JPH0217810B2 - - Google Patents
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- JPH0217810B2 JPH0217810B2 JP58147810A JP14781083A JPH0217810B2 JP H0217810 B2 JPH0217810 B2 JP H0217810B2 JP 58147810 A JP58147810 A JP 58147810A JP 14781083 A JP14781083 A JP 14781083A JP H0217810 B2 JPH0217810 B2 JP H0217810B2
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- Japan
- Prior art keywords
- transparent
- scanning line
- substrate
- deposited
- film
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- Expired - Lifetime
Links
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明はタブレツトのすべての構成部材を透
明な材料を用いて形成した座標標取装置の製造方
法に関するものである。
明な材料を用いて形成した座標標取装置の製造方
法に関するものである。
従来の電磁誘導型の座標読取装置では座標を読
み取り、ホストコンピユータに入力する場合、図
面等の座標読取メデイアをタブレツト上に載置
し、スタイラスペン等の座標指示器を移動して行
なつている。この場合、座標指示器から発生する
交番磁界ととタブレツト上に平行に敷設した走査
線との電磁結合による信号により、座標の位置を
決定しなければならないため、タブレツト面と座
標指示器との距離が一定で、かつ、数ミリメート
ル以内の距離でなければなかつた。従つて、座標
読取メデイアの厚みに制限があり、書籍のように
綴込んであつて厚みのあるメデイアはそのままで
は座標を読み取ることができなかつた。
み取り、ホストコンピユータに入力する場合、図
面等の座標読取メデイアをタブレツト上に載置
し、スタイラスペン等の座標指示器を移動して行
なつている。この場合、座標指示器から発生する
交番磁界ととタブレツト上に平行に敷設した走査
線との電磁結合による信号により、座標の位置を
決定しなければならないため、タブレツト面と座
標指示器との距離が一定で、かつ、数ミリメート
ル以内の距離でなければなかつた。従つて、座標
読取メデイアの厚みに制限があり、書籍のように
綴込んであつて厚みのあるメデイアはそのままで
は座標を読み取ることができなかつた。
本発明はこのような欠点を除去するため、座標
読取メデイアの上にタブレツトを載置して、座標
の読取操作を行なうことができるため、タブレツ
トを透明にした座標読取装置の製造方法を提供す
ることを目的とする。
読取メデイアの上にタブレツトを載置して、座標
の読取操作を行なうことができるため、タブレツ
トを透明にした座標読取装置の製造方法を提供す
ることを目的とする。
以下、本発明の実施例について述べる。第１図
は本発明の第１の実施例であり、構成部材は模型
的に分解して示している。破線で囲んだ部分がそ
れぞれＸ，Ｙ基板を示す。１および２はそれぞれ
基板となる厚み0.5mmの無色透明な硬化ガラス板
である。基板１の一方の面には非常に高い透明度
を持つた合金、例えば酸化インジウムを蒸着した
後、エツチングにより複数本のＸ走査線群x1，
x2，…xnに分割する。しかる後、Ｘ走査線群の
上に透明な二酸化珪素の絶縁被膜５を蒸着し、基
板１の他方の面にタブレツト内部を雑音からシー
ルドするため、酸化インジウムの被膜３を蒸着す
る。なお、基板１の両面に酸化インジウムを蒸着
し、一方の酸化インジウム被膜をマスクして保護
しておき、他方の被膜をエツチングによりＸ走査
線群に分割した後その上に二酸化珪素の絶縁被膜
５を蒸着しても良い。なお、後にＸ走査線群にＸ
走査回路８を接続する部分には二酸化珪素の絶縁
被膜が蒸着されないようにあらかじめマスクして
おくと良い。
は本発明の第１の実施例であり、構成部材は模型
的に分解して示している。破線で囲んだ部分がそ
れぞれＸ，Ｙ基板を示す。１および２はそれぞれ
基板となる厚み0.5mmの無色透明な硬化ガラス板
である。基板１の一方の面には非常に高い透明度
を持つた合金、例えば酸化インジウムを蒸着した
後、エツチングにより複数本のＸ走査線群x1，
x2，…xnに分割する。しかる後、Ｘ走査線群の
上に透明な二酸化珪素の絶縁被膜５を蒸着し、基
板１の他方の面にタブレツト内部を雑音からシー
ルドするため、酸化インジウムの被膜３を蒸着す
る。なお、基板１の両面に酸化インジウムを蒸着
し、一方の酸化インジウム被膜をマスクして保護
しておき、他方の被膜をエツチングによりＸ走査
線群に分割した後その上に二酸化珪素の絶縁被膜
５を蒸着しても良い。なお、後にＸ走査線群にＸ
走査回路８を接続する部分には二酸化珪素の絶縁
被膜が蒸着されないようにあらかじめマスクして
おくと良い。
同様にして、同じ厚みで同じ材質の基板２には
一方の面に酸化インジウムのシールド被膜４、他
方の面にＹ走査線群y1，y2，…ynおよび二酸化珪
素の絶縁被膜６を形成する。
一方の面に酸化インジウムのシールド被膜４、他
方の面にＹ走査線群y1，y2，…ynおよび二酸化珪
素の絶縁被膜６を形成する。
このように形成した二枚の基板１および２をＸ
走査群とＹ走査線群が直交するように高透明度接
着剤７で貼り合せる。ここでは波長300〜400ナノ
メータの紫外線を照射すると硬化する光硬化性樹
脂を用いた。しかる後、Ｘ走査線群とＹ走査線群
の一端に導伝接着材を用いて、それぞれＸ走査回
路８およびＹ走査回路９を接続し、固定強化して
タブレツトを完成する。
走査群とＹ走査線群が直交するように高透明度接
着剤７で貼り合せる。ここでは波長300〜400ナノ
メータの紫外線を照射すると硬化する光硬化性樹
脂を用いた。しかる後、Ｘ走査線群とＹ走査線群
の一端に導伝接着材を用いて、それぞれＸ走査回
路８およびＹ走査回路９を接続し、固定強化して
タブレツトを完成する。
第２図は、本発明の第２の実施例である。第１
の実施例との構造上の違いは、ガラス基板が一放
で蒸着膜が多層構造となつていることである。無
色透明なガラス基板１の一方の面に酸化インジウ
ムを蒸着した後エツチングにより複数本のＸ走査
線群x1，x2…xnに分割する。その上に透明な二
酸化珪素の絶縁被膜５を蒸着し、さらにその上に
酸化インジウムを蒸着した後Ｘ走査線群に対し直
支するようにＹ走査線群y1，y2，…ynに分割す
る。しかる後Ｙ走査群の上に二酸化珪素の絶縁被
膜６を蒸着し、基板１の最外部にシールド用の酸
化インジウムの被膜３および４を蒸着する。
の実施例との構造上の違いは、ガラス基板が一放
で蒸着膜が多層構造となつていることである。無
色透明なガラス基板１の一方の面に酸化インジウ
ムを蒸着した後エツチングにより複数本のＸ走査
線群x1，x2…xnに分割する。その上に透明な二
酸化珪素の絶縁被膜５を蒸着し、さらにその上に
酸化インジウムを蒸着した後Ｘ走査線群に対し直
支するようにＹ走査線群y1，y2，…ynに分割す
る。しかる後Ｙ走査群の上に二酸化珪素の絶縁被
膜６を蒸着し、基板１の最外部にシールド用の酸
化インジウムの被膜３および４を蒸着する。
同様にＸ走査線群とＹ走査線群の一端に導伝接
着材を用いて、それぞれＸ走査回路８およびＹ走
査回路９を接続し、固定強化してタブレツトを完
成する。
着材を用いて、それぞれＸ走査回路８およびＹ走
査回路９を接続し、固定強化してタブレツトを完
成する。
第３図は、完成した座標読取装置により、座標
の読取り操作を行なつている状態を示す図であ
る。座標読取メデイア１２上に透明なタブレツト
１０を載置し、座標指示器１１により、図示して
ない外部のホストコンピユータに座標を入力する
ことができる。
の読取り操作を行なつている状態を示す図であ
る。座標読取メデイア１２上に透明なタブレツト
１０を載置し、座標指示器１１により、図示して
ない外部のホストコンピユータに座標を入力する
ことができる。
以上述べたように本発明によれば、走査線群を
蒸着した酸化インジウムをエツチングにより分割
して形成し、かつ、絶縁被膜およびシールド被膜
も蒸着によつて形成しているので作業性が良く量
産に適し、新規なタブレツトを安価に提供できる
等の効果を有する。
蒸着した酸化インジウムをエツチングにより分割
して形成し、かつ、絶縁被膜およびシールド被膜
も蒸着によつて形成しているので作業性が良く量
産に適し、新規なタブレツトを安価に提供できる
等の効果を有する。
第１図は、本発明の第１の実施例を模型的に分
解して示す図、第２図は本発明の第２の実施例を
同様にして示す図、第３図は座標の読取操作を行
なう状態を示す図である。 １，２……基板、３，４……シールド被膜、
５，６……絶縁被膜、７……接着材、８……Ｘ走
査回路、９……Ｙ走査回路、１０……透明タブレ
ツト、１１……座標指示器、１２……座標読取メ
デイア。
解して示す図、第２図は本発明の第２の実施例を
同様にして示す図、第３図は座標の読取操作を行
なう状態を示す図である。 １，２……基板、３，４……シールド被膜、
５，６……絶縁被膜、７……接着材、８……Ｘ走
査回路、９……Ｙ走査回路、１０……透明タブレ
ツト、１１……座標指示器、１２……座標読取メ
デイア。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 透明な基板の一方の面に透明な合金被膜を蒸
着した後エツチングにより複数の平行した走査線
群に分割し、次に前記走査線群の上に透明な絶縁
被膜を蒸着し、さらに前記基板の他方の面に透明
なシールド用の被膜を蒸着して一枚の基板を完成
し、このようにして完成した二枚の基板を走査線
群が互いに直交するように透明な接着剤で貼り合
わせる工程からなる座標読取装置の製造方法。 ２ 透明な基板の一方の面に透明な合金被膜を蒸
着した後エツチングにより複数の平行した走査線
群に分割し、次に前記走査線群の上に透明な絶縁
被膜を蒸着し、さらにその上に透明な合金被膜を
蒸着した後、前記走査線群と直交するような複数
の平行な走査線群に分割し、なおさらにその上に
透明な絶縁被膜を蒸着し、前記基板の最外部両面
に透明なシールド用の合金被膜を蒸着する工程か
らなる座標読取装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58147810A JPS6039281A (ja) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | 座標読取装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58147810A JPS6039281A (ja) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | 座標読取装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6039281A JPS6039281A (ja) | 1985-03-01 |
| JPH0217810B2 true JPH0217810B2 (ja) | 1990-04-23 |
Family
ID=15438724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58147810A Granted JPS6039281A (ja) | 1983-08-12 | 1983-08-12 | 座標読取装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6039281A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03289105A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-19 | Tokin Corp | 端子台付チョークコイル及び製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0534036Y2 (ja) * | 1988-02-05 | 1993-08-30 |
-
1983
- 1983-08-12 JP JP58147810A patent/JPS6039281A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03289105A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-19 | Tokin Corp | 端子台付チョークコイル及び製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6039281A (ja) | 1985-03-01 |
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