JPH02174190A - 電子部品の実装方法 - Google Patents
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3489—Composition of fluxes; Methods of application thereof; Other methods of activating the contact surfaces
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はプリント配線板と電子部品を半田により接続す
る実装方法に関する。
る実装方法に関する。
(従来の技術)
プリント配線板に電子部品を実装した電子回路は、高集
積化している。この傾向は最近ますます強まり、実装形
態に大きな変化をもたらしつつある。即ち表面実装方式
による電子回路が特に著しく採りあげられる傾向にある
。この結果、電子部品の半田による接続作業も、2回以
上行われることが多くなった0例えば、プリント配線板
の表面に、端子用リード線のないチップ部品をリフロー
(VPS方式、熱風方式、赤外線方式などがある)によ
る半田づけを行ったのち、裏面にも同じようにチップ部
品をリフローによる半田づけを行い、その後端子用リー
ド線をもった電子部品をフロー法による半田づけを行う
ことが行われている。
積化している。この傾向は最近ますます強まり、実装形
態に大きな変化をもたらしつつある。即ち表面実装方式
による電子回路が特に著しく採りあげられる傾向にある
。この結果、電子部品の半田による接続作業も、2回以
上行われることが多くなった0例えば、プリント配線板
の表面に、端子用リード線のないチップ部品をリフロー
(VPS方式、熱風方式、赤外線方式などがある)によ
る半田づけを行ったのち、裏面にも同じようにチップ部
品をリフローによる半田づけを行い、その後端子用リー
ド線をもった電子部品をフロー法による半田づけを行う
ことが行われている。
この場合は、プリント配線板は、半田づけ温度(200
〜260℃)で3回加熱される。この加熱によりプリン
ト配線板の導体回路を形成する銅は、酸化され半田と合
金化反応を起こしにくくなり、半田による電子部品の接
続不良の原因となっている。
〜260℃)で3回加熱される。この加熱によりプリン
ト配線板の導体回路を形成する銅は、酸化され半田と合
金化反応を起こしにくくなり、半田による電子部品の接
続不良の原因となっている。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、前記プリント配線板の銅の酸化物を可溶性の
キレート化合物に変えることにより除去し、半田づけの
信頼性を向上させるものである。
キレート化合物に変えることにより除去し、半田づけの
信頼性を向上させるものである。
銅の酸化物は塩酸などの無機酸や、マレイン酸。
醋酸などの有機酸、アンモニア、ホルマリンなどを用い
れば、容易に除去可能である。しかし、既に電子部品を
搭載された電子回路においては、これらの薬品を使用す
るときは、部品の腐食の原因となるので使用できない。
れば、容易に除去可能である。しかし、既に電子部品を
搭載された電子回路においては、これらの薬品を使用す
るときは、部品の腐食の原因となるので使用できない。
そこで、本発明者らは、部品を損なうことなく銅の酸化
物を除去する方法につき検討し、ある種の有機化合物が
きわめてこの目的に有効なことを発見した。すなわち、
半田づけの直前、正確にはフラックスの塗布工程の前に
、これらの有機化合物を含む溶液で電子回路を洗浄すれ
ばよいことを見出した。
物を除去する方法につき検討し、ある種の有機化合物が
きわめてこの目的に有効なことを発見した。すなわち、
半田づけの直前、正確にはフラックスの塗布工程の前に
、これらの有機化合物を含む溶液で電子回路を洗浄すれ
ばよいことを見出した。
(課題を解決するための手段)
本発明は、良好な半田づけを行うためプリント配線板の
導体銅の酸化物を非酸化性の脱錆剤で処理し、銅の酸化
物を可溶性のキレート化合物に変化させることにより除
去するようにしたものである。この処理を行ったのち、
電子回路は常法によって更に洗浄することもできる。
導体銅の酸化物を非酸化性の脱錆剤で処理し、銅の酸化
物を可溶性のキレート化合物に変化させることにより除
去するようにしたものである。この処理を行ったのち、
電子回路は常法によって更に洗浄することもできる。
本発明で用いられる非酸化性脱錆剤としては、各種脂肪
族アミン、芳香族アミン、アミノアルコール類、イミダ
プールなどのアミン類、およびアセチルアセトンや、グ
ルコースなどの糖類が挙げられる。
族アミン、芳香族アミン、アミノアルコール類、イミダ
プールなどのアミン類、およびアセチルアセトンや、グ
ルコースなどの糖類が挙げられる。
脂肪族第一アミンとしては、2−エチルへキシルオキシ
プロピルアミン、3−メトキシプロピルアミン5 アリ
ルアミン、メチルアミン、エチルアミン プロピルアミ
ン、イソプロピルアミンブチルアミン、アミルアミン、
ヘキシルアミンヘプチルアミン オクチルアミン、ノニ
ルアミンデシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルア
ミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタ
デシルアミン、セチルアミン、脂肪族第三アミンとして
は、ジメチルアミン、ジエチルアミンジプロビルアミン
、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジー2−エ
チルヘキシルアミン、ジブチルアミン、シアミルアミン
、脂肪族第三アミンとしては、トリメチルアミン、トリ
アリルアミン、トリエチルアミン、トリエチルアミン、
トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリオクチル
アミン、トリアミルアミン、脂肪族不飽和アミンとして
は、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン
、脂環式アミンとしては、シクロプロピルアミン、シク
ロブチルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシ
ルアミン、芳香族アミンとしては、アニリン メチルア
ニリン、ジメチルアニリン、エチルアニリン、ジエチル
アニリン、0−トルイジン、m−トルイジン、p−トル
イジン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、トリベン
ジルアミン、ジフェニルアミン、トルフェニルアミン、
α−ナフチルアミン、β−ナフチルアミン等の他、アン
モニア、テトラメチルエチレンジアミン、ジブチルアミ
ノプロビルアミン、モノメチルアミノプロピルアミン、
ジメチルアミノプロピルアミン、イミノビスプロピルア
ミン、メチルイミノビスプロピルアミンなどがあり、こ
れらを混合して用いてもよい。
プロピルアミン、3−メトキシプロピルアミン5 アリ
ルアミン、メチルアミン、エチルアミン プロピルアミ
ン、イソプロピルアミンブチルアミン、アミルアミン、
ヘキシルアミンヘプチルアミン オクチルアミン、ノニ
ルアミンデシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルア
ミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタ
デシルアミン、セチルアミン、脂肪族第三アミンとして
は、ジメチルアミン、ジエチルアミンジプロビルアミン
、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジー2−エ
チルヘキシルアミン、ジブチルアミン、シアミルアミン
、脂肪族第三アミンとしては、トリメチルアミン、トリ
アリルアミン、トリエチルアミン、トリエチルアミン、
トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリオクチル
アミン、トリアミルアミン、脂肪族不飽和アミンとして
は、アリルアミン、ジアリルアミン、トリアリルアミン
、脂環式アミンとしては、シクロプロピルアミン、シク
ロブチルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシ
ルアミン、芳香族アミンとしては、アニリン メチルア
ニリン、ジメチルアニリン、エチルアニリン、ジエチル
アニリン、0−トルイジン、m−トルイジン、p−トル
イジン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、トリベン
ジルアミン、ジフェニルアミン、トルフェニルアミン、
α−ナフチルアミン、β−ナフチルアミン等の他、アン
モニア、テトラメチルエチレンジアミン、ジブチルアミ
ノプロビルアミン、モノメチルアミノプロピルアミン、
ジメチルアミノプロピルアミン、イミノビスプロピルア
ミン、メチルイミノビスプロピルアミンなどがあり、こ
れらを混合して用いてもよい。
アミノアルコール類としては、N、N−ジエチルエタノ
ールアミン、N、N−ジメチルエタノルアミン、アミノ
エチルエタノールアミン、N−メチル−N、N−ジェタ
ノールアミン、 N、 Nジイソプロピルエタノー
ルアミン、N、N−ジブチルエタノールアミン、N−メ
チルエタノールアミンなどがあり、これらを混合して用
いてもよい。
ールアミン、N、N−ジメチルエタノルアミン、アミノ
エチルエタノールアミン、N−メチル−N、N−ジェタ
ノールアミン、 N、 Nジイソプロピルエタノー
ルアミン、N、N−ジブチルエタノールアミン、N−メ
チルエタノールアミンなどがあり、これらを混合して用
いてもよい。
零店類としては、グルコース、フルクトース、マンニッ
トデンプン糖、サッカロース、デキストラン、ザンサン
ガム、カードラン、プルラン、シクロアミロース、マル
チトール、グルコサミンがあり、これらを混合して用い
てもよい。
トデンプン糖、サッカロース、デキストラン、ザンサン
ガム、カードラン、プルラン、シクロアミロース、マル
チトール、グルコサミンがあり、これらを混合して用い
てもよい。
イミダゾール類としては、イミダゾール、2−メチルイ
ミダゾール62−エチルイミダゾール。
ミダゾール62−エチルイミダゾール。
2−エチル−4メチルイミダゾール、2−イソプロピル
イミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール 2−ヘプ
タデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2
−フェニル4メチルイミダゾール l−ベンジル2メチ
ルイミダゾール、l−シアノエチル2メチルイミダゾー
ル、l−シアノエチル2エチル4メチルイミダゾール、
1−シアノエチル2イソプロビルイミダヅール、l−シ
アノエチル2ウンデシルイミダゾール、1−シアンエチ
ル2フエニルイミダゾール、1−シアノエチル2メチル
イミダゾールトリメリテイト、l−シアノエチル2エチ
ルイミダゾールトリメリテイト1−シアノエチル2ウン
デシルイミダヅールトリメリテート、■−シアノエチル
2フェニルイミダゾールトリメリティト、2−4ジアミ
ノ−6(2メチルイミダゾール(1’ ) l エチル
Sトリアジン 2−4ジアミノ−6(2゛ エチル4
゛ メチルイミダゾリル(1=)l エチルSトリアジ
ン、24ジアミノ−6(2′ ウンデシルイミダゾリ
ル(1=>1 エチルSトリアジン、2−フェニル45
ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル4メチ
ル5ヒドロキシメチルイミダヅール、1シアノエチル2
フェニル4,5ジ(シアンエトキシメチル)イミダゾー
ル、l−ドデシル2メチル3ヘンシルイミダゾリウムク
ロライド、1−アミノエチル2メチルイミダゾール、1
−了ミノエチル2エチルイミダゾール、2,4ジアミノ
−6(2° メチルイミダゾリル(1°))エチルSト
リアジンイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾー
ルイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダヅールイ
ソシアヌル酸付加物などがあり、これらを混合して用い
てよい。
イミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール 2−ヘプ
タデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2
−フェニル4メチルイミダゾール l−ベンジル2メチ
ルイミダゾール、l−シアノエチル2メチルイミダゾー
ル、l−シアノエチル2エチル4メチルイミダゾール、
1−シアノエチル2イソプロビルイミダヅール、l−シ
アノエチル2ウンデシルイミダゾール、1−シアンエチ
ル2フエニルイミダゾール、1−シアノエチル2メチル
イミダゾールトリメリテイト、l−シアノエチル2エチ
ルイミダゾールトリメリテイト1−シアノエチル2ウン
デシルイミダヅールトリメリテート、■−シアノエチル
2フェニルイミダゾールトリメリティト、2−4ジアミ
ノ−6(2メチルイミダゾール(1’ ) l エチル
Sトリアジン 2−4ジアミノ−6(2゛ エチル4
゛ メチルイミダゾリル(1=)l エチルSトリアジ
ン、24ジアミノ−6(2′ ウンデシルイミダゾリ
ル(1=>1 エチルSトリアジン、2−フェニル45
ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル4メチ
ル5ヒドロキシメチルイミダヅール、1シアノエチル2
フェニル4,5ジ(シアンエトキシメチル)イミダゾー
ル、l−ドデシル2メチル3ヘンシルイミダゾリウムク
ロライド、1−アミノエチル2メチルイミダゾール、1
−了ミノエチル2エチルイミダゾール、2,4ジアミノ
−6(2° メチルイミダゾリル(1°))エチルSト
リアジンイソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾー
ルイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダヅールイ
ソシアヌル酸付加物などがあり、これらを混合して用い
てよい。
これらの有機化合物は、適当な溶剤に溶解し溶液として
用いる。その濃度は、特に制限はなく、粘度、回路表面
の状態などを勘案し、作業に好適な4度でよい、処理温
度、処理時間も、酸化銅の溶解させるのに好適な条件を
見つけて選択される。
用いる。その濃度は、特に制限はなく、粘度、回路表面
の状態などを勘案し、作業に好適な4度でよい、処理温
度、処理時間も、酸化銅の溶解させるのに好適な条件を
見つけて選択される。
上記溶ン夜に浸漬后は、溶剤だけで、更に洗浄すると、
キレート化合物や、フラックスなどの有機化合物の残渣
がなくなり好都合である。
キレート化合物や、フラックスなどの有機化合物の残渣
がなくなり好都合である。
(作用)
プリント配線板の導体である銅の表面の酸化銅と有機化
合物がキレート化合物を生成する。このキレート化合物
は、更に溶剤に溶解し、導体表面は金属銅が露出した状
態となり、半田と合金化反応に好条件となる。
合物がキレート化合物を生成する。このキレート化合物
は、更に溶剤に溶解し、導体表面は金属銅が露出した状
態となり、半田と合金化反応に好条件となる。
以下、本発明を実施例により更に説明する。
(実施例)
実施例1
2−メチルイミダゾールlogを90gのアセトンに溶
解する。この溶液に■PSリフロー処理(215℃、6
0秒)を行って、スルホール付プリント配線板の表面に
チップ部品を搭載した配線板を5分間常温で浸漬したの
ち、フラックス(日立化成KK商品番号HF−206D
)を■布し、端子リード付部品を、フローソルダーを用
い、240℃、3秒の条件で半田づけを行った。この結
果スルホールへの半田揚り率は100%であった。
解する。この溶液に■PSリフロー処理(215℃、6
0秒)を行って、スルホール付プリント配線板の表面に
チップ部品を搭載した配線板を5分間常温で浸漬したの
ち、フラックス(日立化成KK商品番号HF−206D
)を■布し、端子リード付部品を、フローソルダーを用
い、240℃、3秒の条件で半田づけを行った。この結
果スルホールへの半田揚り率は100%であった。
前記2−メチルイミダゾール処理を行わない場合の半田
揚り率は、85%であった。
揚り率は、85%であった。
実施例2
同様な実験をアセチルアセトンについて行い、やはり1
00%のスルホールへの半田揚り率を得た。
00%のスルホールへの半田揚り率を得た。
実施例3
同様な実験をブドウ糖について行い、やはり100%の
スルホール揚り率が得られた。ブドウ糖の場合は溶剤と
して、イソプロピルアルコールと水の共沸混合物でブド
ウ糖の濃度は3%とした。
スルホール揚り率が得られた。ブドウ糖の場合は溶剤と
して、イソプロピルアルコールと水の共沸混合物でブド
ウ糖の濃度は3%とした。
実施例4
アセチルアセトン10g、1.1.2−4リクロル工タ
ン90gの溶液を用いて、実施例1と同様な実験を行い
、やはり100%のスルホールへの半田揚り率を得た。
ン90gの溶液を用いて、実施例1と同様な実験を行い
、やはり100%のスルホールへの半田揚り率を得た。
実施例5
アセチルアセトン10g、トリクロルエタン90gの溶
液を用いて、実施例1と同様な実験を行い、やはり10
0%のスルホールへの半田揚り率を得た。
液を用いて、実施例1と同様な実験を行い、やはり10
0%のスルホールへの半田揚り率を得た。
(発明の効果)
軟土の如く本発明によれば、常に銅回路が清浄化される
ので、半田づけを繰返しても不良の発生がなく、歩どま
りの大幅な向上が可能となった。
ので、半田づけを繰返しても不良の発生がなく、歩どま
りの大幅な向上が可能となった。
Claims (2)
- 1.銅回路が形成されたプリント配線板に、電子部品を
複数回に亘り半田づけにより実装接続することからなる
電子部品の実装方法において、2回目以降の半田づけに
先だってプリント配線板を非酸化性脱錆剤により処理す
ることを特徴とする電子部品の実装方法。 - 2.非酸化性脱錆剤がアミン類,アミノアルコール類,
イミダゾール類,糖類またはアセチルアセトンの群から
選ばれた有機化合物である請求項1に記載の電子部品の
実装方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32863388A JPH02174190A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 電子部品の実装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32863388A JPH02174190A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 電子部品の実装方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02174190A true JPH02174190A (ja) | 1990-07-05 |
Family
ID=18212446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32863388A Pending JPH02174190A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 電子部品の実装方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02174190A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5127571A (en) * | 1991-10-31 | 1992-07-07 | International Business Machines Corporation | Water soluble soldering preflux and method of application |
US5193739A (en) * | 1990-12-21 | 1993-03-16 | Wls Karl-Heinz Grasmann | Process and device for soldering electronic boards, in particular, printed circuit boards with devices installed on them |
KR20150129614A (ko) * | 2014-05-12 | 2015-11-20 | 카오카부시키가이샤 | 땜납이 고화된 회로 기판의 제조 방법, 전자 부품이 탑재된 회로 기판의 제조 방법 및 플럭스용 세정제 조성물 |
-
1988
- 1988-12-26 JP JP32863388A patent/JPH02174190A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5193739A (en) * | 1990-12-21 | 1993-03-16 | Wls Karl-Heinz Grasmann | Process and device for soldering electronic boards, in particular, printed circuit boards with devices installed on them |
US5127571A (en) * | 1991-10-31 | 1992-07-07 | International Business Machines Corporation | Water soluble soldering preflux and method of application |
KR20150129614A (ko) * | 2014-05-12 | 2015-11-20 | 카오카부시키가이샤 | 땜납이 고화된 회로 기판의 제조 방법, 전자 부품이 탑재된 회로 기판의 제조 방법 및 플럭스용 세정제 조성물 |
CN105087182A (zh) * | 2014-05-12 | 2015-11-25 | 花王株式会社 | 固化有焊料的电路基板和搭载有电子部件的电路基板的制造方法、和助熔剂用清洗剂组合物 |
JP2015216276A (ja) * | 2014-05-12 | 2015-12-03 | 花王株式会社 | はんだが固化された回路基板の製造方法、電子部品が搭載された回路基板の製造方法、及び、フラックス用洗浄剤組成物 |
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