JPH02166697A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
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- JPH02166697A JPH02166697A JP63320653A JP32065388A JPH02166697A JP H02166697 A JPH02166697 A JP H02166697A JP 63320653 A JP63320653 A JP 63320653A JP 32065388 A JP32065388 A JP 32065388A JP H02166697 A JPH02166697 A JP H02166697A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体集積回路装置に関するもので、例え
ば、EeL(エミッタ・カップルド・ロジック)インタ
フェースのバイポーラ・CMOS型RAM(ランダム・
アクセス・メモリ)を基本構成とする論理機能付メモリ
等に利用して特に有効な技術に関するものである。 〔従来技術〕 高速なコンピュータ・システムを構成する場合、一般的
に、中央処理装置(CPU)とメモリ装置間の信号のや
りとりは、ECLレベルの信号が用いられる。ECLレ
ベルの信号は、その信号振幅が0.8vの様な微少振幅
であるため、論理ハイレベル(又ハlk 31 o−レ
ベル)カラi%fk理ローレベル(又は論理ハイレベル
)への変化が短時間に変更可能である。 上記の高速なコンピュータ・システムに使用される高速
な半導体メモリ装置として、バイポーラ型スタティック
RAM(又はECL RAM)が知られ曵いている。 このバイポーラ・RAMはノくイボーラ・トランジスタ
で構成されたメモリセル及び周辺回路を持ち、そして、
入力/出力インタフェースがECLレベルの信号とされ
る。 この様なバイポーラ型スタティックRAMのメモリセル
へデータを高速に書き込むため、外部から供給されるH
CLレベルのアドレス信号及び書込制御信号WEをラッ
チするラッチ回路と、ラッチされた書込み制御信号WE
に基づいて内部書込みパルスを形成する信号形成回路を
有するバイボークスタティック型RAMが日本国 公開
特許公報62−250583に示されている。 最近、バイボー2・トランジスタとCMOS(相補型M
O8)回路とを組合せて構成された半導体メモリ装置が
さかんに開発されている。米国特許第4,713,79
6は、バイボー2゛・トランジスタと0M08回路とに
よって構成されたスタティック型RAMを示している。 狭止ら”13ns。 500mW、64−kbit ECL RAMユ−
ジンク ハイ−バイシーモス テクノロジー(アイ・イ
ー・イー・イー ジャーナル オブ ソリッド−ステイ
ト サーキット、ポル、ニスシー21゜ナンバー5.オ
クト−バー1986 ppssx−pp685)13
ns、 500mW、64−kbi tECL R
AM U8ING Hi−BiCMO8T6chn
ology”(IEEE Journal 0FS
OLID−8TATE circuits、VOL
8C−21,N15,0ctober 1986
pp681−685 )は、ECL I10信号イン
ターフェイスのバイポーラCM OSスタティック型R
AMを示している。また、橘用゛アン エクスベリメン
タル1−Mビット バイシーモス デイ−ラム”(アイ
・イー・イー・イー ジャーナル オブソリッドーステ
イト サーキット、ポル、ニスシー22.ナンバー5.
オクト−パー1987pp657−I)p661 )A
n E x p e r i m e n t a
1 1Mbit BiCMO8DRAM″(IEEE
JournalOF 5OLID−8tate C
IRCUITS、VOLSG−22,電5,0ctob
er 1987 pp657−661)は、バイポ
ーラと0MO8とを用いたダイナミック型RAMを示し
ている。これらのスタティック型RAM及びダイナミッ
ク型RAMはそのメモリセルが0MO8技術によって形
成されているため、低消費電力化、高集積化、大容量化
されており、その周辺回路がバイポーラと0M08回路
との組合せによって形成されるため低消費電力化、高速
化されている。 前述した様にECL I10信号インターフェイスの
半導体メモリは、コンピータ・システムの高速化に有利
であり、上述のバイポーラ・0MO8技術による半導体
メモリもECL I10信号インターフェイスとする
ことが望ましい。実際、狭止らによって発表された上記
論文はECL 110信号インターフェイスのバイポ
ーラ・CMOSスタティック型RAMを開示している。 ここで注目すべきは、バイポーラ・0MO8技術による
スタティック型RAMは内部のメモリセルが0MO8技
術によって構成されるため、ECLレベルの入力信号を
MO8レベルの内部信号、すなわち、回路の電源電圧と
ほぼ等しい信号振幅を持つところの信号レベルの内部信
号に変換する必要が生じてくることである。 一方、コンピュータ・システムの高速化にともない、そ
のコンピュータ・システムに利用される半導体メモリ装
置はその書き込みサイクルタイムや読出しサイクルタイ
ムが短縮化される。そのため、セントラルグロセッシン
グ・ユニットなどから半導体メモリ装置に入力されるE
CLレベルの制御信号たとえば、書込制御信号WE、に
対する種々のタイミング条件は実現困難なものとなりつ
つある。 〔発明が解決しようとする原題〕 本発明者らは、上記にかんがみてバイボー2・CMO8
型RAMを含みかつ、高速コンピュータ・システムに適
用可能な論理機能付メモリを検討しさらに高速化すべく
、検討を行なって、下記に示す問題があることを明らか
にした。 すなわち、本発明者らが検討したバイポーラ・CMO8
型RAMを基本構成とする論理機能付メモリでは、外部
から入力される書き込み制御信号すなわちライトイネー
ブル信号WEが、そのまま書き込みパルスとしてライト
アンプに供給される。 したがって、ライトイネーブル信号WEは、ライトアン
プが安定して動作できるだけのパルス幅を有し、かつア
ドレス信号や入力書き込みデータ等に対して所定のセッ
トアツプ時間及びホールド時間を有する必要がある。ラ
イトイネーブル信号WEに対するこれらのタイミング条
件は、論理機能付メモリが高速化されそのサイクルタイ
ムが短縮化されるにともなって次第に厳しくなり、実現
困難なものとなることがわかった。このため、本願発明
者等は、さらにその入力動作をクロック信号によって同
期化し、上記タイミング条件を満足する書き込みパルス
を内部で自律的に形成する論理機能付メモリを開発した
。第2図には、本発明者らが開発したところの論理機能
付メモリの一部が示されている。 この論理機能付メモリにおいて、外部から供給されるラ
イトイネーブル信号WEは、第2図に示されるように、
アドレス信号や入力書き込みデータ等と同時に反転クロ
ック信号CPK従って入力ラッチBF2に取り込まれる
ようにされる。入力ラッチBF20反転出力信号weは
、バイポーラトランジスタからなるノアゲート回路BG
IKよって反転クロック信号CPの遅延信号すなわち反
転遅延クロック信号dcpと負論理で論理積がとられる
。セしてECLレベルの反転内部信号wcが形成される
。このECLレベルの反転内部信号71は、MO8電流
ミラー回路を含むレベル変換回路LCによっ−C0MO
8(相補型MO8)レベルにレベル変換されて内部信号
m w cが形成される。そして、その内部信号m w
cは、CMO8論理回路を含む書き込みパルス発生回
路WPGに供給される。書き込みパルス発生回路WPG
は、内部信号mwcにもとづいて、上記タイミング条件
を満足するCMOSレベルの書き込みパルスすなわち反
転タイミング信号φWを形成し、それをライトアンプW
Aに供給する。 ところが、論理機能付メモリの動作が高速化されるKし
たがって、上記のようなパルス発生回路には次のような
問題点が発生することが、本願発明者等によって明らか
とされた。すなわち、タイミング発生回路TGに供給さ
れる反転クロック信号CPは、論理機能付メモリが高速
化されるのにともなって、ECL回路の動作限界によっ
て達成される程度に、その周期は短くされ、そのノ(ル
ス幅は狭くされる。また、反転クロック信号CPのパル
ス幅が狭くされることで、それにもとづいて形成される
反転内部信号Wτのパルス幅も狭くされる。このため、
MO8電流ミラー回路からなるレベル変換回路LCは、
上記反転内部信号Wτに追随して所定の0MO8レベル
を持つ内部信号m w cを形成することが困難となる
。 すなわち、レベル変換回路LCが内部信号Wτに応答し
て、レベル変換を行なっている途中に、内部信号wcの
信号レベルは変化してしまう。したがって、レベル変換
回路LCは、十分にレベル変換された信号mwcを形成
することなく、そのレベル変換動作が中断されてしまう
。その結果、内部信号mwcに応答する賽き込み)(ル
ス発生回路WPGも上記タイミング条件に適合した書き
込みパルスを形成できなくなってしまう。したがって、
論理機能付メモリの書き込み動作が正常に行われず、そ
の信頼性が損なわれる。 さらに、上記の様な書込みパルス発生回路には、次のよ
うな問題点があることが、本願発明者等によって明らか
とされた。すなわち、上記書き込みパルス発生回路WP
Gに含まれる遅延回路の遅延時間は、製造プロセスに影
響される。また、書き込みパルスに従ってその書き込み
動作が行われるところのメモリセルの特性も、同様に製
造プロセスによって影響される。このため、上記遅延回
路の遅延時間は、論理機能付メモリの開発過程において
、メモリセルの動作特性を参照して決定される。しかし
、実際には、遅延回路の遅延時間及びメモリセルの特性
は、製造プロセスのバラツキに対して、異なる特性を示
す。そのため、書き込みパルスのタイミングマージンを
予め大きく設定する必要があり、結果的に論理機能付メ
モリの高速化が妨げられてしまう。また、これを防止す
るため、上記遅延回路の遅延時間を、製品ごとにメモリ
セルの動作特性に合わせて設定しようとすると、遅延時
間の測定やメモリセルの動作特性の判定に多くの試験工
数を要し、論理機能付メモリの低コスト化が妨げられる
。 この発明の目的は、高速な書き込み動作が実行できる半
導体メモリ装置を提供することにある。 この発明の他の目的は、BCL−CMOSレベル変換回
路を含むパルス発生回路の動作を安定化をすることにあ
る。 この発明の他の目的は、上記のようなパルス発生回路を
含む論理機能付メ七り等の誤動作を防止することにある
。 この発明の他の目的は、書き込みパルスのパルス幅をメ
モリセルの動作特性に対応して効率的に設定できる書き
込みパルス発生回路を提供することにある。 この発明の他の目的は、上記のような書き込みパルス発
生回路を含む論理機能付メモリ等の高速化と低コスト化
を図ることにある。 〔課題を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。 すなわち、極めてパルス幅の狭いクロック信号又はそれ
に従って形成される内部信号のパルス幅をパルス拡幅回
路によって拡張した後、そのパルス幅の拡大された内部
信号をレベル変換回路に供給するものである。 また、メモリアレイ内にメモリセルと同様にラッチ形態
とされるダミーセルを設け、上記ダミーセルと上記ダミ
ーセルの出力信号に従ってそのリセット信号を形成する
遅延回路とによって書込パルス発生回路を構成する。そ
して上記遅延回路の遅延時間の設定は上記ダミーセルの
動作特性を参照して決定する。 〔作用〕 上記した手段によれば、レベル変換回路は、パルス幅の
拡大された内部信号に応答して、そのレベル変換動作を
行なう。したがって、パルス幅の拡大分だけレベル変換
動作時間が増大する。そのため、レベル変換回路が十分
に内部信号のレベル変換を行なった後、供給されている
内部信号のレベルが変化されることになる。その結果上
記内部信号の信号レベルをレベル変換回路によって確実
に所定の信号レベルに変換できる。そのため、例えば書
き込みパルス発生回路等の動作が安定化され、このよう
な書き込みパルス発生回路を含む論理機能付メモリ等の
誤動作を防止することができる。 書き込みパルス発生回路から出力される書き込みパルス
のパルス幅は、メモリセルの動作特性と同様な動作特性
を有するラッチ形態のダミーセルのその動作特性を参照
して決定される。言い換えるならば、書き込みパルスの
パルス幅は、製品ごとのメモリセルの動作特性に対応し
て効率良(設定することが可能とされる。これにより、
メモリセル特性の特性判定や遅延回路の遅延時間測定な
どの試験工数が削減でき、論理機能付メモリの低コスト
化を図ることができる。さらに書き込みパルスのパルス
幅はメモリセルの動作特性に従って最適化され、そのタ
イミングマージンは縮小されるので論理機能付メモリの
高速化が図ることができる。 〔実施例〕 第1図には、この発明が適用された論理機能付メモリの
一実施例の簡単なブロック図が示されている。この実施
例の論理機能付メモリは、特に制限されないが、バイポ
ーラ・CMO8型RAMを基本構成とし、ラッチ回路な
どの論理部を含む。 第1図の各ブロックを構成する回路素子は、論理機能付
メモリの論理部を構成する回路素子とともに、単結晶シ
リコンのような1個の半導体基板Sub上に形成される
。 この実施例の論理機能付メモリには、特に制限されない
が、外部から、i+1ビットのアドレス信号AO〜Ai
とn+xビットの書き込みデータDWO〜DWn及びラ
イトイネーブル1号(書き込み制御信号)WEが供給さ
れる。論理機能付メモリには、さらに外部から所定の周
期の反転クロック信号CPが供給される。論理機能付メ
モリは、この反転クロック信号CPに従って、上記アド
レス信号A Q −A i 、書き込みデータDWO〜
DWn及びライトイネーブル信号WEを対応する入力ラ
ッチに取り込む。つまり、この実施例の論理機能付メモ
リの入力動作は、反転クロック信号CPに従って同期化
される。タイミング発生回路TGは、さらに対応する入
力ラッチに取り込まれたライトイネーブル信号WEをも
とに、所定のタイミング条件を満足する書き込みパルス
すなわち反転タイミング信号φWを形成するための書き
込みパルス発生回路WPGを含む。尚、入力ラッチ、及
び書き込みパルス発生回路WPGは、後に、詳細に説明
される。 この実施例の論理機能付メモIJ において、上記ライ
トイネーブル信号WE及び反転クロック信号CP等は、
前述のように、ECLレベルとされ、書き込みパルス発
生回路WPGから出力される反転タイミング信号φWは
、0MO8レベルとされる。また、上記反転クロック信
号CPは、そのパルス幅がECL回路の動作限界によっ
て達成される程度に極めて狭くされる。たとえば、その
パルス幅は1.lns程度にされる。このため、反転ク
ロック信号CPは、パルス拡幅回路PWEによってその
ECLレベルは変更されることなくそのパルス幅が2m
s程度に拡張された後、ライトイネーブル信号WEと組
み合わせられることによってECLレベルの内部信号が
形成される。この内部信号は、後述されるレベル変換回
路LCによって0M08レベルに変換された後、上記書
き込みパルス発生回路WPGに伝達される。これにより
、レベル変換回路LC及び書き込みパルス発生回路WP
Gの動作が安定化され、論理機能付メモリの誤動作が防
止される。 第1図において、メモリプレイMA几Yは、同図の垂直
方向に平行して配置される複数本のワード線と、水平方
向に平行して配置される複数組の相補データ線対及びこ
れらのワード線と相補データ線対に結合された複数個の
メモリセルを含む。 メモリプレイMARYを構成するワード線は、アドレス
デコーダADに結合され、択一的に選択状態とされる。 アドレスデコーダADには、後述するアドレスバッファ
ADBから非反転内部アドレス信号aQ〜ai及び反転
内部アドレス信号aO〜aiが供給される。 上記非反転及び反転内部アドレス信号aQ〜”+aO−
aiは以後、相補内部アドレス信号aO−atとして示
される。 アドレスデコーダADは、その動作状態において、上記
相補内部アドレス信号aO〜aiをデコードし、メモリ
アレイMARYの対応するワード線を択一的に・・イレ
ベルの選択状態とする。 アドレスバッファADBは、n+1個の入力ラッチを含
む。これらの入力ラッチには、タイミング発生回路TG
からタイミング信号cpが共通に供給される。 アドレスバッファADBの各入力ラッチは、上記タイミ
ング信号υに従って、アドレス信号Ao−−Aiを取り
込み、保持する。また、これらのアドレス信号A Q
−A iをもとに1上記相補内部アドレス信号l」〜す
を形成し、アドレスデコーダADに供給する。 一方、メモリアレイMARYを構成する複数の相補デー
タ線は、対は複数グループに分割され、それぞれのグル
ープに含まれる相補データ線対は、ライトアンプWAの
対応する単位回路及びリードアンプRAの対応する単位
回路にそれぞれ結合される。 ライトアンプWAは、特に制限されないが、n+1個の
単位回路を含む。これらの単位回路には、後述するデー
タ入カパッ7アDIRから対応する相補内部書き込みデ
ータd W Q −”−d W nがそれぞれ供給され
る。また、タイミング発生回路TGから書き込みパルス
すなわち反転タイミング信号φWが共通に供給される。 反転タイミング信号φWは、後述するように、論理機能
付メモリが非選択状態とされるときハイレベルとされ、
論理機能付メモリが選択状態とされるとき、上記ライト
イネーブル信号WEがハイレベルであることを条件に、
所定のタイミングで一時的にロウレベルとされる。 ライトアンプWAの各単位回路は、上記反転タイミング
信号φWがロウレベルとされることで、選択的に動作状
態とされる。この動作状態において、ライトアンプWA
の各単位回路は、データ入力バッファDIRから供給さ
れる相補内部書き込みデータaw□〜dwnに従った相
補書き込み信号を形成し、メモリアレイMA几Yの対応
する相補データ線に供給する。これらの書き込み信号は
、対応する相補データ線を介して、メモリアレイMAR
,Yの選択されたワード線に結合されるn+1個のメモ
リセルにそれぞれ伝達される。 データ人力バッファDIBは、n+1個の入力ラッチを
含む。これらの入力ラッチには、タイミング発生回路T
Gから上述のタイミング信号iが共通に供給される。 データ人力バッフ、DIBの各人力ラッチは、上記タイ
ミング信号Iに従って、外部から供給される書き込みデ
ータD W O−D W nを取り込み、保持する。ま
た、データ人力バッファDIBは、これらの書き込みデ
ータDWO〜DWnをもとに、上記相補内部書き込みデ
ータd w O%−d w nを形成し、ライトアンプ
WAの対応する単位回路にそれぞれ供給する。 リードアンプB、Aは、n+1個の単位回路を含む。そ
れぞれの単位回路には、後述されるリードアンプ選択回
路RASCがらタイミング信号φr1〜φrnがそれぞ
れ供給される。 リードアンプRAの各単位回路は、対応する上記タイミ
ング信号φr1〜φrnがハイレベルとされることで、
選択的に動作状態とされる。この動作状態において、リ
ードアンプ几Aの各単位回路は、メモリアレイMARY
の選択されたワード線に結合されるn+1個のメモリセ
ルかも対応する相補データ線を介して出力される読み出
し信号を増幅し、相補内部読み出しデータdrO−dr
nを形成する。これらの相補内部読み出しデータ先玉」
〜drnは、後述するデータ出力バッ7アDOBの対応
する出力回路に供給される。 データ出力バッ7アDOBは、特に制限されないが、n
+1個の出力回路を含む。これらの出力回路には、上記
リードアンプRAから、対応する相補内部読み出しデー
タ土工」〜drnがそれぞれ供給される。後述されるブ
ロック選択制御回路88CCからタイミング信号φoe
Q〜φoenが、対応する出力回路に供給される。 データ出力バッ7アDOBの各出力回路は、上記タイミ
ング信号φoeQ〜φoenが一時的にハイレベルとさ
れることで、選択的に動作状態とされる。この動作状態
において、データ出力バッ7アDOBの各出力回路は、
対応する上記内部読み出しデータ土工」〜土工」をもと
に、読み出しデータD RO−D Rnを形成し、外部
に送出する。 上記タイミング信号φoeQ〜φoenがロウレベルと
されるとき、データ出力バッファDOBの各出力回路の
出力はハイインピーダンス状態とされる。 タイミング発生回路TGは、外部から供給される反転ク
ロック信号CP及び2イトイネ一ブル信号WEをもとに
、上記タイミング信号j;を形成し、各回路に供給する
。タイミング発生回路TGは、上記ライトイネーブル信
号WEを取り込み、保持する1個の入カラクチを含む。 この人力ラッチは、上述の反転クロック信号CPによっ
てトリガされ、ライトイネーブル信号WEに従って選択
的にセット又はリセツトされる。上述の反転タイミング
信号φWは、この人力ラッチの出力信号に従って選択的
に形成される。 ブロック選択制御回路BSCCは、外部から供給される
ブロック選択信号BKO−BKIをもと罠タイミング信
号φoel〜φoenを形成する。 上記ブロック選択制御回路Bsecは上記ブロック選択
信号BKo〜BKIをラッチするz+i個のラッチ回路
を含む。このラッチ回路は、タイミング発生回路TGか
ら供給される反転クロック信号CPに従って、ブロック
選択信号BKO−BKIを保持する。 上記ブロック選択制御回路BSCCは、上記l+1個の
ラッチ回路の出力信号にもとづいて、タイミング信号φ
oeQ〜φoenを形成する。上記メモリアレーMAR
Yは複数のブロックに分割されていると考えることがで
きる。すなわち、タイミング信号φoeO〜φoenの
内の一部を選択的に一時的にハイレベルとすることで、
データの読み出されるブロックが指示できる。したがっ
て、読み出しデータのbit数が変更可能とされる。 リードアンプ選択回路RASCは、アドレスバッファ回
路ADBから供給される相補内部アドレス信号a□−a
iの一部を受けて、タイミング信号φrO〜φrnを形
成する。リードアンプ選択回路のすべての単位回路を同
時に動作させること又は単位回路の一部のみ動作させる
ことが可能な様に、上記リードアンプ選択回路RA8C
は、その回路形成が選択される。 第3図は、第1図のブロック図を詳細に示している。以
下、本発明が第3図に基づいて説明される。尚、第2図
の説明と重複すると思われる説明は略される。また、第
1図と対応する部分は、第1図と同一の符号が付けられ
ている。さらに、二点鎖線で囲まれた部分は、一つの半
導体基板Subを示しており、上記二点鎖線上に記述さ
れた丸印は、外部端子とみなされる。尚、図中、Vss
は、Ovの様な接地電位又はそれが供給される端子を示
し、Veeは、−5,2Vの様な負電源電位又はそれが
供給される端子を示し、VssOは出力バッファ回路用
のVss電位又はそれが供給される端子を示す。 第3図には、アドレスバッファADB、データ人カバッ
ファDIB、ブロック選択制御回路B8CC及び、タイ
ミング発生回路TG内に含まれた複数の入力ラッチ回路
LT 、 LT 、・・・、LTが図示されている。こ
れらの入力ラッチ回路LT、LT。 ・・・には、タイミング発生回路TGから発生される内
部クロックパルスCPが共通に供給されている。 これらの入力ラッチ回路LT、・・・は共通に入力され
た内部クロックパルスCPのローレベルに応答して、外
部端子を介して外部から入力されるアドレス信号AO−
Ai、9込みデータDwQ−Dwn。 ブロック選択信号BKQ−BKI及びライトイネーブル
信号WEを同時にラッチするよ5に構成される。それぞ
れのラッチ回路LT・・・は、ECLレベルとされたア
ドレス信号A O−A i 1書込デ一タDwO−Dw
n、プOyり選択信号BKO−BK/及びライトイネー
ブル信号WEを保持するために、たとえば、第5図に示
される様なバイポーラECL回路で構成することができ
る。 同図に示されるラッチ回路は、ECLレベルの入力信号
INをベース端子に受けるバイポーラトランジスタT2
1と基準電位Vbb1をベース端子に受けるバイポーラ
トランジスタT 22トヲ含み、それらのトランジスタ
T1及びT2のそれぞれのエミッタ端子は共通接続され
て差動形態とされる。トランジスタT21及びT22の
コレクタ端子と電源端子Vssとの間には、負荷抵抗R
8及びR9がそれぞれ接続され
ば、EeL(エミッタ・カップルド・ロジック)インタ
フェースのバイポーラ・CMOS型RAM(ランダム・
アクセス・メモリ)を基本構成とする論理機能付メモリ
等に利用して特に有効な技術に関するものである。 〔従来技術〕 高速なコンピュータ・システムを構成する場合、一般的
に、中央処理装置(CPU)とメモリ装置間の信号のや
りとりは、ECLレベルの信号が用いられる。ECLレ
ベルの信号は、その信号振幅が0.8vの様な微少振幅
であるため、論理ハイレベル(又ハlk 31 o−レ
ベル)カラi%fk理ローレベル(又は論理ハイレベル
)への変化が短時間に変更可能である。 上記の高速なコンピュータ・システムに使用される高速
な半導体メモリ装置として、バイポーラ型スタティック
RAM(又はECL RAM)が知られ曵いている。 このバイポーラ・RAMはノくイボーラ・トランジスタ
で構成されたメモリセル及び周辺回路を持ち、そして、
入力/出力インタフェースがECLレベルの信号とされ
る。 この様なバイポーラ型スタティックRAMのメモリセル
へデータを高速に書き込むため、外部から供給されるH
CLレベルのアドレス信号及び書込制御信号WEをラッ
チするラッチ回路と、ラッチされた書込み制御信号WE
に基づいて内部書込みパルスを形成する信号形成回路を
有するバイボークスタティック型RAMが日本国 公開
特許公報62−250583に示されている。 最近、バイボー2・トランジスタとCMOS(相補型M
O8)回路とを組合せて構成された半導体メモリ装置が
さかんに開発されている。米国特許第4,713,79
6は、バイボー2゛・トランジスタと0M08回路とに
よって構成されたスタティック型RAMを示している。 狭止ら”13ns。 500mW、64−kbit ECL RAMユ−
ジンク ハイ−バイシーモス テクノロジー(アイ・イ
ー・イー・イー ジャーナル オブ ソリッド−ステイ
ト サーキット、ポル、ニスシー21゜ナンバー5.オ
クト−バー1986 ppssx−pp685)13
ns、 500mW、64−kbi tECL R
AM U8ING Hi−BiCMO8T6chn
ology”(IEEE Journal 0FS
OLID−8TATE circuits、VOL
8C−21,N15,0ctober 1986
pp681−685 )は、ECL I10信号イン
ターフェイスのバイポーラCM OSスタティック型R
AMを示している。また、橘用゛アン エクスベリメン
タル1−Mビット バイシーモス デイ−ラム”(アイ
・イー・イー・イー ジャーナル オブソリッドーステ
イト サーキット、ポル、ニスシー22.ナンバー5.
オクト−パー1987pp657−I)p661 )A
n E x p e r i m e n t a
1 1Mbit BiCMO8DRAM″(IEEE
JournalOF 5OLID−8tate C
IRCUITS、VOLSG−22,電5,0ctob
er 1987 pp657−661)は、バイポ
ーラと0MO8とを用いたダイナミック型RAMを示し
ている。これらのスタティック型RAM及びダイナミッ
ク型RAMはそのメモリセルが0MO8技術によって形
成されているため、低消費電力化、高集積化、大容量化
されており、その周辺回路がバイポーラと0M08回路
との組合せによって形成されるため低消費電力化、高速
化されている。 前述した様にECL I10信号インターフェイスの
半導体メモリは、コンピータ・システムの高速化に有利
であり、上述のバイポーラ・0MO8技術による半導体
メモリもECL I10信号インターフェイスとする
ことが望ましい。実際、狭止らによって発表された上記
論文はECL 110信号インターフェイスのバイポ
ーラ・CMOSスタティック型RAMを開示している。 ここで注目すべきは、バイポーラ・0MO8技術による
スタティック型RAMは内部のメモリセルが0MO8技
術によって構成されるため、ECLレベルの入力信号を
MO8レベルの内部信号、すなわち、回路の電源電圧と
ほぼ等しい信号振幅を持つところの信号レベルの内部信
号に変換する必要が生じてくることである。 一方、コンピュータ・システムの高速化にともない、そ
のコンピュータ・システムに利用される半導体メモリ装
置はその書き込みサイクルタイムや読出しサイクルタイ
ムが短縮化される。そのため、セントラルグロセッシン
グ・ユニットなどから半導体メモリ装置に入力されるE
CLレベルの制御信号たとえば、書込制御信号WE、に
対する種々のタイミング条件は実現困難なものとなりつ
つある。 〔発明が解決しようとする原題〕 本発明者らは、上記にかんがみてバイボー2・CMO8
型RAMを含みかつ、高速コンピュータ・システムに適
用可能な論理機能付メモリを検討しさらに高速化すべく
、検討を行なって、下記に示す問題があることを明らか
にした。 すなわち、本発明者らが検討したバイポーラ・CMO8
型RAMを基本構成とする論理機能付メモリでは、外部
から入力される書き込み制御信号すなわちライトイネー
ブル信号WEが、そのまま書き込みパルスとしてライト
アンプに供給される。 したがって、ライトイネーブル信号WEは、ライトアン
プが安定して動作できるだけのパルス幅を有し、かつア
ドレス信号や入力書き込みデータ等に対して所定のセッ
トアツプ時間及びホールド時間を有する必要がある。ラ
イトイネーブル信号WEに対するこれらのタイミング条
件は、論理機能付メモリが高速化されそのサイクルタイ
ムが短縮化されるにともなって次第に厳しくなり、実現
困難なものとなることがわかった。このため、本願発明
者等は、さらにその入力動作をクロック信号によって同
期化し、上記タイミング条件を満足する書き込みパルス
を内部で自律的に形成する論理機能付メモリを開発した
。第2図には、本発明者らが開発したところの論理機能
付メモリの一部が示されている。 この論理機能付メモリにおいて、外部から供給されるラ
イトイネーブル信号WEは、第2図に示されるように、
アドレス信号や入力書き込みデータ等と同時に反転クロ
ック信号CPK従って入力ラッチBF2に取り込まれる
ようにされる。入力ラッチBF20反転出力信号weは
、バイポーラトランジスタからなるノアゲート回路BG
IKよって反転クロック信号CPの遅延信号すなわち反
転遅延クロック信号dcpと負論理で論理積がとられる
。セしてECLレベルの反転内部信号wcが形成される
。このECLレベルの反転内部信号71は、MO8電流
ミラー回路を含むレベル変換回路LCによっ−C0MO
8(相補型MO8)レベルにレベル変換されて内部信号
m w cが形成される。そして、その内部信号m w
cは、CMO8論理回路を含む書き込みパルス発生回
路WPGに供給される。書き込みパルス発生回路WPG
は、内部信号mwcにもとづいて、上記タイミング条件
を満足するCMOSレベルの書き込みパルスすなわち反
転タイミング信号φWを形成し、それをライトアンプW
Aに供給する。 ところが、論理機能付メモリの動作が高速化されるKし
たがって、上記のようなパルス発生回路には次のような
問題点が発生することが、本願発明者等によって明らか
とされた。すなわち、タイミング発生回路TGに供給さ
れる反転クロック信号CPは、論理機能付メモリが高速
化されるのにともなって、ECL回路の動作限界によっ
て達成される程度に、その周期は短くされ、そのノ(ル
ス幅は狭くされる。また、反転クロック信号CPのパル
ス幅が狭くされることで、それにもとづいて形成される
反転内部信号Wτのパルス幅も狭くされる。このため、
MO8電流ミラー回路からなるレベル変換回路LCは、
上記反転内部信号Wτに追随して所定の0MO8レベル
を持つ内部信号m w cを形成することが困難となる
。 すなわち、レベル変換回路LCが内部信号Wτに応答し
て、レベル変換を行なっている途中に、内部信号wcの
信号レベルは変化してしまう。したがって、レベル変換
回路LCは、十分にレベル変換された信号mwcを形成
することなく、そのレベル変換動作が中断されてしまう
。その結果、内部信号mwcに応答する賽き込み)(ル
ス発生回路WPGも上記タイミング条件に適合した書き
込みパルスを形成できなくなってしまう。したがって、
論理機能付メモリの書き込み動作が正常に行われず、そ
の信頼性が損なわれる。 さらに、上記の様な書込みパルス発生回路には、次のよ
うな問題点があることが、本願発明者等によって明らか
とされた。すなわち、上記書き込みパルス発生回路WP
Gに含まれる遅延回路の遅延時間は、製造プロセスに影
響される。また、書き込みパルスに従ってその書き込み
動作が行われるところのメモリセルの特性も、同様に製
造プロセスによって影響される。このため、上記遅延回
路の遅延時間は、論理機能付メモリの開発過程において
、メモリセルの動作特性を参照して決定される。しかし
、実際には、遅延回路の遅延時間及びメモリセルの特性
は、製造プロセスのバラツキに対して、異なる特性を示
す。そのため、書き込みパルスのタイミングマージンを
予め大きく設定する必要があり、結果的に論理機能付メ
モリの高速化が妨げられてしまう。また、これを防止す
るため、上記遅延回路の遅延時間を、製品ごとにメモリ
セルの動作特性に合わせて設定しようとすると、遅延時
間の測定やメモリセルの動作特性の判定に多くの試験工
数を要し、論理機能付メモリの低コスト化が妨げられる
。 この発明の目的は、高速な書き込み動作が実行できる半
導体メモリ装置を提供することにある。 この発明の他の目的は、BCL−CMOSレベル変換回
路を含むパルス発生回路の動作を安定化をすることにあ
る。 この発明の他の目的は、上記のようなパルス発生回路を
含む論理機能付メ七り等の誤動作を防止することにある
。 この発明の他の目的は、書き込みパルスのパルス幅をメ
モリセルの動作特性に対応して効率的に設定できる書き
込みパルス発生回路を提供することにある。 この発明の他の目的は、上記のような書き込みパルス発
生回路を含む論理機能付メモリ等の高速化と低コスト化
を図ることにある。 〔課題を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。 すなわち、極めてパルス幅の狭いクロック信号又はそれ
に従って形成される内部信号のパルス幅をパルス拡幅回
路によって拡張した後、そのパルス幅の拡大された内部
信号をレベル変換回路に供給するものである。 また、メモリアレイ内にメモリセルと同様にラッチ形態
とされるダミーセルを設け、上記ダミーセルと上記ダミ
ーセルの出力信号に従ってそのリセット信号を形成する
遅延回路とによって書込パルス発生回路を構成する。そ
して上記遅延回路の遅延時間の設定は上記ダミーセルの
動作特性を参照して決定する。 〔作用〕 上記した手段によれば、レベル変換回路は、パルス幅の
拡大された内部信号に応答して、そのレベル変換動作を
行なう。したがって、パルス幅の拡大分だけレベル変換
動作時間が増大する。そのため、レベル変換回路が十分
に内部信号のレベル変換を行なった後、供給されている
内部信号のレベルが変化されることになる。その結果上
記内部信号の信号レベルをレベル変換回路によって確実
に所定の信号レベルに変換できる。そのため、例えば書
き込みパルス発生回路等の動作が安定化され、このよう
な書き込みパルス発生回路を含む論理機能付メモリ等の
誤動作を防止することができる。 書き込みパルス発生回路から出力される書き込みパルス
のパルス幅は、メモリセルの動作特性と同様な動作特性
を有するラッチ形態のダミーセルのその動作特性を参照
して決定される。言い換えるならば、書き込みパルスの
パルス幅は、製品ごとのメモリセルの動作特性に対応し
て効率良(設定することが可能とされる。これにより、
メモリセル特性の特性判定や遅延回路の遅延時間測定な
どの試験工数が削減でき、論理機能付メモリの低コスト
化を図ることができる。さらに書き込みパルスのパルス
幅はメモリセルの動作特性に従って最適化され、そのタ
イミングマージンは縮小されるので論理機能付メモリの
高速化が図ることができる。 〔実施例〕 第1図には、この発明が適用された論理機能付メモリの
一実施例の簡単なブロック図が示されている。この実施
例の論理機能付メモリは、特に制限されないが、バイポ
ーラ・CMO8型RAMを基本構成とし、ラッチ回路な
どの論理部を含む。 第1図の各ブロックを構成する回路素子は、論理機能付
メモリの論理部を構成する回路素子とともに、単結晶シ
リコンのような1個の半導体基板Sub上に形成される
。 この実施例の論理機能付メモリには、特に制限されない
が、外部から、i+1ビットのアドレス信号AO〜Ai
とn+xビットの書き込みデータDWO〜DWn及びラ
イトイネーブル1号(書き込み制御信号)WEが供給さ
れる。論理機能付メモリには、さらに外部から所定の周
期の反転クロック信号CPが供給される。論理機能付メ
モリは、この反転クロック信号CPに従って、上記アド
レス信号A Q −A i 、書き込みデータDWO〜
DWn及びライトイネーブル信号WEを対応する入力ラ
ッチに取り込む。つまり、この実施例の論理機能付メモ
リの入力動作は、反転クロック信号CPに従って同期化
される。タイミング発生回路TGは、さらに対応する入
力ラッチに取り込まれたライトイネーブル信号WEをも
とに、所定のタイミング条件を満足する書き込みパルス
すなわち反転タイミング信号φWを形成するための書き
込みパルス発生回路WPGを含む。尚、入力ラッチ、及
び書き込みパルス発生回路WPGは、後に、詳細に説明
される。 この実施例の論理機能付メモIJ において、上記ライ
トイネーブル信号WE及び反転クロック信号CP等は、
前述のように、ECLレベルとされ、書き込みパルス発
生回路WPGから出力される反転タイミング信号φWは
、0MO8レベルとされる。また、上記反転クロック信
号CPは、そのパルス幅がECL回路の動作限界によっ
て達成される程度に極めて狭くされる。たとえば、その
パルス幅は1.lns程度にされる。このため、反転ク
ロック信号CPは、パルス拡幅回路PWEによってその
ECLレベルは変更されることなくそのパルス幅が2m
s程度に拡張された後、ライトイネーブル信号WEと組
み合わせられることによってECLレベルの内部信号が
形成される。この内部信号は、後述されるレベル変換回
路LCによって0M08レベルに変換された後、上記書
き込みパルス発生回路WPGに伝達される。これにより
、レベル変換回路LC及び書き込みパルス発生回路WP
Gの動作が安定化され、論理機能付メモリの誤動作が防
止される。 第1図において、メモリプレイMA几Yは、同図の垂直
方向に平行して配置される複数本のワード線と、水平方
向に平行して配置される複数組の相補データ線対及びこ
れらのワード線と相補データ線対に結合された複数個の
メモリセルを含む。 メモリプレイMARYを構成するワード線は、アドレス
デコーダADに結合され、択一的に選択状態とされる。 アドレスデコーダADには、後述するアドレスバッファ
ADBから非反転内部アドレス信号aQ〜ai及び反転
内部アドレス信号aO〜aiが供給される。 上記非反転及び反転内部アドレス信号aQ〜”+aO−
aiは以後、相補内部アドレス信号aO−atとして示
される。 アドレスデコーダADは、その動作状態において、上記
相補内部アドレス信号aO〜aiをデコードし、メモリ
アレイMARYの対応するワード線を択一的に・・イレ
ベルの選択状態とする。 アドレスバッファADBは、n+1個の入力ラッチを含
む。これらの入力ラッチには、タイミング発生回路TG
からタイミング信号cpが共通に供給される。 アドレスバッファADBの各入力ラッチは、上記タイミ
ング信号υに従って、アドレス信号Ao−−Aiを取り
込み、保持する。また、これらのアドレス信号A Q
−A iをもとに1上記相補内部アドレス信号l」〜す
を形成し、アドレスデコーダADに供給する。 一方、メモリアレイMARYを構成する複数の相補デー
タ線は、対は複数グループに分割され、それぞれのグル
ープに含まれる相補データ線対は、ライトアンプWAの
対応する単位回路及びリードアンプRAの対応する単位
回路にそれぞれ結合される。 ライトアンプWAは、特に制限されないが、n+1個の
単位回路を含む。これらの単位回路には、後述するデー
タ入カパッ7アDIRから対応する相補内部書き込みデ
ータd W Q −”−d W nがそれぞれ供給され
る。また、タイミング発生回路TGから書き込みパルス
すなわち反転タイミング信号φWが共通に供給される。 反転タイミング信号φWは、後述するように、論理機能
付メモリが非選択状態とされるときハイレベルとされ、
論理機能付メモリが選択状態とされるとき、上記ライト
イネーブル信号WEがハイレベルであることを条件に、
所定のタイミングで一時的にロウレベルとされる。 ライトアンプWAの各単位回路は、上記反転タイミング
信号φWがロウレベルとされることで、選択的に動作状
態とされる。この動作状態において、ライトアンプWA
の各単位回路は、データ入力バッファDIRから供給さ
れる相補内部書き込みデータaw□〜dwnに従った相
補書き込み信号を形成し、メモリアレイMA几Yの対応
する相補データ線に供給する。これらの書き込み信号は
、対応する相補データ線を介して、メモリアレイMAR
,Yの選択されたワード線に結合されるn+1個のメモ
リセルにそれぞれ伝達される。 データ人力バッファDIBは、n+1個の入力ラッチを
含む。これらの入力ラッチには、タイミング発生回路T
Gから上述のタイミング信号iが共通に供給される。 データ人力バッフ、DIBの各人力ラッチは、上記タイ
ミング信号Iに従って、外部から供給される書き込みデ
ータD W O−D W nを取り込み、保持する。ま
た、データ人力バッファDIBは、これらの書き込みデ
ータDWO〜DWnをもとに、上記相補内部書き込みデ
ータd w O%−d w nを形成し、ライトアンプ
WAの対応する単位回路にそれぞれ供給する。 リードアンプB、Aは、n+1個の単位回路を含む。そ
れぞれの単位回路には、後述されるリードアンプ選択回
路RASCがらタイミング信号φr1〜φrnがそれぞ
れ供給される。 リードアンプRAの各単位回路は、対応する上記タイミ
ング信号φr1〜φrnがハイレベルとされることで、
選択的に動作状態とされる。この動作状態において、リ
ードアンプ几Aの各単位回路は、メモリアレイMARY
の選択されたワード線に結合されるn+1個のメモリセ
ルかも対応する相補データ線を介して出力される読み出
し信号を増幅し、相補内部読み出しデータdrO−dr
nを形成する。これらの相補内部読み出しデータ先玉」
〜drnは、後述するデータ出力バッ7アDOBの対応
する出力回路に供給される。 データ出力バッ7アDOBは、特に制限されないが、n
+1個の出力回路を含む。これらの出力回路には、上記
リードアンプRAから、対応する相補内部読み出しデー
タ土工」〜drnがそれぞれ供給される。後述されるブ
ロック選択制御回路88CCからタイミング信号φoe
Q〜φoenが、対応する出力回路に供給される。 データ出力バッ7アDOBの各出力回路は、上記タイミ
ング信号φoeQ〜φoenが一時的にハイレベルとさ
れることで、選択的に動作状態とされる。この動作状態
において、データ出力バッ7アDOBの各出力回路は、
対応する上記内部読み出しデータ土工」〜土工」をもと
に、読み出しデータD RO−D Rnを形成し、外部
に送出する。 上記タイミング信号φoeQ〜φoenがロウレベルと
されるとき、データ出力バッファDOBの各出力回路の
出力はハイインピーダンス状態とされる。 タイミング発生回路TGは、外部から供給される反転ク
ロック信号CP及び2イトイネ一ブル信号WEをもとに
、上記タイミング信号j;を形成し、各回路に供給する
。タイミング発生回路TGは、上記ライトイネーブル信
号WEを取り込み、保持する1個の入カラクチを含む。 この人力ラッチは、上述の反転クロック信号CPによっ
てトリガされ、ライトイネーブル信号WEに従って選択
的にセット又はリセツトされる。上述の反転タイミング
信号φWは、この人力ラッチの出力信号に従って選択的
に形成される。 ブロック選択制御回路BSCCは、外部から供給される
ブロック選択信号BKO−BKIをもと罠タイミング信
号φoel〜φoenを形成する。 上記ブロック選択制御回路Bsecは上記ブロック選択
信号BKo〜BKIをラッチするz+i個のラッチ回路
を含む。このラッチ回路は、タイミング発生回路TGか
ら供給される反転クロック信号CPに従って、ブロック
選択信号BKO−BKIを保持する。 上記ブロック選択制御回路BSCCは、上記l+1個の
ラッチ回路の出力信号にもとづいて、タイミング信号φ
oeQ〜φoenを形成する。上記メモリアレーMAR
Yは複数のブロックに分割されていると考えることがで
きる。すなわち、タイミング信号φoeO〜φoenの
内の一部を選択的に一時的にハイレベルとすることで、
データの読み出されるブロックが指示できる。したがっ
て、読み出しデータのbit数が変更可能とされる。 リードアンプ選択回路RASCは、アドレスバッファ回
路ADBから供給される相補内部アドレス信号a□−a
iの一部を受けて、タイミング信号φrO〜φrnを形
成する。リードアンプ選択回路のすべての単位回路を同
時に動作させること又は単位回路の一部のみ動作させる
ことが可能な様に、上記リードアンプ選択回路RA8C
は、その回路形成が選択される。 第3図は、第1図のブロック図を詳細に示している。以
下、本発明が第3図に基づいて説明される。尚、第2図
の説明と重複すると思われる説明は略される。また、第
1図と対応する部分は、第1図と同一の符号が付けられ
ている。さらに、二点鎖線で囲まれた部分は、一つの半
導体基板Subを示しており、上記二点鎖線上に記述さ
れた丸印は、外部端子とみなされる。尚、図中、Vss
は、Ovの様な接地電位又はそれが供給される端子を示
し、Veeは、−5,2Vの様な負電源電位又はそれが
供給される端子を示し、VssOは出力バッファ回路用
のVss電位又はそれが供給される端子を示す。 第3図には、アドレスバッファADB、データ人カバッ
ファDIB、ブロック選択制御回路B8CC及び、タイ
ミング発生回路TG内に含まれた複数の入力ラッチ回路
LT 、 LT 、・・・、LTが図示されている。こ
れらの入力ラッチ回路LT、LT。 ・・・には、タイミング発生回路TGから発生される内
部クロックパルスCPが共通に供給されている。 これらの入力ラッチ回路LT、・・・は共通に入力され
た内部クロックパルスCPのローレベルに応答して、外
部端子を介して外部から入力されるアドレス信号AO−
Ai、9込みデータDwQ−Dwn。 ブロック選択信号BKQ−BKI及びライトイネーブル
信号WEを同時にラッチするよ5に構成される。それぞ
れのラッチ回路LT・・・は、ECLレベルとされたア
ドレス信号A O−A i 1書込デ一タDwO−Dw
n、プOyり選択信号BKO−BK/及びライトイネー
ブル信号WEを保持するために、たとえば、第5図に示
される様なバイポーラECL回路で構成することができ
る。 同図に示されるラッチ回路は、ECLレベルの入力信号
INをベース端子に受けるバイポーラトランジスタT2
1と基準電位Vbb1をベース端子に受けるバイポーラ
トランジスタT 22トヲ含み、それらのトランジスタ
T1及びT2のそれぞれのエミッタ端子は共通接続され
て差動形態とされる。トランジスタT21及びT22の
コレクタ端子と電源端子Vssとの間には、負荷抵抗R
8及びR9がそれぞれ接続され
【いる。上記トランジス
タT21及びT22のコレクタ端子には、さらに差動形
態とされたバイポーラトランジスタT24及びT25の
コレクタ端子がそれぞれ接続されている。そして、上記
トランジスタT21及びT22の共通エミッタ端子及び
上記トランジスタT24及びT25の共通エミッタ端子
には、差動形態とされたバイポーラトランジスタT23
及びT26のコレクタ端子がそれぞれ結合されている。 さらK、上記トランジスタT23及びT26の共通エミ
ッタ端子と電源端子Veeとには、電流源C81が接続
されている。上記トランジスタT23のベースには、基
準電位vbb2が供給され、上記トランジスタ’I’2
6のベースには、内部反転クロックパルスCPが供給さ
れている。上記トランジスタT21のコレクタにはさら
に、バイポーラトランジスタT27及び電流源C82を
含む第1エミッタフォロワー回路及びバイポーラトラン
ジスタT29及び負荷抵抗RIOを含む第1エミッタ7
オロワー出力回路が接続されている。 一方、トランジスタT22のコレクタには、さらに、バ
イポーラトランジスタT2B及び電流源C83を含む第
2エミッタフォロワー回路及びバイポーラトランジスタ
T30及び負荷抵抗R11を含む第2エミッタフォロワ
ー出力回路が接続されている。上記第1及び第2エミッ
タフォロワー回路の出力は、トランジスタT25及びT
24のペース端子にそれぞれ供給されている。すなわち
、トランジスタT21のコレクタ端子の電位はトランジ
スタT27を介して、トランジスタT250ペース端子
に供給される。トランジスタT22のコレクタ端子の電
位は、トランジスタT28を介して、トランジスタT2
4のペース端子に供給される。そして、トランジスタT
29及びT2Oのエミッメ端子から入力信号INに対し
て反転されたECLレベルの出力信号π及び入力信号I
Nと同相のECLレベルの出力信号outがそれぞれ出
力される。 内部反転クロックパルスCPのレベルが基準電位Vbb
1のレベルより高い時、上記トランジスタT26が動作
状態とされ、上記トランジスタT24及びT25からな
る差動回路に動作電源が供給される。一方、内部反転ク
ロックパルスCPのレベルが基準電位Vbb1のそれよ
り低くされる時、上記トランジスタT23が動作状態と
され、上記トランジスタT21及びT22からなる差動
回路に動作電源が供給される。したがって、クロックパ
ルスCPのレベルがローレベルトサレタ時、上記トラン
ジスタT21又はT22のいずれか一方が上記入力信号
INのレベル応答して、動作状態とされることによって
、入力信号INが、上記トランジスタT21及びT22
か、らなる差動回路にラッチされる。一方クロックパル
スCPのレベルがハイレベルとされた時、上記トランジ
スタT21及びT22にラッチされたデータが上記トラ
ンジスタT24及びT25にラッチされる。 尚、第5図に示されたラッチ回路は、非反転及び反転出
力信号out及びoutを出力できる構成について示し
ている。しかし、上記トランジスタT29及び抵抗RI
O又は上記トランジスタ’I’30及び抵抗Allのい
ずれか一方を削除することによって、第3図に示される
ような単一出力の入力ラッチ回路LTが構成できること
は、容易に理解できるであろう。 第3図に示される7ドレスバツフアADBは、さらK、
対応するラッチ回16LT・・・の出力信号AO〜Aj
を受けて非反転及び反転内部アドレス信号a O+ a
O*・・・ai、aiを形成するためのバッファ回路
BC・・・を含む。各々のバッファ回路BC・・・は、
一般的なECL回路によって構成することが高速化の為
に有利である。 アドレスデコーダADは、アドレスバッフ7ADHから
供給される非反転及び反転内部アドレス信号aQ 、
aQ 、・・・ai、aiを受け、それをデコードする
ことによって、後述される複数のメモリセルの中から入
力されたアドレス信号に従う1つ又はそれ以上のメモリ
セルな選択するための選択信号を形成する。このアドレ
スデコーダADは、ECL回路及びワイヤードOR論理
によって形成されたデコーダ部DEC,バイポーラ・0
M08回路によっ【構成されたレベル変換部LECと0
M08回路又はバイポーラ・0M08回路によって構成
されたドライバ部を基本的に含む。このデコーダ部DE
Cは、アドレスバッンア人DBから供給されるECLレ
ベルの内部アドレス信号なECLレベルのままでデコー
ドする。そして、デコードされたECLレベルの内部信
号は、レベル変換部LECKよってECLレベルから0
MO8レベルに変換される。そして、0MO8レベルに
変換された信号がドライバ一部DRに供給される。 したがって、アドレスデコーダADのデコード時間は、
デコーダ部が高速なECL回路によって構成される為、
短時間にされる。 メモリアレイは複数のメモリマットMATo。 MAT! 、MAT2 、 ・”、MATn7C分割さ
れており、それぞれが同一な構成とされる。同図には、
メモリマットMATOの構成が例示的に示されている。 メモリマットMATOは複数のメモリセルMCそれらの
メモリセルに結合されたワード、IIWI〜Wn及び相
補データ線対Do 、 Do 、 =Dn 、 Dnを
含む。結合的に、1つのメモリセルMCは1本のワード
線と一対の相補データ線対に結合される。 メモリマットMATOはさらに、共通データ線対CDL
O、CDLO及び、上記共通データ線対CDLo 、C
DLoと相補データ線対Do 、DO。 −°°Dn、Dnとの間にそのソースドレインパスが接
続された選択MO8FBTYso、Yso・・・Ysn
。 Ysnを含む。同図に示される様に、相補データ各のゲ
ート電極は、共通接続されるとともに1上記アドレスデ
コーダADの出力端子に結合される。 上記アドレスデコーダADは、アドレス信号に従って、
択一的に選択状態とされる選択信号Y1・・・Ynを対
応する選択MO8FETYsO,YsO。 ・・・Ysn、Ysnのゲート電極に供給する。したが
って、メモリマットMATO内の一つのメモリセルの選
択は、1つのワード線と1対の選択MO8PETをアド
レスデコーダADによって選択することによって、行な
うことができる。 メモリマットMATOを構成する各メモリセルは、特に
制限されないが、スタティック型メモリセルとされる。 すなわち、第3図に例示的に示される様に、メモリセル
の入出力ノードは、Nチャネル型の伝送ゲートMO8F
ETtrl及びtr2のソース・ドレインパスを介して
、対応する相補データ線対Do 、Doに結合される。 上記伝送ゲ−)MO8PETtrl及びtr2のゲート
電極はワード線W1に結合される。メモリセルは、さら
K、そのドレインとゲートとが交差結合され、そのソー
スが電極端子Veeに結合されたNチャネル型の一対の
駆動MO8FETdl及びd2と、上記駆動MO8FE
Tdl及びd2のそれぞれのドレインと電源端子Vss
と間に結合された負荷抵抗RLI及びRL2を含む。こ
の負荷抵抗R,Ll及びRL2は、高抵抗値とされた多
結晶シリコンで形成することができる。また、この負荷
抵抗RLI及びRL2は一対Pチャネル型のMOSFE
Tで形成することもできる。この場合、負荷抵抗RLI
(RL2)を構成するPチャネル型のMOSFETと駆
動MO8FETdrl(dr2)の各々のゲート電極は
共通接続されて、一つのCMOSインバータが形成され
る。 上記データ入力バッ7アDIBは、n−)−1個の入力
ラッチ回路LT・・・とn+1個の入力ラッチ回路LT
・・・から出力されるECLレベルの出力信号を受ける
n+1個のバッフアゲ−)BGを含む。 各々のバッファゲートBGは、ECL回路又はバイポー
ラ・0M08回路で構成することができる。 バッファゲートBGをECL回路で構成する場合、デー
タ人カバッ7アDIBもしくはライトアンプWAのいず
れかにBi−0M08回路によって形成されたECL−
CMOSレベル変換回路を含ませる必要がある。 上記バッファグー)BGは、入力ラッチ回路LT。 ・・・から出力された出力信号を受けて、相補内部書き
込み信号d w Q −d w Qを形成し、後述され
るライトアンプWAに供給する。上記相補内部書き込み
信号0副〜dwQはそれぞれ、非反転及び反転内部書き
込み信号dwQ、dwo□−dwn、dwnとして図示
される。 ライトアンプWAはn + 1個のライトアンプ回路W
AO〜WAnを含む。各ライトアンプ回路WA O=W
A nはデータ人カバ、7TDIB内の対応するバッフ
アゲ−)BGかも供給される非反転及び反転内部書き込
み信号dwQ、dw□−dwn。 dwnを受ける。各ライトアンプ回路WAO〜WAnの
出力端子は、各メモリマットMATQ〜M A T n
内に設けられた共通データ線対(CDLO。 CDLO)に結合される。それぞれのライトアンプ回路
WA O=WA nはタイミング発生回路TGから供給
されるCMOSレベルのライトパルスφWヲ共通に受け
、ローレベルのライトパルスφWに応答して動作状態と
される。 各ライトアンプ回路WAO−WAnは、0M08回路に
よって構成され、入力される非反転及び反転内部書込み
信号dwQ、dwO−dwn、dwnのレベルに対応す
る様に共通データ線対(CDLO。 CDLO)のレベルをCMOSレベルのハイレベル及ヒ
ローレベル、又はCMOSレベルのローレベル及びハイ
レベルに変化させる。メモリマットMATOのワード線
1及びデータ線対DO,D。 に結合されたメモリセルにデータが書き込まれる場合、
アドレスデコーダADはワードW1を選択レベルとする
とともに、選択レベルとされた選択信号Y1を発生し、
選択MO8FETYsO,Ys0がオン状態とされる。 したがって、ライトアンプWA OKよって変化された
共通データ線対CDLo。 CDLoの電位が相補データ線対Do 、DOに伝達さ
れる。一方、メモリセルMCの伝送MO8FETtrl
及びtr2はオン状態とさせられているため、相補デー
タ線対Do 、DO上の電位は、メモリセルMCの記憶
ノードに伝送される。その結果、駆動MO8FETd
1 、d 2のオン及びオフ状態又はオフ及びオン状態
が決定され、データがメモリセルMCK書きこまれる。 ライトアンプRAは、各メモリマットMATO〜MAT
nK対応し【設けられたライトアンプ回路RAQ−RA
nを含む。第3図には、ライトアンプ回路RAOが詳細
に示されており、他のライトアンプ回NRA1−RAO
も同様な構成とされる。 ライトアンプ回路RAoは、そのエミッタが共通接続さ
れた差動バイポーラトランジスタdbl及びab2と、
その共通エミッタと電源端子Veeとの間にそのソース
・ドレインパスが結合された電流供給用MO8FETC
5Mとを含む。ライトアン7’RA Oは、さらに、上
記トランジスタdblのベースと共通データ線CDLO
との間に設けられたレベルシフト用バイポーラトランジ
スタLSBz及びレベルシフト用ダイオードD1、及び
、上記トランジスタdb2のベースと共通データ、1l
cDL Oとの間に設けられたレベルシフト用バイポー
ラトランジスタL8B2及びレベルシフト用ダイオード
D2を含む。上記MO8FETc、、の制御の為に、上
記MO8FETcsxのゲートと電圧源VIEとの間に
そのソース・ドレインパスが結合されたスイッチ用MO
8FET3wが設けられる。 上記M08FETswのゲートには、リードアンプ選択
回路RASCかも供給されるタイミング信号(選択信号
)φrOが供給される。差動バイポーラトランジスタd
bl及びdb2はセンスアンプとみなされ、そのコレク
タはデータ出力中間アンプDOIAOに結合される。デ
ータ出力中間アン7’DOIAOは、センスアンプから
の相補出力信号C1Cを増嘱し、データ出力バッファD
OBへ供給する。メモリマットMATOからデータを読
み出す場合、上記タイミング信号φrOがハイレベルと
され、上記MO8FETswがオン状態とされる。それ
によって、電圧源VIEの電位がMO8FETcs、の
ゲートに供給されて、そのMO8FETcs、がオン状
態とされる。それによって、動作電流が差動バイポーラ
トランジスタdbl及びdb2に供給される。その状態
において、差動バイポーラトランジスタab1及びdb
2はレベルシフトされた共通データ線対CDLO。 CDLO上の電位をそのベース端子に受ける。上記共通
データ線対CDLO、CDLOの電位は読み出されるべ
きデータに対応してハイレベル及びローレベル又はロー
レベル及びハイレベルトサしているため、ハイレベルの
電位をベースに受ける差動トランジスタがオン状態とさ
れ、他方の差動トランジスタがオフ状態とされる。デー
タ出力中間アンプDOIAOは差動トランジスタdbl
及びab2のコレクタ出力を増憎し、相補内部読出し信
号drQ、droを形成する。上記相補内部読出し信号
drc、droはデータ出力バッファDOBK供給され
、それが動作状態とされていることを条件として、読出
しデータDROとしてチップ外部に出力される。 上記データ出力バッファDOBは、各リードアンプ回路
RA O= RA nから出力される相補内部読出し信
号dro、drO−drn、drnをそれぞれ受ける出
力バッファ回路DB・・・を含む。上記出カバソファ回
路DB・・・は、それぞれ、タイミング信号φoeQ〜
φoenによりて、その動作状態が制御される。各々の
出力バッファ回路DBは、第9図に示される回路構成と
することができる。すなわち、出力バクファ回路DBは
、相補内部読出し信号drQ、drQをそのベースに受
ける差動形態のバイポーラトランジスタT36及びT3
7、上記トランジスタT37のエミッタ・コレクタパス
と並列接続されたエミッタ・コレクタパスヲ持つバイポ
ーラトランジスタT38、上記トランジスタT26及び
T27のコレクタと電源端子Vssとの間に設けられた
負荷抵抗R15及びR16、及び上記トランジスタT3
6及びTa2の共通エミッタと電源端子Veeとの間に
結合された電流源C86とを含む。上記トランジスタT
38のベースは、インバータ回路INVを介してタイミ
ング信号φoeQを受けるようにされる。上記出力バッ
ファ回路DBは、さらに、出力バイポーラトランジスタ
T39を含む。上記出力トランジスタ’1’390ベー
スは上記負荷抵抗R16と上記トランジスタT37のコ
レクタの接続点に結合される。 さらに上記出力トランジスタT39のコレクタは電源端
子Vssoに、そのエミッタは外部出力端子Extに結
合される。すなわち、上記出力トランジスタはオープン
エミッタ出力トランジスタとされる。 上記タイミング信号φOeOがローレベルとされること
によって、コントロールトランジスタT38はオン状態
とされる。したがって、上記出力トランジスタT390
ベース電位は低下し、その出力トランジスタT39はオ
フ状態とされる。 そのため、出力トランジスタT39のエミッタ電位は外
部設けられたプルダウン抵抗(図示せず)によって、は
ぼ回路の接地電位Veeの様な値にされる。一方、上記
タイミング信号φoeQがハイレベルとされることによ
ってコントロールトランジスタT38はオフ状態とされ
る。この時、リードアンプ回路RAOから供給される内
部読出し信号d w O及ヒd w □のハイレベル及
びローレベル又はローレベル及びハイレベルに応答して
、トランジスタT36及びTa2の動作状態が決定され
る。 出カド2ンジスタT36がオン状態とされるとき、上記
外部端子Extの電位は電源端子Vssoから供給され
る回路の電源電位Vssの様なハイレベルとされる。一
方、出力トランジスタT39がオフ状態とされる場合は
、上記で示される様に、外部端子Extの電位は回路の
接地電位Veeの様なローレベルとされる。以上の様に
して、読出しデータDROが読み出される。 上記ブロック選択制御回路B8CCは几+1個の入力ラ
ッチ回路LT及びそれらのラッチ回路LTの出力信号b
kQ〜bklが供給される論理回路LOGICCKTを
含む。上記論理回路LOGICCKTは、更にアドレス
バッファ回路ADHから供給される所定の内部アドレス
信号axを受けて、タイミング信号φoeo〜φoen
を出力する。上記論理回路LOGICCKTは、入力ラ
ッチ回路に2ツチされた内部ブロック選択信号bkO〜
bkl及び内部アドレス信号axにもとづいて、同時に
動作状態とされるべき出力バッファ回路DBを判別し、
その動作状態とされるべき出力バッファ回路DBに一時
的にハイレベルとされるタイミング信号を送出する。上
記タイミング信号φoeQ〜φoenは一種の出力バッ
ファ回路選択信号とみなされる。このブロック選択制御
回路B8CCは、出力されるべき読出しデータのbit
数の細かい制御のために設けられている。それによって
、この半導体メモリの汎用性が拡大される。 上記リードアンプ選択回路RASCは、アドレスバクフ
ァADBから出力される内部アドレス信号aQ、aQ・
・・an 、anの内の所定の内部アドレス信号ayを
受けて、メモリセルに保持されたデータが読み出される
べきメモリマットMATO〜MATnに結合されたリー
ドアンプ回路RAO−RAnを動作状態とさせるための
制御信号φrQ〜φrnを発生する。 上記タイミング発生回路TGは、外部から供給されるラ
イトイネーブル信号WEをラッチするためのラッチ回路
LT及び上記ラッチ回路LTから出力される反転内部ラ
イトイネーブル信号W1を受けて内部書込パルスφWを
発生するライトパルス発生ユ二ッ)WPG UNIT
を含む。上記ライトハルス発生ユニットWPG UN
ITについては、第4図でさらに詳細に説明される。 第4図には、第1図又は第3図の論理機能付メモリのタ
イミング発生回路TGの詳細な回路図が示されている。 同図には、タイミング発生回路TGのうち、上述のライ
トイネーブル信号WEを受ける入力ラッチとパルス拡幅
回路PWE、レベル変換回路LC及び書き込みパルス発
生回路WPGが部分的に示されている。タイミング発生
回路TGの他の回路については、この発明と直接関係が
ないので、説明を割愛する。なお、同図において、チャ
ンネル(バックゲート)部に矢印が付加されるMOSF
ETはPチャンネル型であり、矢印の付加されないNチ
ャンネルMO8FETと区別される。また、図示される
バイポーラトランジスタは、すべてNPN型トランジス
タである。尚、後述されるフリップフロップBFIは第
3図に示されたタイミング発生回路TG内のラッチ回路
LTK対応する。また、パルス拡幅回路PWE、レベル
変換回路LC及び書き込みパルス発生回路WPGは第3
図に示される書き込みパルス発生ユニッ)WPG U
NITに含まれている。 第4図において、論理機能付メモリに供給されるライト
イネーブル信号WEは、フリップフロップ回路BFIの
入力端子りに入力される。フリップフロップ回路BFI
は、特に制限されないが、第5図に示される様なバイポ
ーラトランジスタからなるECLシリーズゲートで構成
することができる。フリップフロップ回路BFIの反転
クロック入力端子Cには、外部から供給される反転クロ
ック信号CPが入力される。この反転クロック信号CP
は、通常ECLレベルのハイレベルとされ、所定の時間
間隔をおいて周期的にロウレベルとされる。フリップフ
ロップ回路BFIの非反転出力信号Qは、内部制御信号
weとして、タイミング発生回路TGの図示されない他
のパルス発生回路に供給される。フリップフロップ回路
BFIの反転出力信号Qは、反転内部制御信号weとさ
れ、ノアゲート回路BGIの一方の入力端子に供給され
る。ノアゲート回路BGIは、第6図に示されるECL
ゲート回路で構成することができる。 すなわち、第6図に示されるように、ノアゲート回路B
GIは、そのベースに反転内部制御信号11を受けるバ
イポーラトランジスタT31.そのベースに反転内部ク
ロック信号「うを受けるバイポーラトランジスタT32
、上記トランジスタT31及びTa2のそれぞれのエミ
ッタが結合されたベースを有するバイボー2トランジス
タT33、上記トランジスタT33と差動形態で結合さ
れかつ、そのベースに基準電位Vbb3が供給されたバ
イポーラトランジスタT34、上記トランジスタT33
と電源端子Veeとの間に設けられた電流源C84、上
記差動トランジスタT33及びTa2の共通エミッタと
電源端子Veeとの間に設ゆられた電流源C85、上記
差動トランジスタT33及びTa2のそれぞれのコレク
タと電源端子Vssとの間に設けられた抵抗手段R12
及びR13、及び、出力バイボー2トランジスタT35
及び抵抗手段R14を含むエミッタ・7才ロワー出力回
路、とを含む。第6図から容易に理解できる様に、反転
内部制御信号we及び反転内部クロック信号ecpが共
にローレベルの期間のみにおい【、出力信号Wτがロー
レベルとされる。 前述のように、この実施例の論理機能付メモリの入力動
作は、反転クロック信号CPに従って同期化される。ま
た、論理機能付メモリの動作モードは、ライトイネーブ
ル信号WEがロウレベルとされるとき読み出し動作モー
ドとされ、またライトイネーブル信号WEがハイレベル
とされるとき書き込み動作モードとされる。ライトイネ
ーブル信号WEは、反転クロック信号CPの立ち下がり
エツジにおいて、フリップフロップ回路BFIに取り込
まれる。その結果、上記内部制御信号we及び反転内部
制御信号W1が選択的にノ・イレベル又はロウレベルと
され、そのサイクルにおける論理機能付メモリの動作モ
ードが決定される。 反転クロック信号CPは、それと実質的に同位相とされ
る反転内部クロック信号○として、パルス拡幅回路PW
Eを構成するトランジスタT1のベースに供給されると
ともに、タイミング発生回路TGの他の回路及び、第3
図に示された入力ラッチ回路LT、・・・、TLに供給
される。 パルス拡幅回路PWEは、上記トランジスタT1と差動
形態とされるトランジスタT2を含む。 トランジスタT1及びT2のエミッタは共通結合され、
さらにトランジスタT3及び抵抗R3を介して、所定の
電源電圧Vesに結合される。トランジスタT3及び抵
抗R3は、差動トランジスタT1・T2に動作電流を供
給する定電流源として機能する。トランジスタT1及び
T2のコレクタは、対応する抵抗R1及びR2を介して
、回路の接地電位にそれぞれ結合される。トランジスタ
T2のベースには、所定のバイアス電圧vb1が供給さ
れる。 これにより、差動トランジスタT1・T2は、反転クロ
ック信号CPに対し、上記バイアス電圧Vblをl1m
理スレッシホルトとする電流スイッチ回路として機能す
る。すなわち、反転クロック信号CPのレベルが、バイ
アス電圧Vblよりも高いECLレベルのハイレベルと
されるとき、トランジスタT1がオン状態となり、トラ
ンジスタT2はカットオフ状態となる。このとき、トラ
ンジスタT1のコレクタ電圧は、トランジスタT3を介
して供給される動作電流値と抵抗R1によって決まる所
定のECLレベルのロウレベルとされる。また、トラン
ジスタT2のコレクタ電圧は、回路の接地電位のような
ECLレベルのノーイレベルとされる。一方、反転クロ
ック信号CPのレベルが、バイアス電圧vb1よりも低
いECLレベルのロウレベルになると、トランジスタT
1はカットオフ状態となり、代わってトランジスタT2
がオン状態となる。このとき、トランジスタTlのコレ
クタ電圧は、回路の接地電位のよ5なECLレベルのハ
イレベルトサレ、トランジスタT2のコレクタ電圧は、
トランジスタT3を介して供給される動作電流値と抵抗
R2によって決まる所定のECLレベルのロウレベルと
される。 トランジスタT1のコレクタと回路の接地電位との間に
は、特に制限されないが、抵抗R1と並列形態にキャパ
シタC1が設けられる。また、トランジスタT2のコレ
クタと回路の接地電位との間には、抵抗R2と並列形態
にキャパシタC2が設けられる。特に制限されないが、
抵抗R2には、さらにダイオードD1が、そのアノード
を回路の接地電位に結合する形で並列形態に設けられる
。 このうち、キャパシタC2は、後述するように、トラン
ジスタT2がオン状態に変化するときに比較的ゆっくり
とディスチャージされ、反転クロック信号CPに対する
パルス拡幅回路PWHの遅延時間tbを決定する。また
、キャパシタC1は、トランジスタT1がオン状態に変
化するときに比較的ゆっくりとディスチャージされ、パ
ルス拡幅回路PWEの出力信号すなわち反転内部クロッ
ク信号i1のパルス幅tw2を決定する。ダイオードD
1は、トランジスタT2がオン状態とされるとき、その
コレクタ電圧が低くなりすぎないようにクランプする作
用を持つ。すなわち、トランジスタT2は、ダイオード
D1によって非飽和動作させられる。 トランジスタT1のコレクタ電圧は、トランジスタT4
及び抵抗R4からなるエミツタ7オロワ回路を介して、
トランジスタT5のベースに供給される。トランジスタ
T5は、トランジスタT6と差動形態とされる。トラン
ジスタT5及びT6の共通結合されたエミッタと回路の
電源電圧Vesとの間には、トランジスタT7及び抵抗
R6からなる定電流源が設けられる。トランジスタT5
のコレクタは、上記トランジスタT2のコレクタに共通
結合され、トランジスタT6のコレクタは、抵抗BI5
を介して回路の接地電位に結合される。 トランジスタT6のベースには、上記バイアス電圧Vb
lが供給される。 これにより、差動トランジスタT5・T6は、トランジ
スタT4のエミッタ電圧すなわちトランジスタT Iの
コレクタ電圧よりトランジスタT4のベース・エミッタ
電圧分だけ低くされた内部信号に対して、バイアス電圧
Vbxを論理スレッシホルトとする電流スイッチ回路と
して機能する。 また、トランジスタT5は、そのコレクタが上記トラン
、ジスタT2のコレクタに共通結合されることで、トラ
ンジスタT2とともにノア(NOR)ゲート回路形態と
される。トランジスタT2及びT5のコレクタ電圧は、
トランジスタT8及び抵抗R7からなるエミツタ7オロ
ワ回路を介して出力され、このパルス拡幅回路PWEの
出力信号すなわち反転内部クロック信号ecpとされる
。反転内部クロック信号ecpは、上述のノアゲート回
路BGIの他方の入力端子に供給される。 パルス拡幅回路PWEは、スの動作により、反転クロッ
ク信号CPの立ち下がりに対して所定の遅延時間tbを
持ち、また反転クロック信号CPのパルス幅t w 1
より大きなパルス@tW2を持つ反転内部クロック信号
ecpを形成する。すなわち、反転クロック信号CPが
・・イレペルとされるとき、・斗うンジスタT1がオン
状態となり、トランジスタT2はカットオフ状態となる
。このとき、トランジスタT1のコレクタ電圧は、EC
Lレベルのロウレベルとされる。また、トランジスタT
2のコレクタ電圧は、回路の接地電位のようすE CL
レベルのハイレベルとされ、キャパシタC2はディスチ
ャージされる。 反転クロック信号CPがノ・イレベルからロウレベルに
変化されると、トランジスタT1がカットオフ状態とな
り、代わってトランジスタT2がオン状態となる。した
がって、トランジスタT2のコレクタ電圧は、所定のロ
ウレベルに変化しようとする。ところが、トランジスタ
T2を介して流される動作電流は当初キャパシタC2の
チャージ電流となることから、そのレベルは徐々にロウ
レベルに変化する。このため、反転内部クロック信号e
cpは、反転クロック信号CPの立ち下がりに対し、キ
ャパシタC2の静電容量によって決まる所定の遅延時間
tbだけ遅れてロウレベルとされる。トランジスタT1
がカットオフ状態となることで、そのコレクタ電圧は回
路の接地電位のようなハイレベルとされ、トランジスタ
T5がオン状態となる。トランジスタT1のコレクタ電
圧がハイレベルとされることで、キャパシタCIがディ
スチャージされる。 次に、反転クロック信号CPが再度ハイレベルとされる
と、トランジスタT1がオン状態となり、トランジスタ
T2はカットオフ状態となる。これにより、トランジス
タT1のコレクタ電圧はロウレベルに変化しようとする
が、トランジスタT1を介して流される動作電流が尚初
キャパシタC1のチャージ電流となることから、そのレ
ベルは除徐にロウレベルに変化する。このため、この間
、トランジスタT5がオン状態を持続し、反転内部クロ
ック信号11は、反転クロック信号CPの立ち上がり変
化に対し、キャパシタC1の静電容量によって決まる所
定の遅延時間tw2だけ遅れてハイレベルとされる。言
うまでもなく、この遅延時間tw2は、反転内部クロッ
ク信号「うのパルス幅を決定する。 ノアゲート回路BGIの反転出力信号は、反転内部信号
jτ(第2の内部信号)として、レベル変換回路LCを
構成するPチャンネルMO8FETQ2のゲートに供給
されるとともに、PチャンネルMO8FETQl及びQ
3のソースに供給される。この反転内部信号Wτは、通
常ハイレベルとされ、上記反転内部制御信号77及び反
転内部クロック信号ecpがともにロウレベルとされる
とき、選択的にロウレベルとされる。 レベル変換回路LCは、回路の接地電位と電源電圧との
間にトーテムポール形態に設けられる2個のバイポーラ
トランジスタT9及びT 10を含む。トランジスタT
9のペースと回路の接地電位との間には、上記M (J
S F E T Q 2が設けられ、またトランジス
タT9のベースと回路の電源電圧との間には、Nチャン
坏ルM(JSFE’l’Q12が設けられる。M U
S F )!; ’L’ Q、 12のケートは、Nチ
ャンネルMO8FETQ11のゲートに共通結合され、
さらにそのドレインに結合される。八108F’ETQ
11(7)/−スは、回路のtst圧KM合される。ま
た、そのドレインと上記M 08 F ETQ2のゲー
トとの間には、上記M OS F B ’l’ Q。 1が設けられる。MO8FETQ、]のゲートには、特
に制限されないが、所定のバイアス電圧vb2が供給さ
れる。これにより、MO8F’Ei’Ql及びQllは
、MO8壬’ETQ12が、上記反転内部信号WCに対
して、上記バイアス電圧■b2によって決まる所定の論
理スレッシホルトを持つように作用する。 一方、トランジスタT10のベーストソノコレクタとの
間には、NチャンネルMO8FETQ14が設けられる
。また、トランジスタ’l’1O(7)ベースと回路の
電源電圧との間には、NチャンネルM(JSFETQ1
5が設けられる。MOS)i”ETQ15のゲートは、
トランジスタTIOのコレクタに共通結合される。M0
8FETQ14のゲートと回路の電源電圧との間には、
NチャンネルMUSFETQ13が設けられる。MO8
FETQ13は、そのゲートがそのドレインに共通結合
されることKよって、ダイオード形態とされる。MO8
FETQ]3のドレインと上記M OS FE ’l’
Q 2のケートとの間には、上記M OS FE i
’ Q 3が設ケラれる。M OS F E ’I’
Q 3のケートには、所定のバイアス電圧vb3が供給
される。これによジ、M (J S P’ E T Q
3及びQ13は、M OS F E’1’ Q14が
、反転内部信号weに対して、バイアス電圧yb3によ
って決まる所定の論理スレッシホルトを持つように作用
する。 トランジスタT9のエミッタ及びトランジスタTIOの
コレクタの共通結合されたノードのレベルは、レベル変
換回路LCの出力信号すなわち内部信号m w cとし
て、タイミング発生回路TGの書き込みパルス発生回路
WPGに供給される。 反転内部信号WCが所定の)・イレペルとされるとき、
MO8FETQ12及びQ14はともにオン状態となり
、M OS l=’ E ’1’ Q 2はオフ状態と
なる。これKより、トランジスタT9は、そのベース電
流が切断され着たそのベース容量がディスチャージされ
ることでカットオフ状態となり、トランジスタTIOは
、そのコレクタ電位が充分低下するまでの間MO8FE
TQI 4を介(5,てペース電流が流されることでオ
ン状態となる。このため、レベル変換回路LCの出力信
号すなわち内部信号m w cは、はぼ回路の電源電圧
のようなCM(JSレベルのロウレベルとされる。一方
、反転内部信号wcが所定のロウレベルとされると、M
OSFET0.12及びQ14Viオフ状態となり、代
わってMO8FETQ2がオン状態となる。これにより
、トランジスタT9がオン状態となり、トランジスタT
10はオフ状態となる。このため、レベル変換回路L
Cの出力信号すなわち内部信号mwcは、回路の接地電
位よりトランジスタT9のベース・エミッタ電圧分だけ
低下されたCMOSレベルのハイレベルとされる。 曹き込みパルス発生回路WPGは、時に制限されないが
、ノアケート回路NOG!及びN0G2が父差接続され
てなるフリップフロ71回路F I”1を基本構成とす
る。ノアケート回路N0GI及びN(JG2を含む書き
込みパルス発生回路WPGの各回路素子は、そのI介と
んどがC〜10Sによって構成される。たとえば、それ
ぞれのノアケート回路N0G1及びN0G2は、第7図
に示される様に、電源端子Vssと出力端子ontと間
でそのソース・ドレインパスがシリーズ接続されたPチ
ャネルM(J8FE’l″Ml及びM2と出力端子Ou
tと電源端子■eeとの間にそのリースドレインバスが
並列接続さねたNチャネルMOS F E’1’M3及
びM4によって、構成することができる。 尚、MO8FE’l’Mx及びM2のゲート電極は、そ
れぞれMQSFETM3及びM4のゲート電極に結合さ
れて、入力端子INl及びIN2を構成する。ノアケー
ト回路N0G1の一方の入力端子は、フリップフロップ
回路F F 1のセット入力端子とされ、上記レベル変
換回路LCから内部信号mwcが供給される。ノアケー
ト回路N0G2の一方の入力端子は、フリップフロ71
回路k” Flのリセット入力端子とされ、インバータ
回路N6の出力信号すなわちリセット信号rwpが供給
される。ノアゲート回路N0GIの出力信号は、フリッ
プフロップ回路FF1の反転出力信号すなわち反転内部
信号wpとして、出力トランジスタT11のベースに供
給される。また、ノアゲート回路N0G2の出力信号は
、フリップフロップ回路FFIの非反転出力信号すなわ
ち内部信号wpとし2て、インバータ回路N2の入力端
子に供給される。インバータ回路N2は、インバータ回
路N3と直列形態とされ、遅延回路DLIを構成する。 インバータ回路N3の出力信号は、ナントゲート回路N
AG1の第2の入力端子に供給されるとともに、4個の
インバータ回路N4〜N5からなる遅延回路DL2を経
て、上記ナントゲート回路NAGIの第3の入力端子に
供給される。ナントゲート回路NAGIの第1の入力端
子には、上記内部信号mwcのインバータ回路N1によ
る反転信号が供給される。ナントゲート回路NAG1の
出力信号は、インバータ回路N6を経て、上記リセット
信号rwpとされる。尚、上記ナントゲート回路は、一
般的なCM(J8ナントゲート回路で構成することがで
きる。 内部信号mWCがCMOSレベルのロウレベルとされる
とき、インバータ回路N1の出力信号はハイレベルとな
る。したがって、その直前においてフリップフロップ回
路F F 1がセット状態とされ内部信号wpがハイレ
ベルであると、リセット信号rwpがハイレベルとなり
、フリップフロッグ回路F F 1はリセット状態とさ
れる。 内ms号mwcがcMosレベルの)1イレベルとされ
ると、インバータ回路N1の出力信号がロウレベルとな
る。それによって、リセット信号rwpは、強制的にロ
ウレベルとされる。したがって、フリップフロップ回路
FF1の内部信号wp出力端子と、そのリセット端子と
の間の経路は、等制約に偶数段のインバータ回路が存在
するため、リングオシレータが存在するように見える。 しかシナがら、インバータNlによって、上記リングオ
シレータの発振が防止される。また、内部信号m w
cがハイレベルとされることで、フリップフロップ回路
FFIの反転出力信号すなわち反転内部信号wpがロウ
レベルとなる。これにより、フリップフロップ回路FF
Iの非反転出力信号すなわち内部信号wpが、ハイレベ
ルとなり、フリップフロッグ回路FFlけいわゆるセッ
ト状態とされる。フリップフロップ回路FF1は、内部
信号mwcがロウレベルに戻された後も、リセット信号
r w pがハイレベルとされるまでセット状態を保持
する。 内部信号wpのハイレベルは、遅延回路DL1及びDL
2を経て、ナントゲート回路NAG1の第2及び第3の
入力端子に伝達される。このとき、内部信号mWCはロ
ウレベルとされインバータ回路N1の出力信号はハイレ
ベルとされることから、リセット信号rwpがハイレベ
ルとなる。このため、フリップフロップ回路FFJはリ
セット状態とされ、反転内部信号wpはハイレベルとな
り、内部信号wpはロウレベルとなる。これらのことか
ら、フリップフロッグ回路FFIの出力信号すなわち反
転内部信号wpは、レベル変換回路LCの出力信号すな
わち内部信号in W Cがハイレベルとされることで
立ち下がり、遅延回路DLI及びDL2の遅延時間に相
当するパルス@を持つネガティブパルスとされる。尚上
述のインバータ回路N1〜N5のそれぞれは、第8図に
示されるPチャネルMO8f”ETM5とNチャネルM
O8FETM6を含むCMOSインバータ回路によって
構成することができる。 書き込みパルス発生回路WPGFi、特に制限されない
が、トーテムポール形態とさねるバイポーラトランジス
タ1111及びTI2を基本構成とするバイポーラ・C
MO8複合駆動回路を含む。トランジスタTllのコレ
クタは回路の接地電位に結合され、そのベースには上記
反転内部信号wpが供給される。トランジスタT12の
エミッタは、回路の電源電圧に結合される。また、トラ
ンジスタTI2のベースとそのコレクタとの間にはNチ
ャンネルMO8FETQI 6が設けられ、そのベース
と回路の電源電圧との間にはNチャンネルMO8FET
Q17が設けられる。M 08 k’ E ’1’ Q
16のゲートVCは、特に制限されないが、レベル変換
回路LCの出力信号すなわち内部信号mwcが供給され
る。また、MO8FETQI 7のケートは、トランジ
スタ’11’ 12のコレクタに共通結合される。トラ
ンジスタTllのエミッタ及びトランジスタT12のコ
レクタの共通結合されたノードのレベルは、−1in込
みパルス発生回路WPGの出力信号すなわち上記反転タ
イミング信号φWとされる。 内部信号m w cがロウレベルとされ反転内部信号W
pがハイレベルとされるとき、トランジスタTllがオ
ン状態となり、トランジスタ’l’12は、MO8FE
TQI 6がオフ状態とされそのペース電流が流されな
いことでカットオフ状態となる。 このため、反転タイミング信号φWは、回路の接地電位
からトランジスタTllのベース・エミッタ電圧分だけ
低くされたCMOSレベルのノ・イレベルとされる。内
部信号mwcがノーイレベルとされ反転内部信号wpが
ロウレベルとされると、トランジスタ’I’lldカッ
トオフ状態となり、代わってトランジスタT12がオフ
状態となる。このため、反転タイミング信号φWは、回
路の電源電圧のようなCMOSレベルのロウレベルとさ
れる。 このようなバイポーラ・CMO8複合、駆動回路が設け
られることで、書き込みノくルス発生回路WPGから出
力される反転タイミング信号φWの駆動能力が拡大され
る。 第10図には、第4図のタイミング発生回路TGの一実
施例のタイミング図が示されている。同図に従って、こ
の冥施例のタイミング発生回路TGの動作の漿要を説明
する。 第10図において、論理機能付メモリは、反転クロック
信号CPの立ち下がり変化に先立ってライトイネーブル
信号WEがハイレベルとされることで、薔き込み動作モ
ードとされる。 タイミング発生回路TGでは、反転クロック信号CPの
立ち下がりエツジにおいてライトイネーブル信号WEが
ハイレベルであることから、ツリツブフロップ回路BF
Iがセット状態とされ、その反転出力信号Qすなわち反
転内部制御信号weがロウレベルとされる。この反転内
部制御信号weは、ノアゲート回路BG1によりて、パ
ルス拡幅回路PWEの出力信号すなわち反転内部クロッ
ク信号ecpと負論理の論理積がとられ、反転内部信号
wcが形成される。前述のように、反転内部クロック信
号ecpは、反転クロック信号CPに対しキャパシタC
2の静電容量によって決まる所定の遅延時間tbだけ遅
延される。また、反転内部クロック信号ecpは、キャ
パシタC1の静電容量によって決まる所定のパルス@t
W2’ft持−Dように設計される。つまり、上記遅延
時間tbは、フリップフロップ回路B F 1の状態遷
移時間をカバーし、反転タイミング信号φWの立ち上が
りタイミングを設定する。また、上記ノくルス幅tw2
は、レベル変換回路LCによるレベル変換動作を充分保
証しつる時間幅とされる。 反転内部信号wcは、レベル変換回路LCによって反転
され、さらにCMOSレベルに変換された後、内部信号
mwcとされる。 書き込みパルス発生回路WPGでは、内部信号mwcが
ハイレベルとされることで、まずフリップフロップ回路
FFIの反転出力信号すなわち反転内部信号wpがロウ
レベルとされる。同時にその非反転出力信号すなわち内
部信号wpはノ・イレベルとされる。ツリツブフロップ
回路F I” 1は、内部信号m w cがロウレベル
に戻された後も、リセット信号rwpがノ・イレベルと
されるまでセット状態を保持する。反転内部信号wpは
、バイポーラ・CMO8複合駆動回路を経て、書き込み
ノ(ルス発生回路WPGの出力信号すなわち反転タイミ
ング信号φWとされる。 内部信号wpが)・イレペルとされてから遅延回路DL
Iの遅延時間td1が経過し、さらに遅延回路DL2の
遅延時間td2が経過すると、リセット信号rwpが7
1イレベルとなる。これにより、フリップフロップ回路
FFIはリセット状態とされ、反転内部信号wp及び反
転タイミング信号φWはハイレベルとなる。リセット信
号rwpは、内部信号wpがロウレベルとされてから遅
延回路DLIの遅延時間ta1が経過すると、ロウレベ
ルに戻される。 以上のように、この実施例の論理機能付メモリの入力動
作は、反転クロック信号CPに従って同期化される。論
理機能付メモリが書き込み動作モードとされるとき、ラ
イトアンプWAに供給される書き込みパルスすなわち反
転タイミング信号φWは、ライトイネーブル信号WEを
上記反転クロック信号CPlCよって取り込んだ後、論
理機能付メモリのタイミング発生回路TG&Cよって自
律的に形成される。反転クロック信号CPは、ECLレ
ベルとされ、ECL論理回路の動作限界にそった極めて
狭いパルス幅を持つものとされる。また、書き込みパル
ス発生回路WPGは、低消費電力化を削減しレイアウト
所要面積を縮小するため、CMO8論理回路によって構
成される。このため、この実施例の論理機能付メモリで
は、1ず反転クロック信号CPをパルス拡幅回路PWH
に入力し、その立ち下がりを所定の遅延時間tbだけ遅
延させるとともに、そのパルス幅をレベル変換回路LC
のレベル変換動作が安定して行われるようなパルス幅t
w2とする。パルス拡幅回路)’W ):の出力信号は
、ライトイネーブル信号WEに従っテ形成される内部制
御信号と陶理績がとられ、レベル変換回路LCttc伝
達され、さらに書き込みパルス発生回路WPGIC供給
される。こilにより、反転クロック信号CPが極めて
小さなパルス幅とされるにもかかわらず、レベル変換回
路LCによるレベル変換動作は安定して行われ、タイミ
ング発生回路TGの書き込みパルス発生回路WPGの動
作が安定化されるものである。 以上の本実施例に示されるように、この発明をバイポー
ラ・CMO8型O8Mを基本構成とするECLインタフ
ェースの論理機能付メモリ等の半導体集積回路装置に適
用した場合、次のような効果が得られる。 (1)極めてパルス幅の狭いクロック信号又はそれに従
って形成される内部信号は、パルス拡幅回路によってそ
のパルス幅が拡幅された後、レベル変換回路に供給され
る。 上記パルス拡幅回路は、上記レベル変換回路のゲート遅
延時間tpdとほぼ同一またはそれ以上のパルス幅をも
つように、パルス幅の狭いクロック信号のそのパルス幅
全拡大する。それによって、レベル変換回路のレベル変
換動作が安定化される。 したがって、上記クロック信号又はそれに従って形成さ
れる内部信号の信号レベルを、確実に所定の信号レベル
に変換できるという効果が得られる0(2)上記(11
項により、例えば論理機能付メモリ等の!き込みパルス
発生回路の動作を安定化[7、タイミング条件を満足し
つる書き込みパルスを形成できるという効果が得られる
。 (3)上記(1)項及び(2)項により、書き込みパル
ス発生回路を含む論理機能付メモリ等の誤動作を防止し
、その信頼性を高めることができるという効果か得られ
る。 以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱し7ない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。例えば、第1図の回
路図において、パルス拡幅回路PVVEは、複数のバイ
ポーラゲート回路を直列形態に接続することで、遅延時
間tb及びパルス幅tW2を況定するものであってもよ
い。 また、書き込みパルス発生回路WPGの遅延回路DLI
及びDL2を構成するC M 08インバ一タ回路の段
数は任意である。ライトイネーブル信号WEや反転クロ
ック信号CP及び反転タイミング信号φW等は、それぞ
れ論理条件が反転されるものであってもよい。パルス拡
幅回路PWE、レベル変換回路LC,書大込みパルス発
生側路WPGは1、電源電圧の極性を反転できれば、N
PN型トランジスタに換えてPNPNP型トランジスタ
ラ、ま九PチャンネルM OS F E ’l’及びN
チャンネルMO8FETを入れ換えて構成することがで
きる。 第1図のブロック図において、メモリセルは0M08に
より構成されるものであってもよいし、メモリアレイM
ARYは複数のメモリマットにより構成されるものであ
ってもよい。さらに、第4図に示されるタイミング発生
回路TGの具体的な回路構成や第1図に示される論理機
能付メモリのブロック構成及び制御信号やタイミング信
号の組み合わせ等1種々の実施形態を採りうる。 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である論理機能付メモリの
書き込みパルス発生回路に適用[7た場合について説明
E7たが、それに限定されるものではなく、例えば、論
理機能付メモリのクロック分配回路等にも適用すること
もできる。この場合、例えば反転クロック信号CPをパ
ルス拡幅回路PWEKよって拡幅してレベル変換[2、
さらKもとのパルス幅に縮小した後、内部クロック信号
として各回路に分配することができる。これによシ、極
めてパルス幅の小さな反転クロック信号CPをもとに%
同様なパルス幅を持つCMOSレベルの内部クロック信
号を得ることができる。この発明は、さらにバイポーラ
・0MO8型1(、AM単体で用いられるものや論理機
能付メモリを含む各種のディジタル装置等にも適用でき
る。本発明は、少なくとも極めて狭いパルス幅の入力信
号のレベル変換処理を必要とする半導体集積回路装置に
広くオリ用できる。 第11図には、山記第1図及び第3図に示されたタイミ
ング発生回路TGの他の実施例が示されている。この実
施例が適用される論理機能付メモリにおいて、そのメモ
リアレイMARAY及びそのメモリマフ トM A T
o −M A T nには、上記複数のメモリセルM
Cと、上記メモリセルと同様な構成とされる1個のダミ
ーセルが含まれているものと見なされる。これらのメそ
リセル及びダミーセルは、特に制限されないが、2個の
CMOSインバータ回路が互いに交差接続されてなるラ
ッチを基本構成とする。すなわち、第3図に示された高
抵抗負荷型スタティックメモリセルはCMOSスタティ
ックメモリセルに変更されて、以下の説明が行なわれる
。ダミーセルは、上記ワード巌及び相補データ線のいず
れにも結合されず、後述するように、タイミング発生回
路TGの蛋き込みパルス発生回路WPGを構成する回路
素子とし7て利用される。 すなわち、第11図に示された上記省き込みパルス発生
回路WPGは、上記ダミーセルと、このダミーセルの出
力信号に従ってそのリセット信号を形成する遅延回路と
を含む。遅延回路の遅延時間は、特に制限されないが、
論理機能付メモリの所定の試験工程においてパッドPs
i〜PS3を介して供給される選択信号S]〜S3に従
って、段階的に設定される。すなわち、上記選択信号8
1〜S3は、上記書き込みパルスのパルス幅を決定する
ために利用される。これらの選択信号81〜S3は、上
記ダミーセルの動作特性に従って選択的に形成される。 つまり、書き込みパルスのパルス幅は、ダミーセルすな
わちこのダミーセルと同様なプロセスバラツキを呈する
メモリセルの動作特性にみあって、設定され、最適化さ
レル。 第11図において、特に制限されないが1 タイミンク
発生回路TGの周辺には、論理機能付メモリの所定の試
験工程において利用されるパッドPwe、Pep、Ps
1〜Ps3及びl’wが設けられる。また論理機能付メ
モリの所定の試験工程において、上記ライトイネ−フル
信号Vl/E及び反転クロック信号CPは、外部に接続
される試験装置から対応するパッドpwe及びPcpy
介して直接供給される。 尚、以下の説明において、特に述べないかぎり、第4図
と同一符号(記号)が付された部分は互いに同一、ある
いは、互いに対応する部分を示している。 第11図に示されたタイミングパルス発生回路TGは、
W、4図と同様に、外部から供給されるライトイネーブ
ル信号WEQ保持するフリップフロップ回路BFIを含
む。さらに、このフリップフロップ回路BFIは、外部
から供給される反転クロックパルスCPのローレベルに
応答して上記ライトイネーブル信号WEをその内部にラ
ッチする。 反転クロック信号CPは、さらに遅延回路BD1の入力
端子に供給される。遅延回路BDIは、I#に制限され
ないが、バイポーラトランジスタからなる電流スイッチ
回路を基本構成とする。遅延回路BL)1の出力信号は
、反転遅延クロック信号dcpとして、ノアゲート回路
BGtの一方の入力端子に供給される。 フリツプフロツプ回路BFIの非反転出力信号Ql−t
、 %に制限されないが、内部ライトイネーブル信号w
eとして、タイミング発生回路TGの図示されない他の
パルス発生回路に供給される。フリップフロップ回路B
F1の反転出力信号Qは、反転内部ライトイネーブル信
号weとされ、上記ノアゲート回路HGIの他方の入力
端子に供給される。ノアゲート回路BGIは、バイポー
ラトランジスタからなるECLシリーズゲート回路を基
本構成とする。 前述のように、この実施例の論理機能付メモリの入力動
作は、反転クロック信号CPに従って同期化される。ま
た、論理機能付メモリの動作モードは、ライトイネーブ
ル信号WEに従って、選択的に読み出し2モード又は書
き込みモードとされる。 ライトイネーブル信号WEは、反転クロック信号CPの
立ち下がりエツジにおいて、フリップフロップ回路BF
IK取り込まれる。 ノアゲート回路BGIの出力信号すなわち内部信号WC
は、レベル変換回路LCのPチャンネルMO8FETQ
2のゲートに供給されるとともて、レベル変換回路LC
のPチャンネルM(JSFETQl及びQ3のソースに
供給される。この内部信号weは、通常ハイレベルとさ
れ、上記反転内部ライトイネーブル信号we及び反転遅
延クロック信号dcρがともにロウレベルとされるとき
、選択的にハイレベルとされる。 レベル変換回路LCは、特に制限されないが、回路の接
地電位と電源電圧との間にトーテムポール形態に設けら
れる2個のバイ゛ポーラトランジスタT1及びT2を含
む。ここで、回路の電源電圧は1%に制限されないが、
例えば−5,2■のような負の電源電圧とされる。トラ
ンジスタT1のベースと回路の接地電位との間には、上
記M OS FETQ2が設けられ、またトランジスタ
T1のベースと回路の電源電圧との間には、Nチャンネ
ルMO8FETQ12が設けられる。M OS F E
TQ12のゲートは、NチャンネルM OS l−”
B ’i’ Qllのゲートに共通結合され、さらに
そのドレインに結合される。MO8FETQIIのソー
スは、回路の電源電圧に結合される。また、そのドレイ
ンと上記M 08 F E T Q 2のケートとの間
には、M 08 FE T Qlが設けられる。MUS
FETQlのゲートには、特Kffflj限されないが
、所定のバイアス電圧yblが供給される。これにより
、MOSF E T Q 1及びQllは、八10sF
ETQ12が上記内部信号wcに対して上記バイアス電
圧Vblによって決まる所定の論理スレッシホルトを持
つように作用する。 一方、 )ランジスタT2のベースとそのコレクタと
の間には、NチャンネルMO8FETQ14が設けられ
る。また、トランジスタT2のベースと回路の電源電圧
との間には、NチャンネルMO8#’l弓i’ Q l
5が設けられる。MUSFETQl5のゲートは、ト
ランジスタ112のコレクタに共通結合される。M(J
SP’E’l’Q14のゲートと回路の電源電圧との間
には、NチャンネルM OS F E1’Q13が設け
られる。MUSFETQl3は、そのゲート及びドレイ
ンが共通結合されることでり′イオード形態とされる。 M(JSFB’l’Q13のドレインと上記M OS
F E i’ Q 2のゲートとの間には、上記M U
SF E ’1’ Q 3が設けられる。MO8F
E T Q 3のゲートには、特に制限されないが、所
定のバイアス電圧Vb2が供給される。これにより、
M OS F E’1’ Q 3及びQl3は、MUS
FETQl 4が上記内部信号WCに対してバイアス電
圧vb2によって決まる所定の論理スレッシホルトを持
つように作用する。 トランジスタT1のエミッタ及びトランジスタT2のコ
レクタの共通結合されたノードの電位は、レベル変換回
路LCの出力信号すなわち反転セット信号spとして、
書き込みパルス発生回路WPGに供給される。 上記内部信号WCが所定のロウレベルとされるとき、M
USFETQl2及びQl4はオフ状態となり、MO8
FE’l’Q2がオフ状態となる。これにより、トラン
ジスタT1はオン状態となり、トランジスタ1゛2はオ
フ状態となる。このため、レベル変換回路LCの出力信
号すなわち反転セット信号spは、はぼ回路の接地電位
のようなCMOSレベルのハイレベルとされる。一方、
内部信号WCが所定のハイレベルとされると、MUSF
ETQ2はオフ状態となり、代わってM OS F’
ETQ12及びQl4がともにオン状態となる。これに
より、トランジスタT1は、そのベース電流が切断され
、またそのベース容量がディスチャージされることでカ
ットオフ状態となり、トランジスタT2/Ii、そのコ
レクタ電位が充分低下するまでの間MO81”ETQ1
4を介【、てペース電流が流されることでオン状態とな
る。このため、レベル変換回路LCの出力信号すなわち
反転セット信号spは、はぼ回路の電源電圧のようなC
MOSレベルのロウレベルとサレル。 書き込みパルス発生回路WPGは、特に制限されないが
、メモリアレイMARYに設けられるダミーセルDCを
基本構成とする。ダミーセルDCは、前述のように1
メモリアレイMA 1(lYの他のメモリセルと同様な
構成とされ、これらのメモリセルとほぼ同様な動作特性
を持つように設計される。ダミーセルDCは、互いに交
差接続されることでラッチ形態とされる2個のCMUS
インバータ回路N1及びN2を含む。インバータ回路N
2の入力端子は、ダミーセルDCの反転セット入力端子
とされ、上記レベルに、換回路LCから反転セット信号
spが供給される。反転セット信号spけ、さらにナン
トゲート回路NAG5の第1の入力端子罠供給されると
ともに、インバータ回路N11によって反転された後、
NチャンネルMOSF’ETQ]6のゲートに供給され
る。 一方、インバータ回路N1の入力端子は、ダミーセルD
Cの反転リセット入力端子とされ、ナントゲート回路N
AG5の出力信号すなわち反転リセット信号rpが供給
される。インバータ回路N1の出力信号は、上記インバ
ータ回路N2の入力端子に供給されるとともに、ダミー
セルl)Cの反転出力信号wpと【7て、出力トランジ
スタT3のベースに供給される。同様に、インバータ回
路N2の出力信号は、上記インバータ回路N1の入力端
子に供給されるとともに、ダミーセルL)Cの非反転出
力信号wpとして、インバータ回路N3の入力端子に供
給される。 インバータ回路N3は、直列形態とされるインバータ回
路N4とともに遅延素子として機能し2、遅延回路DL
Iを構成する。遅延回路DLIの遅延時間ta1は、後
述するように、反転リセットm号rpのパルス@を決定
する。また、後述する遅延回路DL2の遅延時間ta2
とともに、反転タイミング信号φWのパルス幅を決定す
る。インバータ回路N4の出力信号すなわち遅延回路D
Llの出力信号n1は、上記ナントゲート回路NAG5
の第2の入力端子に供給され、さらにインバータ回路N
5の入力端子に供給される。 インバータ回路N5は、直列形態とされるインバータ回
路N6〜NIOととも九遅延素子として機能する。これ
らのインバータ回路N5〜NIOは、ナントゲート回路
NAG1〜NAG4とともに遅延回路L)L2を構成す
る。インバータ回路N6の出力信号は、インバータ回路
N7の入力端子に供給されるとともに、ナントゲート回
路NAG3の一方の入力端子に供給される。また、イン
バータ回路N8の出力信号は、インバータ回路N9の入
力端子に供給されるとともに、テンドケート回路NAG
2の一方の入力端子に供給される。インバータ回路NI
Oの出力信号は、ナントゲート回路NAG1の一方の入
力端子に供給される。これらのナントゲート回路NAG
3 、NiO2及びNAGIの他方の入力端子には、パ
ッドps1〜PS3を介して対応する選択信号81〜S
3がそれぞれ供給される。選択信号5l−83は、特に
制限されないが、上記バッドPa1−PS3が後述する
特性試験の利足結果に従って回路の接地電位又は電源電
圧にボンディングされることで、選択的にハイレベル又
はロウレベルとされる。 ナントゲート回路NAG3 、NiO2及びNAGlの
出力信号は、ナントゲート回路NAG4の第1〜第3の
入力端子にそれぞれ供給される。これにより、ナンドケ
ート回路NAG4の出力信号すなわち遅延回路DL2の
出力信号n2は、ナントゲート回路NAG3 、NiO
2及びNAGIの出力信号のいずれかがロウレベルとさ
れるとき、すなわちインバータ回路N6の出力信号と選
択信号81.インバータ回路N8の出力信号と選択信号
S2あるいはインバータ回路NIOの出力信号と選択信
号S3のいずれかがともにハイレベルとされるとき、選
択的にハイレベルとされる。つ管り、インバータ回路N
3及びN4により遅延されたダミーセルDCの非反転出
力信号wpは、上記選択信号S1がハイレベルとされる
とき、ざらに2個のインバータ回路N5及びN6の遅延
時間分だけ遅延され、遅延回路DL2の出力信号n2と
なる。また、上記選択信号S2あるいはN3がハイレベ
ルとされるとき、さらに4個のインバータ回路N5〜N
8あるいは6個のインバータ回路N5〜NIOの遅延時
間分だけそれぞれ遅延され、遅延回路DL2の出力信号
n2となる。これにより、−M延回路DL2の遅延時間
ta2は、選択信号81〜S3に従って設定される段階
的な複数の値を採りうるものとなる。遅延回路DL2の
遅延時間ta2は、後述するように、上記遅延回路DL
lの遅延時間talとともに上記反転タイミング信号φ
Wのパルス幅を決定する。 ナントゲート回路NAG4の出力信号すなわち遅延回路
DL2の出力信号n2ば、ナンドケート回路NAG5の
第3の入力端子に供給される。ナントゲート回路NAG
5の出力信号は、反転リセット信号rpとL7て、上記
タミーセルL)Cの反転リセット入力端子に供給される
。 上記反転セット信号spが一時的にCNl (J S
l/ベルのロウレベルとされるとき、ナンドケート回路
NAG5の出力信号すなわち反転リセット信号rpはハ
イレベルとなる。このため、インバータ回路N2の出力
信号すなわち夕′ミーセルDCの非反転出力信号wpが
ハイレベルとなり、インバータ回路N1の出力信号すな
わちタミーセルDCの反転出力信号wpはロウレベルと
なる。これにより、ダミーセルDCは、いわゆるセット
状態とされる。ダミーセルiJCは、反転セット信号s
pがハイレベルに戻された後も、反転リセット信号rp
がロウレベルとされるまでの間、このセット状態を保持
する。 ダミーセルl)Cがセット状態とされその非反転出力信
号wpがハイレベルとされると、遅延回路DLIの出力
信号n1がその遅延時間ta1が経過した時点でノ・イ
レベルとされ、また遅延回路DL2の出力信号n2が遅
延回路DL1及びDL2の合計遅延時間ta1−4−t
a2が経過し7た時点でハイレベルとされる。このとき
、反転セット信号spはすでにハイレベルとされること
から、反転リセット信号rpがハイレベルとなる。この
ため、インバータ回路N1の出力信号すなわちタミーセ
ルDCの反転出力信号wpが7・イレベルとfkす、イ
ンバータ回路へ2の出力信号すなわちダミーセルDCの
非反転出力信号wpはロウレベルとなる。 これにより、タミーセルD CFi、いわゆるリセット
状態とされる。ダミーセルDCは、反転セット信号sp
が次にロウレベルとされるまでの間、そのリセット状態
を保持する。 ダミーセルDCがリセット状態とされその非反転出力信
号wpがロウレベルとされることで、インバータ回路N
4の出力信号すなわちDLIの出力信号n1が、その遅
延時間tdlたけ遅れてロウレベルとなる。このため、
ナントゲート回路NAG5の出力信号すなわち反転リセ
ット信号rpは、ハイレベルに戻される。 これらのことから、ダミーセルDCは、レベル変換回路
LCの出力信号すなわち反転セット信号Spが一時的に
ロウレベルとされることでセット状態とされ、遅延回路
DLx及びDL2の合計遅延時間ta1−4−tct2
が経過した時点で反転リセット信号rpが一時的にロウ
レベルとされることでリセット状態とされる。言い換え
るならば、ダミーセルDCの非反転出力信号wpは、反
転セット信号spの立ち下がり工。ヂに同期1.て立ち
下がり、遅延回路1)Ll及びDL2の合計遅延時間t
d1−4−1d2に相当するパルス幅を持つネガティブ
パルスとされる。前述のように、遅延回路DL2の遅延
時間td2は、選択信号81〜S3に従って設定され、
これに従って、上記非反転出力信号wpのパルス幅が設
定される。反転リセット信号rpは、ダミーセルDCが
セット状態とされてから上記遅延回路DLI及びDL2
の合計遅延時間tci1−4−tc+2が経過した後に
立ち下がり、遅延回路DLIの遅延時間ta1’6パル
ス幅とするネガティブパルスとされる。 書き込みパルス発生回路WPGは、さらにトーテムポー
ル形態とされるバイポーラトランジスタT3及びT4i
基本構成とするバイポーラ・CMO8複合[動回路を含
む。トランジスタT3のコレクタは回路の接地電位に結
合され、そのペースには上記ダミーセルDCの反転出力
信号wpが供給される。トランジスタT4のエミッタは
、回路の電源電圧に結合される。また、トランジスタT
4のベースとそのコレクタとの間にはNチャンネルMO
8F’ETQ16が設けられ、そのソースと回路の電源
電圧との間にはNチャンネルMO8FE’l’Q17が
設けられる。MO8FETQtsのゲートIICは、特
に制限されないが、上記反転セット信号Spのインバー
タ回路Nilによる反転信号が供給される。MCrSF
E’l’Qt7のケートは、出力トランジスタT4のコ
レクタに共通結合される。トランジスタT3のエミッタ
及びトランジスタT4のコレクタの共通結合されたノー
ドの電位は、書き込みパルス発生回路WPGの出力信号
すなわち反転タイミング信号φWとされる。この反転タ
イミング信号φWは、特に制限されないが、パッドPW
を介(2て論理機能付メモリのライトアンプWAに供給
される。 ダミーセルDCがリセット状態とされ反転セント信号s
pがハイレベルとされるとき、タミーセルDCの反転出
力信号wphハイレベルとされ、インバータ回路N11
の出力信号はロウレベルとされる。〔7たがりて、トラ
ンジスタT3けオン状態となり、トランジスタT4は、
MOS F’ ETQ16がオフ状態とされそのペー
ス′NL流が流されないことでカットオフ状態となる。 このため、反転タイミング信号φWは、はぼ回路の接地
電位のよp)ICMOSレベルのハイレベルとされる。 反転セット信号spがロウレベルとされ、ダミーセルD
Cがセット状態とされると、トランジスタT3はカット
オフ状態となり、代わってトランジスタT4がオン状態
となる。このため、反転タイミング信号φWけ、はぼ回
路のX源電圧のようなCMOSレベルのロウレベルとさ
れる。このようにバイポーラ・CへqO8複合駆動回路
が設けられることで、誉き込みパルス発生回路VVPG
の出力信号すなわち反転タイミング信号φWのファンア
ウトが増大される。 第12因には、第11図のタイミング発生回路TGの一
実施例のタイミング図が示されている。 第11図及び第12図に従って、この実施例のタイミン
グ発生回路TCの動作の概要を説明する。 々お、第12図には、選択信号S1がハイレベルとされ
る場合が笑巌で示され、 ’!7を選択信号S2又は8
3がハイレベルとされる場合が点線又は−点鎖線でそれ
ぞれ示されている。 第12図において、論理機能付メモリは、反転クロック
信号CPの立ち下がり変化に先立ってライトイネーブル
信号WEがハイレベルとされることで、曹き込み動作モ
ードとされる。 タイミング発生回路′1′Gでは、反転クロック信号C
1’の立ち下がりエツジにおいてライトイネーブル信号
WEがハイレベルであることから、フリップフロップ回
路B F 1がセット状態とされ、その反転出力信号す
なわち反転内部ライトイネ−フル信号weがロウレベル
とされる。この反転内部ライトイネーブル信号weは、
バイポーラゲート回路BGIにおいて、反転遅延クロッ
ク信号dcpと負論理の論理積がとられ、内部信号wc
が形成される。反転遅延クロック信号dcpは、反転ク
ロック信号CPに対して遅延回路BD1の遅延時間tb
だけ遅延される。この遅延時間tbは、フリップフロッ
プ回路BFIの状態遷移時間をカバーするとともに1反
転タイミング信号φWの立ち上がりタイミングを設定す
る。 内部信号WCは、レベル変換回路LCによって反転され
、さらにCMOSレベルに変換された後、反転セット信
号spとされる。 豊き込みパルス発生回路WPGでは、反転セット信号s
pがロウレベルとされることで、まずダミーセルDCの
非反転出力信号wpがハイレベルとなり、つづいてその
反転出力信号wpがロウレベルとなる。ダミーセルDC
は、反転セット信号spがハイレベルに戻された後も、
反転リセット信号rpがロウレベルとされるまでセット
状態を保持する。ダミーセルDCの反転出力信号wpは
、バイポーラ・CM OS複合駆動回路を経て、書き込
みパルス発生回路WPGの出力信号すなわち反転タイミ
ング信号φWとされる。 ダミーセルDCの反転出力信号wpがロウレベルとされ
その非反転出力信号wpがハイレベルと、擺れてから遅
延回路DLIの遅延時間ta1が経遇すると、まず遅延
回路DL1の出力信号n1がハイレベルとなる。また、
遅延回路DL1の出力信号n】がハイレベルとされてか
らさらに遅延回路DL2の遅延時間td2が経過すると
、遅延回路DL2の出力信号n2がハイレベルとなる。 これにより、反転リセット信号rpがロウレベルトなる
。したがって、夕“ミーセルDCけリセット状態とされ
、その反転出力信号wpはハイレベルとなシ、非反転出
力信号がロウレベルとなる。これにより、反転タイミン
ク信号φWはハイレベルとなる。反転リセット信号rp
は、ダミーセルDCの非反転出力信号wpがロウレベル
とされてから遅延回路L)Llの遅延時間talが経過
した時点で、ロウレベルに戻される。 ところで、書き込みパルス発生回路WPGの遅延回路D
L2には、前述のように、ダミーセルDCの動作特性に
応じて、選択的に選択信号81〜S3がバッドPsi〜
P83から供給される。その結果、遅延回路DL2の遅
延時間td2が、上記選択信号81〜83に従って段階
的な異なる値に設定される。特に制限されないが、ダミ
ーセルDCの動作特性の判定は、第12図に示されるよ
うに、反転タイミング信号φWをモニタしながら反転ク
ロック信号CPのパルス@を変化させることにより行わ
れる。すなわち、ダミーセルDCの動作特性が良い万に
バラツキを呈し、その伝達遅延時間が短いと、グミ−セ
ルDCは短いパルス幅の反転クロック信号CPによって
トリ力され、所定のパルス幅を持つ反転タイミング信号
φWが出力される。また、逆にダミーセルDCの動作特
性が悪い方にバラツキを呈し、その伝達遅延時間が長く
なると、ダミーセルDCは短い反転クロック信号CPに
よって反転できず、反転タイミング信号φWは形成され
ない。 前述のように、ダミーセルDCは、メモリアレイMAR
Yを構成する他のメモリセルと閤様な動作特性を持つよ
う九設計される。したがって1反転クロック信号CPの
パルス幅を変化させてダミーセルDCの動作特性を判定
することは、とりもなおさず記憶素子となるメモリセル
の動作特性を判定することに他ならない。 第12図の実施例では、反転クロック信号CPのパルス
幅は3段階に変化され、反転クロック信号CPの各パル
ス幅に応じて、上記選択信号81〜S3が供給される。 これらの選択信号81〜S3は、次の製造工程において
、対応するバッドPSI〜ps3が回路の接地電位又は
電源電圧にボンディングされることで、選択的にノ・イ
レベル又はロウレベルに固定される。この結果、論理機
能付メモリの書き込みパルスすなわち反転タイミンク信
号φWは、メモリセルの動作特性に従りた効果的なパル
ス@を持つものとなる。 以上のように、この実施例の論理機能付メモリの動作は
、反転クロック信号CPK従って同期化され、ライトア
ンプWAK供給される書き込みパルスすなわち反転タイ
ミング信号φWは、タイミング発生回路TGに設けられ
る書き込みパルス発生回路WPGによって自律的に形成
される。メモリプレイMARYは、メモリセルと同様な
構成とされる1個のダミーセルDCを含む。書き込みパ
ルス発生回路WPGは、上記ダミーセルDCと、その非
反転出力信号に従って反転リセット信号rpを形成する
遅延回路を含む。反転タイミング信号φWのパルス幅を
決定する上記遅延回路の遅延時間は、ダミーセルDCす
なわちメモリセルの動作特性に従うて段階的に異なる値
に設定される。このため、この実施例の論理機能付メモ
リでは、書き込みパルス発生回路WPGの構成が比較的
簡素化されるにもかかわらず、メモリセルの動作特性に
応じたパルス幅を有する書き込みパルスを効率的忙形成
できる。これにより、試験工数を削減し、論理機能付メ
モリを低コスト化できるとともに1書き込みパルスのマ
ージンを縮小し、論理機能付メモリt−高速化できるも
のである。 以上の本実施例に示されるように、この発明をバイポー
ラ・CMO8型R,AMを基本構成とするECLインタ
フェースの論理機能付メモリ等の半導体集積回路装置に
適用した場合、次のような効果が得られる。すなわち、 (1) メモリアレイに、メモリセルと同様な構成と
されるダミーセルを設け、賽き込みパルス発生回路を、
上記ダミーセルと上記ダミーセルの出力信号に従ってそ
のリセット信号を形成する遅延回路とを中心に構成し、
上記遅延回路の遅延時間を、上記ダミーセルの動作特性
に従って設定することで、書き込みパルスのパルス幅を
、メモリセルの動作特性にみあって効率良く設定できる
という効果が得られる。 (2)上記(1)項により、論理機能付メモリの試験工
数を削減し、その低コスト化を図ることができるという
効果が得られる。 (3)上記(1)項により、ライトアンプに供給される
書き込みパルスのパルス幅を、メモリセルの動作特性に
従って最適化【2、そのマージンを縮小できる之め、論
理機能付メモリの高速化を図ることができるという効果
が得られる。 以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えは、第11図の実
施例において、遅延回路DLI及びDL2を構成するC
MOSインバータ回路の段数は任意である。ま之、これ
らの遅延回路は、NMO8型又はバイポーラ・CMO8
型O8バータ回路あるいはその他により構成されるもの
であってもよい。ライトイネーブル信号WEや反転クロ
ック信号CP及び反転タイミング信号φW等は、それぞ
れ論理条件が反転されるものであってもよい。曹き込み
パルス発生回路WPGのMO8FETQ16のケートに
は、反転セットm号spのインバータ回路Nllによる
反転信号に代えて、ダミーセルDCの非反転出力信号w
pを入力してもよい。レベル変換回路LCや簀き込みパ
ルス発生回路WPGは、電源電圧の極性を反転できれば
、MOSFET及びバイポーラトランジスタの導電型を
入れ換えて構成することもよい。 選択信号81〜S3は、バッドPsi〜PS3と回路の
接地電位又は電源電圧との間【予め形成される接続配線
を、例えばレーザ等によって選択的に切断することによ
って、選択的に供給されるものであってもよい。第11
図において、メモリプレイMARYを構成するメモリセ
ル及びダミーセルDCは、高抵抗負荷型のインバータ回
路によって構成されるものであってもよい。1次、ダミ
ーセルDCは、メモリアレイMARYの1行文Vii列
にわたって複数個形成されるうちの1個であってもよい
。メモリアレイMARYは、複数のメモリマットによV
構成されることもよい。さらに、W、11図に示される
タイミング発生回路TGの具体的な回路構成及び制御信
号やタイミング信号の組み合わせ等、種々の実施形態を
採りうる。また、第11図に示される遅延回路BDlは
、第4図に示されるパルス拡幅回路PWEに変更されて
も良い。 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である論理機能付メモリに
適用し7た場合について説明したが、それに限定される
ものではなく、例えば、バイポーラ・CMO8型O8M
単体で用いられるものや論理機能付メモリを含む各棟の
ディジタル装置等にも適用できる。本発明は、書き込み
パルス発生回路を内蔵する半導体記憶装置あるいはこの
ような半導体記憶装置を含むディジタル装置に広く利用
できる。 〔発明の効果〕 本願において開示される発明のうち代表的なものKよっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、極めてパルス幅の小さなりロック信号又は
それに従って形成される内部信号を、そのパルス幅をパ
ルス拡幅回路により拡張した後、レベル変換回路に供給
することで、レベル変換回路のレベル変換動作を安定化
し、上記クロック信号又はそれに従って形成される内部
信号の信号レベルを、確実に所定の信号レベルに変換で
きる。これにより、例えば論理機能付メモリ等の書き込
みパルス発生回路の動作を安定化し、書き込みパルス発
生回路を含む論理機能付メモリ等の誤動作を防止E〜て
、その信頼性を高めることができるものである。
タT21及びT22のコレクタ端子には、さらに差動形
態とされたバイポーラトランジスタT24及びT25の
コレクタ端子がそれぞれ接続されている。そして、上記
トランジスタT21及びT22の共通エミッタ端子及び
上記トランジスタT24及びT25の共通エミッタ端子
には、差動形態とされたバイポーラトランジスタT23
及びT26のコレクタ端子がそれぞれ結合されている。 さらK、上記トランジスタT23及びT26の共通エミ
ッタ端子と電源端子Veeとには、電流源C81が接続
されている。上記トランジスタT23のベースには、基
準電位vbb2が供給され、上記トランジスタ’I’2
6のベースには、内部反転クロックパルスCPが供給さ
れている。上記トランジスタT21のコレクタにはさら
に、バイポーラトランジスタT27及び電流源C82を
含む第1エミッタフォロワー回路及びバイポーラトラン
ジスタT29及び負荷抵抗RIOを含む第1エミッタ7
オロワー出力回路が接続されている。 一方、トランジスタT22のコレクタには、さらに、バ
イポーラトランジスタT2B及び電流源C83を含む第
2エミッタフォロワー回路及びバイポーラトランジスタ
T30及び負荷抵抗R11を含む第2エミッタフォロワ
ー出力回路が接続されている。上記第1及び第2エミッ
タフォロワー回路の出力は、トランジスタT25及びT
24のペース端子にそれぞれ供給されている。すなわち
、トランジスタT21のコレクタ端子の電位はトランジ
スタT27を介して、トランジスタT250ペース端子
に供給される。トランジスタT22のコレクタ端子の電
位は、トランジスタT28を介して、トランジスタT2
4のペース端子に供給される。そして、トランジスタT
29及びT2Oのエミッメ端子から入力信号INに対し
て反転されたECLレベルの出力信号π及び入力信号I
Nと同相のECLレベルの出力信号outがそれぞれ出
力される。 内部反転クロックパルスCPのレベルが基準電位Vbb
1のレベルより高い時、上記トランジスタT26が動作
状態とされ、上記トランジスタT24及びT25からな
る差動回路に動作電源が供給される。一方、内部反転ク
ロックパルスCPのレベルが基準電位Vbb1のそれよ
り低くされる時、上記トランジスタT23が動作状態と
され、上記トランジスタT21及びT22からなる差動
回路に動作電源が供給される。したがって、クロックパ
ルスCPのレベルがローレベルトサレタ時、上記トラン
ジスタT21又はT22のいずれか一方が上記入力信号
INのレベル応答して、動作状態とされることによって
、入力信号INが、上記トランジスタT21及びT22
か、らなる差動回路にラッチされる。一方クロックパル
スCPのレベルがハイレベルとされた時、上記トランジ
スタT21及びT22にラッチされたデータが上記トラ
ンジスタT24及びT25にラッチされる。 尚、第5図に示されたラッチ回路は、非反転及び反転出
力信号out及びoutを出力できる構成について示し
ている。しかし、上記トランジスタT29及び抵抗RI
O又は上記トランジスタ’I’30及び抵抗Allのい
ずれか一方を削除することによって、第3図に示される
ような単一出力の入力ラッチ回路LTが構成できること
は、容易に理解できるであろう。 第3図に示される7ドレスバツフアADBは、さらK、
対応するラッチ回16LT・・・の出力信号AO〜Aj
を受けて非反転及び反転内部アドレス信号a O+ a
O*・・・ai、aiを形成するためのバッファ回路
BC・・・を含む。各々のバッファ回路BC・・・は、
一般的なECL回路によって構成することが高速化の為
に有利である。 アドレスデコーダADは、アドレスバッフ7ADHから
供給される非反転及び反転内部アドレス信号aQ 、
aQ 、・・・ai、aiを受け、それをデコードする
ことによって、後述される複数のメモリセルの中から入
力されたアドレス信号に従う1つ又はそれ以上のメモリ
セルな選択するための選択信号を形成する。このアドレ
スデコーダADは、ECL回路及びワイヤードOR論理
によって形成されたデコーダ部DEC,バイポーラ・0
M08回路によっ【構成されたレベル変換部LECと0
M08回路又はバイポーラ・0M08回路によって構成
されたドライバ部を基本的に含む。このデコーダ部DE
Cは、アドレスバッンア人DBから供給されるECLレ
ベルの内部アドレス信号なECLレベルのままでデコー
ドする。そして、デコードされたECLレベルの内部信
号は、レベル変換部LECKよってECLレベルから0
MO8レベルに変換される。そして、0MO8レベルに
変換された信号がドライバ一部DRに供給される。 したがって、アドレスデコーダADのデコード時間は、
デコーダ部が高速なECL回路によって構成される為、
短時間にされる。 メモリアレイは複数のメモリマットMATo。 MAT! 、MAT2 、 ・”、MATn7C分割さ
れており、それぞれが同一な構成とされる。同図には、
メモリマットMATOの構成が例示的に示されている。 メモリマットMATOは複数のメモリセルMCそれらの
メモリセルに結合されたワード、IIWI〜Wn及び相
補データ線対Do 、 Do 、 =Dn 、 Dnを
含む。結合的に、1つのメモリセルMCは1本のワード
線と一対の相補データ線対に結合される。 メモリマットMATOはさらに、共通データ線対CDL
O、CDLO及び、上記共通データ線対CDLo 、C
DLoと相補データ線対Do 、DO。 −°°Dn、Dnとの間にそのソースドレインパスが接
続された選択MO8FBTYso、Yso・・・Ysn
。 Ysnを含む。同図に示される様に、相補データ各のゲ
ート電極は、共通接続されるとともに1上記アドレスデ
コーダADの出力端子に結合される。 上記アドレスデコーダADは、アドレス信号に従って、
択一的に選択状態とされる選択信号Y1・・・Ynを対
応する選択MO8FETYsO,YsO。 ・・・Ysn、Ysnのゲート電極に供給する。したが
って、メモリマットMATO内の一つのメモリセルの選
択は、1つのワード線と1対の選択MO8PETをアド
レスデコーダADによって選択することによって、行な
うことができる。 メモリマットMATOを構成する各メモリセルは、特に
制限されないが、スタティック型メモリセルとされる。 すなわち、第3図に例示的に示される様に、メモリセル
の入出力ノードは、Nチャネル型の伝送ゲートMO8F
ETtrl及びtr2のソース・ドレインパスを介して
、対応する相補データ線対Do 、Doに結合される。 上記伝送ゲ−)MO8PETtrl及びtr2のゲート
電極はワード線W1に結合される。メモリセルは、さら
K、そのドレインとゲートとが交差結合され、そのソー
スが電極端子Veeに結合されたNチャネル型の一対の
駆動MO8FETdl及びd2と、上記駆動MO8FE
Tdl及びd2のそれぞれのドレインと電源端子Vss
と間に結合された負荷抵抗RLI及びRL2を含む。こ
の負荷抵抗R,Ll及びRL2は、高抵抗値とされた多
結晶シリコンで形成することができる。また、この負荷
抵抗RLI及びRL2は一対Pチャネル型のMOSFE
Tで形成することもできる。この場合、負荷抵抗RLI
(RL2)を構成するPチャネル型のMOSFETと駆
動MO8FETdrl(dr2)の各々のゲート電極は
共通接続されて、一つのCMOSインバータが形成され
る。 上記データ入力バッ7アDIBは、n−)−1個の入力
ラッチ回路LT・・・とn+1個の入力ラッチ回路LT
・・・から出力されるECLレベルの出力信号を受ける
n+1個のバッフアゲ−)BGを含む。 各々のバッファゲートBGは、ECL回路又はバイポー
ラ・0M08回路で構成することができる。 バッファゲートBGをECL回路で構成する場合、デー
タ人カバッ7アDIBもしくはライトアンプWAのいず
れかにBi−0M08回路によって形成されたECL−
CMOSレベル変換回路を含ませる必要がある。 上記バッファグー)BGは、入力ラッチ回路LT。 ・・・から出力された出力信号を受けて、相補内部書き
込み信号d w Q −d w Qを形成し、後述され
るライトアンプWAに供給する。上記相補内部書き込み
信号0副〜dwQはそれぞれ、非反転及び反転内部書き
込み信号dwQ、dwo□−dwn、dwnとして図示
される。 ライトアンプWAはn + 1個のライトアンプ回路W
AO〜WAnを含む。各ライトアンプ回路WA O=W
A nはデータ人カバ、7TDIB内の対応するバッフ
アゲ−)BGかも供給される非反転及び反転内部書き込
み信号dwQ、dw□−dwn。 dwnを受ける。各ライトアンプ回路WAO〜WAnの
出力端子は、各メモリマットMATQ〜M A T n
内に設けられた共通データ線対(CDLO。 CDLO)に結合される。それぞれのライトアンプ回路
WA O=WA nはタイミング発生回路TGから供給
されるCMOSレベルのライトパルスφWヲ共通に受け
、ローレベルのライトパルスφWに応答して動作状態と
される。 各ライトアンプ回路WAO−WAnは、0M08回路に
よって構成され、入力される非反転及び反転内部書込み
信号dwQ、dwO−dwn、dwnのレベルに対応す
る様に共通データ線対(CDLO。 CDLO)のレベルをCMOSレベルのハイレベル及ヒ
ローレベル、又はCMOSレベルのローレベル及びハイ
レベルに変化させる。メモリマットMATOのワード線
1及びデータ線対DO,D。 に結合されたメモリセルにデータが書き込まれる場合、
アドレスデコーダADはワードW1を選択レベルとする
とともに、選択レベルとされた選択信号Y1を発生し、
選択MO8FETYsO,Ys0がオン状態とされる。 したがって、ライトアンプWA OKよって変化された
共通データ線対CDLo。 CDLoの電位が相補データ線対Do 、DOに伝達さ
れる。一方、メモリセルMCの伝送MO8FETtrl
及びtr2はオン状態とさせられているため、相補デー
タ線対Do 、DO上の電位は、メモリセルMCの記憶
ノードに伝送される。その結果、駆動MO8FETd
1 、d 2のオン及びオフ状態又はオフ及びオン状態
が決定され、データがメモリセルMCK書きこまれる。 ライトアンプRAは、各メモリマットMATO〜MAT
nK対応し【設けられたライトアンプ回路RAQ−RA
nを含む。第3図には、ライトアンプ回路RAOが詳細
に示されており、他のライトアンプ回NRA1−RAO
も同様な構成とされる。 ライトアンプ回路RAoは、そのエミッタが共通接続さ
れた差動バイポーラトランジスタdbl及びab2と、
その共通エミッタと電源端子Veeとの間にそのソース
・ドレインパスが結合された電流供給用MO8FETC
5Mとを含む。ライトアン7’RA Oは、さらに、上
記トランジスタdblのベースと共通データ線CDLO
との間に設けられたレベルシフト用バイポーラトランジ
スタLSBz及びレベルシフト用ダイオードD1、及び
、上記トランジスタdb2のベースと共通データ、1l
cDL Oとの間に設けられたレベルシフト用バイポー
ラトランジスタL8B2及びレベルシフト用ダイオード
D2を含む。上記MO8FETc、、の制御の為に、上
記MO8FETcsxのゲートと電圧源VIEとの間に
そのソース・ドレインパスが結合されたスイッチ用MO
8FET3wが設けられる。 上記M08FETswのゲートには、リードアンプ選択
回路RASCかも供給されるタイミング信号(選択信号
)φrOが供給される。差動バイポーラトランジスタd
bl及びdb2はセンスアンプとみなされ、そのコレク
タはデータ出力中間アンプDOIAOに結合される。デ
ータ出力中間アン7’DOIAOは、センスアンプから
の相補出力信号C1Cを増嘱し、データ出力バッファD
OBへ供給する。メモリマットMATOからデータを読
み出す場合、上記タイミング信号φrOがハイレベルと
され、上記MO8FETswがオン状態とされる。それ
によって、電圧源VIEの電位がMO8FETcs、の
ゲートに供給されて、そのMO8FETcs、がオン状
態とされる。それによって、動作電流が差動バイポーラ
トランジスタdbl及びdb2に供給される。その状態
において、差動バイポーラトランジスタab1及びdb
2はレベルシフトされた共通データ線対CDLO。 CDLO上の電位をそのベース端子に受ける。上記共通
データ線対CDLO、CDLOの電位は読み出されるべ
きデータに対応してハイレベル及びローレベル又はロー
レベル及びハイレベルトサしているため、ハイレベルの
電位をベースに受ける差動トランジスタがオン状態とさ
れ、他方の差動トランジスタがオフ状態とされる。デー
タ出力中間アンプDOIAOは差動トランジスタdbl
及びab2のコレクタ出力を増憎し、相補内部読出し信
号drQ、droを形成する。上記相補内部読出し信号
drc、droはデータ出力バッファDOBK供給され
、それが動作状態とされていることを条件として、読出
しデータDROとしてチップ外部に出力される。 上記データ出力バッファDOBは、各リードアンプ回路
RA O= RA nから出力される相補内部読出し信
号dro、drO−drn、drnをそれぞれ受ける出
力バッファ回路DB・・・を含む。上記出カバソファ回
路DB・・・は、それぞれ、タイミング信号φoeQ〜
φoenによりて、その動作状態が制御される。各々の
出力バッファ回路DBは、第9図に示される回路構成と
することができる。すなわち、出力バクファ回路DBは
、相補内部読出し信号drQ、drQをそのベースに受
ける差動形態のバイポーラトランジスタT36及びT3
7、上記トランジスタT37のエミッタ・コレクタパス
と並列接続されたエミッタ・コレクタパスヲ持つバイポ
ーラトランジスタT38、上記トランジスタT26及び
T27のコレクタと電源端子Vssとの間に設けられた
負荷抵抗R15及びR16、及び上記トランジスタT3
6及びTa2の共通エミッタと電源端子Veeとの間に
結合された電流源C86とを含む。上記トランジスタT
38のベースは、インバータ回路INVを介してタイミ
ング信号φoeQを受けるようにされる。上記出力バッ
ファ回路DBは、さらに、出力バイポーラトランジスタ
T39を含む。上記出力トランジスタ’1’390ベー
スは上記負荷抵抗R16と上記トランジスタT37のコ
レクタの接続点に結合される。 さらに上記出力トランジスタT39のコレクタは電源端
子Vssoに、そのエミッタは外部出力端子Extに結
合される。すなわち、上記出力トランジスタはオープン
エミッタ出力トランジスタとされる。 上記タイミング信号φOeOがローレベルとされること
によって、コントロールトランジスタT38はオン状態
とされる。したがって、上記出力トランジスタT390
ベース電位は低下し、その出力トランジスタT39はオ
フ状態とされる。 そのため、出力トランジスタT39のエミッタ電位は外
部設けられたプルダウン抵抗(図示せず)によって、は
ぼ回路の接地電位Veeの様な値にされる。一方、上記
タイミング信号φoeQがハイレベルとされることによ
ってコントロールトランジスタT38はオフ状態とされ
る。この時、リードアンプ回路RAOから供給される内
部読出し信号d w O及ヒd w □のハイレベル及
びローレベル又はローレベル及びハイレベルに応答して
、トランジスタT36及びTa2の動作状態が決定され
る。 出カド2ンジスタT36がオン状態とされるとき、上記
外部端子Extの電位は電源端子Vssoから供給され
る回路の電源電位Vssの様なハイレベルとされる。一
方、出力トランジスタT39がオフ状態とされる場合は
、上記で示される様に、外部端子Extの電位は回路の
接地電位Veeの様なローレベルとされる。以上の様に
して、読出しデータDROが読み出される。 上記ブロック選択制御回路B8CCは几+1個の入力ラ
ッチ回路LT及びそれらのラッチ回路LTの出力信号b
kQ〜bklが供給される論理回路LOGICCKTを
含む。上記論理回路LOGICCKTは、更にアドレス
バッファ回路ADHから供給される所定の内部アドレス
信号axを受けて、タイミング信号φoeo〜φoen
を出力する。上記論理回路LOGICCKTは、入力ラ
ッチ回路に2ツチされた内部ブロック選択信号bkO〜
bkl及び内部アドレス信号axにもとづいて、同時に
動作状態とされるべき出力バッファ回路DBを判別し、
その動作状態とされるべき出力バッファ回路DBに一時
的にハイレベルとされるタイミング信号を送出する。上
記タイミング信号φoeQ〜φoenは一種の出力バッ
ファ回路選択信号とみなされる。このブロック選択制御
回路B8CCは、出力されるべき読出しデータのbit
数の細かい制御のために設けられている。それによって
、この半導体メモリの汎用性が拡大される。 上記リードアンプ選択回路RASCは、アドレスバクフ
ァADBから出力される内部アドレス信号aQ、aQ・
・・an 、anの内の所定の内部アドレス信号ayを
受けて、メモリセルに保持されたデータが読み出される
べきメモリマットMATO〜MATnに結合されたリー
ドアンプ回路RAO−RAnを動作状態とさせるための
制御信号φrQ〜φrnを発生する。 上記タイミング発生回路TGは、外部から供給されるラ
イトイネーブル信号WEをラッチするためのラッチ回路
LT及び上記ラッチ回路LTから出力される反転内部ラ
イトイネーブル信号W1を受けて内部書込パルスφWを
発生するライトパルス発生ユ二ッ)WPG UNIT
を含む。上記ライトハルス発生ユニットWPG UN
ITについては、第4図でさらに詳細に説明される。 第4図には、第1図又は第3図の論理機能付メモリのタ
イミング発生回路TGの詳細な回路図が示されている。 同図には、タイミング発生回路TGのうち、上述のライ
トイネーブル信号WEを受ける入力ラッチとパルス拡幅
回路PWE、レベル変換回路LC及び書き込みパルス発
生回路WPGが部分的に示されている。タイミング発生
回路TGの他の回路については、この発明と直接関係が
ないので、説明を割愛する。なお、同図において、チャ
ンネル(バックゲート)部に矢印が付加されるMOSF
ETはPチャンネル型であり、矢印の付加されないNチ
ャンネルMO8FETと区別される。また、図示される
バイポーラトランジスタは、すべてNPN型トランジス
タである。尚、後述されるフリップフロップBFIは第
3図に示されたタイミング発生回路TG内のラッチ回路
LTK対応する。また、パルス拡幅回路PWE、レベル
変換回路LC及び書き込みパルス発生回路WPGは第3
図に示される書き込みパルス発生ユニッ)WPG U
NITに含まれている。 第4図において、論理機能付メモリに供給されるライト
イネーブル信号WEは、フリップフロップ回路BFIの
入力端子りに入力される。フリップフロップ回路BFI
は、特に制限されないが、第5図に示される様なバイポ
ーラトランジスタからなるECLシリーズゲートで構成
することができる。フリップフロップ回路BFIの反転
クロック入力端子Cには、外部から供給される反転クロ
ック信号CPが入力される。この反転クロック信号CP
は、通常ECLレベルのハイレベルとされ、所定の時間
間隔をおいて周期的にロウレベルとされる。フリップフ
ロップ回路BFIの非反転出力信号Qは、内部制御信号
weとして、タイミング発生回路TGの図示されない他
のパルス発生回路に供給される。フリップフロップ回路
BFIの反転出力信号Qは、反転内部制御信号weとさ
れ、ノアゲート回路BGIの一方の入力端子に供給され
る。ノアゲート回路BGIは、第6図に示されるECL
ゲート回路で構成することができる。 すなわち、第6図に示されるように、ノアゲート回路B
GIは、そのベースに反転内部制御信号11を受けるバ
イポーラトランジスタT31.そのベースに反転内部ク
ロック信号「うを受けるバイポーラトランジスタT32
、上記トランジスタT31及びTa2のそれぞれのエミ
ッタが結合されたベースを有するバイボー2トランジス
タT33、上記トランジスタT33と差動形態で結合さ
れかつ、そのベースに基準電位Vbb3が供給されたバ
イポーラトランジスタT34、上記トランジスタT33
と電源端子Veeとの間に設けられた電流源C84、上
記差動トランジスタT33及びTa2の共通エミッタと
電源端子Veeとの間に設ゆられた電流源C85、上記
差動トランジスタT33及びTa2のそれぞれのコレク
タと電源端子Vssとの間に設けられた抵抗手段R12
及びR13、及び、出力バイボー2トランジスタT35
及び抵抗手段R14を含むエミッタ・7才ロワー出力回
路、とを含む。第6図から容易に理解できる様に、反転
内部制御信号we及び反転内部クロック信号ecpが共
にローレベルの期間のみにおい【、出力信号Wτがロー
レベルとされる。 前述のように、この実施例の論理機能付メモリの入力動
作は、反転クロック信号CPに従って同期化される。ま
た、論理機能付メモリの動作モードは、ライトイネーブ
ル信号WEがロウレベルとされるとき読み出し動作モー
ドとされ、またライトイネーブル信号WEがハイレベル
とされるとき書き込み動作モードとされる。ライトイネ
ーブル信号WEは、反転クロック信号CPの立ち下がり
エツジにおいて、フリップフロップ回路BFIに取り込
まれる。その結果、上記内部制御信号we及び反転内部
制御信号W1が選択的にノ・イレベル又はロウレベルと
され、そのサイクルにおける論理機能付メモリの動作モ
ードが決定される。 反転クロック信号CPは、それと実質的に同位相とされ
る反転内部クロック信号○として、パルス拡幅回路PW
Eを構成するトランジスタT1のベースに供給されると
ともに、タイミング発生回路TGの他の回路及び、第3
図に示された入力ラッチ回路LT、・・・、TLに供給
される。 パルス拡幅回路PWEは、上記トランジスタT1と差動
形態とされるトランジスタT2を含む。 トランジスタT1及びT2のエミッタは共通結合され、
さらにトランジスタT3及び抵抗R3を介して、所定の
電源電圧Vesに結合される。トランジスタT3及び抵
抗R3は、差動トランジスタT1・T2に動作電流を供
給する定電流源として機能する。トランジスタT1及び
T2のコレクタは、対応する抵抗R1及びR2を介して
、回路の接地電位にそれぞれ結合される。トランジスタ
T2のベースには、所定のバイアス電圧vb1が供給さ
れる。 これにより、差動トランジスタT1・T2は、反転クロ
ック信号CPに対し、上記バイアス電圧Vblをl1m
理スレッシホルトとする電流スイッチ回路として機能す
る。すなわち、反転クロック信号CPのレベルが、バイ
アス電圧Vblよりも高いECLレベルのハイレベルと
されるとき、トランジスタT1がオン状態となり、トラ
ンジスタT2はカットオフ状態となる。このとき、トラ
ンジスタT1のコレクタ電圧は、トランジスタT3を介
して供給される動作電流値と抵抗R1によって決まる所
定のECLレベルのロウレベルとされる。また、トラン
ジスタT2のコレクタ電圧は、回路の接地電位のような
ECLレベルのノーイレベルとされる。一方、反転クロ
ック信号CPのレベルが、バイアス電圧vb1よりも低
いECLレベルのロウレベルになると、トランジスタT
1はカットオフ状態となり、代わってトランジスタT2
がオン状態となる。このとき、トランジスタTlのコレ
クタ電圧は、回路の接地電位のよ5なECLレベルのハ
イレベルトサレ、トランジスタT2のコレクタ電圧は、
トランジスタT3を介して供給される動作電流値と抵抗
R2によって決まる所定のECLレベルのロウレベルと
される。 トランジスタT1のコレクタと回路の接地電位との間に
は、特に制限されないが、抵抗R1と並列形態にキャパ
シタC1が設けられる。また、トランジスタT2のコレ
クタと回路の接地電位との間には、抵抗R2と並列形態
にキャパシタC2が設けられる。特に制限されないが、
抵抗R2には、さらにダイオードD1が、そのアノード
を回路の接地電位に結合する形で並列形態に設けられる
。 このうち、キャパシタC2は、後述するように、トラン
ジスタT2がオン状態に変化するときに比較的ゆっくり
とディスチャージされ、反転クロック信号CPに対する
パルス拡幅回路PWHの遅延時間tbを決定する。また
、キャパシタC1は、トランジスタT1がオン状態に変
化するときに比較的ゆっくりとディスチャージされ、パ
ルス拡幅回路PWEの出力信号すなわち反転内部クロッ
ク信号i1のパルス幅tw2を決定する。ダイオードD
1は、トランジスタT2がオン状態とされるとき、その
コレクタ電圧が低くなりすぎないようにクランプする作
用を持つ。すなわち、トランジスタT2は、ダイオード
D1によって非飽和動作させられる。 トランジスタT1のコレクタ電圧は、トランジスタT4
及び抵抗R4からなるエミツタ7オロワ回路を介して、
トランジスタT5のベースに供給される。トランジスタ
T5は、トランジスタT6と差動形態とされる。トラン
ジスタT5及びT6の共通結合されたエミッタと回路の
電源電圧Vesとの間には、トランジスタT7及び抵抗
R6からなる定電流源が設けられる。トランジスタT5
のコレクタは、上記トランジスタT2のコレクタに共通
結合され、トランジスタT6のコレクタは、抵抗BI5
を介して回路の接地電位に結合される。 トランジスタT6のベースには、上記バイアス電圧Vb
lが供給される。 これにより、差動トランジスタT5・T6は、トランジ
スタT4のエミッタ電圧すなわちトランジスタT Iの
コレクタ電圧よりトランジスタT4のベース・エミッタ
電圧分だけ低くされた内部信号に対して、バイアス電圧
Vbxを論理スレッシホルトとする電流スイッチ回路と
して機能する。 また、トランジスタT5は、そのコレクタが上記トラン
、ジスタT2のコレクタに共通結合されることで、トラ
ンジスタT2とともにノア(NOR)ゲート回路形態と
される。トランジスタT2及びT5のコレクタ電圧は、
トランジスタT8及び抵抗R7からなるエミツタ7オロ
ワ回路を介して出力され、このパルス拡幅回路PWEの
出力信号すなわち反転内部クロック信号ecpとされる
。反転内部クロック信号ecpは、上述のノアゲート回
路BGIの他方の入力端子に供給される。 パルス拡幅回路PWEは、スの動作により、反転クロッ
ク信号CPの立ち下がりに対して所定の遅延時間tbを
持ち、また反転クロック信号CPのパルス幅t w 1
より大きなパルス@tW2を持つ反転内部クロック信号
ecpを形成する。すなわち、反転クロック信号CPが
・・イレペルとされるとき、・斗うンジスタT1がオン
状態となり、トランジスタT2はカットオフ状態となる
。このとき、トランジスタT1のコレクタ電圧は、EC
Lレベルのロウレベルとされる。また、トランジスタT
2のコレクタ電圧は、回路の接地電位のようすE CL
レベルのハイレベルとされ、キャパシタC2はディスチ
ャージされる。 反転クロック信号CPがノ・イレベルからロウレベルに
変化されると、トランジスタT1がカットオフ状態とな
り、代わってトランジスタT2がオン状態となる。した
がって、トランジスタT2のコレクタ電圧は、所定のロ
ウレベルに変化しようとする。ところが、トランジスタ
T2を介して流される動作電流は当初キャパシタC2の
チャージ電流となることから、そのレベルは徐々にロウ
レベルに変化する。このため、反転内部クロック信号e
cpは、反転クロック信号CPの立ち下がりに対し、キ
ャパシタC2の静電容量によって決まる所定の遅延時間
tbだけ遅れてロウレベルとされる。トランジスタT1
がカットオフ状態となることで、そのコレクタ電圧は回
路の接地電位のようなハイレベルとされ、トランジスタ
T5がオン状態となる。トランジスタT1のコレクタ電
圧がハイレベルとされることで、キャパシタCIがディ
スチャージされる。 次に、反転クロック信号CPが再度ハイレベルとされる
と、トランジスタT1がオン状態となり、トランジスタ
T2はカットオフ状態となる。これにより、トランジス
タT1のコレクタ電圧はロウレベルに変化しようとする
が、トランジスタT1を介して流される動作電流が尚初
キャパシタC1のチャージ電流となることから、そのレ
ベルは除徐にロウレベルに変化する。このため、この間
、トランジスタT5がオン状態を持続し、反転内部クロ
ック信号11は、反転クロック信号CPの立ち上がり変
化に対し、キャパシタC1の静電容量によって決まる所
定の遅延時間tw2だけ遅れてハイレベルとされる。言
うまでもなく、この遅延時間tw2は、反転内部クロッ
ク信号「うのパルス幅を決定する。 ノアゲート回路BGIの反転出力信号は、反転内部信号
jτ(第2の内部信号)として、レベル変換回路LCを
構成するPチャンネルMO8FETQ2のゲートに供給
されるとともに、PチャンネルMO8FETQl及びQ
3のソースに供給される。この反転内部信号Wτは、通
常ハイレベルとされ、上記反転内部制御信号77及び反
転内部クロック信号ecpがともにロウレベルとされる
とき、選択的にロウレベルとされる。 レベル変換回路LCは、回路の接地電位と電源電圧との
間にトーテムポール形態に設けられる2個のバイポーラ
トランジスタT9及びT 10を含む。トランジスタT
9のペースと回路の接地電位との間には、上記M (J
S F E T Q 2が設けられ、またトランジス
タT9のベースと回路の電源電圧との間には、Nチャン
坏ルM(JSFE’l’Q12が設けられる。M U
S F )!; ’L’ Q、 12のケートは、Nチ
ャンネルMO8FETQ11のゲートに共通結合され、
さらにそのドレインに結合される。八108F’ETQ
11(7)/−スは、回路のtst圧KM合される。ま
た、そのドレインと上記M 08 F ETQ2のゲー
トとの間には、上記M OS F B ’l’ Q。 1が設けられる。MO8FETQ、]のゲートには、特
に制限されないが、所定のバイアス電圧vb2が供給さ
れる。これにより、MO8F’Ei’Ql及びQllは
、MO8壬’ETQ12が、上記反転内部信号WCに対
して、上記バイアス電圧■b2によって決まる所定の論
理スレッシホルトを持つように作用する。 一方、トランジスタT10のベーストソノコレクタとの
間には、NチャンネルMO8FETQ14が設けられる
。また、トランジスタ’l’1O(7)ベースと回路の
電源電圧との間には、NチャンネルM(JSFETQ1
5が設けられる。MOS)i”ETQ15のゲートは、
トランジスタTIOのコレクタに共通結合される。M0
8FETQ14のゲートと回路の電源電圧との間には、
NチャンネルMUSFETQ13が設けられる。MO8
FETQ13は、そのゲートがそのドレインに共通結合
されることKよって、ダイオード形態とされる。MO8
FETQ]3のドレインと上記M OS FE ’l’
Q 2のケートとの間には、上記M OS FE i
’ Q 3が設ケラれる。M OS F E ’I’
Q 3のケートには、所定のバイアス電圧vb3が供給
される。これによジ、M (J S P’ E T Q
3及びQ13は、M OS F E’1’ Q14が
、反転内部信号weに対して、バイアス電圧yb3によ
って決まる所定の論理スレッシホルトを持つように作用
する。 トランジスタT9のエミッタ及びトランジスタTIOの
コレクタの共通結合されたノードのレベルは、レベル変
換回路LCの出力信号すなわち内部信号m w cとし
て、タイミング発生回路TGの書き込みパルス発生回路
WPGに供給される。 反転内部信号WCが所定の)・イレペルとされるとき、
MO8FETQ12及びQ14はともにオン状態となり
、M OS l=’ E ’1’ Q 2はオフ状態と
なる。これKより、トランジスタT9は、そのベース電
流が切断され着たそのベース容量がディスチャージされ
ることでカットオフ状態となり、トランジスタTIOは
、そのコレクタ電位が充分低下するまでの間MO8FE
TQI 4を介(5,てペース電流が流されることでオ
ン状態となる。このため、レベル変換回路LCの出力信
号すなわち内部信号m w cは、はぼ回路の電源電圧
のようなCM(JSレベルのロウレベルとされる。一方
、反転内部信号wcが所定のロウレベルとされると、M
OSFET0.12及びQ14Viオフ状態となり、代
わってMO8FETQ2がオン状態となる。これにより
、トランジスタT9がオン状態となり、トランジスタT
10はオフ状態となる。このため、レベル変換回路L
Cの出力信号すなわち内部信号mwcは、回路の接地電
位よりトランジスタT9のベース・エミッタ電圧分だけ
低下されたCMOSレベルのハイレベルとされる。 曹き込みパルス発生回路WPGは、時に制限されないが
、ノアケート回路NOG!及びN0G2が父差接続され
てなるフリップフロ71回路F I”1を基本構成とす
る。ノアケート回路N0GI及びN(JG2を含む書き
込みパルス発生回路WPGの各回路素子は、そのI介と
んどがC〜10Sによって構成される。たとえば、それ
ぞれのノアケート回路N0G1及びN0G2は、第7図
に示される様に、電源端子Vssと出力端子ontと間
でそのソース・ドレインパスがシリーズ接続されたPチ
ャネルM(J8FE’l″Ml及びM2と出力端子Ou
tと電源端子■eeとの間にそのリースドレインバスが
並列接続さねたNチャネルMOS F E’1’M3及
びM4によって、構成することができる。 尚、MO8FE’l’Mx及びM2のゲート電極は、そ
れぞれMQSFETM3及びM4のゲート電極に結合さ
れて、入力端子INl及びIN2を構成する。ノアケー
ト回路N0G1の一方の入力端子は、フリップフロップ
回路F F 1のセット入力端子とされ、上記レベル変
換回路LCから内部信号mwcが供給される。ノアケー
ト回路N0G2の一方の入力端子は、フリップフロ71
回路k” Flのリセット入力端子とされ、インバータ
回路N6の出力信号すなわちリセット信号rwpが供給
される。ノアゲート回路N0GIの出力信号は、フリッ
プフロップ回路FF1の反転出力信号すなわち反転内部
信号wpとして、出力トランジスタT11のベースに供
給される。また、ノアゲート回路N0G2の出力信号は
、フリップフロップ回路FFIの非反転出力信号すなわ
ち内部信号wpとし2て、インバータ回路N2の入力端
子に供給される。インバータ回路N2は、インバータ回
路N3と直列形態とされ、遅延回路DLIを構成する。 インバータ回路N3の出力信号は、ナントゲート回路N
AG1の第2の入力端子に供給されるとともに、4個の
インバータ回路N4〜N5からなる遅延回路DL2を経
て、上記ナントゲート回路NAGIの第3の入力端子に
供給される。ナントゲート回路NAGIの第1の入力端
子には、上記内部信号mwcのインバータ回路N1によ
る反転信号が供給される。ナントゲート回路NAG1の
出力信号は、インバータ回路N6を経て、上記リセット
信号rwpとされる。尚、上記ナントゲート回路は、一
般的なCM(J8ナントゲート回路で構成することがで
きる。 内部信号mWCがCMOSレベルのロウレベルとされる
とき、インバータ回路N1の出力信号はハイレベルとな
る。したがって、その直前においてフリップフロップ回
路F F 1がセット状態とされ内部信号wpがハイレ
ベルであると、リセット信号rwpがハイレベルとなり
、フリップフロッグ回路F F 1はリセット状態とさ
れる。 内ms号mwcがcMosレベルの)1イレベルとされ
ると、インバータ回路N1の出力信号がロウレベルとな
る。それによって、リセット信号rwpは、強制的にロ
ウレベルとされる。したがって、フリップフロップ回路
FF1の内部信号wp出力端子と、そのリセット端子と
の間の経路は、等制約に偶数段のインバータ回路が存在
するため、リングオシレータが存在するように見える。 しかシナがら、インバータNlによって、上記リングオ
シレータの発振が防止される。また、内部信号m w
cがハイレベルとされることで、フリップフロップ回路
FFIの反転出力信号すなわち反転内部信号wpがロウ
レベルとなる。これにより、フリップフロップ回路FF
Iの非反転出力信号すなわち内部信号wpが、ハイレベ
ルとなり、フリップフロッグ回路FFlけいわゆるセッ
ト状態とされる。フリップフロップ回路FF1は、内部
信号mwcがロウレベルに戻された後も、リセット信号
r w pがハイレベルとされるまでセット状態を保持
する。 内部信号wpのハイレベルは、遅延回路DL1及びDL
2を経て、ナントゲート回路NAG1の第2及び第3の
入力端子に伝達される。このとき、内部信号mWCはロ
ウレベルとされインバータ回路N1の出力信号はハイレ
ベルとされることから、リセット信号rwpがハイレベ
ルとなる。このため、フリップフロップ回路FFJはリ
セット状態とされ、反転内部信号wpはハイレベルとな
り、内部信号wpはロウレベルとなる。これらのことか
ら、フリップフロッグ回路FFIの出力信号すなわち反
転内部信号wpは、レベル変換回路LCの出力信号すな
わち内部信号in W Cがハイレベルとされることで
立ち下がり、遅延回路DLI及びDL2の遅延時間に相
当するパルス@を持つネガティブパルスとされる。尚上
述のインバータ回路N1〜N5のそれぞれは、第8図に
示されるPチャネルMO8f”ETM5とNチャネルM
O8FETM6を含むCMOSインバータ回路によって
構成することができる。 書き込みパルス発生回路WPGFi、特に制限されない
が、トーテムポール形態とさねるバイポーラトランジス
タ1111及びTI2を基本構成とするバイポーラ・C
MO8複合駆動回路を含む。トランジスタTllのコレ
クタは回路の接地電位に結合され、そのベースには上記
反転内部信号wpが供給される。トランジスタT12の
エミッタは、回路の電源電圧に結合される。また、トラ
ンジスタTI2のベースとそのコレクタとの間にはNチ
ャンネルMO8FETQI 6が設けられ、そのベース
と回路の電源電圧との間にはNチャンネルMO8FET
Q17が設けられる。M 08 k’ E ’1’ Q
16のゲートVCは、特に制限されないが、レベル変換
回路LCの出力信号すなわち内部信号mwcが供給され
る。また、MO8FETQI 7のケートは、トランジ
スタ’11’ 12のコレクタに共通結合される。トラ
ンジスタTllのエミッタ及びトランジスタT12のコ
レクタの共通結合されたノードのレベルは、−1in込
みパルス発生回路WPGの出力信号すなわち上記反転タ
イミング信号φWとされる。 内部信号m w cがロウレベルとされ反転内部信号W
pがハイレベルとされるとき、トランジスタTllがオ
ン状態となり、トランジスタ’l’12は、MO8FE
TQI 6がオフ状態とされそのペース電流が流されな
いことでカットオフ状態となる。 このため、反転タイミング信号φWは、回路の接地電位
からトランジスタTllのベース・エミッタ電圧分だけ
低くされたCMOSレベルのノ・イレベルとされる。内
部信号mwcがノーイレベルとされ反転内部信号wpが
ロウレベルとされると、トランジスタ’I’lldカッ
トオフ状態となり、代わってトランジスタT12がオフ
状態となる。このため、反転タイミング信号φWは、回
路の電源電圧のようなCMOSレベルのロウレベルとさ
れる。 このようなバイポーラ・CMO8複合、駆動回路が設け
られることで、書き込みノくルス発生回路WPGから出
力される反転タイミング信号φWの駆動能力が拡大され
る。 第10図には、第4図のタイミング発生回路TGの一実
施例のタイミング図が示されている。同図に従って、こ
の冥施例のタイミング発生回路TGの動作の漿要を説明
する。 第10図において、論理機能付メモリは、反転クロック
信号CPの立ち下がり変化に先立ってライトイネーブル
信号WEがハイレベルとされることで、薔き込み動作モ
ードとされる。 タイミング発生回路TGでは、反転クロック信号CPの
立ち下がりエツジにおいてライトイネーブル信号WEが
ハイレベルであることから、ツリツブフロップ回路BF
Iがセット状態とされ、その反転出力信号Qすなわち反
転内部制御信号weがロウレベルとされる。この反転内
部制御信号weは、ノアゲート回路BG1によりて、パ
ルス拡幅回路PWEの出力信号すなわち反転内部クロッ
ク信号ecpと負論理の論理積がとられ、反転内部信号
wcが形成される。前述のように、反転内部クロック信
号ecpは、反転クロック信号CPに対しキャパシタC
2の静電容量によって決まる所定の遅延時間tbだけ遅
延される。また、反転内部クロック信号ecpは、キャ
パシタC1の静電容量によって決まる所定のパルス@t
W2’ft持−Dように設計される。つまり、上記遅延
時間tbは、フリップフロップ回路B F 1の状態遷
移時間をカバーし、反転タイミング信号φWの立ち上が
りタイミングを設定する。また、上記ノくルス幅tw2
は、レベル変換回路LCによるレベル変換動作を充分保
証しつる時間幅とされる。 反転内部信号wcは、レベル変換回路LCによって反転
され、さらにCMOSレベルに変換された後、内部信号
mwcとされる。 書き込みパルス発生回路WPGでは、内部信号mwcが
ハイレベルとされることで、まずフリップフロップ回路
FFIの反転出力信号すなわち反転内部信号wpがロウ
レベルとされる。同時にその非反転出力信号すなわち内
部信号wpはノ・イレベルとされる。ツリツブフロップ
回路F I” 1は、内部信号m w cがロウレベル
に戻された後も、リセット信号rwpがノ・イレベルと
されるまでセット状態を保持する。反転内部信号wpは
、バイポーラ・CMO8複合駆動回路を経て、書き込み
ノ(ルス発生回路WPGの出力信号すなわち反転タイミ
ング信号φWとされる。 内部信号wpが)・イレペルとされてから遅延回路DL
Iの遅延時間td1が経過し、さらに遅延回路DL2の
遅延時間td2が経過すると、リセット信号rwpが7
1イレベルとなる。これにより、フリップフロップ回路
FFIはリセット状態とされ、反転内部信号wp及び反
転タイミング信号φWはハイレベルとなる。リセット信
号rwpは、内部信号wpがロウレベルとされてから遅
延回路DLIの遅延時間ta1が経過すると、ロウレベ
ルに戻される。 以上のように、この実施例の論理機能付メモリの入力動
作は、反転クロック信号CPに従って同期化される。論
理機能付メモリが書き込み動作モードとされるとき、ラ
イトアンプWAに供給される書き込みパルスすなわち反
転タイミング信号φWは、ライトイネーブル信号WEを
上記反転クロック信号CPlCよって取り込んだ後、論
理機能付メモリのタイミング発生回路TG&Cよって自
律的に形成される。反転クロック信号CPは、ECLレ
ベルとされ、ECL論理回路の動作限界にそった極めて
狭いパルス幅を持つものとされる。また、書き込みパル
ス発生回路WPGは、低消費電力化を削減しレイアウト
所要面積を縮小するため、CMO8論理回路によって構
成される。このため、この実施例の論理機能付メモリで
は、1ず反転クロック信号CPをパルス拡幅回路PWH
に入力し、その立ち下がりを所定の遅延時間tbだけ遅
延させるとともに、そのパルス幅をレベル変換回路LC
のレベル変換動作が安定して行われるようなパルス幅t
w2とする。パルス拡幅回路)’W ):の出力信号は
、ライトイネーブル信号WEに従っテ形成される内部制
御信号と陶理績がとられ、レベル変換回路LCttc伝
達され、さらに書き込みパルス発生回路WPGIC供給
される。こilにより、反転クロック信号CPが極めて
小さなパルス幅とされるにもかかわらず、レベル変換回
路LCによるレベル変換動作は安定して行われ、タイミ
ング発生回路TGの書き込みパルス発生回路WPGの動
作が安定化されるものである。 以上の本実施例に示されるように、この発明をバイポー
ラ・CMO8型O8Mを基本構成とするECLインタフ
ェースの論理機能付メモリ等の半導体集積回路装置に適
用した場合、次のような効果が得られる。 (1)極めてパルス幅の狭いクロック信号又はそれに従
って形成される内部信号は、パルス拡幅回路によってそ
のパルス幅が拡幅された後、レベル変換回路に供給され
る。 上記パルス拡幅回路は、上記レベル変換回路のゲート遅
延時間tpdとほぼ同一またはそれ以上のパルス幅をも
つように、パルス幅の狭いクロック信号のそのパルス幅
全拡大する。それによって、レベル変換回路のレベル変
換動作が安定化される。 したがって、上記クロック信号又はそれに従って形成さ
れる内部信号の信号レベルを、確実に所定の信号レベル
に変換できるという効果が得られる0(2)上記(11
項により、例えば論理機能付メモリ等の!き込みパルス
発生回路の動作を安定化[7、タイミング条件を満足し
つる書き込みパルスを形成できるという効果が得られる
。 (3)上記(1)項及び(2)項により、書き込みパル
ス発生回路を含む論理機能付メモリ等の誤動作を防止し
、その信頼性を高めることができるという効果か得られ
る。 以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱し7ない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。例えば、第1図の回
路図において、パルス拡幅回路PVVEは、複数のバイ
ポーラゲート回路を直列形態に接続することで、遅延時
間tb及びパルス幅tW2を況定するものであってもよ
い。 また、書き込みパルス発生回路WPGの遅延回路DLI
及びDL2を構成するC M 08インバ一タ回路の段
数は任意である。ライトイネーブル信号WEや反転クロ
ック信号CP及び反転タイミング信号φW等は、それぞ
れ論理条件が反転されるものであってもよい。パルス拡
幅回路PWE、レベル変換回路LC,書大込みパルス発
生側路WPGは1、電源電圧の極性を反転できれば、N
PN型トランジスタに換えてPNPNP型トランジスタ
ラ、ま九PチャンネルM OS F E ’l’及びN
チャンネルMO8FETを入れ換えて構成することがで
きる。 第1図のブロック図において、メモリセルは0M08に
より構成されるものであってもよいし、メモリアレイM
ARYは複数のメモリマットにより構成されるものであ
ってもよい。さらに、第4図に示されるタイミング発生
回路TGの具体的な回路構成や第1図に示される論理機
能付メモリのブロック構成及び制御信号やタイミング信
号の組み合わせ等1種々の実施形態を採りうる。 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である論理機能付メモリの
書き込みパルス発生回路に適用[7た場合について説明
E7たが、それに限定されるものではなく、例えば、論
理機能付メモリのクロック分配回路等にも適用すること
もできる。この場合、例えば反転クロック信号CPをパ
ルス拡幅回路PWEKよって拡幅してレベル変換[2、
さらKもとのパルス幅に縮小した後、内部クロック信号
として各回路に分配することができる。これによシ、極
めてパルス幅の小さな反転クロック信号CPをもとに%
同様なパルス幅を持つCMOSレベルの内部クロック信
号を得ることができる。この発明は、さらにバイポーラ
・0MO8型1(、AM単体で用いられるものや論理機
能付メモリを含む各種のディジタル装置等にも適用でき
る。本発明は、少なくとも極めて狭いパルス幅の入力信
号のレベル変換処理を必要とする半導体集積回路装置に
広くオリ用できる。 第11図には、山記第1図及び第3図に示されたタイミ
ング発生回路TGの他の実施例が示されている。この実
施例が適用される論理機能付メモリにおいて、そのメモ
リアレイMARAY及びそのメモリマフ トM A T
o −M A T nには、上記複数のメモリセルM
Cと、上記メモリセルと同様な構成とされる1個のダミ
ーセルが含まれているものと見なされる。これらのメそ
リセル及びダミーセルは、特に制限されないが、2個の
CMOSインバータ回路が互いに交差接続されてなるラ
ッチを基本構成とする。すなわち、第3図に示された高
抵抗負荷型スタティックメモリセルはCMOSスタティ
ックメモリセルに変更されて、以下の説明が行なわれる
。ダミーセルは、上記ワード巌及び相補データ線のいず
れにも結合されず、後述するように、タイミング発生回
路TGの蛋き込みパルス発生回路WPGを構成する回路
素子とし7て利用される。 すなわち、第11図に示された上記省き込みパルス発生
回路WPGは、上記ダミーセルと、このダミーセルの出
力信号に従ってそのリセット信号を形成する遅延回路と
を含む。遅延回路の遅延時間は、特に制限されないが、
論理機能付メモリの所定の試験工程においてパッドPs
i〜PS3を介して供給される選択信号S]〜S3に従
って、段階的に設定される。すなわち、上記選択信号8
1〜S3は、上記書き込みパルスのパルス幅を決定する
ために利用される。これらの選択信号81〜S3は、上
記ダミーセルの動作特性に従って選択的に形成される。 つまり、書き込みパルスのパルス幅は、ダミーセルすな
わちこのダミーセルと同様なプロセスバラツキを呈する
メモリセルの動作特性にみあって、設定され、最適化さ
レル。 第11図において、特に制限されないが1 タイミンク
発生回路TGの周辺には、論理機能付メモリの所定の試
験工程において利用されるパッドPwe、Pep、Ps
1〜Ps3及びl’wが設けられる。また論理機能付メ
モリの所定の試験工程において、上記ライトイネ−フル
信号Vl/E及び反転クロック信号CPは、外部に接続
される試験装置から対応するパッドpwe及びPcpy
介して直接供給される。 尚、以下の説明において、特に述べないかぎり、第4図
と同一符号(記号)が付された部分は互いに同一、ある
いは、互いに対応する部分を示している。 第11図に示されたタイミングパルス発生回路TGは、
W、4図と同様に、外部から供給されるライトイネーブ
ル信号WEQ保持するフリップフロップ回路BFIを含
む。さらに、このフリップフロップ回路BFIは、外部
から供給される反転クロックパルスCPのローレベルに
応答して上記ライトイネーブル信号WEをその内部にラ
ッチする。 反転クロック信号CPは、さらに遅延回路BD1の入力
端子に供給される。遅延回路BDIは、I#に制限され
ないが、バイポーラトランジスタからなる電流スイッチ
回路を基本構成とする。遅延回路BL)1の出力信号は
、反転遅延クロック信号dcpとして、ノアゲート回路
BGtの一方の入力端子に供給される。 フリツプフロツプ回路BFIの非反転出力信号Ql−t
、 %に制限されないが、内部ライトイネーブル信号w
eとして、タイミング発生回路TGの図示されない他の
パルス発生回路に供給される。フリップフロップ回路B
F1の反転出力信号Qは、反転内部ライトイネーブル信
号weとされ、上記ノアゲート回路HGIの他方の入力
端子に供給される。ノアゲート回路BGIは、バイポー
ラトランジスタからなるECLシリーズゲート回路を基
本構成とする。 前述のように、この実施例の論理機能付メモリの入力動
作は、反転クロック信号CPに従って同期化される。ま
た、論理機能付メモリの動作モードは、ライトイネーブ
ル信号WEに従って、選択的に読み出し2モード又は書
き込みモードとされる。 ライトイネーブル信号WEは、反転クロック信号CPの
立ち下がりエツジにおいて、フリップフロップ回路BF
IK取り込まれる。 ノアゲート回路BGIの出力信号すなわち内部信号WC
は、レベル変換回路LCのPチャンネルMO8FETQ
2のゲートに供給されるとともて、レベル変換回路LC
のPチャンネルM(JSFETQl及びQ3のソースに
供給される。この内部信号weは、通常ハイレベルとさ
れ、上記反転内部ライトイネーブル信号we及び反転遅
延クロック信号dcρがともにロウレベルとされるとき
、選択的にハイレベルとされる。 レベル変換回路LCは、特に制限されないが、回路の接
地電位と電源電圧との間にトーテムポール形態に設けら
れる2個のバイ゛ポーラトランジスタT1及びT2を含
む。ここで、回路の電源電圧は1%に制限されないが、
例えば−5,2■のような負の電源電圧とされる。トラ
ンジスタT1のベースと回路の接地電位との間には、上
記M OS FETQ2が設けられ、またトランジスタ
T1のベースと回路の電源電圧との間には、Nチャンネ
ルMO8FETQ12が設けられる。M OS F E
TQ12のゲートは、NチャンネルM OS l−”
B ’i’ Qllのゲートに共通結合され、さらに
そのドレインに結合される。MO8FETQIIのソー
スは、回路の電源電圧に結合される。また、そのドレイ
ンと上記M 08 F E T Q 2のケートとの間
には、M 08 FE T Qlが設けられる。MUS
FETQlのゲートには、特Kffflj限されないが
、所定のバイアス電圧yblが供給される。これにより
、MOSF E T Q 1及びQllは、八10sF
ETQ12が上記内部信号wcに対して上記バイアス電
圧Vblによって決まる所定の論理スレッシホルトを持
つように作用する。 一方、 )ランジスタT2のベースとそのコレクタと
の間には、NチャンネルMO8FETQ14が設けられ
る。また、トランジスタT2のベースと回路の電源電圧
との間には、NチャンネルMO8#’l弓i’ Q l
5が設けられる。MUSFETQl5のゲートは、ト
ランジスタ112のコレクタに共通結合される。M(J
SP’E’l’Q14のゲートと回路の電源電圧との間
には、NチャンネルM OS F E1’Q13が設け
られる。MUSFETQl3は、そのゲート及びドレイ
ンが共通結合されることでり′イオード形態とされる。 M(JSFB’l’Q13のドレインと上記M OS
F E i’ Q 2のゲートとの間には、上記M U
SF E ’1’ Q 3が設けられる。MO8F
E T Q 3のゲートには、特に制限されないが、所
定のバイアス電圧Vb2が供給される。これにより、
M OS F E’1’ Q 3及びQl3は、MUS
FETQl 4が上記内部信号WCに対してバイアス電
圧vb2によって決まる所定の論理スレッシホルトを持
つように作用する。 トランジスタT1のエミッタ及びトランジスタT2のコ
レクタの共通結合されたノードの電位は、レベル変換回
路LCの出力信号すなわち反転セット信号spとして、
書き込みパルス発生回路WPGに供給される。 上記内部信号WCが所定のロウレベルとされるとき、M
USFETQl2及びQl4はオフ状態となり、MO8
FE’l’Q2がオフ状態となる。これにより、トラン
ジスタT1はオン状態となり、トランジスタ1゛2はオ
フ状態となる。このため、レベル変換回路LCの出力信
号すなわち反転セット信号spは、はぼ回路の接地電位
のようなCMOSレベルのハイレベルとされる。一方、
内部信号WCが所定のハイレベルとされると、MUSF
ETQ2はオフ状態となり、代わってM OS F’
ETQ12及びQl4がともにオン状態となる。これに
より、トランジスタT1は、そのベース電流が切断され
、またそのベース容量がディスチャージされることでカ
ットオフ状態となり、トランジスタT2/Ii、そのコ
レクタ電位が充分低下するまでの間MO81”ETQ1
4を介【、てペース電流が流されることでオン状態とな
る。このため、レベル変換回路LCの出力信号すなわち
反転セット信号spは、はぼ回路の電源電圧のようなC
MOSレベルのロウレベルとサレル。 書き込みパルス発生回路WPGは、特に制限されないが
、メモリアレイMARYに設けられるダミーセルDCを
基本構成とする。ダミーセルDCは、前述のように1
メモリアレイMA 1(lYの他のメモリセルと同様な
構成とされ、これらのメモリセルとほぼ同様な動作特性
を持つように設計される。ダミーセルDCは、互いに交
差接続されることでラッチ形態とされる2個のCMUS
インバータ回路N1及びN2を含む。インバータ回路N
2の入力端子は、ダミーセルDCの反転セット入力端子
とされ、上記レベルに、換回路LCから反転セット信号
spが供給される。反転セット信号spけ、さらにナン
トゲート回路NAG5の第1の入力端子罠供給されると
ともに、インバータ回路N11によって反転された後、
NチャンネルMOSF’ETQ]6のゲートに供給され
る。 一方、インバータ回路N1の入力端子は、ダミーセルD
Cの反転リセット入力端子とされ、ナントゲート回路N
AG5の出力信号すなわち反転リセット信号rpが供給
される。インバータ回路N1の出力信号は、上記インバ
ータ回路N2の入力端子に供給されるとともに、ダミー
セルl)Cの反転出力信号wpと【7て、出力トランジ
スタT3のベースに供給される。同様に、インバータ回
路N2の出力信号は、上記インバータ回路N1の入力端
子に供給されるとともに、ダミーセルL)Cの非反転出
力信号wpとして、インバータ回路N3の入力端子に供
給される。 インバータ回路N3は、直列形態とされるインバータ回
路N4とともに遅延素子として機能し2、遅延回路DL
Iを構成する。遅延回路DLIの遅延時間ta1は、後
述するように、反転リセットm号rpのパルス@を決定
する。また、後述する遅延回路DL2の遅延時間ta2
とともに、反転タイミング信号φWのパルス幅を決定す
る。インバータ回路N4の出力信号すなわち遅延回路D
Llの出力信号n1は、上記ナントゲート回路NAG5
の第2の入力端子に供給され、さらにインバータ回路N
5の入力端子に供給される。 インバータ回路N5は、直列形態とされるインバータ回
路N6〜NIOととも九遅延素子として機能する。これ
らのインバータ回路N5〜NIOは、ナントゲート回路
NAG1〜NAG4とともに遅延回路L)L2を構成す
る。インバータ回路N6の出力信号は、インバータ回路
N7の入力端子に供給されるとともに、ナントゲート回
路NAG3の一方の入力端子に供給される。また、イン
バータ回路N8の出力信号は、インバータ回路N9の入
力端子に供給されるとともに、テンドケート回路NAG
2の一方の入力端子に供給される。インバータ回路NI
Oの出力信号は、ナントゲート回路NAG1の一方の入
力端子に供給される。これらのナントゲート回路NAG
3 、NiO2及びNAGIの他方の入力端子には、パ
ッドps1〜PS3を介して対応する選択信号81〜S
3がそれぞれ供給される。選択信号5l−83は、特に
制限されないが、上記バッドPa1−PS3が後述する
特性試験の利足結果に従って回路の接地電位又は電源電
圧にボンディングされることで、選択的にハイレベル又
はロウレベルとされる。 ナントゲート回路NAG3 、NiO2及びNAGlの
出力信号は、ナントゲート回路NAG4の第1〜第3の
入力端子にそれぞれ供給される。これにより、ナンドケ
ート回路NAG4の出力信号すなわち遅延回路DL2の
出力信号n2は、ナントゲート回路NAG3 、NiO
2及びNAGIの出力信号のいずれかがロウレベルとさ
れるとき、すなわちインバータ回路N6の出力信号と選
択信号81.インバータ回路N8の出力信号と選択信号
S2あるいはインバータ回路NIOの出力信号と選択信
号S3のいずれかがともにハイレベルとされるとき、選
択的にハイレベルとされる。つ管り、インバータ回路N
3及びN4により遅延されたダミーセルDCの非反転出
力信号wpは、上記選択信号S1がハイレベルとされる
とき、ざらに2個のインバータ回路N5及びN6の遅延
時間分だけ遅延され、遅延回路DL2の出力信号n2と
なる。また、上記選択信号S2あるいはN3がハイレベ
ルとされるとき、さらに4個のインバータ回路N5〜N
8あるいは6個のインバータ回路N5〜NIOの遅延時
間分だけそれぞれ遅延され、遅延回路DL2の出力信号
n2となる。これにより、−M延回路DL2の遅延時間
ta2は、選択信号81〜S3に従って設定される段階
的な複数の値を採りうるものとなる。遅延回路DL2の
遅延時間ta2は、後述するように、上記遅延回路DL
lの遅延時間talとともに上記反転タイミング信号φ
Wのパルス幅を決定する。 ナントゲート回路NAG4の出力信号すなわち遅延回路
DL2の出力信号n2ば、ナンドケート回路NAG5の
第3の入力端子に供給される。ナントゲート回路NAG
5の出力信号は、反転リセット信号rpとL7て、上記
タミーセルL)Cの反転リセット入力端子に供給される
。 上記反転セット信号spが一時的にCNl (J S
l/ベルのロウレベルとされるとき、ナンドケート回路
NAG5の出力信号すなわち反転リセット信号rpはハ
イレベルとなる。このため、インバータ回路N2の出力
信号すなわち夕′ミーセルDCの非反転出力信号wpが
ハイレベルとなり、インバータ回路N1の出力信号すな
わちタミーセルDCの反転出力信号wpはロウレベルと
なる。これにより、ダミーセルDCは、いわゆるセット
状態とされる。ダミーセルiJCは、反転セット信号s
pがハイレベルに戻された後も、反転リセット信号rp
がロウレベルとされるまでの間、このセット状態を保持
する。 ダミーセルl)Cがセット状態とされその非反転出力信
号wpがハイレベルとされると、遅延回路DLIの出力
信号n1がその遅延時間ta1が経過した時点でノ・イ
レベルとされ、また遅延回路DL2の出力信号n2が遅
延回路DL1及びDL2の合計遅延時間ta1−4−t
a2が経過し7た時点でハイレベルとされる。このとき
、反転セット信号spはすでにハイレベルとされること
から、反転リセット信号rpがハイレベルとなる。この
ため、インバータ回路N1の出力信号すなわちタミーセ
ルDCの反転出力信号wpが7・イレベルとfkす、イ
ンバータ回路へ2の出力信号すなわちダミーセルDCの
非反転出力信号wpはロウレベルとなる。 これにより、タミーセルD CFi、いわゆるリセット
状態とされる。ダミーセルDCは、反転セット信号sp
が次にロウレベルとされるまでの間、そのリセット状態
を保持する。 ダミーセルDCがリセット状態とされその非反転出力信
号wpがロウレベルとされることで、インバータ回路N
4の出力信号すなわちDLIの出力信号n1が、その遅
延時間tdlたけ遅れてロウレベルとなる。このため、
ナントゲート回路NAG5の出力信号すなわち反転リセ
ット信号rpは、ハイレベルに戻される。 これらのことから、ダミーセルDCは、レベル変換回路
LCの出力信号すなわち反転セット信号Spが一時的に
ロウレベルとされることでセット状態とされ、遅延回路
DLx及びDL2の合計遅延時間ta1−4−tct2
が経過した時点で反転リセット信号rpが一時的にロウ
レベルとされることでリセット状態とされる。言い換え
るならば、ダミーセルDCの非反転出力信号wpは、反
転セット信号spの立ち下がり工。ヂに同期1.て立ち
下がり、遅延回路1)Ll及びDL2の合計遅延時間t
d1−4−1d2に相当するパルス幅を持つネガティブ
パルスとされる。前述のように、遅延回路DL2の遅延
時間td2は、選択信号81〜S3に従って設定され、
これに従って、上記非反転出力信号wpのパルス幅が設
定される。反転リセット信号rpは、ダミーセルDCが
セット状態とされてから上記遅延回路DLI及びDL2
の合計遅延時間tci1−4−tc+2が経過した後に
立ち下がり、遅延回路DLIの遅延時間ta1’6パル
ス幅とするネガティブパルスとされる。 書き込みパルス発生回路WPGは、さらにトーテムポー
ル形態とされるバイポーラトランジスタT3及びT4i
基本構成とするバイポーラ・CMO8複合[動回路を含
む。トランジスタT3のコレクタは回路の接地電位に結
合され、そのペースには上記ダミーセルDCの反転出力
信号wpが供給される。トランジスタT4のエミッタは
、回路の電源電圧に結合される。また、トランジスタT
4のベースとそのコレクタとの間にはNチャンネルMO
8F’ETQ16が設けられ、そのソースと回路の電源
電圧との間にはNチャンネルMO8FE’l’Q17が
設けられる。MO8FETQtsのゲートIICは、特
に制限されないが、上記反転セット信号Spのインバー
タ回路Nilによる反転信号が供給される。MCrSF
E’l’Qt7のケートは、出力トランジスタT4のコ
レクタに共通結合される。トランジスタT3のエミッタ
及びトランジスタT4のコレクタの共通結合されたノー
ドの電位は、書き込みパルス発生回路WPGの出力信号
すなわち反転タイミング信号φWとされる。この反転タ
イミング信号φWは、特に制限されないが、パッドPW
を介(2て論理機能付メモリのライトアンプWAに供給
される。 ダミーセルDCがリセット状態とされ反転セント信号s
pがハイレベルとされるとき、タミーセルDCの反転出
力信号wphハイレベルとされ、インバータ回路N11
の出力信号はロウレベルとされる。〔7たがりて、トラ
ンジスタT3けオン状態となり、トランジスタT4は、
MOS F’ ETQ16がオフ状態とされそのペー
ス′NL流が流されないことでカットオフ状態となる。 このため、反転タイミング信号φWは、はぼ回路の接地
電位のよp)ICMOSレベルのハイレベルとされる。 反転セット信号spがロウレベルとされ、ダミーセルD
Cがセット状態とされると、トランジスタT3はカット
オフ状態となり、代わってトランジスタT4がオン状態
となる。このため、反転タイミング信号φWけ、はぼ回
路のX源電圧のようなCMOSレベルのロウレベルとさ
れる。このようにバイポーラ・CへqO8複合駆動回路
が設けられることで、誉き込みパルス発生回路VVPG
の出力信号すなわち反転タイミング信号φWのファンア
ウトが増大される。 第12因には、第11図のタイミング発生回路TGの一
実施例のタイミング図が示されている。 第11図及び第12図に従って、この実施例のタイミン
グ発生回路TCの動作の概要を説明する。 々お、第12図には、選択信号S1がハイレベルとされ
る場合が笑巌で示され、 ’!7を選択信号S2又は8
3がハイレベルとされる場合が点線又は−点鎖線でそれ
ぞれ示されている。 第12図において、論理機能付メモリは、反転クロック
信号CPの立ち下がり変化に先立ってライトイネーブル
信号WEがハイレベルとされることで、曹き込み動作モ
ードとされる。 タイミング発生回路′1′Gでは、反転クロック信号C
1’の立ち下がりエツジにおいてライトイネーブル信号
WEがハイレベルであることから、フリップフロップ回
路B F 1がセット状態とされ、その反転出力信号す
なわち反転内部ライトイネ−フル信号weがロウレベル
とされる。この反転内部ライトイネーブル信号weは、
バイポーラゲート回路BGIにおいて、反転遅延クロッ
ク信号dcpと負論理の論理積がとられ、内部信号wc
が形成される。反転遅延クロック信号dcpは、反転ク
ロック信号CPに対して遅延回路BD1の遅延時間tb
だけ遅延される。この遅延時間tbは、フリップフロッ
プ回路BFIの状態遷移時間をカバーするとともに1反
転タイミング信号φWの立ち上がりタイミングを設定す
る。 内部信号WCは、レベル変換回路LCによって反転され
、さらにCMOSレベルに変換された後、反転セット信
号spとされる。 豊き込みパルス発生回路WPGでは、反転セット信号s
pがロウレベルとされることで、まずダミーセルDCの
非反転出力信号wpがハイレベルとなり、つづいてその
反転出力信号wpがロウレベルとなる。ダミーセルDC
は、反転セット信号spがハイレベルに戻された後も、
反転リセット信号rpがロウレベルとされるまでセット
状態を保持する。ダミーセルDCの反転出力信号wpは
、バイポーラ・CM OS複合駆動回路を経て、書き込
みパルス発生回路WPGの出力信号すなわち反転タイミ
ング信号φWとされる。 ダミーセルDCの反転出力信号wpがロウレベルとされ
その非反転出力信号wpがハイレベルと、擺れてから遅
延回路DLIの遅延時間ta1が経遇すると、まず遅延
回路DL1の出力信号n1がハイレベルとなる。また、
遅延回路DL1の出力信号n】がハイレベルとされてか
らさらに遅延回路DL2の遅延時間td2が経過すると
、遅延回路DL2の出力信号n2がハイレベルとなる。 これにより、反転リセット信号rpがロウレベルトなる
。したがって、夕“ミーセルDCけリセット状態とされ
、その反転出力信号wpはハイレベルとなシ、非反転出
力信号がロウレベルとなる。これにより、反転タイミン
ク信号φWはハイレベルとなる。反転リセット信号rp
は、ダミーセルDCの非反転出力信号wpがロウレベル
とされてから遅延回路L)Llの遅延時間talが経過
した時点で、ロウレベルに戻される。 ところで、書き込みパルス発生回路WPGの遅延回路D
L2には、前述のように、ダミーセルDCの動作特性に
応じて、選択的に選択信号81〜S3がバッドPsi〜
P83から供給される。その結果、遅延回路DL2の遅
延時間td2が、上記選択信号81〜83に従って段階
的な異なる値に設定される。特に制限されないが、ダミ
ーセルDCの動作特性の判定は、第12図に示されるよ
うに、反転タイミング信号φWをモニタしながら反転ク
ロック信号CPのパルス@を変化させることにより行わ
れる。すなわち、ダミーセルDCの動作特性が良い万に
バラツキを呈し、その伝達遅延時間が短いと、グミ−セ
ルDCは短いパルス幅の反転クロック信号CPによって
トリ力され、所定のパルス幅を持つ反転タイミング信号
φWが出力される。また、逆にダミーセルDCの動作特
性が悪い方にバラツキを呈し、その伝達遅延時間が長く
なると、ダミーセルDCは短い反転クロック信号CPに
よって反転できず、反転タイミング信号φWは形成され
ない。 前述のように、ダミーセルDCは、メモリアレイMAR
Yを構成する他のメモリセルと閤様な動作特性を持つよ
う九設計される。したがって1反転クロック信号CPの
パルス幅を変化させてダミーセルDCの動作特性を判定
することは、とりもなおさず記憶素子となるメモリセル
の動作特性を判定することに他ならない。 第12図の実施例では、反転クロック信号CPのパルス
幅は3段階に変化され、反転クロック信号CPの各パル
ス幅に応じて、上記選択信号81〜S3が供給される。 これらの選択信号81〜S3は、次の製造工程において
、対応するバッドPSI〜ps3が回路の接地電位又は
電源電圧にボンディングされることで、選択的にノ・イ
レベル又はロウレベルに固定される。この結果、論理機
能付メモリの書き込みパルスすなわち反転タイミンク信
号φWは、メモリセルの動作特性に従りた効果的なパル
ス@を持つものとなる。 以上のように、この実施例の論理機能付メモリの動作は
、反転クロック信号CPK従って同期化され、ライトア
ンプWAK供給される書き込みパルスすなわち反転タイ
ミング信号φWは、タイミング発生回路TGに設けられ
る書き込みパルス発生回路WPGによって自律的に形成
される。メモリプレイMARYは、メモリセルと同様な
構成とされる1個のダミーセルDCを含む。書き込みパ
ルス発生回路WPGは、上記ダミーセルDCと、その非
反転出力信号に従って反転リセット信号rpを形成する
遅延回路を含む。反転タイミング信号φWのパルス幅を
決定する上記遅延回路の遅延時間は、ダミーセルDCす
なわちメモリセルの動作特性に従うて段階的に異なる値
に設定される。このため、この実施例の論理機能付メモ
リでは、書き込みパルス発生回路WPGの構成が比較的
簡素化されるにもかかわらず、メモリセルの動作特性に
応じたパルス幅を有する書き込みパルスを効率的忙形成
できる。これにより、試験工数を削減し、論理機能付メ
モリを低コスト化できるとともに1書き込みパルスのマ
ージンを縮小し、論理機能付メモリt−高速化できるも
のである。 以上の本実施例に示されるように、この発明をバイポー
ラ・CMO8型R,AMを基本構成とするECLインタ
フェースの論理機能付メモリ等の半導体集積回路装置に
適用した場合、次のような効果が得られる。すなわち、 (1) メモリアレイに、メモリセルと同様な構成と
されるダミーセルを設け、賽き込みパルス発生回路を、
上記ダミーセルと上記ダミーセルの出力信号に従ってそ
のリセット信号を形成する遅延回路とを中心に構成し、
上記遅延回路の遅延時間を、上記ダミーセルの動作特性
に従って設定することで、書き込みパルスのパルス幅を
、メモリセルの動作特性にみあって効率良く設定できる
という効果が得られる。 (2)上記(1)項により、論理機能付メモリの試験工
数を削減し、その低コスト化を図ることができるという
効果が得られる。 (3)上記(1)項により、ライトアンプに供給される
書き込みパルスのパルス幅を、メモリセルの動作特性に
従って最適化【2、そのマージンを縮小できる之め、論
理機能付メモリの高速化を図ることができるという効果
が得られる。 以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えは、第11図の実
施例において、遅延回路DLI及びDL2を構成するC
MOSインバータ回路の段数は任意である。ま之、これ
らの遅延回路は、NMO8型又はバイポーラ・CMO8
型O8バータ回路あるいはその他により構成されるもの
であってもよい。ライトイネーブル信号WEや反転クロ
ック信号CP及び反転タイミング信号φW等は、それぞ
れ論理条件が反転されるものであってもよい。曹き込み
パルス発生回路WPGのMO8FETQ16のケートに
は、反転セットm号spのインバータ回路Nllによる
反転信号に代えて、ダミーセルDCの非反転出力信号w
pを入力してもよい。レベル変換回路LCや簀き込みパ
ルス発生回路WPGは、電源電圧の極性を反転できれば
、MOSFET及びバイポーラトランジスタの導電型を
入れ換えて構成することもよい。 選択信号81〜S3は、バッドPsi〜PS3と回路の
接地電位又は電源電圧との間【予め形成される接続配線
を、例えばレーザ等によって選択的に切断することによ
って、選択的に供給されるものであってもよい。第11
図において、メモリプレイMARYを構成するメモリセ
ル及びダミーセルDCは、高抵抗負荷型のインバータ回
路によって構成されるものであってもよい。1次、ダミ
ーセルDCは、メモリアレイMARYの1行文Vii列
にわたって複数個形成されるうちの1個であってもよい
。メモリアレイMARYは、複数のメモリマットによV
構成されることもよい。さらに、W、11図に示される
タイミング発生回路TGの具体的な回路構成及び制御信
号やタイミング信号の組み合わせ等、種々の実施形態を
採りうる。また、第11図に示される遅延回路BDlは
、第4図に示されるパルス拡幅回路PWEに変更されて
も良い。 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である論理機能付メモリに
適用し7た場合について説明したが、それに限定される
ものではなく、例えば、バイポーラ・CMO8型O8M
単体で用いられるものや論理機能付メモリを含む各棟の
ディジタル装置等にも適用できる。本発明は、書き込み
パルス発生回路を内蔵する半導体記憶装置あるいはこの
ような半導体記憶装置を含むディジタル装置に広く利用
できる。 〔発明の効果〕 本願において開示される発明のうち代表的なものKよっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、極めてパルス幅の小さなりロック信号又は
それに従って形成される内部信号を、そのパルス幅をパ
ルス拡幅回路により拡張した後、レベル変換回路に供給
することで、レベル変換回路のレベル変換動作を安定化
し、上記クロック信号又はそれに従って形成される内部
信号の信号レベルを、確実に所定の信号レベルに変換で
きる。これにより、例えば論理機能付メモリ等の書き込
みパルス発生回路の動作を安定化し、書き込みパルス発
生回路を含む論理機能付メモリ等の誤動作を防止E〜て
、その信頼性を高めることができるものである。
第1図は、論理機能付メモリの一実施例を示すブロック
図、 i2図は、本発明者らによって検討された論理mt付メ
モリのタイミング発生回路を示す回路図、第3図は、第
1図の詳細な回路を示し、第4図は、この発明が適用さ
れた論理機能付メモリのタイミング発生回路の一実施例
を示す回路、第5図は、第3図に示され次入力ラッチ回
路LTの具体的な一回路図を示し、 第6図は、第4図に示されたパイボーラノアケ−1−B
GIの具体的な一回路図を示し、第7図は、第4図に示
されたノアケートN0G1及びN0G2の具体的な一回
路図を示し、第8図は、・第4図に示されたインバータ
N1〜N6の具体的な一回路図を示し、 第9図は、第3図に示された出力バラフッ回路DBの具
体的な一回路図を示し、 第10図は、第4図のタイミング発生回路の一実施例を
示すタイミング図、 第11図は、この発明が適用された論理機能付メモリの
タイミング発生回路の他の一実施例を示す回路図、 第12図は、第11図のタイミング発生回路の他の一実
施例を示すタイミング図である。 TG・・・タイミング発生回路、1−’WE・・・パル
ス拡@囲路、LC・・・レベル変換回路、WPG・・・
書き込みパルス発生回路、BFI〜B F 2・・・バ
イポーラフリップ70ツブ画路、FFI・・・CMOS
フリップフロップ回路、BDI 、L)Ll〜1)L2
・・・遅蝿回路、BGI・・・バイポーラノアケート回
路、NAGl・・・CMOSナントゲート回路、N0G
I〜N(JG2・・・CMOSノアゲート回路、Nl−
N6・・・CMOSインバータ回路、Q1〜Q3・・・
PチャンネルMO8FET%Qll〜Q17・・・Nチ
ャンネルMO8FET、Tl〜TI2・・・NPN型バ
イポーラトランジスタ、Dl・・・ダイオード、C1〜
C2・・・キャパシタ、kl〜R7・・・抵抗、M、A
RY・・・メモリアレイ、AD・・・アドレスデコーダ
、ADH・・・アドレスバッファ、WA・・・ライトア
ンプ、几A・・・リードアンプ、DIB・・・データ人
カバッ7ア、DOB・・・データ出力ハッ7ア。 第 2 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図
図、 i2図は、本発明者らによって検討された論理mt付メ
モリのタイミング発生回路を示す回路図、第3図は、第
1図の詳細な回路を示し、第4図は、この発明が適用さ
れた論理機能付メモリのタイミング発生回路の一実施例
を示す回路、第5図は、第3図に示され次入力ラッチ回
路LTの具体的な一回路図を示し、 第6図は、第4図に示されたパイボーラノアケ−1−B
GIの具体的な一回路図を示し、第7図は、第4図に示
されたノアケートN0G1及びN0G2の具体的な一回
路図を示し、第8図は、・第4図に示されたインバータ
N1〜N6の具体的な一回路図を示し、 第9図は、第3図に示された出力バラフッ回路DBの具
体的な一回路図を示し、 第10図は、第4図のタイミング発生回路の一実施例を
示すタイミング図、 第11図は、この発明が適用された論理機能付メモリの
タイミング発生回路の他の一実施例を示す回路図、 第12図は、第11図のタイミング発生回路の他の一実
施例を示すタイミング図である。 TG・・・タイミング発生回路、1−’WE・・・パル
ス拡@囲路、LC・・・レベル変換回路、WPG・・・
書き込みパルス発生回路、BFI〜B F 2・・・バ
イポーラフリップ70ツブ画路、FFI・・・CMOS
フリップフロップ回路、BDI 、L)Ll〜1)L2
・・・遅蝿回路、BGI・・・バイポーラノアケート回
路、NAGl・・・CMOSナントゲート回路、N0G
I〜N(JG2・・・CMOSノアゲート回路、Nl−
N6・・・CMOSインバータ回路、Q1〜Q3・・・
PチャンネルMO8FET%Qll〜Q17・・・Nチ
ャンネルMO8FET、Tl〜TI2・・・NPN型バ
イポーラトランジスタ、Dl・・・ダイオード、C1〜
C2・・・キャパシタ、kl〜R7・・・抵抗、M、A
RY・・・メモリアレイ、AD・・・アドレスデコーダ
、ADH・・・アドレスバッファ、WA・・・ライトア
ンプ、几A・・・リードアンプ、DIB・・・データ人
カバッ7ア、DOB・・・データ出力ハッ7ア。 第 2 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、第1信号レベルを有し、かつ、第1のパルス幅を有
するパルス信号が供給されるべき、外部端子と 上記外部端子に供給された上記パルス信号を受けて、上
記パルス信号の第1パルス幅を、それより大きな第2パ
ルス幅に変換するためのパルス幅拡大手段とを有し、上
記パルス幅拡大手段の出力信号は、上記パルス信号と実
質的に等しい信号レベルを有し、 上記パルス幅拡大手段の出力信号を受け、上記出力信号
の信号レベルをそれより大きな第2信号レベルに変換す
るためのレベル変換手段と上記レベル変換手段の出力信
号を受け、上記レベル変換手段の出力信号によってその
動作が制御される内部回路を有することを特徴とする半
導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63320653A JPH02166697A (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63320653A JPH02166697A (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02166697A true JPH02166697A (ja) | 1990-06-27 |
Family
ID=18123817
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63320653A Pending JPH02166697A (ja) | 1988-12-21 | 1988-12-21 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02166697A (ja) |
-
1988
- 1988-12-21 JP JP63320653A patent/JPH02166697A/ja active Pending
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