JPH02172958A - 4―アミノフェノール誘導体 - Google Patents
4―アミノフェノール誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は5−リボキ
用な4−アミノフェノ
する。
(従来の技術)
シゲナーゼ阻害剤として有
一ル誘導体及びその塩に関
従来、4−(ラウロイルアミノ)−2−エチル6 t
ert−ブチルフェノール、4−(ステアロイルアミノ
)−2,6−ジter t−ブチルフェノールが抗酸化
作用を有し、重合体の安定化剤として有用であることが
知られている(特公昭46−24782号)。
ert−ブチルフェノール、4−(ステアロイルアミノ
)−2,6−ジter t−ブチルフェノールが抗酸化
作用を有し、重合体の安定化剤として有用であることが
知られている(特公昭46−24782号)。
(発明の構成及び効果)
本発明は次の一般式で示される4−アミノフェノール誘
導体及びその塩に関する。
導体及びその塩に関する。
(但し、R1及びR2は低級アルキル基、低級アルカノ
イル基又はシクロアルキル基、R3及びR4は水素原子
又は低級アルキル基、R5は低級アルコキシ−低級アル
キル基、シアノ基で置換されていてもよい炭素数3〜9
個のアルキル基置換メチル基又は式ニーY−rl’で表
される基、Yは1〜4個の二重結合又は三重結合を有す
る炭素数4〜14個の2価の炭化水素基、R&は水素原
子、水酸基、置換されていてもよいシクロアルケニル基
又は含酸素複素単環式基置換オキシ基、Aは酸素原子又
は硫黄原子を表す、) 本発明の目的物(1)及びその塩は、優れた5−リポキ
シゲナーゼ阻害作用を有し、抗アレルギー剤及び抗炎症
剤として有用な医薬化合物である。
イル基又はシクロアルキル基、R3及びR4は水素原子
又は低級アルキル基、R5は低級アルコキシ−低級アル
キル基、シアノ基で置換されていてもよい炭素数3〜9
個のアルキル基置換メチル基又は式ニーY−rl’で表
される基、Yは1〜4個の二重結合又は三重結合を有す
る炭素数4〜14個の2価の炭化水素基、R&は水素原
子、水酸基、置換されていてもよいシクロアルケニル基
又は含酸素複素単環式基置換オキシ基、Aは酸素原子又
は硫黄原子を表す、) 本発明の目的物(1)及びその塩は、優れた5−リポキ
シゲナーゼ阻害作用を有し、抗アレルギー剤及び抗炎症
剤として有用な医薬化合物である。
本発明の目的物の例としては一般式(1)において、R
1及びR1が低級アルキル基、低級アルカノイル基又は
シクロアルキル基、R3及びR4が水素原子又は低級ア
ルキル基、R8が低級アルコキシ−低級アルキル基、炭
素数3〜9個のアルキル基置換メチル基(該基はシアノ
基でN換されていてもよい)、1〜4個の二重結合を有
する炭素数4〜14個の1価の炭化水素基(該基はシク
ロアルケニル基で置換されていてもよい)又は1〜4個
の三重結合を有する炭素数4〜14個の1価の炭化水素
基(該基は水酸基もしくはテトラヒドロピラニルオキシ
基で置換されていてもよい)、Aが酸素原子又は硫黄原
子である化合物があげられる。
1及びR1が低級アルキル基、低級アルカノイル基又は
シクロアルキル基、R3及びR4が水素原子又は低級ア
ルキル基、R8が低級アルコキシ−低級アルキル基、炭
素数3〜9個のアルキル基置換メチル基(該基はシアノ
基でN換されていてもよい)、1〜4個の二重結合を有
する炭素数4〜14個の1価の炭化水素基(該基はシク
ロアルケニル基で置換されていてもよい)又は1〜4個
の三重結合を有する炭素数4〜14個の1価の炭化水素
基(該基は水酸基もしくはテトラヒドロピラニルオキシ
基で置換されていてもよい)、Aが酸素原子又は硫黄原
子である化合物があげられる。
これらの内、好ましい化合物としては、R1及びR2が
低級アルキル基、R3及びR4が水素原子又は低級アル
キル基、R5が炭素数3〜6個のアルキル基置換メチル
基又は1〜4個の二重結合を有する炭素数4〜14個の
1価の炭化水素基であるものがあげられる。
低級アルキル基、R3及びR4が水素原子又は低級アル
キル基、R5が炭素数3〜6個のアルキル基置換メチル
基又は1〜4個の二重結合を有する炭素数4〜14個の
1価の炭化水素基であるものがあげられる。
本発明において、低級アルキル基、低級アルコキシ基、
低級アルカノイル基、シクロアルキル基及びシクロアル
ケニル基の例としては、それぞれ炭素数1〜4個のアル
キル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数2〜5
のアルカノイル基炭素数3〜7のシクロアルキル基及び
炭素数3〜7のシクロアルケニル基があげられる。
低級アルカノイル基、シクロアルキル基及びシクロアル
ケニル基の例としては、それぞれ炭素数1〜4個のアル
キル基、炭素数1〜4個のアルコキシ基、炭素数2〜5
のアルカノイル基炭素数3〜7のシクロアルキル基及び
炭素数3〜7のシクロアルケニル基があげられる。
また、目的物(1)の塩としては、例えば、アルカリ金
属塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカ
リ土類金属塩(例えば、カルシウム塩等)、アルミニウ
ム塩の如き塩基性塩があげられる。
属塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等)、アルカ
リ土類金属塩(例えば、カルシウム塩等)、アルミニウ
ム塩の如き塩基性塩があげられる。
本発明によれば、目的物(1)は、−紋穴(但し、ZO
は保護されていてもよい水酸基を表し、R1−R4は前
記と同一意味を有する。)で示されるアミノフェノール
誘導体又はその塩と一般式 (但し、RS及びAは前記と同一意味を有する。)テ示
すれるカルボン酸(もしくはチオカルボン酸)化合物、
その塩又はその反応性誘導体とを縮合反応させ、ZOが
保護された水酸基である場合には生成物から保護基を除
去して製することができる。
は保護されていてもよい水酸基を表し、R1−R4は前
記と同一意味を有する。)で示されるアミノフェノール
誘導体又はその塩と一般式 (但し、RS及びAは前記と同一意味を有する。)テ示
すれるカルボン酸(もしくはチオカルボン酸)化合物、
その塩又はその反応性誘導体とを縮合反応させ、ZOが
保護された水酸基である場合には生成物から保護基を除
去して製することができる。
また、目的物<1)のうち、R1が低級アルコキシ−エ
チル基である化合物は、−紋穴(但し、R1−R4及び
Aは前記と同一意味を有する。) で示される化合物又はその塩と低級アルカノールとを反
応させて製することもできる。
チル基である化合物は、−紋穴(但し、R1−R4及び
Aは前記と同一意味を有する。) で示される化合物又はその塩と低級アルカノールとを反
応させて製することもできる。
原料化合物(II)における水酸基の保護基としては慣
用のものをいずれも用いることができ、例えば置換又は
非置換フェニル低級アルキル基(例えば、ベンジル基、
p−メトキシベンジル基)、置換又は非置換フェニル低
級アルコキシカルボニル基(例えば、ベンジルオキシカ
ルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基
)、置換又は非置換フェニルスルホニル基(例えば、フ
ェニルスルホニル基、p−メトキシフェニルスルホニル
基)、低級アルカノイル基(例えば、アセチル基、プロ
ピオニル基)等を適宜用いることができる。また、原料
化合物(■)、(I[I)及び(■)の塩としてはアル
カリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、有
機塩基塩等の塩基性塩を好適に用いることができ、原料
化合物(■)は有機酸又は無機酸付加塩としても用いる
ことができる。
用のものをいずれも用いることができ、例えば置換又は
非置換フェニル低級アルキル基(例えば、ベンジル基、
p−メトキシベンジル基)、置換又は非置換フェニル低
級アルコキシカルボニル基(例えば、ベンジルオキシカ
ルボニル基、p−メトキシベンジルオキシカルボニル基
)、置換又は非置換フェニルスルホニル基(例えば、フ
ェニルスルホニル基、p−メトキシフェニルスルホニル
基)、低級アルカノイル基(例えば、アセチル基、プロ
ピオニル基)等を適宜用いることができる。また、原料
化合物(■)、(I[I)及び(■)の塩としてはアル
カリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、有
機塩基塩等の塩基性塩を好適に用いることができ、原料
化合物(■)は有機酸又は無機酸付加塩としても用いる
ことができる。
アミノフェノール誘導体(II)又はその塩とカルボン
酸(もしくはチオカルボン酸)化合物(■)、その塩又
はその反応性誘導体との縮合反応はペプチド合成の常法
に従い実施することができる。
酸(もしくはチオカルボン酸)化合物(■)、その塩又
はその反応性誘導体との縮合反応はペプチド合成の常法
に従い実施することができる。
例えば、化合物(In)の反応性誘導体を用いる場合、
当該縮合反応は適当な溶媒中、脱酸剤の存在下または非
存在下に実施することができる。化合物(III)の反
応性誘導体としては対応する酸ハライド、混合酸無水物
、活性エステルを、また脱酸剤としては、例えば水酸化
アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、炭酸水素アルカリ金
属、トリアルキルアミン、N、N−ジアルキルアニリン
、ピリジン及びN−アルキルモルホリンなどをいずれも
好適に用いることができる。
当該縮合反応は適当な溶媒中、脱酸剤の存在下または非
存在下に実施することができる。化合物(III)の反
応性誘導体としては対応する酸ハライド、混合酸無水物
、活性エステルを、また脱酸剤としては、例えば水酸化
アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、炭酸水素アルカリ金
属、トリアルキルアミン、N、N−ジアルキルアニリン
、ピリジン及びN−アルキルモルホリンなどをいずれも
好適に用いることができる。
一方、アミノフェノール誘導体(■)又はその塩とカル
ボン酸(もしくはチオカルボン酸)化合物(III)又
はその塩との縮合反応は例えば、縮合剤の存在下又は非
存在下で実施することができる、縮合剤としては、例え
ばN、 N’ −ジシクロヘキシルカルボジイミド、N
−シクロへキシル−N−モルホリノカルボジイミド、N
−エチル−N−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボ
ジイミドなど慣用の縮合剤をいずれも用いることができ
る。
ボン酸(もしくはチオカルボン酸)化合物(III)又
はその塩との縮合反応は例えば、縮合剤の存在下又は非
存在下で実施することができる、縮合剤としては、例え
ばN、 N’ −ジシクロヘキシルカルボジイミド、N
−シクロへキシル−N−モルホリノカルボジイミド、N
−エチル−N−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボ
ジイミドなど慣用の縮合剤をいずれも用いることができ
る。
上記の縮合反応はいずれも、反応に影響を与えない溶媒
(例えば、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン
、ジクロロメタン、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド
、ジオキサン、アセトニトリル等)中、水冷〜加温下で
好適に進行する。
(例えば、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン
、ジクロロメタン、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド
、ジオキサン、アセトニトリル等)中、水冷〜加温下で
好適に進行する。
こうして得られる化合物において、ZOが保護された水
酸基である場合、つづく保:j1基の除去は、当該保護
基の種類に応じ、適宜常法にしたがって実施することが
できる。
酸基である場合、つづく保:j1基の除去は、当該保護
基の種類に応じ、適宜常法にしたがって実施することが
できる。
原料化合物(IV)と低級アルカノールとの縮合反応は
、脱酸剤の存在下で好適に実施でき、脱酸剤としては前
記縮合反応に用いうるものをこの場合も使用することが
できる。本反応は水冷〜加温下で好適に進行する。
、脱酸剤の存在下で好適に実施でき、脱酸剤としては前
記縮合反応に用いうるものをこの場合も使用することが
できる。本反応は水冷〜加温下で好適に進行する。
尚、本発明の目的物(1)の内、R4が低級アルキル基
である化合物は、R4が水素原子である目的物(1)を
、所望とあればその水酸基を保護しながら、低級アルキ
ルハライドと常法に従い脱酸剤の存在下で反応させ、必
要に応じて生成物から水酸基の保護基を除去して製する
こともでき、Aが硫黄原子である目的物(1)は、Aが
酸素原子である目的物(i)を硫化剤(例えば、五硫化
リン、p−メトキシフェニルチオノホスフィンスルフィ
ドの二量体)で処理しても製することができる。
である化合物は、R4が水素原子である目的物(1)を
、所望とあればその水酸基を保護しながら、低級アルキ
ルハライドと常法に従い脱酸剤の存在下で反応させ、必
要に応じて生成物から水酸基の保護基を除去して製する
こともでき、Aが硫黄原子である目的物(1)は、Aが
酸素原子である目的物(i)を硫化剤(例えば、五硫化
リン、p−メトキシフェニルチオノホスフィンスルフィ
ドの二量体)で処理しても製することができる。
さらに、R5が式ニーY−OH(但し、Yは前記と同一
意味を有する。)で示される基である目的%I’1(1
)は、R’カ式: Y−R”(但j、、、Yは前記と
同一意味を有し、R&lは含酸素複素単環式基置換オキ
シ基を表す、)である目的物(1)を常法に従い、エー
テル加水分解しても製することができる。
意味を有する。)で示される基である目的%I’1(1
)は、R’カ式: Y−R”(但j、、、Yは前記と
同一意味を有し、R&lは含酸素複素単環式基置換オキ
シ基を表す、)である目的物(1)を常法に従い、エー
テル加水分解しても製することができる。
かくして得られた本発明の目的物(1)の遊離塩基又は
その塩は、5−リポキシゲナーゼ阻害活性、アレルギー
性疾患の症状を惹起する化学伝達物質であるS RS−
A (slow reacting 5ubstanc
eof anaphylaxis)合成阻害作用、ロイ
コトリエンB4生成阻害作用及びPAF誘発致死防護作
用を示し、抗アレルギー剤及び抗炎症剤として有用な医
薬化合物である。
その塩は、5−リポキシゲナーゼ阻害活性、アレルギー
性疾患の症状を惹起する化学伝達物質であるS RS−
A (slow reacting 5ubstanc
eof anaphylaxis)合成阻害作用、ロイ
コトリエンB4生成阻害作用及びPAF誘発致死防護作
用を示し、抗アレルギー剤及び抗炎症剤として有用な医
薬化合物である。
本発明の目的物(りは遊離のまま又はその薬理的に許容
しうる塩のいずれの形でも医薬用途に用いることができ
るが、とりわけ遊離の形で用いるのが好ましい。
しうる塩のいずれの形でも医薬用途に用いることができ
るが、とりわけ遊離の形で用いるのが好ましい。
本発明の目的物(1)又はその薬理的に許容しうる塩は
経口的にも非経口的にも投与することができる。非経口
的に投与する場合の剤型としては、例えば、注射剤、軟
膏剤、エアゾール剤等が、経口投与する場合の剤型とし
ては、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、シロップ剤、乳剤、
懸濁液剤等があげられる。
経口的にも非経口的にも投与することができる。非経口
的に投与する場合の剤型としては、例えば、注射剤、軟
膏剤、エアゾール剤等が、経口投与する場合の剤型とし
ては、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、シロップ剤、乳剤、
懸濁液剤等があげられる。
目的物(1)又はその薬理的に許容しうる塩の投与量は
投与経路、患者の年齢、体重、状態及び疾患の種類など
によって異なるが、一般に0. 3〜300■/kg/
日の範囲であるのが好ましい。
投与経路、患者の年齢、体重、状態及び疾患の種類など
によって異なるが、一般に0. 3〜300■/kg/
日の範囲であるのが好ましい。
尚、上記反応の原料化合物のうち、アミノフェノール化
合物(n)は、例えば−紋穴 (但し、Rl 、、 R1及びZOは前記と同一意味を
有する。) で示されるフェノール化合物の4位を、常法により、ニ
トロ化あるいはニトロソ化し、さらに生成物を還元して
製することができる。ここに、R1及びR2の少なくと
も一つが低級アルカノイル基である化合物(V)は、−
紋穴 (但し、R1及びRt+の少なくとも一つは水素原子、
他は低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R3
及びZOは前記と同一意味を有する。)で示される化合
物をフリーデル−クラフッ反応の常法に従い低級アルカ
ノイル化して製することができる。また、カルボン酸く
もしくはチオカルボン酸)化合物([1)のRSが式:
−Y’ −R” (但し、Ylは三重結合を有する二
価の炭化水素基を表し、R61は前記と同一意味を有す
る。)で示される基であるものは、既知の置換又は非置
換アルキン化合物から、例えば、廣用書店発行[ヘンド
リクソン・クラム・ハモンド 有機化学 第3版〔I〕
」 第11章 第6節 C−C結合の生成(421〜4
24頁)記載方法に準じて適宜製することかで6、さら
に、アクリロイルアミノ化合物(IV)は、アミノフェ
ノール誘導体(II)とアクリル酸(もしくは千オアク
リル酸)とを、アミノフェノール誘導体(11)とカル
ボン酸(もしくはチオカルボン酸)化合物(1)との反
応と同様の条件下で反応させることにより製することが
できる。
合物(n)は、例えば−紋穴 (但し、Rl 、、 R1及びZOは前記と同一意味を
有する。) で示されるフェノール化合物の4位を、常法により、ニ
トロ化あるいはニトロソ化し、さらに生成物を還元して
製することができる。ここに、R1及びR2の少なくと
も一つが低級アルカノイル基である化合物(V)は、−
紋穴 (但し、R1及びRt+の少なくとも一つは水素原子、
他は低級アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R3
及びZOは前記と同一意味を有する。)で示される化合
物をフリーデル−クラフッ反応の常法に従い低級アルカ
ノイル化して製することができる。また、カルボン酸く
もしくはチオカルボン酸)化合物([1)のRSが式:
−Y’ −R” (但し、Ylは三重結合を有する二
価の炭化水素基を表し、R61は前記と同一意味を有す
る。)で示される基であるものは、既知の置換又は非置
換アルキン化合物から、例えば、廣用書店発行[ヘンド
リクソン・クラム・ハモンド 有機化学 第3版〔I〕
」 第11章 第6節 C−C結合の生成(421〜4
24頁)記載方法に準じて適宜製することかで6、さら
に、アクリロイルアミノ化合物(IV)は、アミノフェ
ノール誘導体(II)とアクリル酸(もしくは千オアク
リル酸)とを、アミノフェノール誘導体(11)とカル
ボン酸(もしくはチオカルボン酸)化合物(1)との反
応と同様の条件下で反応させることにより製することが
できる。
実験例1
5−言ボキシ゛ −ゼ
ラットの培養好塩基球性白血病細胞株RBL−1細胞よ
り5−リポキシゲナーゼを含む酵素液を調製し、インド
メタシン・塩化カルシウム・アデノシン三リン酸及び被
検物質の存在下、放射性標識したアラキドン酸を基質と
して反応させた。反応液の一定量をff1層上にスポッ
トして展開分刈後、酵素反応産物5−HETE (5−
ヒドロキシエ°イコサテトラエン酸)画分の放射活性を
測定することにより5−リポキシゲナーゼ活性の指標と
した。被検物質の5−リポキシゲナーゼ阻害活性は、対
照試験における反応を50%抑制する濃度IC2゜(μ
M)で表示した。
り5−リポキシゲナーゼを含む酵素液を調製し、インド
メタシン・塩化カルシウム・アデノシン三リン酸及び被
検物質の存在下、放射性標識したアラキドン酸を基質と
して反応させた。反応液の一定量をff1層上にスポッ
トして展開分刈後、酵素反応産物5−HETE (5−
ヒドロキシエ°イコサテトラエン酸)画分の放射活性を
測定することにより5−リポキシゲナーゼ活性の指標と
した。被検物質の5−リポキシゲナーゼ阻害活性は、対
照試験における反応を50%抑制する濃度IC2゜(μ
M)で表示した。
[Biochisica et Biophysica
Acta 795巻458頁(1984年)記載の
M、Furukawaらの方法]実験結果は下記第1表
記載の通りである。
Acta 795巻458頁(1984年)記載の
M、Furukawaらの方法]実験結果は下記第1表
記載の通りである。
第
表
たロイコトリエンB4は、溶媒抽出後、高速液体クロマ
トグラフィーを用いて標準ロイコトリエンB4に相当す
るピークの面積より定量した。被検物質のロイコトリエ
ンB4生成阻害作用は、濃度10−’Mにおける阻害%
で表示した。
トグラフィーを用いて標準ロイコトリエンB4に相当す
るピークの面積より定量した。被検物質のロイコトリエ
ンB4生成阻害作用は、濃度10−’Mにおける阻害%
で表示した。
(ProsLagrandins 31巻358頁(
1986年)記載のi、[1,Q□uglassらの方
法]実験結果は下記第2表記載の通りである。
1986年)記載のi、[1,Q□uglassらの方
法]実験結果は下記第2表記載の通りである。
第2表
実験例2
0イコト1エンB
モルモットにカゼインを腹腔的投与することにより好中
球を主体とする細胞の浮遊液を調製し、被検物質の存在
下アラキドン酸及びカルシウムイオノフオアA2318
7と反応させた。生成され第 表 実験例3 PAP憬、戸 マウス腹腔内に被検物質を投与し、30分後にLD、。
球を主体とする細胞の浮遊液を調製し、被検物質の存在
下アラキドン酸及びカルシウムイオノフオアA2318
7と反応させた。生成され第 表 実験例3 PAP憬、戸 マウス腹腔内に被検物質を投与し、30分後にLD、。
相当量のPAPを尾静脈より投与して、FAT’投与1
時間後の極在率を求めた。
時間後の極在率を求めた。
下記第3表の化合物は、301og/kgの投・与で、
生存率100χを示した。
生存率100χを示した。
実施例1
アルゴン気流下に4−アミノ−2,6−シメチルフエノ
ール1.5gを酢酸エチル50dに懸濁し、水冷下に炭
酸水素ナトリウム2.5gの水50d溶液を加える。撹
拌下にイソペンタノイルクロリド1.32gを加え、1
0分間激しく撹拌したのちクロロホルム抽出する。抽出
液を10%塩酸及び水で洗浄し、乾燥後濃縮する。残渣
をイソプロピルエーテル−イソプロビルアルコールより
再結晶して4−イソペンタノイルアミノ−266−シメ
チルフエノール1.81gを得る。
ール1.5gを酢酸エチル50dに懸濁し、水冷下に炭
酸水素ナトリウム2.5gの水50d溶液を加える。撹
拌下にイソペンタノイルクロリド1.32gを加え、1
0分間激しく撹拌したのちクロロホルム抽出する。抽出
液を10%塩酸及び水で洗浄し、乾燥後濃縮する。残渣
をイソプロピルエーテル−イソプロビルアルコールより
再結晶して4−イソペンタノイルアミノ−266−シメ
チルフエノール1.81gを得る。
M、 p、 160.5〜161.5°CM a s
s (m/e):221.163.137NMR(C
DC1a−DMSO−da)δ : 1.00(d、6
Hz、6H)。
s (m/e):221.163.137NMR(C
DC1a−DMSO−da)δ : 1.00(d、6
Hz、6H)。
1.9−2.6(m、3H)、 2.18(S、61
1)、 7.08(S。
1)、 7.08(S。
実施例2
水冷下に3.7.11−1リメチル−(2Z。
6E)−2,6,10−ドデカトリエン酸0.9gのア
セトニトリル10d溶液に、トリエチルアミン578■
、ついでジエチルホスホロクロリデート854■を加え
30分撹拌した後、4−アミノ−2,6−ジメチルフェ
ノール522■を加え室温で反応させる0反応液に氷片
を加えイソプロピルエーテル抽出し、抽出液を10%塩
酸、水、5%炭酸水素す) IJウム水溶液及び飽和食
塩水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶媒:酢酸エチル−ヘキ
サン(1: 3) )で精製して4− (3,711−
トリメチル−(2Z、6E)−2,6゜10−ドデカト
リエノイルアミノ)−2,6−ジメチルフェノール58
0■を得る。
セトニトリル10d溶液に、トリエチルアミン578■
、ついでジエチルホスホロクロリデート854■を加え
30分撹拌した後、4−アミノ−2,6−ジメチルフェ
ノール522■を加え室温で反応させる0反応液に氷片
を加えイソプロピルエーテル抽出し、抽出液を10%塩
酸、水、5%炭酸水素す) IJウム水溶液及び飽和食
塩水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶媒:酢酸エチル−ヘキ
サン(1: 3) )で精製して4− (3,711−
トリメチル−(2Z、6E)−2,6゜10−ドデカト
リエノイルアミノ)−2,6−ジメチルフェノール58
0■を得る。
M a s s (m/e):335 (M”)、 2
86.219.137N M R(CDCI 3)δ
: 1.59(3,311)、 1.61(5,3H
)。
86.219.137N M R(CDCI 3)δ
: 1.59(3,311)、 1.61(5,3H
)。
1.67(5,311)、 1.87(d、1.5f
lz、311)、 2.04(m、4)1)、 2
.19(5,6)1)、 2.26(t、8flz、
211)、 2.70(t、8Hz、2H)、 5
.0−5.2(m、2H)、 5.65(d、1.5
Hz、18)、 7.07(S、211)実施例3〜
20 対応原料化合物を実施例1又は2と同様に処理して下記
第4表及び5表記載の化合物を得る。
lz、311)、 2.04(m、4)1)、 2
.19(5,6)1)、 2.26(t、8flz、
211)、 2.70(t、8Hz、2H)、 5
.0−5.2(m、2H)、 5.65(d、1.5
Hz、18)、 7.07(S、211)実施例3〜
20 対応原料化合物を実施例1又は2と同様に処理して下記
第4表及び5表記載の化合物を得る。
第4表
第5表
実施例21
(1)4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチルアニリン
200■及びヘキサン酸3−を150℃で3時間攪拌す
る0反応液にエーテル10−を加え、10%水酸化ナト
リウム水溶液及び水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。
200■及びヘキサン酸3−を150℃で3時間攪拌す
る0反応液にエーテル10−を加え、10%水酸化ナト
リウム水溶液及び水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:ク
ロロホルム−エタノール(10:1))で精製して、溶
出液からN−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル
フェニル)ヘキサンアミド260■を油状物として得る
。
ロロホルム−エタノール(10:1))で精製して、溶
出液からN−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル
フェニル)ヘキサンアミド260■を油状物として得る
。
M a s s (s/e) : 325.234(
2)上記(1)の生成物160■をエタノール1511
11及びテトラヒドロフラン5−中、10%のパラジウ
ム−炭素50■の存在下、常温常圧で接触還元する0反
応液からパラジウム−炭素を濾去し、濾液より溶媒を留
去する。残渣をイソプロピルエーテルより再結晶して4
−ヘキサノイルアミノ−26−シメチルフエノール96
■を得る。
2)上記(1)の生成物160■をエタノール1511
11及びテトラヒドロフラン5−中、10%のパラジウ
ム−炭素50■の存在下、常温常圧で接触還元する0反
応液からパラジウム−炭素を濾去し、濾液より溶媒を留
去する。残渣をイソプロピルエーテルより再結晶して4
−ヘキサノイルアミノ−26−シメチルフエノール96
■を得る。
M、 p、 110.5〜112℃
M a s s (@/e) : 2351630.
1600.1555 NMR(CDCIユ)δ : 0.89(t、71[z
、311)、 1.2〜1.9(m、611)、
2.17(S、611)、 2.29(t。
1600.1555 NMR(CDCIユ)δ : 0.89(t、71[z
、311)、 1.2〜1.9(m、611)、
2.17(S、611)、 2.29(t。
?Ilz、2H)、 7.04(3,211)実施例2
2〜24 対応原料化合物を実施例1、実施例2又は実施例2l−
(11のいずれか及び実施例21−+2)と同様に処理
して下記第6表記載の化合物を得る。
2〜24 対応原料化合物を実施例1、実施例2又は実施例2l−
(11のいずれか及び実施例21−+2)と同様に処理
して下記第6表記載の化合物を得る。
第6表
d及びp−)ルエンスルホン酸45■の混合物と共に6
0℃、2時間攪拌したのち氷を加え酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を水、5%炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水
及び水で洗浄後、乾燥し、溶媒を留去する。残渣を酢酸
エチル−ヘキサンより再結晶して4−(12−ヒドロキ
シ−5,10−ドデカシイノイルアミノ)−2,6−ジ
メチルフェノール230■を得る。
0℃、2時間攪拌したのち氷を加え酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を水、5%炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水
及び水で洗浄後、乾燥し、溶媒を留去する。残渣を酢酸
エチル−ヘキサンより再結晶して4−(12−ヒドロキ
シ−5,10−ドデカシイノイルアミノ)−2,6−ジ
メチルフェノール230■を得る。
M、9.105〜107℃
M a Ss (s+/e) : 327(M”)、
137実施例25 4− (12−(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ
)−5,10−ドデカシイノイルアミノ〕−2,6−ジ
メチルフェノールをメタノール102220.1655
゜ NMR(CDCI、l)δ : 1.5B−1,95(
m、6B)、2.19(S、611)、 2.2−2
.5(s+、611)、 4.42(S、2H)、
7.07(5,211) 実施例26 (1)4−アミノ−2,6−ジメチルフェノール及びア
クリロイルクロリドを実施例1と同様に処理して4−ア
クリロイルアミノ−2,6−ジメチルフェノールを得る
。
137実施例25 4− (12−(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ
)−5,10−ドデカシイノイルアミノ〕−2,6−ジ
メチルフェノールをメタノール102220.1655
゜ NMR(CDCI、l)δ : 1.5B−1,95(
m、6B)、2.19(S、611)、 2.2−2
.5(s+、611)、 4.42(S、2H)、
7.07(5,211) 実施例26 (1)4−アミノ−2,6−ジメチルフェノール及びア
クリロイルクロリドを実施例1と同様に処理して4−ア
クリロイルアミノ−2,6−ジメチルフェノールを得る
。
M、 p、 210.5 〜213 ℃(2)上記
(11の生成物1.5g及び炭酸カリウム13gをエタ
ノール中で還流する。反応液を氷水中に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、残渣を酢酸エチ
ル−ヘキサンより再結晶して4−(3−エトキシプロピ
オニル)アミノ−2,6−シメチルフエノール1.7g
を得る。
(11の生成物1.5g及び炭酸カリウム13gをエタ
ノール中で還流する。反応液を氷水中に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、残渣を酢酸エチ
ル−ヘキサンより再結晶して4−(3−エトキシプロピ
オニル)アミノ−2,6−シメチルフエノール1.7g
を得る。
M、p、110〜113.5℃
M a s s CWase) : 237(M”)
、 137NMR(DMSO−di)δ : 1.09
(t、711z、3H)、 2.12(S、6H)、
2゜45(L、6.4)1z、2H)、 3.4
Hq、711z、2H)、 3.62(t、6.4H
z、21()、 7.12(S、211)実施例27 +1)N−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチルフ
ェニル)オクタンアミド3.6gのジメチルスルホキシ
ド5ロ 715■を加える.この反応液にヨウ化メチル174g
を加えて攪拌する。反応液を、水に注ぎ、ジエチルエー
テルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去して
N−メチル−N−(4−ベンジルオキシ−3.5−ジメ
チルフェニル)オクタンアミド3.4gを油状物として
得る。
、 137NMR(DMSO−di)δ : 1.09
(t、711z、3H)、 2.12(S、6H)、
2゜45(L、6.4)1z、2H)、 3.4
Hq、711z、2H)、 3.62(t、6.4H
z、21()、 7.12(S、211)実施例27 +1)N−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチルフ
ェニル)オクタンアミド3.6gのジメチルスルホキシ
ド5ロ 715■を加える.この反応液にヨウ化メチル174g
を加えて攪拌する。反応液を、水に注ぎ、ジエチルエー
テルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去して
N−メチル−N−(4−ベンジルオキシ−3.5−ジメ
チルフェニル)オクタンアミド3.4gを油状物として
得る。
M a s s (m/e) : 367(M”)、
276、 150(2)上記(1)の生成物を実施例
2l−(2)と同様に処理し、イソプロピルエーテルか
ら再結晶することにより4−(N−メチル−N−オクク
ノイルアミノ)−2.6−シメチルフエノール2.01
gを得る。
276、 150(2)上記(1)の生成物を実施例
2l−(2)と同様に処理し、イソプロピルエーテルか
ら再結晶することにより4−(N−メチル−N−オクク
ノイルアミノ)−2.6−シメチルフエノール2.01
gを得る。
M.p. :97.5〜99℃
Ma s s(+a/e) :277(M”) 1
51NMR (CDC 1.) δ: 0.85(
t,511z,3tl)、 1。
51NMR (CDC 1.) δ: 0.85(
t,511z,3tl)、 1。
10〜1.75(m,1011)、2.08(t,7H
z,2tl)、2。
z,2tl)、2。
27(S,6+1)、 3.20(S.3H)、
6.76(S,2)1)実施例28 4−(ヘキサノイルアミノ12.6−シメチルフエノー
ル1.82gのピリジン30−溶液を五硫化リン1.5
3gと共に1時間還流したのち減圧濃縮する。残渣に水
を加えて1.5時間撹拌した後酢酸エチルで抽出する。
6.76(S,2)1)実施例28 4−(ヘキサノイルアミノ12.6−シメチルフエノー
ル1.82gのピリジン30−溶液を五硫化リン1.5
3gと共に1時間還流したのち減圧濃縮する。残渣に水
を加えて1.5時間撹拌した後酢酸エチルで抽出する。
抽出液を10%塩酸、水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶媒
:ヘキサンー酢酸エチル(1:1))で精製後、溶出液
から得られる結晶をイソプロピルエーテル−ヘキサンよ
り再結晶して4−(ヘキサンチオイル)アミノ−2,6
−シメチルフエノール0.85gを得る。
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶媒
:ヘキサンー酢酸エチル(1:1))で精製後、溶出液
から得られる結晶をイソプロピルエーテル−ヘキサンよ
り再結晶して4−(ヘキサンチオイル)アミノ−2,6
−シメチルフエノール0.85gを得る。
M、p、113〜114°C
M a s s (m/e) : 251(M”)、
21BNMR(CDCl2 ) δ : 0.92
(t、711z、311)、 1゜15〜1.94(
a+、611)、 2.21(S、6H)、 2.77
と2.56(双方t、7.511z、2旧2.77 と
2.56の面積比は3:1)、 7.16と6.75(
双方S、21!ニア、 16と6.75の面積比は3:
l)参考例1 (1)2−n−プロピルフェノール50gの塩化メチレ
ン溶液にトリエチルアミンを加え、さらに、氷冷下、ア
セチルクロリドの塩化メチレン溶液を加え、攪拌したの
ち、洗浄、乾燥、溶媒を留去する。残渣にクロロベンゼ
ン、ついで塩化アルミニウムを加えMfLする。冷却後
、反応液に氷片を加え10%水酸化ナトリウム水溶液で
アルカリ性とし、室温で撹拌、アルミニウムコンプレッ
クスを分解する。ついで、10%塩酸でpH4としたの
ち、エーテルで抽出し、洗浄、乾燥後、減圧濃縮する。
21BNMR(CDCl2 ) δ : 0.92
(t、711z、311)、 1゜15〜1.94(
a+、611)、 2.21(S、6H)、 2.77
と2.56(双方t、7.511z、2旧2.77 と
2.56の面積比は3:1)、 7.16と6.75(
双方S、21!ニア、 16と6.75の面積比は3:
l)参考例1 (1)2−n−プロピルフェノール50gの塩化メチレ
ン溶液にトリエチルアミンを加え、さらに、氷冷下、ア
セチルクロリドの塩化メチレン溶液を加え、攪拌したの
ち、洗浄、乾燥、溶媒を留去する。残渣にクロロベンゼ
ン、ついで塩化アルミニウムを加えMfLする。冷却後
、反応液に氷片を加え10%水酸化ナトリウム水溶液で
アルカリ性とし、室温で撹拌、アルミニウムコンプレッ
クスを分解する。ついで、10%塩酸でpH4としたの
ち、エーテルで抽出し、洗浄、乾燥後、減圧濃縮する。
残渣をシリカゲルカラムで分離精製して、6−アセチル
−2−(n−プロピル)フェノール30.1gを油状物
として得る。
−2−(n−プロピル)フェノール30.1gを油状物
として得る。
(2)硝酸銅(II) ・3水和物を無水酢酸と室温
で攪拌し、コンプレックスを作る。一方、上記(1)で
得られた生成物14gの無水酢酸溶液に、水冷下、上記
コンプレックスを加える。室温で撹拌したのち、氷水中
に注加し、酢酸エチル抽出、洗浄、乾燥後、溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルカラムで精製して、6−アセチ
ル−4−ニトロ−2−(n−プロピル)フェノール10
gを油状物として得る。
で攪拌し、コンプレックスを作る。一方、上記(1)で
得られた生成物14gの無水酢酸溶液に、水冷下、上記
コンプレックスを加える。室温で撹拌したのち、氷水中
に注加し、酢酸エチル抽出、洗浄、乾燥後、溶媒を留去
する。残渣をシリカゲルカラムで精製して、6−アセチ
ル−4−ニトロ−2−(n−プロピル)フェノール10
gを油状物として得る。
(3)上記(1)で得られた生成物10gのエタノール
溶液に、塩化スズ・2水和物を加え、還流する。
溶液に、塩化スズ・2水和物を加え、還流する。
冷却後、5%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エ
チル抽出し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を塩酸
塩にして、6−アセチル−4−アミノ−2−(n−プロ
ピル)フェノール・塩酸塩8 。
チル抽出し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を塩酸
塩にして、6−アセチル−4−アミノ−2−(n−プロ
ピル)フェノール・塩酸塩8 。
7gを得る。
m、 p、 217〜219°C(分解)参考例2
(1)2.3.6− トリメチルフェノール668g
、酢酸、ジメチルホルムアミド、水の混合物に、水冷下
、亜硝酸すl−IJウム水溶液を滴下し、同温で攪拌し
たのち、析出品をろ取、乾燥後、イソプロピルエーテル
−〇−ヘキサンから再結晶して2゜3.6−)リフチル
−4−二トロソフェノール756gを得る。
、酢酸、ジメチルホルムアミド、水の混合物に、水冷下
、亜硝酸すl−IJウム水溶液を滴下し、同温で攪拌し
たのち、析出品をろ取、乾燥後、イソプロピルエーテル
−〇−ヘキサンから再結晶して2゜3.6−)リフチル
−4−二トロソフェノール756gを得る。
m、 p、 181〜183°C(分解)(2)上記
(1)で得られた生成物5.0gのエタノール溶液に1
0%塩酸及び鉄粉を加え、還流したのち、ろ過する。ろ
液をアルカリ性下、酢酸エチル抽出し、洗浄後、塩酸塩
とし、濃縮、さらにエーテルで洗浄して、2,3.6−
ドリメチルー4−アミノフェノール・塩酸塩3.7gを
得る。
(1)で得られた生成物5.0gのエタノール溶液に1
0%塩酸及び鉄粉を加え、還流したのち、ろ過する。ろ
液をアルカリ性下、酢酸エチル抽出し、洗浄後、塩酸塩
とし、濃縮、さらにエーテルで洗浄して、2,3.6−
ドリメチルー4−アミノフェノール・塩酸塩3.7gを
得る。
m、p、303“C(分解)
参考例3
(1) 1− (テトラヒドロピラン−2−イルオキシ
)−2,7−オクタジイン1.94gのテトラヒドロフ
ラン溶液に、アルゴン気流下に一10°Cで1.56M
n−ブチルリチウムのヘキサン溶液を加え、同温で撹拌
し、さらに1−ブロモ−3−クロロプロパンのヘキサメ
チルホスホリックトリアミド溶液を加える。反応混合物
を室温で一夜撹拌したのち、水を加え、イソプロピルエ
ーテルで抽出し、水洗、乾燥後、濃縮して11−(テト
ラヒドロビラン−2−イルオキシ)−1−クロロ−49
−ウンデカジイン2.4gを油状物として得る。
)−2,7−オクタジイン1.94gのテトラヒドロフ
ラン溶液に、アルゴン気流下に一10°Cで1.56M
n−ブチルリチウムのヘキサン溶液を加え、同温で撹拌
し、さらに1−ブロモ−3−クロロプロパンのヘキサメ
チルホスホリックトリアミド溶液を加える。反応混合物
を室温で一夜撹拌したのち、水を加え、イソプロピルエ
ーテルで抽出し、水洗、乾燥後、濃縮して11−(テト
ラヒドロビラン−2−イルオキシ)−1−クロロ−49
−ウンデカジイン2.4gを油状物として得る。
(2)上記(1)で得られた化合物をジメチルホルムア
ミド及び水の混液に溶解し、シアン化カリウムを加えて
80℃で攪拌する。反応液に水を加え、エーテル抽出し
、水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣をシルカゲ
ルカラムで精製してI−シアノ−11−(テトラヒドロ
ビラン−2−イルオキシ)−4,9−ウンデカジイン1
.15gを油状物として得る。
ミド及び水の混液に溶解し、シアン化カリウムを加えて
80℃で攪拌する。反応液に水を加え、エーテル抽出し
、水洗、乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣をシルカゲ
ルカラムで精製してI−シアノ−11−(テトラヒドロ
ビラン−2−イルオキシ)−4,9−ウンデカジイン1
.15gを油状物として得る。
(3)上記(2)で得られた化合物のエタノール及び水
の混液に、水酸化カリウムを加え、80゛Cで攪拌する
。該溶液を10%塩酸でp H6〜7とした後、エタノ
ールを減圧留去する。残渣を水で希釈後、酢酸エチル抽
出し、乾燥後、濃縮し、残香をシリカゲルカラムで精製
して12−(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−
5,10−ドデカジイン酸600■を油状物として得る
。
の混液に、水酸化カリウムを加え、80゛Cで攪拌する
。該溶液を10%塩酸でp H6〜7とした後、エタノ
ールを減圧留去する。残渣を水で希釈後、酢酸エチル抽
出し、乾燥後、濃縮し、残香をシリカゲルカラムで精製
して12−(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−
5,10−ドデカジイン酸600■を油状物として得る
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、R^1及びR^2は低級アルキル基、低級アル
カノイル基又はシクロアルキル基、R^3及びR^4は
水素原子又は低級アルキル基、R^5は低級アルコキシ
−低級アルキル基、シアノ基で置換されていてもよい炭
素数3〜9個のアルキル基置換メチル基又は式:−Y−
R^6で表される基、Yは1〜4個の二重結合又は三重
結合を有する炭素数4〜14個の2価の炭化水素基、R
^6は水素原子、水酸基、置換されていてもよいシクロ
アルケニル基又は含酸素複素単環式基置換オキシ基、A
は酸素原子又は硫黄原子を表す。) で示される4−アミノフェノール誘導体又はその塩。 2、R^5が炭素数2〜8個のアルコキシ−アルキル基
、シアノ基で置換されていてもよい炭素数3〜9個のア
ルキル基置換メチル基、1〜4個の二重結合を有し炭素
数3〜7個のシクロアルケニル基で置換されていてもよ
い炭素数4〜14個の1価の炭化水素基又は1〜4個の
三重結合を有し水酸基もしくはテトラヒドロピラニルオ
キシ基で置換されていてもよい炭素数4〜14個の1価
の炭化水素基である請求項1記載の4−アミノフェノー
ル誘導体又はその塩。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63330644A JPH02172958A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 4―アミノフェノール誘導体 |
US07/445,059 US5047555A (en) | 1988-12-13 | 1989-12-04 | 4-aminophenol derivatives and processes for preparing the same |
CA002004843A CA2004843A1 (en) | 1988-12-13 | 1989-12-07 | 4-aminophenol derivatives and processes for preparing the same |
ES89403469T ES2062078T3 (es) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | Derivados 4-aminofenol y procedimientos para la preparacion de los mismos. |
EP89403469A EP0374048B1 (en) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | 4-Aminophenol derivatives and processes for preparing the same |
DE68917569T DE68917569T2 (de) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | 4-Aminophenol-Derivate und Verfahren zu ihrer Herstellung. |
AT89403469T ATE110068T1 (de) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | 4-aminophenol-derivate und verfahren zu ihrer herstellung. |
KR1019890018483A KR970001069B1 (ko) | 1988-12-13 | 1989-12-13 | 4-아미노페놀 유도체 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63330644A JPH02172958A (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 4―アミノフェノール誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02172958A true JPH02172958A (ja) | 1990-07-04 |
Family
ID=18234977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63330644A Pending JPH02172958A (ja) | 1988-12-13 | 1988-12-26 | 4―アミノフェノール誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02172958A (ja) |
-
1988
- 1988-12-26 JP JP63330644A patent/JPH02172958A/ja active Pending
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