JPH0216513B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電子写真法により平版印刷版を製版
することができる電子写真製版材料に関するもの
であり、特に基紙を含む支持体を使用して高耐刷
の平版印刷版を得ることができる電子写真製版材
料に関するものである。

電子写真法により平版印刷版を作成する方法は
公知であり、一般に電子写真製版材料の光導電層
を一様に帯電させ、画像露光したのち、湿式また
は乾式現像してトナー像を得、次いでこのトナー
像を定着したのちに不感脂化液（エツチング液）
で処理してトナー像のない非画像部を親水化して
平版印刷版とされるものである。

かかる電子写真製版材料として、紙支持体を使
用したものが従来より知られているが、この材料
から得られる平版印刷版の耐刷力は3000枚程度で
あつた。この程度の耐刷力しか得られない大きな
原因として、紙支持体への水の浸透がある。即
ち、製版を行つた後、非画像部を不感脂化処理を
する際のエツチング液（水溶液）の浸透、さらに
印刷中における湿し水の浸透が起こり、紙支持体
が水を吸つて伸びたり、ひどいときは紙支持体と
光導電層の間で剥離が起きることもあつた。

一方、画質についても例えば網点再現性を例に
とれば安定に再現出来るのは100線／インチ程度
までであつた。

その原因の１つは、露光時の雰囲気の温湿度条
件により、支持体の含水率が変化し、その結果電
導度が変わり、これが写真性能に影響を与えると
いうことがあつた。

このような問題を解消するため、種々の提案が
なされている。その一例として、支持体としての
基紙と光導電層の間に中間層を設けるものがあ
り、例えば特開昭50−138904号公報にはエポキシ
樹脂の中間層を設けることが、特開昭55−105580
号公報には、エチレン―アクリル酸共重合体、エ
チレン―メタクリル酸共重合体、エチレン―酢酸
ビニル共重合体、エチレン―酢酸ビニル―塩化ビ
ニル元共重合体、エチレンアイオノマーなどのエ
チレン誘導体よりなる中間層を設けることが、ま
た特開昭54−14804号公報にはカーボンブラツク
またはグラフアイトを混合した水性ポリエチレン
エマルジヨンを塗布・乾燥してなる中間層を設け
ることが記載されている。

しかし、上記中間層を設けた電子写真製版材料
のいずれを用いても、依然として耐刷力の優れた
平版印刷版を得ることはできなかつた。

従つて、本発明の目的は、第１の寸度安定性が
良好で耐刷力の優れた平版印刷版を得ることがで
きる電子写真製版材料を提供することであり、第
２に温湿度条件による写真性能の変化が少ない電
子写真製版材料を提供することである。更に、本
発明の別の目的は、優れたハンドリング特性、特
に自動製版機適性を有する電子写真製版材料を提
供することである。

本発明者等は種々研究の結果、基紙の少なくと
も一面にポリオレフインラミネート層を設け、し
かもその体積抵抗が10¹⁰Ω以下である支持体上に
光導電層を設けてなる電子写真製版材料を用いる
ことにより、上記諸目的が達成されることを見い
出した。

上記ポリオレフインとしては、ポリエチレンお
よびポリプロピレンが適しており、ポリエチレン
は密度0.92〜0.96、平均分子量20000〜50000、軟
化点110〜130℃、引張強度130〜300Kg／cm²、体積
固有抵抗10¹⁵Ωcm以上のものが特に好ましく、ま
たポリプロピレンは密度0.85〜0.92、軟化点75〜
170℃、引張強度280〜420Kg／cm²、体積固有抵抗
10¹⁵Ωcm以上のものが特に好ましく、これらの内
でもポリエチレンが最も好ましい。

このようなポリオレフインラミネート層には、
最終的には得られる支持体の体積抵抗が10¹⁰Ω以
下となる様に電子電導性物質が含有させられる。
これにより、湿度変化（特に低湿度になつた場
合）による写真性能の変化を抑えることができ、
画質の優れた高耐刷力の平版印刷版を安定して得
ることが可能となる。特に好ましい電子電導性物
質は、仏国特許第2277136号および米国特許第
3597272号の各明細書に記載されている金属酸化
物、特に亜鉛、マグネシウム、錫、バリウム、イ
ンジウム、モリブデン、アルミニウム、チタン、
珪素からえらばれた金属の酸化物、好ましくは結
晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子、又はカ
ーボンブラツクが用いられる。この中でも導電性
カーボンブラツクは安価で、ポリオレフインと混
和しやすく有利である。

このような電子電導性物質は、支持体の体積抵
抗が10¹⁰Ω以下、より好ましくは10⁸Ω以下、最も
好ましくは10⁶Ω以下となる量使用される。この
ような抵抗値とする為の使用量は、基紙、ポリオ
レフイン、電子電導性物質の種類によつて変わる
ので一概には決定しえないが、一般的な目安を示
せばポリオレフインに対して５〜30重量％の範囲
である。

上述のようなポリオレフインは基紙の少なくと
も一面、より好ましくは両面にラミネート法によ
つて被覆され、この点が本発明の１つの特徴であ
る。このラミネート法によつて被覆することによ
り、画質および耐刷力に優れた平版印刷版を作る
ことができる電子写真製版材料を初めて得ること
が可能となる。ラミネート法としては、湿式法、
乾式法、ホツトメルト法、押出し法などの当業界
で良く知られた方法を使用することができるが、
本発明においては、押出し法が特に好ましい。押
出し法は、ポリオレフインを熔融し、これをフイ
ルムにしてから直ちに基紙に圧着後、冷却してラ
ミネートする方法であり、種々の装置が知られて
いる。

このようにしてラミネートされるポリオレフイ
ン層の厚さは５〜50μの範囲が適当である。5μよ
り薄くなると、基紙に対する防水性が不十分とな
り、一方、50μより厚くした場合にはそれ以上の
性能上の向上は最早望めず、コストアツプとなる
だけである。従つて、好ましい厚さは10〜30μで
ある。

基紙と上記ポリオレフインラミネート層との接
着力を向上させる為、予め基紙上にエチレン―酢
酸ビニル共重合体、エチレン―アクリル酸エステ
ル共重合体、エチレン―メタクリル酸エステル共
重合体、エチレン―アクリル酸共重合体、エチレ
ン―メタクリル酸共重合体、エチレン―アクリロ
ニトリル―アクリル酸共重合体、エチレン―アク
リロニトリル―メタクリル酸共重合体などのポリ
エチレン誘導体を塗布したり、基紙の表面をコロ
ナ放電処理しておくことが好ましい。別法とし
て、特開昭49−24126号、同52−36176号、同52−
121683号、同53−2612号、同54−111331号及び特
公昭51−25337号の各公報に記載されている表面
処理を基紙に施こすこともできる。

一方、本発明に使用される基紙としては、従来
より電子写真感光材料に用いられる導電性基紙な
らば使用でき、例えばイオン伝導性物質や米国特
許第3597272号および仏国特許第2277136号の各明
細書に記載されているような無機金属化合物、カ
ーボンなどの電子電導性物質を紙に含浸させたも
の、又は抄紙時に混合させたものや、特公昭52−
4239号、同53−19031号及び同53−19684号の各公
報に記載された合成紙が使用できる。

上記の如き支持体に設けられる光導電層は、光
導電性物質とバインダーからなり、光導電性物質
としては酸化亜鉛、硫化カドミウム、酸化チタン
などの無機光導電性物質や、フタロンアニン色素
などの有機光導性物質が用いられる。バインダー
としてはシリコン樹脂や、ポリスチレン、ポリア
クリル又はメタクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチラール及び
それらの誘導体などが用いられる。光導電性物質
とバインダーの比は重量比で３：１〜20：１の範
囲で用いられるのが適当である。また必要に応じ
て増感剤や、塗布を行なうときに用いられる塗布
助剤などを添加することができる。このような光
導電層は前記の支持体のポリオレフインラミネー
ト層上に設けられるわけであるが、ポリオレフイ
ンラミネート層の表面を予め、例えば米国特許第
3411908号明細書に記載されているように、コロ
ナ放電処理、グロー放電処理、火焔処理、紫外線
処理、オゾン処理、プラズマ処理などの表面処理
を行なつておくと光導電層との接着力が向上する
ので好ましい。このようにして設けられる光導電
層の厚さは５〜30μの範囲が適当である。

本発明の特に好ましい態様においては、前記支
持体のポリオレフインラミネート層と上記光導電
層との間にコロイド状のシリカ及び／又はアルミ
ナを含む中間層が設けられる。この中間層は、予
めコロイド状アルミナとシリカの結着剤としての
樹脂を水系、場合によつては溶媒に溶解した後、
コロイド状アルミナとシリカを粉体あるいは分散
液の状態から投入し、プロペラ撹拌、超音波分散
など常法の手段で混ぜ合わせ、上記ポリオレフイ
ンラミネート層上に常法により塗布されて形成さ
れる。コロイド状シリカ及びコロイド状アルミナ
は、粒径が１〜100ｍμのものを一般に示し水分
散系の形で入手可能であり、使用目的によつては
有機溶剤と相溶性のよい原材料としても入手が容
易である。このため、中間層として用いられる樹
脂は特に限定する必要はなく、例えば、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリイミド、ポリカーボネ
ート、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリビニルフルオライド、ポリビニルクロ
ライド、ポリビニルアセテート、ポリスチレン、
スチレン―ブタジエン共重合体、ポリメタククリ
レート、シリコン樹脂、塩化ゴム、エポキシ樹
脂、純および変性アルキツド樹脂、ポリエチルメ
タクリレート、ポリ―ｎ―ブチルメタクリレー
ト、酢酸セルロース、ケトン樹脂、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリアクリロニトリル、ロ
ジン誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ニトロセルロ
ース、フエノール―ホルムアルデヒド樹脂、メタ
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、スチレン―無
水マレイン酸共重合体、ポリアクリル酸―ポリア
クリル酸アミド共重合体、フマル酸エチレングリ
コール共重合体、メチルビニルエーテル―無水マ
レイン酸共重合体、アクリロイルグリシン―酢酸
ビニル共重合体、ポリビニルピロリドン、ポリビ
ニルアルコール、ポリアミド、ハロゲン化スチレ
ンなどが用いられる。中間層の被覆量は0.01〜10
ｇ／m²の範囲で用いられる。

本発明の電子写真製版材料を用いて平版印刷版
を作成するには、従来より知られている方法で行
なえばよい。具体的には、光導電層をコロナ帯電
法などで一様に帯電させたのち画像露光して画像
状の帯電像を形成させ、湿式法または乾式法で画
像状にトナーを付着させ、これを加熱などの手段
により定着する。次いでトナーの付着していない
非画像部を下感脂化液で処理して親水化する。不
感脂化液としては、例えば米国特許第4116698号
明細書に記載されている様なフエロシアン化合物
またはフエリシアン化合物を含む組成物や、米国
特許第4282811号明細書に記載されているような
金属錯塩を含む組成物などを使用することができ
る。このようにして作成された平版印刷版を用い
て常法によりオフセツト印刷することにより、画
質のすぐれた印刷物を10000枚以上刷することが
できる。

本発明の電子写真製版材料は支持体として、そ
の体積抵抗が10¹⁰Ω以下であり、しかもポリオレ
フイン層をラミネート法により設けたものを使用
している為、次のような種々の特長を有してい
る。即ち、基紙上に上記ポリオレフインラミネー
ト層を直接設けた態様においては、ポリオレフイ
ン層を設ける際に溶剤を使用しないため、基紙の
導電性またはその均一性が劣化しない。従つて、
特開昭55−105580号公報に記載されているような
ポリエチレン誘導体を溶剤塗布した場合に比べて
電子写真特性の劣化が少なく、極めて良質の画質
が確保されるという利点がある。同様に特開昭54
−14804号公報には低分子量のポリエチレン乳化
エマルジヨン、微粉末ポリエチレン水性分散物ま
たは自己乳化性ポリエチンエマルジヨンをカーボ
ンブラツクと混合した水性分散液を塗布してプレ
コート層とする記載があるが、この方法では基紙
への塗布液の浸み込みのため、カーボンブラツク
またはポリエチレンを充分にミクロ的に均一な薄
膜として設けることが難しく、製造工程でも沈降
が起こり製造し難く、得られる性能、例えば耐水
性や基紙と上記プレコート層との密着性なども充
分でない。しかし、本発明においては、ラミネー
ト法によりポリオレフイン層を設けているため、
このような問題点はない。

また、本発明において、基紙上にポリエチレン
誘導体層を塗布したのちにポリオレフインラミネ
ート層を設けた態様および基紙上に直接ポリオレ
フインラミネート層を設けた態様のいずれについ
ても、ポリオレフインラミネート層の撥水性が極
めて高いために、従来の電子写真製版材料に比べ
て寸度安定性が優れている。更に特開昭48−
28241号公報に基紙と光導電層との間にアルミニ
ウム箔とポリエチレン層を介在させた電子写真感
光材料が記載されているが、本発明においては、
ポリオレフインラミネート層に電子導電性物質が
含有されており、これにより支持体全体としての
体積抵抗が10¹⁰Ω以下とされている為に導電層を
別層として設ける必要がなく、コスト上および製
造上有利である上、アルミニウム箔を設けたため
に生じるクニツクの発生もない。

本発明の電子写真製版材料の性能上の特徴は第
１の耐刷性が飛躍的に向上し10000枚以上刷れる
ことである。第２に露光時の雰囲気条件によつて
感度の変化が少く、すぐれた画質が得られること
であり、例えば湿式現像方式で133線／インチの
網点画像を再現することが出来ることである。第
３にすぐれた自動製版機適性を持ち、自動製版機
で一貫して露光、現像、定着、不感脂化処理を行
つたときに搬送不良などによるヤレ版の発生がほ
とんどないことである。

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。なお、「％」および「部」は特に指定がない
限り、それぞれ重量％および重量部を示すものと
する。

実施例 １ 坪量100ｇ／m²の上質紙にポリビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロライドの５％水溶液
を20ｇ／m²塗布したのち、乾燥して導電性基紙を
得た。この両面にエチレン―アクリル酸メチル―
アクリル酸共重合体（重量比65：30：５）の水性
ラテツクスを乾燥被覆量が0.2ｇ／m²となる様に
塗布・乾燥したのち、ポリエチレン（密度0.92、
平均分子量22000、軟化点112℃）85％および導電
性カーボン15％を熔融混練したペレツト（メルト
インデツクス：３）を用いて押し出し法により、
各面25μの厚さで両面にラミネートして支持体を
得た。この支持体の体積抵抗は10⁸Ωであつた。
次いで、支持体の片面のポリエチレンラミネート
層の表面を5kVA・sec／m²の条件でコロラ放電
処理し、この上に下記組成の塗布液をワイヤー・
バーにより乾燥被覆量が１ｇ／m²となる様に塗
布・乾燥して中間層を設けた。

コロイダルアルミナ （15％水溶液） 50部 コロイダルシリカ （20％水溶液） 20部 ポリ酢酸ビニルエマルジヨン （ダイセル(株)製のセビアンＡ） 150部 界面活性剤（川研フアインケミカル (株)製のアミゾールCDC） 0.1部 水 100部 この中間層の上に、下記組成の塗布液を乾燥被
覆量が20ｇ／m²となる様に塗布・乾燥して光導電
層を設け、本発明の電子写真製版材料を得た。

光導電性酸化亜鉛 （堺化学工業(株)製のサゼツクス2000） 100部 シリコン樹脂 （信越化学工業(株)製のKR―211） 35部 ローズベンガル 0.1部 フルオレセイン 0.2部 メタノール 10部 トルエン 150部 このようにして得られた電子写真製版材料を25
℃、45％RHの暗所に12時間放置したのち、アイ
テツクス135型製版機（アイテツク社製）を用い
て製版した。これをエツチ液（アドレソグラフマ
ルチグラフ社製）で下感脂化処理し、オフセツト
印刷機ハマダスター700で印刷を行つた結果133
線／インチの網点画像を再現する優れた画質の印
刷物が10000枚以上得られた。

実施例 ２ 実施例１で使用した導電性基紙の両面に
5kVA・sec／m²の条件下でコロナ放電処理を施
こしたのち、実施例１の場合と同様にしてポリエ
チレンラミネート層を設けて支持体とした。この
支持体の体積抵抗は10⁸Ωであつた。その後は実
施例１の場合と同様、ポリエチレンラミネート層
の片面をコロナ放電処理し、中間層を設けたの
ち、光導電層を設けて、本発明の電子写真製版材
料を得た。

この材料を使用して、実施例１のときと同様に
製版処理して得た平版印刷版でオフセツト印刷し
たところ、良質の印刷物を10000枚得ることがで
きた。

実施例 ３ 実施例１の場合と同様にして、但し、ポリエチ
レンラミネート層としてポリエチレン（密度
0.92、平均分子量22000、軟化点112℃）90部に対
して、酸化チタン（平均粒子径0.5μ、体積固有抵
抗10²Ωcm）10部を熔融混練したものを用いて、
平版印刷版を作成した。ここで用いた支持体の体
積抵抗は10⁹Ωであつた。この平版印刷版で、画
質のすぐれた印刷物を10000枚刷ることができた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 支持体上に光導電層を有してなり、該支持体
   が基紙の少なくとも一つの面にポリオレフインラ
   ミネート層を有し、体積抵抗が10¹⁰Ω以下である
   ことを特徴とする電子写真製版材料。 ２ 支持体上に光導電層を有してなり、該支持体
   は基紙の両面にポリオレフインラミネート層を有
   し、体積抵抗が10¹⁰Ω以下であることを特徴とす
   る電子写真製版材料。 ３ 光導電層とそれに隣接するポリオレフインラ
   ミネート層の間にコロイド状のシリカおよび／ま
   たはアルミナを含む樹脂層からなる中間層を有す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の
   電子写真製版材料。 ４ 基紙とポリオレフインラミネート層の間にポ
   リオレフイン誘導体の塗布層を有することを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の電子写真製版
   材料。