JPH02169563A - インダン誘導体の製法及びその合成中間体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はトロンボキサンＡｔ拮抗剤として有用なインダ
ン誘導体の製法及びその合成中間体に関する。

（従来の技術） 従来、〔２−（置換もしくは非置換ベンゼンスルホニル
アミノ）インダン−５−イル〕酢酸がトロンボキザンＡ
２　（ＴｈｒｏｍｂｏｘａｎＡ２、以下ＴｘＡｚと称す
る）拮抗作用を有することが知られている（特開昭６３
−２３８５３　”）。また、本発明者らは、種々研究の
結果、上記インダン化合物のカルボキシル基部位に低級
アルコキシカルボニル（またはカルボキシ）−低級アル
キルアミノ基を導入した一連の化合物が上記既知化合物
より一層優れたＴｘＡｔ拮抗作用を有することを見出し
、特許出願（特願昭６３−２８９１３０１）　した。

（発明の構成及び効果） 本発明は、優れたＴｘ／ｈ拮抗作用を有することを見出
し、既に特許出願した下記−触式（１）で示されるイン
ダン誘導体またはその塩の新規製法に関する。

（但し、Ｒは置換もしくは非置換フェニル基、ナフチル
基または含硫複素環式基、Ｒ２は水素原子または低級ア
ルキル基、Ｒｆｆは低級アルコキシカルボニル−低級ア
ルキル基またはカルボキシ−低級アルキル基を表す。） 本発明によれば、目的化合物（１）は−紋穴（但し、Ｒ
１は式−５ｏ！Ｒで示される基または水素原子、Ｙは置
換もしくは非置換フェニルメルカプトメチレン基、低級
アルキルメルカプトメチレン基、ヒドロキシメチレン基
、ハロゲノメチレン基またはカルボニル基を表し、Ｒ、
Ｒ”及びＲ″は前記と同一意味を有する。） で示される化合物またはその塩を還元して基Ｙをメチレ
ン基に変換し、Ｒ１が水素原子である場合には、生成物
を次いで一般式 ％式％（） （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
スルボン酸化合物またはその反応性誘導体と縮合反応さ
せて製造することができる。

また目的化合物（１）に於て、Ｒ″がカルボキシ低級ア
ルキル基である化合物は、上記反応で得た目的化合物（
１）に於て、Ｒ″が低級アルコキシカルボニル−低級ア
ルキル基である化合物をさらに加水分解して製造するご
ともできる。

上記反応に於て、原料化合物（ｎ）としては、基Ｙがフ
ェニルメルカプトメチレン基、ｐ−トリルメルカプトメ
チレンＬ　ｐ−クロロフェニルメルカプトメチレン基等
低級アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい
フェニルメルカプトメチレン基、メチルメルカプトメチ
レン基、エヂルメルカブトメチレン基、プロビルメルカ
プトメヂレン基等の低級アルキルメルカプトメチレン基
、ヒドロキシメチレン基、クロロメチレン基等のハロゲ
ノメチレン基及びカルボニル基である化合物を好適に用
いることができ、また、スルホン酸化合物（ＩＩＩ）の
反応性誘導体としては、慣用の誘導体、例えばスルホニ
ルハライド化合物を適宜用いることができる。

原料化合物（ｎ）またはその塩の還元反応は基Ｙの種類
に応じ、適宜実施することができる。例えば、基Ｙがカ
ルボニル基の場合、当該還元反応は触媒の存在下、接触
還元によって行うことができる。触媒としては、例えば
ラネーニッケル、ラネ°−コバルトまたはパラジウム系
触媒を用いるのが好ましく、シュウ酸との組み合わせが
更に好ましい０本反応は低級アルカノール、含水テトラ
ヒドロフラン等の溶媒中、室温〜加熱下で好適に進行す
る。一方、基Ｙが置換もしくは非置換フェニルメルカプ
トメチレン基、低級アルキルメルカプトメチレン基、ヒ
ドロキシメチレン基またはハロゲノメチレン基である場
合、還元反応は接触還元により実施できるほか、例えば
、重金属の存在下、酸処理して実施することもできる。

前者の場合、接触還元は上記と同様の条件下で適宜実施
でき、一方後者の場合には重金属として例えば亜鉛、鉄
等を、また酸として例えば酢酸、プロピオン酸の如き有
機酸を用いるのが好ましい。本反応は冷却〜加熱下、と
りわけ加温下で実施するのが好ましい。基Ｙがいずれの
場合にも、原料化合物（Ｉ［）の塩としては、塩酸塩の
如き鉱酸等を適宜上記反応に用いることができる。

上記反応生成物とスルボン酸化合物（ＩＩＩ）またはそ
の反応性誘導体との縮合反応は、脱酸剤の存在または非
存在下に実施することができる。脱酸剤としては、例え
ば炭酸アルカリ金属、炭酸水素アルカリ金属、トリアル
キルアミン、ピリジン等慣用のものをいずれも用いるこ
とができる。本反応は適当な溶媒（例えば、水、酢酸エ
チル）中冷却〜加熱下で実施するのが好ましい。

また、かくして得た目的化合物（１）に於て、Ｒ３が低
級アルコキシカルボニル−低級アルキル基である化合物
の加水分解反応は、常法に従い、例えばアルカリ試薬ま
たは酸で処理して実施することができる。アルカリ試薬
としては例えば水酸化アルカリ金属を、酸としては例え
ば鉱酸を適宜用いることができる。本加水分解反応は適
当な溶媒（例えば水、低級アルカノール）中冷却〜加熱
下で実施するのが好ましい。

なお、本発明の目的化合物（１）はインダン骨格の２位
に存在する不斉炭素原子に基づく２種の光学異性体及び
その混合物のいずれをも包含するが、上記反応はすべて
ラセミ化を伴わずに進行するため、光学活性な原料化合
物を用いれば、目的化合物（＋）も光学活性体として得
ることができる。

また、本発明によれば、−数式（１）において、Ｒが例
えば低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子
、トリフルオロメチル基もしくは二１・四基で置換され
ていてもよいフェニル基、ナフチル基、またはチエニル
基の如き含硫複素環式基である目的物をいずれも製造す
ることができる。

本発明の目的化合物（１）またはその塩は、前述の如く
、優れたＴｘＡｄａ抗作用を有するため、血小板凝集抑
制剤として有用であり、例えば脳血栓症、冠状動脈血栓
症、肺血栓症、肺塞栓症、末梢血管塞栓症、血栓脈管炎
などの各種血栓症、塞栓症等の治療、緩和及び予防に用
いることができる。また、目的化合物（１）またはその
塩は心筋虚血、不安定狭心症、冠動脈中綿、クモ膜下出
血後の脳血管中綿、脳溢血、喘息等の治療・緩和及び予
防に用いることもできる。さらに、従来公知のＴｘ／ｈ
拮抗剤の中には、優れたＴｘＡ、拮抗作用を示す反面、
一過性のＴｘＡ、様作用をも示し、血小板凝集誘起作用
、気管支収縮作用、血管収縮作用等の副作用を伴うもの
があるが、本発明の目的化合物（Ｉ）は経口投与及び非
経口投与のいずれの場合にもかかるＴｘＡｇｔｍ作用を
全（示さないという優れた特徴を有する。

なお、本発明の原料化合物（ＩＩ）は新規化合物であり
、例えば下記のようにして製造でき°る。

即ち、（１）−（ｔ）−数式 （但し、Ｒ１１は弐−Ｓｏ！Ｒで示される基またはアミ
ノ基の保護基を表し、Ｒは前記と同一意味を有する。）
で示される化合物と一般式 ％式％（） （但し、ｙｌは置換もしくは非置換フェニルメルカプト
メチレン基、低級アルキルメルカプトメチレン基または
カルボニル基、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ２及びＲ″
は前記と同一意味を有する。）で示される化合物とを適
当な溶媒（例えば１，２−ジクロロエタン）中、ルイス
酸触媒（例えば塩化アルミニウム）の存在下、縮合反応
させるか、（１）−（ｔｉ）化合物（ＩＶ）と−数式％
式％（［） （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
化合物またはその反応性ＬＭｎ体とを縮合反応させ、か
くして得た一般式 （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
化合物もしくは“その反応性誘導体と一般式 ％式％（） （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
アミン化合物とをペプチド縮合の常法に従って縮合反応
させた後、 （２）所望により、生成物からアミノ基の保！Ｉ基（Ｒ
１）を除去し、 （３）Ｙ’がカルボニル基である場合は、所望により、
緩和な条件下（例えば水素化ホウ素アルカリ金属）に還
元してヒドロキシメチレン基に変換し、さらに （４）所望により、ｙｌがヒドロキシメチレン基の化合
物（ＩＩ）をチオニルハライドで処理して製造すること
ができる。

実施例１ （＋）４−（（２−アミノインダン−５−イル）オキサ
リルアミノ）−ｎ−酪酸メチル塩酸塩４．０９ｇに酢酸
エチル６０−１炭酸カリウム４．９８ｇを加え、水冷撹
拌下に水４０ｍｊを加え、更に４−クロロフェニルスル
ホニルクロリド２．４８ｇの酢酸エチル４０−溶液を滴
下し、室温で２時間撹拌する。反応後、酢酸エチル層を
分取し、洗浄、乾燥、濾過後、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホル
ム）にて分離精製して４−　（（２−（（４−クロロフ
ェニル）スルホニルアミノコインダン−５−イル〕オキ
サリルアミノ）−ｎ−酪酸メチル５゜６７ｇを淡黄色粘
性油状物として得る。

収率：１００％ ＭＳ　（ｍ／ｅ）　：　４７９　（Ｍ　”　＋１ｌ）（
２）本島０．６０ｇのメタノール１０Ｍ１溶液に、水冷
下水素化ホウ素ナトリウム２５■を加え、２０分間攪拌
する。溶媒を留去し、水及び酢酸エチルを加え、有機層
を分取、洗浄、乾燥後、溶媒を留去して４−　（２−（
２−（（４−クロロフェニル）スルホニルアミノコイン
ダン−５−イル〕−２−ヒドロキシアセチルアミノ）〜
ｎ−酪酸メチル０．５８ｇを無色油状物として得る。

収率：９７％ ＦＩＳ　（ｍ／ｅ）　：　４８１　（Ｍ　”　＋１Ｉ）
（３）本島０．６３ｇの塩化メチレン１〇−溶液にチオ
ニルクロリド０．３２ｄを加え、室温にて１時間攪拌す
る。溶媒を留去し、残渣を酢酸１０１Ｒ１に溶解し、亜
鉛末３００■を加え、７０℃にて１時間攪拌する。室温
まで冷却し、濾過後、溶媒を留去し、酢酸エチル及び水
を加え、有機層を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、酢酸エ
チル−ｎ−ヘキサン混液から再結晶して４−　（（２−
（（４−クロロフェニル）スルホニルアミノコインダン
−５−イル〕アセチルアミノ）　−ｎ−酪酸メチル４５
０■を無色結晶として得る。

収率ニア４％ ｍ、ｐ、　　１２５．５〜１２７℃ 実施例２ （１１４−（（２−アミノインダン−５−イル）オキサ
リルアミノ）−ｎ−酪酸メチル塩酸塩８５０■をメタノ
ール１０−にとかし、１０％パラジウム−炭素４２５■
を加え、ＩＲランプ照射下に水素圧４気圧で４８時間接
触還元に付す。触媒を濾去し、溶媒を留去後、残渣に酢
酸エチル２′０−１炭酸カリウム１．２４ｇ及び水２０
−を加え、室温にて４−クロロフェニルスルホニルクロ
リド６３３■の酢酸エチル１〇−溶液を滴下し、１時間
攪拌する。酢酸エチル層を分取し、洗浄、乾燥、濾過後
、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶媒；クロロホルム；メタノール＝９９　：　
Ｉ）にて分離精製して４−（Ｃ２−（（４−クロロフェ
ニル）スルホニルアミノコインダン−５−イル〕アセチ
ルアミノ）−ｎ−酪酸メチル３６０■を無色プリズム品
として得る。

収率：３０％ ｍ、ｐ、　　１２８　〜１２９　℃ さらに、４−　（２−（２−（（４−クロロフェニル）
スルホニルアミノコインダン−５−イル〕２−ヒドロキ
シアセチルアミノ）−ｎ−酪酸メチル６９０ｇを無色油
状物として得る。

収率：５７％ （２１４−（２−（２−（（４−クロロフェニル）スル
ホニルアミノコインダン−５−イル〕−２−ヒドロキシ
アセチルアミノ）−ｒｌ−ｍ酸メチルを実施例１−（３
１と同様に処理して４−（（２−（（４−クロロフェニ
ル）スルホニルアミノコインダン−５−イル〕アセチル
アミノ）　−ｎ−酪酸メチルを得る。

実施例３ （１）４−（（２−アミノインダン−５−イル）オキサ
リルアミノ）−ｎ−酪酸メチル５０２■にメタノール８
ｍｌ、シェウ酸５３１■、１０％パラジウム−炭素２５
０■を加え、！Ｒランプ照射下で水素圧４気圧にて１８
時間、さらに３気圧で９時間接触還元に付す。触媒を濾
去後、溶媒を留去し、残渣へ酢酸エチル１０−１炭酸カ
リウム２．０７ｇ、水ＩＯ−を加え、撹拌下に４−クロ
ロフェニルスルホニルクロリド３４２ｑｒの酢酸エチル
５　ｍｌ溶液を滴下し、室温で２時間撹拌する。反応後
、酢酸エチル層を分取し、洗浄、乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣を酢酸エチル−イソプロピルエーテル−ｎ−ヘ
キサン混液から再結晶して４〜（〔２−（（４−クロロ
フェニル）スルホニルアミノコインダン−５−イル〕ア
セチルアミノ）−〇−酪酸メチル５０７■を無色結晶と
して得る。

収率ニア４％ 翔、ｐ、　　１２５．５〜１２７℃ 実施例４ （１）２−アミノインダン１３．３２ｇ、炭酸カリウム
２７．６４ｇ、クロロホルム１００ｄ！及び水１００−
の混合物に４−クロロフェニルスルホニルクロリド２１
．１１ｇを加え、室温にて３０分間１児拌する。有機層
を洗浄、乾燥後、溶媒を留去シ、酢酸エチル−イソプロ
ピルエーテル−ｎ−ヘキサン混液から再結晶して２−（
（４−クロロフェニル）スルホニルアミノ）インダン２
８．１３ｇを無色針状晶として得る。

収率：９１％ ｍ、ｐ、　　１４１〜１４２℃ （２）４−（オキサロアミノ）−ｎ−酪酸メチル０゜３
水和物２．７２ｇ、塩化メチレン２〇−及びジメチルホ
ルムアミド１滴の混合物に水冷撹拌下、オキサリルクロ
リド３．６７ｇの塩化メチレンｌロー溶液を滴下し、室
温で２．５時間撹拌する。

反応後、溶媒を留去して４−（クロロオキサリルアミノ
）−ｎ−酪酸メチルを得る。

本島の１，２−ジクロロエタン１５−溶液を粉末塩化ア
ルミニウム５．６ｇの１．２−ジクロロエタン１０ｍ１
懸濁液に冷却攪拌下、滴下する０次に２−（（４−クロ
ロフェニル）スルホニルアミノコインダン２．１５ｇの
１．２−ジクロロエタン５５−溶液を滴下し、室温で２
時間攪拌する。

水冷下に氷水及び酢酸エチルを加え、酢酸エチル抽出し
、洗浄、乾燥する。濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラム（溶媒；クロロホルム）にて分離精製して
４　　　（（２−（（４−クロロフェニル）スルホニル
アミノ）インダン−５−イル〕オキサリルアミノ）−ｎ
−酪酸メチル１．　６８ｇを淡黄色油状物として得る。

収率：５０％ （３）本島を実施例１−（２）及び（３）と同様に処理
して４−　（（２−（（４−クロロフェニル）スルホニ
ルアミノコインダン−５−イル〕アセチルアミノ）−ｎ
−酪酸メチルを得る。

実施例５ （１）フェニルチオ酢酸３．３６ｇ、テトラヒドロフラ
ン３０ｄ及び塩化メチレン３０−の溶液に氷冷下、カル
ボニルジイミダゾール３．２４ｇを加える。１時間攪拌
し、４−アミノ酪酸メチルエステル塩酸塩３．０７ｇ、
次いでトリエチルアミン２．０２ｇを加え、更に１時間
攪拌する。溶媒を留去し、残渣に水を加え、酢酸エチル
抽出する。

酢酸エチル層を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；酢酸エチル
：ヘキサン＝２　：　１）にて精製し、さらに、ｎ−ヘ
キサンで結晶化して４−〔（フェニルチオ）アセチルア
ミノ）−ｎ−酪酸メチル４゜２８ｇを無色結晶として得
る。

収率：８０％ ｍ、ｐ、　　３８〜４０　　℃ ＭＳ　（ｍ／ｚ）　：　２６７（Ｍ”　）（２）本島７
．３８ｇの塩化メチレン３９ｍ１ｌ溶液にアルゴン気流
下、水冷下にスルフリルクロリド４゜１０ｇの塩化メチ
レン１５−溶液を滴下し、５０分攪拌する。溶媒留去後
、残渣を塩化メチレン３Ｑ　ｍｌにｔ８解し、２−（（
４−クロロフェニル）スルホニルアミノコインダン３．
５４ｇを加え、塩化第二スズ１０．４２ｇ、ニトロメタ
ン４．８８ｇの塩化メチレン３Ｑｍｌ溶液を冷却下情下
し、室温で４時間撹拌し、水冷下、水３０ｍ１を加える
。

１０％塩酸を加え、有機層を分取し、乾燥後、溶媒を留
去して４−　（２−（２−（（４−クロロフェニル）ス
ルホニルアミノ）インダン−５−イル）−２−（、フェ
ニルチオ）アセチルアミノ）ｎ−酪酸メチルを組成物と
して得る。

（３）本島の酢酸５〇−溶液に亜鉛末０．７６ｇを加え
、還流し、室温に冷却後、濾過する。溶媒を留去し、イ
ソロピルエーテルーメタノール混液で結晶化し、酢酸エ
チル−ｎ−ヘキサン混液から再結晶して４−　［（２−
（（４−クロロフェニル）スルホニルアミノコインダン
−５−イル〕アセチルアミノ）−ｎ−酪酸メチル２．７
６ｇを無色結晶として得る。

収率：５１％ 謝、ｐ、　　１２５．５〜１２７℃ 実施例６ （１）３−アミノプロピオン酸メチルエステル塩酸塩を
実施例５−（１）と同様に処理して３−〔（フェニルチ
オ）アセチルアミノ）−ｎ−プロピオン酸メチルを得る
。

＋ｎ、ｐ、　　６２　〜６３　　℃ （２）本島を実施例５−　（２１と同様に処理して３−
（２−（２−（（４−クロロフェニル）スルボニルアミ
ノコインダン−５−イル）−２−（フェニルチオ）アセ
チルアミノ）−ｎ−プロピオン酸メチルを無色油状物と
して得る。

ＭＳ　（ｍ／ｚ）　：５５９　（Ｍ”　）（３）本島を
実施例５−１３）と同様に処理して３−［（２−（（４
−クロロフェニル）スルホニルアミノコインダン−５−
イル〕アセチルアミノ）ｎ−プロピオン酸メチルを無色
プリズム晶として得る。

ｍ、１．１５０〜１５１　℃ 実施例７ （１）４−　（（２−（（４−クロロフェニル）スルホ
ニルアミノ）インダン−５−イルコアセチルアミノ）−
ｎ−酪酸メチル１２５．５ｇのメタノール溶液１２５０
−に攪拌下、室温にて、ＩＮ−水酸化ナトリウム水溶液
６７５−を加え、ついで同温にて２時間攪拌する９反応
後、冷却攪拌下、６Ｎ−塩酸１１０−にてｐＨ４とし、
メタノールを留去し２．１０％塩酸を加えてｐＨ１とし
、酢酸エチル−テトラヒドロフラン混液で抽出する。乾
燥後、溶媒を留去し、残渣をテトラヒドロフラン５５０
−にン容かし、イソプロピルエーテルを加えて結晶化し
て４−　（　（２−　（　（４−クロロフェニル）スル
ホニルアミノコインダン−５−イル〕アセチルアミノ）
−ｎ−酪酸１１５．６ｇを得る。

収率：９５％ ｔａ．ｐ．　　１２３．５〜１２５．５　℃すトリウム
塩 ｍ．ｐ．　　１９６．１℃（分解） 実施例８〜３７ 対応原料化合物を実施例１〜７と同様に処理することに
より、下記１〜９表記載の化合物を得る。

第１表 第　　２　　表 第３表 第 表 参考例１ （１）２−アミノインダン１２４．１ｇにギ酸エチル５
００ｄを加え、２３時間還流する。溶媒を留去し、酢酸
エチル３００　ｍｌに加熱して溶かし、炭末４．５ｇを
加え、濾過、洗浄、濃縮後、ｎ−ヘキサンで結晶化して
２−ホルミルアミノインダン１４４ｇを得る。

ｍ、ｐ、　　７４．５〜７６°Ｃ （２）粉末の塩化アルミニウム６４ｇを１．２−ジクロ
ロエタン１６０ｍに懸濁し、水冷下エトキサリルクロリ
ド３９．３ｇの１，２−ジクロロエタン６０ｄ溶液を滴
下し、ついで、２−ホルミルアミノインダン２５．７９
ｇの１，２−ジクロロエタン６０ｄ溶液を０〜５°Ｃで
５０分間滴下し、室温まで１時間、さらに、室温にて１
時間攪拌する。反応後、氷水を加え、酢酸エチル抽出し
、洗浄後、乾燥する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶媒；酢酸エチル：ｎ−ヘ
キサン＝２：１）にて分離精製し、５−エトキサゾル−
２−ホルミルアミノインダン３３．４ｇを油状物として
得る。

（３）本島２６．１ｇのエタノール２００ｄ溶液に、氷
水塗上、ＩＮ−水酸化ナトリウム水溶液２００ｄを加え
、室温にて１．５時間攪拌する。反応後、６Ｎ−塩酸で
中和し、エタノールを留去し、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液でｐＨ９とし、水を加え、酢酸エチルで洗浄後、
水層を６Ｎ−塩酸にてｐｉｌｌとし析出晶を濾取する。

さらに、水層をテトラヒドロフラン−ギ酸エチル混液に
て抽出し、溶媒留去後、先に得た結晶と一緒にし、ジメ
チルホルムアミドに溶かし、−度不溶物を濾去する。溶
媒を濃縮し、酢酸エチルを加え、結晶化して５−オキサ
ロー２−ホルミルアミノインダン１８．６ｇを得る。

ｍ−、−、ｐ、　　１９１〜１９２．５°Ｃ（分解）（
４）氷晶９．３２ｇをテトラヒドロフラン８０ｍ！！及
びジメチルホルムアミド３０ｄの混合溶媒に溶かし、室
温にて攪拌下、カルボニルジイミダゾール７．７８ｇを
加え２時間、ついで、４−アミノ酪酸メチルエステル塩
酸塩７．９９ｇ、）リエチルアミン５．２６ｇを加え１
．５時間撹拌する。

反応後、溶媒を留去し、酢酸エチル抽出し、洗浄、乾燥
する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶媒；酢酸エチル）にて分離精製後、酢酸
エチルーイソロビルエーテル混液から再結晶して４−（
（２−ホルミルアミノインダン−５−イル）オキサリル
アミノ）−ｎ−酪酸メチル７．３ｇを無色結晶として得
る。

閘、ｐ、　　９６〜１００℃ （５）氷晶１６．０８ｇに１０．４Ｗハ％塩化水素−メ
タノール３２０ｇを加え、室温で１６時間撹拌し、溶媒
留去後、得られた淡黄色固体をメタノール２００ｄに溶
かす、炭未処理し、濾過、溶媒留去後、メクノールーイ
ソブロビルエーテル混液から再結晶して４−（（２−ア
ミノインダン−５−イル）オキサリルアミノ）−ｎ−酪
酸メチル塩酸塩１５．４６ｇを無色固体として得る。

ｍ、ｐ、　　２００〜２０４°Ｃ（分解）参考例２ （１）ベンジルオキシオキサリルクロリド２９．８ｇと
４−アミノ酪酸メチルエステル塩酸塩２１゜９ｇの塩化
メチレン１４０戚溶液に、トリエチルアミン３０．４ｇ
の塩化メチレン８０ｄ溶液を滴下し、１時間攪拌する。

次いで、洗浄、乾燥後、濾過する。溶媒を留去し、残渣
をｎ−ヘキサンで結晶化し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
混液から再結晶して４−（ベンジルオキシオキサリルア
ミン）＃Ｉ酸メチル３８．Ｏｇａ薄黄土色プリズム晶と
して得る。

ｍ、ｐ、　　４１〜４４　　°Ｃ （２）氷晶３７．９ｇをテトラヒドロフラン３６０成に
溶かし、１０％パラジウム−炭素１４ｇの存在下、常圧
で接触還元に付す、触媒を濾去したのち、溶媒を留去し
、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン混液から再結晶して、４−
（オキサロアミノ）醋酸メチル０．３水和物２４．９ｇ
を無色プリズム晶として得る。

ｍ、ｐ、　　６８〜７２　　°Ｃ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は式−ＳＯ＿２Ｒで示される基または水
   素原子、Ｒは置換もしくは非置換フェニル基、ナフチル
   基または含硫複素環式基、Ｒ＾２は水素原子または低級
   アルキル基、Ｒ＾３は低級アルコキシカルボニル−低級
   アルキル基またはカルボキシ−低級アルキル基、Ｙは置
   換もしくは非置換フェニルメルカプトメチレン基、低級
   アルキルメルカプトメチレン基、ヒドロキシメチレン基
   、ハロゲノメチレン基またはカルボニル基を表す。） で示される化合物またはその塩を還元して基Ｙをメチレ
   ン基に変換し、Ｒ＾１が水素原子である場合には、次い
   で一般式 ＲＳＯ＿３Ｈ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
   スルホン酸化合物またはその反応性誘導体と縮合反応さ
   せ、要すれば、生成物をその塩とすることを特徴とする
   一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
   インダン誘導体またはその塩の製法。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は式−ＳＯ＿２Ｒで示される基または水
   素原子、Ｒは置換もしくは非置換フェニル基、ナフチル
   基または含硫複素環式基、Ｒ＾２は水素原子または低級
   アルキル基、Ｒ＾３＾２は低級アルコキシカルボニル−
   低級アルキル基、Ｙは置換もしくは非置換フェニルメル
   カプトメチレン基、低級アルキルメルカプトメチレン基
   、ヒドロキシメチレン基、ハロゲノメチレン基またはカ
   ルボニル基を表す。）で示される化合物またはその塩を
   還元して基Ｙをメチレン基に変換し、Ｒ＾１が水素原子
   である場合には、次いで一般式 ＲＳＯ＿３Ｈ （但し、記号は前記と同一意味を有する。）で示される
   スルホン酸化合物またはその反応性誘導体と縮合反応さ
   せた後、生成物を加水分解し、要すれば、さらに、その
   塩とすることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾３＾１はカルボキシ−低級アルキル基を表
   しＲ及びＲ＾２は前記と同一意味を有する。）で示され
   るインダン誘導体またはその塩の製法。 ３、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （但し、Ｒ＾１は式−ＳＯ＿２Ｒで示される基または水
   素原子、Ｒは置換もしくは非置換フェニル基、ナフチル
   基または含硫複素環式基、Ｒ＾２は水素原子または低級
   アルキル基、Ｒ＾３は低級アルコキシカルボニル−低級
   アルキル基またはカルボキシ−低級アルキル基、Ｙは置
   換もしくは非置換フェニルメルカプトメチレン基、低級
   アルキルメルカプトメチレン基、ヒドロキシメチレン基
   、ハロゲノメチレン基またはカルボニル基を表す。） で示されるインダン誘導体またはその塩。