JPH02169040A

JPH02169040A - 光触媒の再生方法

Info

Publication number: JPH02169040A
Application number: JP63324111A
Authority: JP
Inventors: Tomoko Ikeda; 知子池田; Shuzo Tokumitsu; 修三徳満; Noboru Naruo; 成尾　昇
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1988-12-22
Filing date: 1988-12-22
Publication date: 1990-06-29

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、家庭やオフィス内の悪臭（調理具・食品臭・
たばこ臭・体臭・ペットおよびトイレの臭いなど）の脱
臭のため用いられている光触媒の再生方法に関するもの
である。

従来の技術家庭やオフィス内で発生する悪臭（調理具・食品臭・た
ばこ臭・ベットおよびトイレ臭など）の成分は、窒素化
合物（アンモニア・アミン類・インドール・スカトール
など〉、硫黄１ヒ合物（硫化水素・メヂルメルノノブタ
ン・硫化メチル・二硫化メチル・二硫化シメヂル等）、
アルデヒド順（ホルムアルデヒド・アセトアルデヒドな
ど）、ケトン類（アセトンなど）、アルコール順（メタ
ノール・エタノールなど）、脂肪酸および芳香族化合物
など、多種多様である。

従来、このような悪臭を脱臭する方法として、悪臭物質
と薬剤とを化学反応させる方法、芳香剤で悪臭物質をマ
スキングする方法、活性炭やゼオライトなどで悪臭物質
を吸着する方法および、これらの方法を組み合わせて用
いる方法があった。

以上のように様）／な脱臭方法が使用されているが、薬
剤・芳香剤共に、Ｔ臭物質と反応した後、再生はほとん
ど不可能である。また、吸着剤の場合も吸着容量が飽和
すると脱臭性能は著しく低下する。従って、どの場合に
おいても、定期的にあたらしいものとの交換が必要にな
ってくる。

このような煩わしい操作の頻度を大幅に減少あるいはこ
の操作そのものが必要でなくなる脱臭方法として、酸化
チタン等の半導体に紫外線を照射し、それによって励起
された半導体が有機物などを酸化分解する光触媒の利用
が試みられている。

発明が解決しようとする課題光触媒を用いた脱臭方法では、−船釣によく使用されで
いる活性炭で脱臭が困難なアセトアルデヒド類およびそ
の池の悪臭物質を効果的に脱臭し、また、長期間その性
能の維持が可能になった。ところが、家庭およびオフィ
ス内で発生ずるＲ臭は、ガス成分と共に例えばたばこの
煙りの中こ含まれる高分子物質にニコチン、その他アル
カロイド・フェノール頚・炭化水素など）や塵埃などが
混ざりあって存在する。

これら高分子物質や塵埃などは悪臭を発生しないらのが
多いが、光触媒反応をおこす触媒である半導体表面に付
着しこれを覆ってしまうため、紫外線が触媒まで達せず
、触媒がエネルギーを受は下にくくなり光触媒反応が低化し反応劣化を引き起こす。

本発明は、光触媒反応を起こす半導体表面に付着した高
分子物質や塵埃などを速やかに取り除き、再び元の脱臭
性能を取り戻す、光触媒の再生方法に関するらのである
。

課題を解決するための手段上記目的を達成するために、大気中に浮遊する高分子物
質および塵埃などに覆われた光触媒を界面活性剤をな有
する洗浄液に浸漬し、触媒表面の汚染物質を除去する光
触媒の再生方法である。また、第２の手段は、洗浄液中
に酸化ｆｆ１Ｊを含みさらに速やかにかつ効率良く光触
媒を再生する方法である。第３の手段は、酸化剤を含有
する溶液に浸漬し、触媒表面の汚染物質を除去する光触
媒の再生方法である。

作　　　用本発明者等は、光触媒反応による悪臭分解、無臭化を研
究中であるが、以前より悪臭と共存することの多い高分
子物質（たばこの煙り中のニコチン、その他ア几カロイ
ト・フェノール頽・炭化水素など）が触媒表面に付着し
、紫外線照射が妨げられることによる光触媒反応の劣化
に悩まされていた。

上記本発明の第一の手段においては、付着した触媒表面
上の高分子物質は、洗剤に含有される石！ｊｉ　、ｊ；
　、よび界面活性剤の働きにより水に溶は出す。

塵埃などは界面活性剤の動きで、洗浄液中に分散される
。また、第２の手段においては、酸化剤の酸化作用が強
烈な場合、光触媒表面の高分子物質は酸化分解され、低
分子化し洗浄液中に溶は出していく。酸化７１Ｊとして
特に過炭酸化合物および塩？（８酸化合物を用いると、
触媒本体を劣化させることなく再生が可能になる。第３
の手段においては、過酸化水素水や過炭酸化合物および
塩′Ｉ：酸化合物の溶液に浸漬することだけでも高分子
化合物や、塵埃を除去できる。特に高分子化合物を分解
する役目を十分に果たす。

実施例以下、本発明の実施例について説明する。

洗浄液に含まれる界面活性剤としては脂肪酸・石鹸・ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩に代表される陰イオン界面
活性剤、その他階イオン活性剤、非イオンｗ部活１１剤
等が用いられる。洗浄液に含有される酸化剤としては一
般に、過炭酸化合物又は塩素酸化合物などが川（・られ
る。光触媒として用いる半導体は単独の金属酸化物及び
それらの混合物である。代表的なものに酸化チタン・酸
化タングステン・酸化イツトリウム、酸化スズ等がある
。半導体を励起させる紫外線は、高圧水銀灯・低圧水銀
灯・キセノン灯等を使用する。

次に具体的な実施例について説明する。実施例で便用し
た光触媒は、直径６８．３ｍｍ、厚さ０．５鴫のアルミ
ナ−シリカ質のセラッミクペーパにヂタニアゾルを含浸
したのち、４００〜７００℃で熱処理するなどの方法で
作成した。この触媒１をスデンレスの台２にのせて、第
１図に示す内容１３６Ｒのアルミニウム製の反応容器３
の中に、光源４から１００ｎｎｆｆｉれた位置に直いた
。光源４は殺菌灯（紫舛線出力杓１８ワット、主波長２
５４　ｎ　＋ｔｒ　）を用いた。この反応容器３の中に
アセトアルデヒドの飽ｔロガスをザンブリングロ６より
１主人し、ファン５で攪拌して濃度を均一にし、ガスク
ロマトグラフィで濃度を測定した。次に殺菌灯４を点灯
し、アセトアルデヒドの濃度の経時変化を測定していっ
た。ガスクロマトグラフのピーク面債が、１００．００
０　（アセトアルデヒド濃度７０ｐｐｍに相当）を示し
た時間から３０分間で減少したピーク面値を触媒の初明
イ１：能とした。この触媒を反応容器３と同じ別の容器
に入れ、その中で１８０　ｍｇのたばこの葉を燃やし３
０分間放置し触媒に煙を吸着させる。このとき触媒の性
能は、初期性能の４０〜５０？６にまで劣化している。

その後、触媒を表１に示す洗浄液中に６０分間浸漬する
。そして、２００ｍ１’　／分の流水で洗浄し、１００
℃で６０分乾燥する。この触媒の性能を功Ｘ’ｌ性能と
同じ方法で測定する。使用した洗浄液は過炭酸ナトリウ
ム配合の゛あっとかたずけ°　（ジョンソン株式会社）
・次亜塩素酸ナトリウム配合の°キッチンハイター゛　
（花王株式会社）・酸化剤の配合されていない゛ママレ
モン゛（ライオン株式会社）・３０％過酸化水素水溶液
である。それぞれの回復率は、表１に示すように酸化剤
の含まれていない′ママレモン′でも６７％の回復率を
示す。酸化剤の含まれているものになる七９０　’ｇ以
上の回復率を示している。

表　　１オママレモンのみｇ／ｃｃ発明の効果以上の実施例からあきらかなように、本発明の再生方法
によれば、たばこの煙りなど大気中に浮遊する高分子物
質や塵埃に汚染された光触媒を界面活性イリが含有され
ている洗浄液に浸漬することにより、触媒表面上に付着
した汚染物質は洗浄液中に分散され除去される。

また、洗浄液中に酸化剤を含むことにより、高分子物質
は酸化分りされ低分子化し、洗浄液中に溶は出してゆく
。酸１ヒ剤が含有されている洗浄液は一般に家庭で使用
されているｉ票白用の洗剤で手軽に作ることができろも
のである。

さらに酸化剤が含有する溶液に光触媒を浸漬するだけで
も汚染物質は除去することができるものである。

以上のように本発明方法は家庭又はオフィス内といった
一般の住環境で光触媒による脱臭性能を劣化させること
な（、長期にわたりその脱臭性能を容易に維持させるこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の光馳尤の分解１１能をｔｌｌｉ定する装置
の断面図である。１・・・触媒、４・光源、。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）大気中に浮遊する高分子物質および塵埃などに覆
われた光触媒を、界面活性剤を含有する洗浄液に浸漬し
、触媒表面の汚染物質を除去する光触媒の再生方法。
（２）洗浄液中に酸化剤を含む請求項１記載の光触媒の
再生方法。
（３）大気中に浮遊する高分子物質および塵埃などに覆
われた光触媒を、酸化剤を含有する溶液に浸漬し、触媒
表面の汚染物質を除去する光触媒の再生方法。