JPH0215644A - Tab用テープ - Google Patents
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- JPH0215644A JPH0215644A JP16508288A JP16508288A JPH0215644A JP H0215644 A JPH0215644 A JP H0215644A JP 16508288 A JP16508288 A JP 16508288A JP 16508288 A JP16508288 A JP 16508288A JP H0215644 A JPH0215644 A JP H0215644A
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- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- -1 imidazole compound Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 abstract description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 abstract description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 abstract description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 abstract 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 abstract 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 16
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 15
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- ZMAMKNPVAMKIIC-UHFFFAOYSA-N (5-benzyl-2-phenyl-1h-imidazol-4-yl)methanol Chemical compound OCC=1N=C(C=2C=CC=CC=2)NC=1CC1=CC=CC=C1 ZMAMKNPVAMKIIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体デバイスの組み立て工程において、デ
バイスの多ビン化、小型化、高密度実装に際し、注目さ
れているT A B (Tab Autoliated
Bonding)方式に用いられるテープ(以■、′I
″AB用テープ上テープに関する。
バイスの多ビン化、小型化、高密度実装に際し、注目さ
れているT A B (Tab Autoliated
Bonding)方式に用いられるテープ(以■、′I
″AB用テープ上テープに関する。
従来の技術
従来、TAB用テープは、次のように加工されてフィル
ムキャリアテープを形成する。
ムキャリアテープを形成する。
1)スプロケット・デバイスポールをスタンヒンクによ
り穿孔する。2)穿孔されたテープにjIiI箔を熱圧
着した後、加熱により接着剤を石型化させる。
り穿孔する。2)穿孔されたテープにjIiI箔を熱圧
着した後、加熱により接着剤を石型化させる。
3)フォトレジストを塗布し、マスフタ)0して紫外線
等を照射した後、現像する。
等を照射した後、現像する。
4)デバイスホールの裏打ち、銅のエツチング、レジス
ト除去、裏打ちの除去を行い、回路を作成し、ンルダー
レジストをかける。
ト除去、裏打ちの除去を行い、回路を作成し、ンルダー
レジストをかける。
5)a、金メツキを行う。
以上の工程を得て作成されたテープに、チップがインナ
ーリードボンデインクされた後、リードを切断し、プリ
ント基板等にアラターリ−1くポンディングし、樹脂で
封止する。或いは、インナーリードボンデインクした後
、樹脂で封止し、周辺回路も含め切断し、アウターリー
ドホンテインクする。
ーリードボンデインクされた後、リードを切断し、プリ
ント基板等にアラターリ−1くポンディングし、樹脂で
封止する。或いは、インナーリードボンデインクした後
、樹脂で封止し、周辺回路も含め切断し、アウターリー
ドホンテインクする。
接着剤及び有機絶縁フィルムは、周辺回路、封止樹脂中
に桟ることか多い。この様な場合、益々高密度化か進む
中、銅箔のパターン間の絶縁信頼性やチップのA1配線
の腐蝕に影響するイオン性不純物か問題になる。絶縁信
頼性やイオン性不純物は接着剤の特性に起因するところ
が多い。即ち、イオン性不純物は、上記工程3ないし5
において、接着剤がアルカリ(例えば、金メツキ時や、
レジスト、★り離時はカリウムイオンの含有)、酸(例
えは、錫メンキ時は塩素イオン、硫酸イオンの含有)、
エツナンク濯(塩素イオンの含有)などにさらされる2
%に生じたり、また接着剤そのものに含まizでいたり
する場合がある。また、絶縁信頼性は、接着剤の耐湿熱
性、電気抵抗、上記イオン性不純物などにより支配され
る。
に桟ることか多い。この様な場合、益々高密度化か進む
中、銅箔のパターン間の絶縁信頼性やチップのA1配線
の腐蝕に影響するイオン性不純物か問題になる。絶縁信
頼性やイオン性不純物は接着剤の特性に起因するところ
が多い。即ち、イオン性不純物は、上記工程3ないし5
において、接着剤がアルカリ(例えば、金メツキ時や、
レジスト、★り離時はカリウムイオンの含有)、酸(例
えは、錫メンキ時は塩素イオン、硫酸イオンの含有)、
エツナンク濯(塩素イオンの含有)などにさらされる2
%に生じたり、また接着剤そのものに含まizでいたり
する場合がある。また、絶縁信頼性は、接着剤の耐湿熱
性、電気抵抗、上記イオン性不純物などにより支配され
る。
従来用いられてきたT A B用テープの接着剤は、エ
ポキシ系のものであるが、これは、a)加工中にイオン
性不純物(特にCIイオン)が含有されやすい、b)湿
熱により加水分解されやすい、C)電気抵抗か低い、等
の性質により、パターン間の金属移行等を含め、絶縁劣
化が問題になっている。
ポキシ系のものであるが、これは、a)加工中にイオン
性不純物(特にCIイオン)が含有されやすい、b)湿
熱により加水分解されやすい、C)電気抵抗か低い、等
の性質により、パターン間の金属移行等を含め、絶縁劣
化が問題になっている。
したかつて、本発明の目的は、従来のT’ A B用テ
ープにおける上記のような問題を起こすことのない’I
’ A B用テープを提供することに!ンる。
ープにおける上記のような問題を起こすことのない’I
’ A B用テープを提供することに!ンる。
発明か解決しようとする課題
本発明の゛rAB用テープは、有機絶縁フィルム上に、
少なくともポリアミド樹脂及びポリビニルバラフェノー
ル樹脂を含有する接着剤層及び保護層を設けたことを特
徴とするものである。
少なくともポリアミド樹脂及びポリビニルバラフェノー
ル樹脂を含有する接着剤層及び保護層を設けたことを特
徴とするものである。
第1図は本発明の’I’AB用テープ内テープ断面図で
あって、有機絶縁フィルム1の片面に、半硬化状の接着
剤層2と保護層となる保護フィルム3が順次積層された
層構成を有する。
あって、有機絶縁フィルム1の片面に、半硬化状の接着
剤層2と保護層となる保護フィルム3が順次積層された
層構成を有する。
有機絶縁フィルムとしては、厚さ25〜188μm、好
ましくは50〜125μmのポリイミド、ポリエーテル
イミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエ
ーテルケトン等の耐熱性フィルムや、エポキシ樹脂−カ
ラスクロス、エポキシ樹脂−ポリイミド−カラスクロス
等の複合耐熱フィルムからなる有機絶縁フィルムか使用
できる。
ましくは50〜125μmのポリイミド、ポリエーテル
イミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエ
ーテルケトン等の耐熱性フィルムや、エポキシ樹脂−カ
ラスクロス、エポキシ樹脂−ポリイミド−カラスクロス
等の複合耐熱フィルムからなる有機絶縁フィルムか使用
できる。
接着剤層は、熱硬化型のもので半硬化状であることか必
要であり、少なくともポリアミド樹脂及びポリビニルバ
ラフェノール樹脂を含有する、膜厚10〜40tIff
l、好ましくは15〜30μmの層よりなる。
要であり、少なくともポリアミド樹脂及びポリビニルバ
ラフェノール樹脂を含有する、膜厚10〜40tIff
l、好ましくは15〜30μmの層よりなる。
ポリアミド樹脂は、主に有機絶縁フィルムとの接着性、
フレキシビリティ−を得るために加えられるものである
。
フレキシビリティ−を得るために加えられるものである
。
ポリアミド樹脂の分子量はフレキシビリティ−テープと
jIII箔との熱圧着時や、接@荊の硬化時の溶融特性
(デバイスポールからの接着剤のはみ出し)に関連する
ものであって、分子量か低すぎると溶融温度が低くなり
、はみ出しの問題が生じる。
jIII箔との熱圧着時や、接@荊の硬化時の溶融特性
(デバイスポールからの接着剤のはみ出し)に関連する
ものであって、分子量か低すぎると溶融温度が低くなり
、はみ出しの問題が生じる。
また、分子量が高ずぎると銅箔との熱圧1を温度か高く
なり過ぎるという問題か生じる。したがって、本発明に
おいては、分子量30.000〜150.000の範囲
で、軟化温度100〜180°Cのポリアミド樹脂を用
いるのが好ましい。
なり過ぎるという問題か生じる。したがって、本発明に
おいては、分子量30.000〜150.000の範囲
で、軟化温度100〜180°Cのポリアミド樹脂を用
いるのが好ましい。
本発明において使用することかできるポリビニルバラフ
ェノールi+脂は、熱硬化型の樹脂であって、例えば、
次式の横道式を有するものであり、その重合度は、40
〜200の範囲のものが適当である。重合度か40未満
の場合には、接4刑の硬化が不十分になり、耐薬品性も
低Fし、また、電気抵抗も1桁低い。
ェノールi+脂は、熱硬化型の樹脂であって、例えば、
次式の横道式を有するものであり、その重合度は、40
〜200の範囲のものが適当である。重合度か40未満
の場合には、接4刑の硬化が不十分になり、耐薬品性も
低Fし、また、電気抵抗も1桁低い。
(式中、Xは水素原子又はハロゲン原子、nは重合度を
示す) 本発明のT’ A B用テープにおいて、接着剤層には
、更にエポキシ樹脂及びイミダゾール化合物か配合され
ていてもよい。エポキシ樹脂は、ポリアミド樹脂の分子
末端で反応し、またポリビニルバラフェノールとイミダ
ゾール化合物の作用により容易に反応し、耐熱性及び耐
薬品性を向上させる。
示す) 本発明のT’ A B用テープにおいて、接着剤層には
、更にエポキシ樹脂及びイミダゾール化合物か配合され
ていてもよい。エポキシ樹脂は、ポリアミド樹脂の分子
末端で反応し、またポリビニルバラフェノールとイミダ
ゾール化合物の作用により容易に反応し、耐熱性及び耐
薬品性を向上させる。
使用できるエポキシ樹脂としては、ビスフェノールAジ
グリシジルエーテル、エポキシ化フェノ−ルツボラック
、エポキシ化クレゾールノボラック等があけられる。
グリシジルエーテル、エポキシ化フェノ−ルツボラック
、エポキシ化クレゾールノボラック等があけられる。
イミダゾール化合物としては、2−エチル−4−メチル
イミダゾール等のメチルエチルケトン等の汎用溶剤に溶
解するものや、2−フェニル−4−ベンジル−5−ヒド
ロキシメチルイミダゾール等、汎用溶斉りに雑ン容のも
のなどがあげられる。
イミダゾール等のメチルエチルケトン等の汎用溶剤に溶
解するものや、2−フェニル−4−ベンジル−5−ヒド
ロキシメチルイミダゾール等、汎用溶斉りに雑ン容のも
のなどがあげられる。
本発明において、接着剤層の好ましい組成としては、ポ
リアミド樹脂100重量部に対し、エポキシ樹脂9〜8
8重量部、ポリとニルバラフェノール5〜60重量部、
イミダゾール化合物0.03〜10重量部よりなるもの
をあげることかできる。
リアミド樹脂100重量部に対し、エポキシ樹脂9〜8
8重量部、ポリとニルバラフェノール5〜60重量部、
イミダゾール化合物0.03〜10重量部よりなるもの
をあげることかできる。
保護層となる保護フィルムとしては、ポリエチレンテレ
フタレート等のポリエステルフィルムが使用できる。
フタレート等のポリエステルフィルムが使用できる。
次に、本発明のTAB用テープの製造法について説明す
る。第2図は、製造工程を示すもので、保護フィルム3
の上に所定の配合の接着剤を、乾燥後の膜厚か上記の範
囲になるように塗布する。
る。第2図は、製造工程を示すもので、保護フィルム3
の上に所定の配合の接着剤を、乾燥後の膜厚か上記の範
囲になるように塗布する。
この際、半硬化状の状態にするために、その加熱条件は
150〜180”にで2分間乾燥させることが必要であ
る。
150〜180”にで2分間乾燥させることが必要であ
る。
次に、形成された接着剤層3の表面に、有機絶縁フィル
ム1を重ね合わせ、100〜130”Cで11(g/−
以上の条件で熱圧着する。
ム1を重ね合わせ、100〜130”Cで11(g/−
以上の条件で熱圧着する。
得られなT’AB用テーステープされて、例えば幅30
〜40 +ng+で100〜150mの長さの6のが得
られる。
〜40 +ng+で100〜150mの長さの6のが得
られる。
実施例
実施例1
厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムか
らなる保護フィルムに下記組成の接着剤層用塗料を塗布
し、170°Cで2分間加熱乾煙してT模厚20aの接
着剤層を形成した。
らなる保護フィルムに下記組成の接着剤層用塗料を塗布
し、170°Cで2分間加熱乾煙してT模厚20aの接
着剤層を形成した。
ポリアミド樹脂(マク17メルト
6900、ヘンゲル白水社製)の
25%インプロピルアルコール/
トルエン混合溶冴 400部エポキシ樹
脂(エピコート828、 油化シェル社製)45部 ポリビニルバラフェノール (マルカリン力−+12P、 丸首石油化学社製)の50% メチルエチルケトン溶液58部 2−エチル−4−メチルイミダゾール の1%メチルエチルケトン 次に厚さ30μmのポリイミドフィルムからなる有機絶
縁フィルムを重ね合わせ、130°C、1kg/all
の条件で加熱加圧して、’I’AB用テープ全テープた
。
脂(エピコート828、 油化シェル社製)45部 ポリビニルバラフェノール (マルカリン力−+12P、 丸首石油化学社製)の50% メチルエチルケトン溶液58部 2−エチル−4−メチルイミダゾール の1%メチルエチルケトン 次に厚さ30μmのポリイミドフィルムからなる有機絶
縁フィルムを重ね合わせ、130°C、1kg/all
の条件で加熱加圧して、’I’AB用テープ全テープた
。
次に、この゛rAB用テープの保護フィルムを剥離し、
1オンスの電解鋼箔(厚さ35〜40ρ)を貼り合わせ
、130’C、1kg/−の条件で加熱加圧処理を行っ
た。その後更に60°Cで6時間、80℃で6時間、1
20°Cで3時間、及び150°Cで5時間、順次加熱
を行い接着剤層の硬化を行った。更に、常法により銅箔
上にフォトレジスト膜を形成して処理し、@箔をエツチ
ングし、櫛型回路を形成してフィルムキャリアテープを
作成した。
1オンスの電解鋼箔(厚さ35〜40ρ)を貼り合わせ
、130’C、1kg/−の条件で加熱加圧処理を行っ
た。その後更に60°Cで6時間、80℃で6時間、1
20°Cで3時間、及び150°Cで5時間、順次加熱
を行い接着剤層の硬化を行った。更に、常法により銅箔
上にフォトレジスト膜を形成して処理し、@箔をエツチ
ングし、櫛型回路を形成してフィルムキャリアテープを
作成した。
実施例2
接着剤層用塗料として、下コ己組成のらのを用いた以外
は、実施例1と同様にしてゴAB用テープ及びフィルム
キャリアテープを作成した。
は、実施例1と同様にしてゴAB用テープ及びフィルム
キャリアテープを作成した。
ポリアミド樹脂l脂(マクロメルト
6212、ヘンゲル白水社製)の
25%イソプロピルアルコール/
トルエン混合溶液 400部エポキシ樹
脂(エピコート828、 油化シェル社製)45部 ポリとニルバラフェノール (マルカリン力ーS4P、 丸首石油化学社製)の50″X メチルエチルケトン溶液58部 イミダゾール( 2P4HHz、 0.1
5部四国化成社製) 比較例1 接着剤層用塗料として、下記組成のものを用いた以外は
、実施例1と同様にして”r’ A B用テープ及びフ
ィルムキャリアテープを作成した。
脂(エピコート828、 油化シェル社製)45部 ポリとニルバラフェノール (マルカリン力ーS4P、 丸首石油化学社製)の50″X メチルエチルケトン溶液58部 イミダゾール( 2P4HHz、 0.1
5部四国化成社製) 比較例1 接着剤層用塗料として、下記組成のものを用いた以外は
、実施例1と同様にして”r’ A B用テープ及びフ
ィルムキャリアテープを作成した。
ポリアミドtfIt脂(ブラタホンダ
H−995、日本リルサン社製)
のイソプロピルアルコール/水
混合溶液 500部エポキシ樹
脂(エピコート828、 油化シェル社製)50部 ノホラック型フェノール樹脂 (タマノル752、尻上化学社製) の50″Xメチル工チルゲトン溶液50部ジシアンジア
ミドの10%ジメチル ホルムアミド溶冴 5部比較例2 実施例1における接着剤層用塗料から、ポリアミド樹脂
を除いた組成のものを113!川した以外は、実施例1
と同様にしてi’ A B用テープ及びフィルムキャリ
アテープを作成した。
脂(エピコート828、 油化シェル社製)50部 ノホラック型フェノール樹脂 (タマノル752、尻上化学社製) の50″Xメチル工チルゲトン溶液50部ジシアンジア
ミドの10%ジメチル ホルムアミド溶冴 5部比較例2 実施例1における接着剤層用塗料から、ポリアミド樹脂
を除いた組成のものを113!川した以外は、実施例1
と同様にしてi’ A B用テープ及びフィルムキャリ
アテープを作成した。
実施例1〜2、及び比較例1〜2のフィルムキャリアテ
ープに対し、下記の特性評価試験を行った。
ープに対し、下記の特性評価試験を行った。
1.121℃、2atlOO%(PCT)1000時間
処理後の接着剤表面洩れ電流の測定。
処理後の接着剤表面洩れ電流の測定。
2、線間ミニマム60μsパターンを用い、PCIバイ
アス(10ボルト)試験による、PCT中短絡するまで
の時間。
アス(10ボルト)試験による、PCT中短絡するまで
の時間。
3、接着剤のみのイオン性不純物1度(塩素イオン)。
4、初期表面抵抗率(JIS C−6481)。
5゜有機絶縁フィルムとの接着力(JIS C−648
1)。
1)。
6、耐薬品性・・・アセトン溶解量・・・接@刑層の配
合物を加熱硬化させた後、アセトンに30℃で1時間(
超音波下)浸漬した後の重量減少率(%)。
合物を加熱硬化させた後、アセトンに30℃で1時間(
超音波下)浸漬した後の重量減少率(%)。
発明の効果
本発明の’I’ A B用テープは、上記のような構成
を有するから、接着剤自身にイオン性不純物が少なく、
また、エツチング、メツキ等の加工工程中にイオン性不
純物か含有されにくい。またPCT等により絶縁劣化か
従来に比べて起こり難く、パターン間の絶縁信頼性か高
い、したかつて、本発明のT A B用テープは、高密
度化した回路に適用することかり能になる。また、本発
明のTAI3用テーフ゛は、イオン性不純物か少なくリ
ード間の絶縁性に問題が生じないので、チップと外部回
路との接続に使用される際に、リードの数か増えても、
リード部分にテープを残留させることができる。
を有するから、接着剤自身にイオン性不純物が少なく、
また、エツチング、メツキ等の加工工程中にイオン性不
純物か含有されにくい。またPCT等により絶縁劣化か
従来に比べて起こり難く、パターン間の絶縁信頼性か高
い、したかつて、本発明のT A B用テープは、高密
度化した回路に適用することかり能になる。また、本発
明のTAI3用テーフ゛は、イオン性不純物か少なくリ
ード間の絶縁性に問題が生じないので、チップと外部回
路との接続に使用される際に、リードの数か増えても、
リード部分にテープを残留させることができる。
したがって、多ピンチップを実装する場合、ボンディン
グミスか生じ難く、搬送工程、ホンデインク工程等にお
いて、リードの変形か少なく歩留まりが大中に上昇する
。
グミスか生じ難く、搬送工程、ホンデインク工程等にお
いて、リードの変形か少なく歩留まりが大中に上昇する
。
護フィルム。
特許出願人 株式会社巴川製紙所
代理人 弁理士 液部 剛
第1図は本発明の1’AB用テープの模式的断面図であ
り、第2図は本発明のTAB用テープの製造工程図であ
る。 1・・・有機絶縁フィルム、2・・・接着剤層、3・・
・保手 続 ネ… 正 製才 (自発) 昭和63年11月18日
り、第2図は本発明のTAB用テープの製造工程図であ
る。 1・・・有機絶縁フィルム、2・・・接着剤層、3・・
・保手 続 ネ… 正 製才 (自発) 昭和63年11月18日
Claims (3)
- (1)有機絶縁フィルム上に、少なくともポリアミド樹
脂及びポリビニルパラフェノール樹脂を含有する接着剤
層及び保護層を設けてなることを特徴とするTAB用テ
ープ。 - (2)接着剤層が更にエポキシ樹脂を含有することを特
徴とする請求項1記載のTAB用テープ。 - (3)接着剤層がイミダゾール化合物を含有することを
特徴とする請求項1記載のTAB用テープ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16508288A JPH0215644A (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | Tab用テープ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16508288A JPH0215644A (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | Tab用テープ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0215644A true JPH0215644A (ja) | 1990-01-19 |
JPH05857B2 JPH05857B2 (ja) | 1993-01-06 |
Family
ID=15805532
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16508288A Granted JPH0215644A (ja) | 1988-07-04 | 1988-07-04 | Tab用テープ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0215644A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991011821A1 (en) * | 1990-01-23 | 1991-08-08 | Tomoegawa Paper Co. Ltd. | Tape for tab |
JPH04311047A (ja) * | 1991-04-09 | 1992-11-02 | Tomoegawa Paper Co Ltd | フィルムキャリア用接着テープの製造方法 |
JPH0529399A (ja) * | 1991-07-24 | 1993-02-05 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Tab用テープ |
JPH05291356A (ja) * | 1992-04-10 | 1993-11-05 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Tab用テープ |
EP0660407A1 (en) * | 1993-12-20 | 1995-06-28 | Tomoegawa Paper Co. Ltd. | Adhesive for semiconductor device and reinforcing material using the same |
US5523137A (en) * | 1991-07-24 | 1996-06-04 | Tomoegawa Paper Co., Ltd. | Adhesive paper for tape automated bonding |
US5707730A (en) * | 1993-12-20 | 1998-01-13 | Tomoegawa Paper Co. Ltd. | Adhesive for semiconductor device and reinforcing material using the same |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53134365A (en) * | 1977-04-28 | 1978-11-22 | Toray Industries | Semiconductor ic carrier tape and method of producing same |
JPS5714786A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-26 | Seiko Epson Corp | Electronic timepiece equipped with temperature detector |
-
1988
- 1988-07-04 JP JP16508288A patent/JPH0215644A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53134365A (en) * | 1977-04-28 | 1978-11-22 | Toray Industries | Semiconductor ic carrier tape and method of producing same |
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US5290614A (en) * | 1990-01-23 | 1994-03-01 | Tomoegawa Paper Co., Ltd. | Adhesive tapes for tape automated bonding |
US5298304A (en) * | 1990-01-23 | 1994-03-29 | Tomoegawa Paper Co., Ltd. | Adhesive tapes for tape automated bonding |
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JPH0529399A (ja) * | 1991-07-24 | 1993-02-05 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Tab用テープ |
JPH07114222B2 (ja) * | 1991-07-24 | 1995-12-06 | 株式会社巴川製紙所 | Tab用テープ |
US5523137A (en) * | 1991-07-24 | 1996-06-04 | Tomoegawa Paper Co., Ltd. | Adhesive paper for tape automated bonding |
JPH05291356A (ja) * | 1992-04-10 | 1993-11-05 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Tab用テープ |
EP0660407A1 (en) * | 1993-12-20 | 1995-06-28 | Tomoegawa Paper Co. Ltd. | Adhesive for semiconductor device and reinforcing material using the same |
US5707730A (en) * | 1993-12-20 | 1998-01-13 | Tomoegawa Paper Co. Ltd. | Adhesive for semiconductor device and reinforcing material using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05857B2 (ja) | 1993-01-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |