ、次いで室温に冷却する。しかる後
、ピリジンの塩酸塩を濾過して除去するか、あるいは水
に溶解して除去する。、チリマー溶液を洗浄して不純物
を除去し、且つ溶剤を真空蒸発させてポリマーを分離す
る。
次に、必要に応じてポリマーを真空中で約5〜20時間
高い温度に加熱することによシ、縮合反応を完結させる
ことができる。
本発明の架橋シリコーンポリマーは、一般的には、本明
細書に記載の如き多層式感光装置の被覆層に適用される
。しかしながら、他の破模型感元装置として、ポリプロ
ピレン、マイラー、アル−はアルミニウム化マイラー基
体を、ピリリウム染料またはパナソウムフタロシアニン
のいずれか全含有する発生ノーで被覆し、次いで該発生
1g ’i yi? Iツカ−♂ネート、特にVキサン
(Lexan)として市販されているポリカーゴネート
の最上層中に後述する如きある種のファゼンを含有して
成る輸送層で被覆したことから成る感光装置としても利
用することができる。このような感光体に関しては、本
発明のポリマーは公知の従来技術方法で感光装置の最上
層に適用する。このような公知の方法としては、適当な
溶剤あるいは溶剤混合物を使用するブレードコーティン
グ法、ディラグあるいはフローコーティング法またはス
フレ−法があシ、ポリカーlネート基体に悪影響を与え
ることなく所望の厚さの被覆フィルムを形成することが
できる。
例えば、高濃度のシクロヘキサン(80〜90チ)を含
有し、ポリカーゴネートの非溶剤である溶剤混合物を使
用することによシ、すぐれた結果が得られる。典型的に
は、本発明のコポリマーを約2.0〜約5.0%固形分
の量で適用することにより、ポリカーゴネート被覆の上
に約0.1ミクロン〜約1.0ミクロンの厚さの均一な
ポリマー被覆を形成することができる。
本発明の架橋ポリマーは、他の感光装置に対しても、%
にトナー粒子の剥離と転写を達成するだめの被覆層とし
て適用することができる。上記の他の装置の例としては
、セレンのような通常の感光体、および基体、該基体と
接触している正孔注入電極、電気的に活性な材料をその
内に分散させて有する電気的に不活性な有機樹脂からな
る層であって、その組合せたものが町視邂磁放射11i
IK対しては実質的に非吸収性であるが、該層と接触し
ている電荷発生層から光発生した正孔の注入が可能であ
る電荷輸送層、および電荷発生材料層を被覆している絶
縁性有・機樹脂層から成る感光装置iを包含する。
本発明のポリマーで処理できる1つの感光装置3 用材料の例としては、下記の各種の層を包含する。
基体は、不透明でもよいし、実質的に透明でもよく、且
つ無機または有機のポリマーの如く非導邂性材料から成
るものでもよい。有機または無機材料からなる層は、ア
ルばニウム化マイラーの如き導電性表面層、あるいはア
ルミニウムあるいは黄銅等の如き導電性材料を有する。
基体は一般的には柔軟性のものであるが、剛性のもので
もよく、更に平板、円筒ドラム、エンドレスベル) 等
+2) 如く多種の形状のものでもよい、基体lidの
厚さは、2.54fi(100ミル)以上でもよいが、
好ましくは約0.082〜0.254關(3〜1oきル
)である。基体上に被覆された正孔注入電極層としては
、tJaの影響下において電荷キャリヤーを注入し得る
多数の材料を包含し、例えば、各種のポリマー樹脂中に
分散させた金、グラファイト、および好ましいものとし
てカーば/ブラックまたはグラファイトを包含する。こ
のtffiは、接着性ポリマー溶液中にカーボンブラッ
クまたはグラファイトを分散させた混合物をマイラーや
アルミニ4 ラム化マイラーの如き支持基体上に溶液キャスティング
することによp調製される。
カーざンブラックやグラファイトをその内に分散させる
材料として使用し得るポリマーの例としては、グツドイ
ヤー・カンパニーカラP E −100として市販され
ているポリエステル、およびジカルボン酸とジオール〔
このジオールは2.2−ビス(4−β−ヒドロキシエト
キシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シイソエポキシフェニル)プロパン、2.2−ビス(4
−β−ヒドロキシエトキシフェニル)ペンタン等の如キ
ジフェニールから成る)との重合エステル化生成物であ
るポリエステルを包含する。上記の典型的なゾカル?ン
酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フタル酸
、テレフタル酸等を包含する。
カーボンブラックまたはグラフアイ)K対するポリマー
の比率は、約0.5:1〜2:1、好ましくは約6:5
の範囲である。正孔注入層は、約1〜約20ミクロン、
好ましくは約4〜約10きクロンの範囲の厚さを有する
正孔注入材料上に被覆される電荷キャリヤー輸送層は、
正孔の輸送が可能である各種の適当な材料のいずれでも
よい。この層は、一般的には、約5〜約50ミクロン、
好ましくは約20〜約40ばクロンの範囲の厚さを有す
る。この輸送層は次式の分子を高絶縁性で透明な有機樹
脂劇科中に分散させたものから成る。
上記式中のXは、(オルソ) CH3、(メタ1cH3
、(〕母う) CH3、(オルソ)α、(メタ)α、(
パラ)ctからなる群から選ばれる。dM輸送層は、目
的とする用途のスペクトル領域、すなわち可視光に対し
て実質的拠非吸収性であるが、電性発生層から光発生し
且つ注入界面からWL電気的導入された正孔の注入が可
能であるという意味で活性である。1012オーム・1
以上の抵抗を有して過度の暗減衰を防止する高絶縁性材
料は、注入あるいは発生層から正孔の圧入を必ずしも支
持することがで逃す且つこの材料中を正孔を輸送するこ
とができない材料である。しかしながら、この樹脂は、
該樹脂が約10〜75重量%の前記の式に相当する置換
N、N、N’ 、  ’ −テトラフェニル−〔1,1
′−ビフェニル)4.4’ −ジアミンを含有すると、
電気的に活性となる。上記式に相当する化合物としては
、例えば、N、N’ −ジフェニル−N、N’−ビス−
(アルキルフェニル)−[1,1−ビフェニル)−4,
4’  −ジアミン(アルキル基は、2−メチル、3〜
メチルおよび4−メチルの如きメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、ヘキシル等からなる群から選ばれる)を包
含する。
塩素基置換の場合の化合物は、N、N’ −ジフェニル
町N、N’−ビス(ハロフェニル)−(1゜1/−ビフ
ェニル)−4,4’ −シアミント呼ハi、−t−のハ
ロダン原子は2−クロル、5−クロロ7 または4−クロロである。
電気的に不活性な樹脂中に分散させて正孔を輸送する層
を形成することができる他の電気的に活性な小分子化合
物としては、トリフェニルメタン、ビス−(4−ゾエチ
ルアばノー2−メチル7エ二ル)フェニルメタン:4’
、4’−ビス(ジエチルアミノ)−2’、2#−ツメチ
ルトリフェニルメタン:ビス−4(ジエチルアミノフェ
ニル)フェニルメタン;および4.4′−ビス(ジエチ
ルアミノ)−2’e 2’−ジメチルトリフェニルメタ
ンを包含する。
上述したもの以外の発生層(例えばピ171Jウム染料
)としては、例えば、電荷キャリヤー輸送層と電子的に
相和性である、すなわち、光励起した電荷キャリヤーを
輸送層忙注入でき且つ電荷キャリヤーが二個の層の界面
を横切って両方向に移動できる多数の元導畦性電荷キャ
リヤー発生材料を包含する。特定の光導酸性電荷キャリ
ヤー発生材料としては、無定形および三方晶形セレン、
セレン−砒素およびセレン−テルリウム合金、および8 例えばX−型フタロシアニンの如き無金属フタロシアニ
ン、パナゾウムフタロシアニンを包含スる金属7タロシ
アニ/のような7タロシアニンの如き有機電荷キャリヤ
ー発生材料全包含する。これらの材料は単独でも、ある
いはポリマーバインダー中の分散体としても使用するこ
とができる。この層は、典型的には約0.5〜約10ミ
クロン、あるいはそれ以上の厚さである。一般的には、
この層の厚さは、像露光工程でその層に向けられた入射
放射線の少なくとも90チ(あるいはそれ以上)f:吸
収するのに十分な厚さとするのが望ましい。その最大の
厚さは、機械的な観点、例えば柔軟性のある感光体が必
要とされるか否かの如き要因に第−義的に依存している
典型的な電気絶縁性被覆層は、約1015〜約5X10
14  オーム・鑞の体積抵抗11ftMし、且つ典型
的には約5〜約25ミクロンの厚さである。
一般的には、この層は、電荷キャリヤー発生層がトナー
、および像形成工程中で発生したオゾンと接触するのを
防止するという保護機能を有する。
また、被覆層は、電荷が、この1−を通って1荷キヤリ
ヤ一発生層に侵透し、あるいは電荷が後者の層によって
この層に注入されるのを妨げなければならない。従って
、絶縁性被覆1−は、高い体積抵抗直を有する材料から
成るのが好ましい。一般的には、層の最小厚は、いずれ
の場合においても、その層が果さねばならない機能によ
り決まシ、一方、最大厚は機械的な観点および感光体に
要求される解像能力によって決定される。適当な典型的
な材料としては、マイラー(E、1.デュポン・デ・ネ
モアス社から入手できるポリエチレンテレフタレート)
、ポリエチV7、ポリカーぜネート、ポリスチレン、ポ
リエステル、ポリウレタン等を包含する。
本発明において有用な感光装置は、前述の通シ透明層で
被覆し、次いで前述の発生J−で被覆した基体から構成
することができる。
1回の像形成工程においては、前述の五層被覆型感光装
置を、まず、照明無して負に帯電させる。
この負の電荷は鑞気絶縁性被憶層の表面に滞留している
。この点において、感光体を横切る電場が達成され、こ
の電場によって、正孔が成荷キャリヤー注入醒極層から
電荷キャリヤー輸送層に注入され、正孔はその層中全輸
送され、電荷キャリヤー発生層に入る。これらの正孔は
、これらの正孔が電荷キャリヤー発生層と峨気絶縁性の
被覆l−との界面に達するまで発生層中を移動し、そこ
でそれらの電荷が捕捉されるようになる。界面における
捕捉の結果、電気絶縁性被覆層を横切る電場が達成され
る。一般的には、この帯電工程は、約10ボルト/ミク
ロン〜約100メルト/ミクロンの範囲の電圧で達成さ
れる。
次に、この装置に第2回目の帯磁を第1回目の帯電で使
用した極性と反対の極性で行ことKより、表面に存在し
ている電荷を実質的に中和する。正の極性による第2回
目の帯1処理後は、その表面は実質的に電荷を有しなく
なる。すなわち、感光体全照射すると感光体部材を横切
る電圧を実質的に零にすることができる。第2回目の帯
電処理の結果として、正の電荷が発生層と被覆層との界
面1 に存在するようになシ、且つ更に、正孔注入層と輸送層
との間の界面に均一な層の負の電荷が位置するようにな
る。
しかる後、感光体部材を、電荷キャリヤー発生材料すな
わち本発明のシリコーンポリマー中に分散させた顔料に
感応する電磁放射線の1象A?ターンに露光すれば、そ
の像露光の結果として、感光体上に静電潜像が形成され
る。次に形成された静電潜像を通常の現像手段で可視像
に現像することができる。このような現像は、例えば、
カスケード、磁気ブラシ、液体現像等の方法で達成する
ことができる。可視像は典型的には、通常の転写技術に
よシ受像部材に転写され、且つそれに永久的に定着され
る。
本発明をその特定の好ましい実m趨様に従って詳細に説
明したが、このような実/lll1態様は単に本発明を
説明するだけの目的であシ、本発明はその実施態様に記
載された材料、栄件および処理・iラメ−ター等に限定
されるものではない。部とノ臂−セントは特に断りのな
い限り重量基準である。
2 実施例I 次の方法によってツメチルシロキシ−ビスフェノール−
A/メチルビニルシロキシ−ビスフェノール−Aポリマ
ーをA製した。攪拌機、還流コンデンサ、滴下ロート、
温度計および直熱マントルを偏見た500dの三ツロモ
ートンフラスコ中に、22.8N(0,10モル)のビ
スフェノール−A、20.ONのピリジンおよびsom
の乾燥トルエンを装入した。この混合物を、ビスフェノ
ール−Aが溶解するまで室温で攪拌し、50〜60℃に
加熱し、次いで12.5yca、095モル)のジメチ
ルジクロロシランと1.4P(0,01゜モル)のメチ
ルビニルジクロロシランを55〜60℃の温度で45分
間を要してフラスコ中に滴下してD口えた。次に、この
反応混合物t−55〜60℃で更に15分間攪拌し、次
いで室温に冷却し、続いて100 rugのトルエンを
添加した。次に200aJの水を添加してピリジンの塩
酸塩を溶解した。反応混合物全部を分離ロートに離し、
そこで塩水の層を分離した。トルエン中の粗ポリマー’
e20 QmJの2 % HU浴溶液2回、200mJ
の2チ炭酸ンーダ溶液で2回洗浄し、最後に蒸留水で中
性のpHにまで洗浄した。ポリマ一層を分離し、N a
 2804  上で乾燥し、且つ濾過した。溶剤は水蒸
気蒸留によっても除去でき、あるいはポリマーをn−ヘ
キサン中に沈殿させても分離することができる。
実施例■ 本発明のシリコーンポリマーの効果を求めるために、次
のテストヲ行った。
2.0ミクロンの厚さのアルイニウム化マイラー基体f
t有し、元発生性チアピリリウムおよび輸送材料である
N、N’−ジフェニル−N、N’ −ビス−(メチルフ
ェニル)−C1*  1−ビフエニル)−4,4’−ジ
アミノを含有している、市販のボリカー〆ネートポリマ
ーであるレキサン(LEXAN)(この層の厚さは10
.0ミクロンである)で被覆した帯電していない未被覆
の均一な感光体装置に、65重を憾のスチレンと35重
量%のn−ブチルメタクリレートとを含有しているスチ
レン−n−ブチルメタクリレートコポリマーからなるト
ナー組成物を施着した。次にこのトナーを、感光装置を
スナツピングして除去したところ、残留トナーは認めら
れなかった。
上記の操作を繰返したが、但しダウ・コーニング社から
R−4−3117として市販されている0、1〜0.2
ミクロンの架橋シリコーン剥離表面材料で被覆した感光
装置のセグメントを使用した。肉眼観察したところ、残
留トナーがシリコーン表面に接着していた。
0.1〜0.2ミクロンの実施例1の架橋ジメチルシロ
キシ−ビスフェノール−A/メチルビニルシロキシ−ビ
スフェノール−Aポリマーで被覆した上記と同一の感光
装置のセグメントを使用し1上記の操作を三たび繰返し
たところ、残留トナーは認められず、このポリマーが、
例えば市販のシリコーン剥離表面材料(ダウ・コーニン
グR−4+3117 )よりもすぐれた乾燥トナー剥離
性を有して込た。
5 実施例■ 実施例Hの感光装置を、実施例1のジメチルシロキシ−
ビスフェノール−A−メチルビニルシロキシ−ビスフェ
ノール−Aポリマーで被覆した。
このポリマー混合物はトルエン溶液であり、且つユニオ
ン・カーバイド社からユニオン・カーバイドし−31と
して市販されている珪化水素架橋液体および約500 
ppmの白金を塩化白金酸として含有している。感光体
を約1〜3時間乾燥させ、次いで50〜70℃の温度で
7〜10分間加熱処理してポリマーの架橋反応を促進さ
せた。0.1〜0.2ミクロンの厚さのフィルムが得ら
れた。
次に、上記のフィルムを有する感光装置に。
65チのマグネタイトと、65重量%のスチレンと35
重量%のn−ブチルメタクリレートとを含有する401
のスチレン−〇−ブチルメタクリレートコポリマー樹脂
とからなるトナー組成物を付着し九。次に、この感光装
置サンプルを120℃の温度に保持した熱板表面上に置
き、且つ一枚の紙をこの表面と接触させて置き、次いで
ロールを6 利用して圧力をかけた。次に紙を感光性表面サンプルか
ら剥離したところ、トナーの殆んど100チが転写する
というすぐれた転写性が肉眼観察で認められた。被覆し
た感光性の剥離フィルムは。
ポリカーボネート表面上にそのまま残っており、そのフ
ィルムは120℃の温度にさらしても除去されないので
ポリカーざネートに対するすぐれた接着性と架橋性を示
している。
実施例■ 実施例■の感光装置を実施例Iで調製したメチルフェニ
ルシロキシ−ビスフェノール−^−メチルビニルシロキ
シービスフェノール−^−リマーで被覆した。このポリ
マー混合物は、実施例■に記載の架橋液体と約500p
pmの白金をトルエン中の塩化白金酸として含有してい
る。感光体を約1時間空気乾燥し、且つ85℃で6〜5
分間加熱して架橋反応を促進させた。約0,1〜0.2
ミクロンのフィルムが得られた。
実施例■のトナー組成物を上記のフィルムに付着させ、
加熱し且つ実施例■に記載の如く紙に転写したところ、
実質的に同一の結果が得られた。
本発明を特定の好ましい実施態様に関して説明したが1
本発明はそれらの実施態様に限定されず、むしろ、当業
者にとっては1本発明の要旨と特許請求の範囲内におし
て各種の変形と修rEが可能であると解するべきである
9 361−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)被覆型感光装置に用いられ、該装置からトナー粒
    子を迅速に剥離し、永久支持体に転写するための剥離材
    料であって;架橋したシロキシ結合ジヒドロキシポリマ
    ーから成り、該架橋物質が、次式のシリコーンポリマー
    から成る上記剥離材料。 (但し、上記式中のRおよびR′は、アルキル。 置換アルキル、アリールおよび置換アリールからなる群
    から独立して選ばれ、p //はアルケンおよび置換ア
    ルケンからなる群から選ばれ、Yはジヒドロキシ基であ
    り1mとnとは約2 、000〜約250.000の分
    子量のポリマーになるのに十分な値の数値である。) (2)RオヨびR′が、1〜20個の炭素原子のアルキ
    ル基であり、且つ表両コポリマーの分子量が約40,0
    00〜約100,000である特許請求の囲水第(1)
    Inに記載の剥離材料。 (3)  アルキル基が、メチルである特許請求の範囲
    第(2)項に記載の剥離材料。 (4)  R//が、エチレンである特許請求の範囲紀
    (2)項に記載のφj服材料。 (5)  アリール基が、6〜20個の炭素原子を有し
    、且つジヒドロキシ基Yがエチレングリコールまたはビ
    フェノールである特許請求の範囲第(1)項に記載の剥
    離材料。 (6)  ビフェノールが、2.2’−ビス−(4−ヒ
    ドロキシフェノール)プロパンである特許請求の範囲第
    (5)項に記載の剥離材料。 (7)  架橋したジメチルシロキシ−ビスフェノール
    A/メチルビニルシロキシ−ビフェノール^ポリマーか
    ら成る破覆型感光装(W用剥離材料。 (8)  架llたメチルフェノールシロキシーピスフ
     ゛エノール−A/メチルビニルシロキシーピスフエノ
    ール−Aポリマーから成る被覆型感光装置用剥離材料。 (9)  架橋L7’cジメチルシロキシ−ビスフェノ
    ール−A/メチルアリルシロキシ−ビスフェノール−A
    ポリマーから成る被覆型感光装置用剥離材料。 α1 架橋したメチルフェノールシロキン−ビスフェノ
    ール−A/メチル了りルシロキシービスフェノールーA
    ポリマーから成る被覆型感光装置用剥離材料。 α1)  架橋L7’cゾエテルシロキシービスフェノ
    ール−A/メチルビニルシロキシ−ビスフェノール−A
    ポリマーから成る被覆型感光装置用剥離材料。 0タ 架橋したメチルオクチルシロキシ−ビスフェノ−
    ’yv −A /メチルビニルシロキシービスフェノー
    ル−Aポリマーから成る被覆型感光装置用剥離材料。 (13)  導電性基体と、該導電性基体を被覆しポリ
    マー中に分散させたカーピンブラックまたはグラファイ
    トから成り、その表面に存する層中に正孔を注入し得る
    層と、該正孔注入材料層と接触している正孔輸送層と、
    該正孔輸送層を被覆し無機または有機光導電性物質から
    成p電荷輸送層と接触している電荷発生材料層と、該電
    荷発生材料層の上方に存し絶縁性有機樹脂から成る最上
    層とから成り、該最上層中に剥離材料として次式の架橋
    したシリコーンポリマーを含む被覆型感光装置。 (上記式中のRおよびR′は、アルキル、置換アルキル
    、アリールおよび置換アリールから成る群から独立して
    選ばれ、R″は、アルケンおよび置換アルケンから成る
    群から選ばれ、Yは、ジヒドロキ7基であり1mとnと
    は約2 、000〜約250.000の分子量を有する
    ポリマーになるのに十分な値の数値である。) α滲 シリコーンポリマーが、架橋したゾメチルシロキ
    シービスフェノールーA/メチルビニルシロキシ−ビス
    フェノール−A & IJママ−メチルフェノールシロ
    キシ−ビスフェノール−^/メチルビニルシロキシービ
    スフェノール−A ylf IJママ−ゾメチルシロキ
    シピスフェノールーA/メチル了りルシロキシービスフ
    ェノールーA?リマー、メチルフェノールシロキシ−ビ
    スフェノール−A/メチルアリルシロキシ−ビスフェノ
    ール−Aポリマー、ジエチルシロキシ−ビスフェノール
    −A/メチルビニルシロキシ−ビスフェノール−^ポリ
    マー、またはメチルオクチルシロキシ−ビスフェノール
    −A/メチルビニルシロキシ−ビスフェノール−Aポリ
    マーである特許請求の範囲第(13i項に記載の被覆型
    感光装置。 (151輸送層で被覆され1次いで剥離材料として下式
    のシリコーンポリマーを含有している光発生層で被覆さ
    れた基体から成る破a型感光装置。 (上記式中のRおよびR′は、アルキル、置換アルキル
    、アリールおよび置換アリールからなる群から独立して
    選ばれ、R″はアルケンおよび置換アルケンからなる群
    から選ばれ、Yはジヒドロキシ基であり、mとnとは約
    2 、000〜約250 、ODDの分子量を有するポ
    リマーとなるのに十分な値の数値である。)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63221350A (ja) * 1987-01-30 1988-09-14 ゼロックス コーポレーション 湿気非感受性感光性像形成部材

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59208556A (ja) * 1983-05-11 1984-11-26 Canon Inc 電子写真感光体
US4600673A (en) * 1983-08-04 1986-07-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Silicone release coatings for efficient toner transfer
BR8407006A (pt) * 1983-08-04 1985-07-02 Minnesota Mining & Mfg Revestimentos desprendedores de silicone para eficiente transferencia de toner
US4606934A (en) * 1984-09-04 1986-08-19 Xerox Corporation Process for preparing overcoated electrophotographic imaging members
US4595602A (en) * 1984-09-04 1986-06-17 Xerox Corporation Process for preparing overcoated electrophotographic imaging members
JPH071400B2 (ja) * 1985-11-05 1995-01-11 三菱化成株式会社 電子写真感光体
US4869982A (en) * 1987-04-30 1989-09-26 X-Solve, Inc. Electrophotographic photoreceptor containing a toner release material
US5166021A (en) * 1991-04-29 1992-11-24 Xerox Corporation Photoconductive imaging members with polycarbonate fluorosiloxane polymer overcoatings
JPH05162586A (ja) * 1991-12-16 1993-06-29 Mitsubishi Electric Corp 警告装置
US5418106A (en) * 1993-07-01 1995-05-23 Nu-Kote International, Inc. Rejuvenated organic photoreceptor and method
US5436099A (en) * 1993-12-21 1995-07-25 Xerox Corporation Photoreceptor with low surface energy overcoat
KR19990008020A (ko) * 1995-04-28 1999-01-25 테릴켄트퀄리 광전도체를 위한 박리 층

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5584942A (en) * 1978-12-13 1980-06-26 Xerox Corp Generator layer for light receptor unit

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2207495A1 (de) * 1971-02-20 1972-08-24 Dainippon Printing Co Ltd Flachdruckplatten und Verfahren zu ihrer Herstellung
US3775115A (en) * 1971-07-14 1973-11-27 Addressograph Multigraph Method of preparing lithographic printing plate
US3861915A (en) * 1973-03-30 1975-01-21 Eastman Kodak Co Block copolyesters of polysiloxanes as additives to photoconductive layers
JPS525884B2 (ja) * 1973-05-09 1977-02-17
US4009032A (en) * 1974-10-23 1977-02-22 Xerox Corporation Process for preparing waterless printing masters comprising copolymer of siloxane and thermoplastic blocks
US4251612A (en) * 1978-05-12 1981-02-17 Xerox Corporation Dielectric overcoated photoresponsive imaging member

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5584942A (en) * 1978-12-13 1980-06-26 Xerox Corp Generator layer for light receptor unit

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63221350A (ja) * 1987-01-30 1988-09-14 ゼロックス コーポレーション 湿気非感受性感光性像形成部材

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0261740B2 (ja) 1990-12-20
US4371600A (en) 1983-02-01
CA1179880A (en) 1984-12-27

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