JPH02149659A

JPH02149659A - 浸炭炉

Info

Publication number: JPH02149659A
Application number: JP30264888A
Authority: JP
Inventors: Hideo Shiyouga; 英雄庄賀
Original assignee: Mazda Motor Corp
Current assignee: Mazda Motor Corp
Priority date: 1988-11-30
Filing date: 1988-11-30
Publication date: 1990-06-08
Anticipated expiration: 2013-04-22
Also published as: JP2742074B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明はトンネル方式の炉内で被処理物を間欠送りして
浸炭処理し、浸炭処理後に搬出ベスチブルから被処理物
を搬出する浸炭炉に関する。

（従来の技術）従来より、トンネル方式の炉内で被処理物（例えば歯車
）を間欠送りして浸炭処理を行い、浸炭処理後に降温声
せて搬出ベスチブルから被処理物を搬出する連続型浸炭
炉は知られている。

すなわち、トンネル方式の炉内に、被処理物が支持され
た複数の治具が直線状に移動可能に配設され、入口から
新たな治具がブツシャにて投入されるたびごとに間欠的
に移動するようになっており、予熱された被処理物を所
定温度（例えば９３０℃）まで昇温しく昇温期）、浸炭
性ガス（例えばプロパンガス、ブタンガス）の雰囲気中
を通過させ（浸炭拡散期）、それから、熱歪みを除去す
るために所定温度（例えば８６０℃〜８４０℃）まで降
温させ（降温均熱期）、その後搬出のために搬出ベスチ
ブルヘ移動させ、トンネル部内の雰囲気を安定に保つた
めに一定時間（例えば１分間程度）保持し、焼入れ槽に
搬出するようになっている。

（発明が解決しようとする課題）ところが、そのような浸炭炉はかなりの配置スペースを
必要とし、かつ浸炭処理に一定の時間を必要とするため
、できるだけ生産効率を高めたいという要求がある。

また、従来、浸炭窒化する場合には連続炉での浸炭焼入
れ後、もう−度バッチ炉で再加熱し、窒化処理を行うよ
うにしているため、生産効率が悪い。

本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、設置スペー
スを増やすことなく、搬出ベスチブルを均熱ゾーンとし
て有効に利用し、生産効率を向上させた浸炭炉を提供す
るものである。

（課題を解決するための手段）本発明は、上記目的を達成するために、トンネル方式の
炉内で被処理物を間欠送りして浸炭処理し、浸炭処理後
に搬出ベスチブルから被処理物を搬出するものにおいて
、前記搬出ベスチブルに、前記搬出ベスチブル内に浸炭
性ガスまたは窒化性ガスを導入するためのガス導入管と
、前記搬出ベスチブル内の温度を所定温度に加熱する加
熱手段と、前記搬出ベスチブル内のガス雰囲気を均一化
させるファン手段とが設けられ、前記搬出ベスチブルが
被処理物の搬出後に急速加熱されることを特徴とする。

すなわち、本発明は、従来トンネル部内の雰囲気を安定
化させるための一定時間の保持のみに用いていた搬出ベ
スチブルを、ガス導入管、加熱手段及びファン手段を設
けることによって、浸炭処理または窒化処理のための処
理炉として用いるものである。

（作用）搬出ベスチブル内において、ガス導入管より浸炭性ガス
が導入され、加熱手段による所定温度への加熱とファン
手段による雰囲気の均一化とにより、搬出ベスチブルが
、浸炭処理を実行する炉の一部あるいは窒化処理を実行
する炉として用いられる。

（実施例）以下、本発明の実施例を図面に沿って詳細に説明する。

浸炭炉の構成を示す第１図乃至第３図において、１はト
ンネル方式の浸炭炉で、所定長さのトンネル部２内に、
治具３にセットされた複数の被処理物４が直線状に配列
され、入口側から出口側に向かって昇温、浸炭拡散、均
熱降温処理が順次行われるようになっている。

しかして、トンネル部２の入口から、単位時間ごとに治
具３（トレイ）にセットされた次の被処理物４をブツシ
ャ（図示せず）にて押込むことにより、トンネル部２内
の被処理物４（治具３）を、１対のレール（図示せず）
に沿って上記単位時間に対応した時間間隔で間欠送りす
るようになっている。

上記トンネル部２の出口部分の一側方には開口５が開設
され、該開口５を通じて、被処理物４を搬出するための
搬出ベスチブル６が連設されている。上記開口５にはシ
ャッタ７が開閉可能に配設され、該シャッタ７にてトン
ネル部２の内部と搬出ベスチブル６の内部とが気密的に
仕切られ、トンネル部２内の雰囲気を損なわないように
なっている。

上記トンネル部２の出口部分から搬出ベスチブル６内へ
の被処理物４の移動は、トンネル部２の出口部分に対し
て搬出ベスチブル６とは反対側に設けられたブツシャ８
にて行われるようになっている。

前記搬出ベスチブル６には、前記搬出ベスチブル６内の
温度を均熱温度に加熱する加熱手段としてのバーナ１１
と、前記搬出ベスチブル６内の雰囲気及び温度を均一化
させるファン手段１２と、浸炭性ガスを導入するための
ガス導入管１３が設けられ、それによって搬出ベスチブ
ル６内で浸炭処理がなされるようになっている。なお、
上記バーナ１１は、チューブ内で燃焼させ、その輻射熱
で加熱する間接加熱タイプのものである。

しかして、前記搬出ベスチブル６から、焼入れ処理のた
めに被処理物４を搬出すると、搬出ベスチブル６内の温
度が急速に低下するので、次の被処理物４の処理のため
に搬出ベスチブル６内が急速加熱されるようになってい
る。

また、１５は搬出ベスチブル６に設けられた開閉ドアで
、シリンダ１６によって開閉されるようになっており、
被処理物４の搬出時には、シリンダ１６の作動により開
閉ドア１５を開き、該開閉ドア１５とは搬出ベスチブル
６に関して反対側に設けられたブツシャ１７の作動によ
り被処理物４を焼入れ処理のために焼入れ槽１８へ排出
するようになっている。１９は雰囲気制御のサンプルポ
ンプの配管である。

上記のように構成すれば、治具３を間欠送りする単位時
間に対応する時間の間、搬出ベスチブル６に被処理物４
を保持しておけるので、その保持時間の間搬出ベスチブ
ル６内で浸炭処理を行うことができるようになり、その
分、トンネル部２内での浸炭時間を短縮することが可能
ととなり、したがって、治具３を間欠送りする単位時間
を短くでき、それによって炉スペースを増大させること
なく、生産効率を向上させることができる。

具体的には、例えば治具３を間欠送りする単位時間を１
６分とすれば、タイマ（図示せず）のＯＦＦにより新し
いサイクルが開始して、トンネル部２の最後に位置する
被処理物４を裁置した治具３のブツシャ８による搬出ベ
スチブル６側への移動を開始させ、シャツタフの開放に
より、トンネル部２内から搬出ベスチブル６内に被処理
物４を治具３と共に移動させ、それから上記シャッタ７
を閉じるまでにはほぼ４０〜５０ｓｅｃを要し、また、
タイマのＯＦＦのサイクル終了前に開閉ドア１５を開き
、ブツシャ１７にて被処理物４を焼入れ槽１８に移すた
めに、治具３と共に被処理物４を搬出し、それから開閉
ドア１５を閉じるまでにほぼ３０〜４０ｓｅｃ要するこ
とから、搬出ベスチブル６内に被処理物４を保持してお
けるのが略１３分である。

また、タイマがＯＦＦになり新しいサイクルが開始する
と、バーナ１１によりすなわちバーナ１１に接続された
ブタンガス供給系とエア供給系の供給量を増加させるこ
とにより急速加熱され、２〜３分後（シャッタ７が閉じ
た後はぼ６０ｓｅｃ後）には８４０〜８６０℃となるの
で、その温度状態で被処理物４が栄出ベスチブル６内に
保持される。しかして、被処理物４を搬出するために開
閉ドア１５を開くと、搬出ベスチブル６内の温度は急速
に低下し、被処理物４の搬出が終了して開閉ドア１５を
閉じるときには７００〜７５０℃まで低下する。なお、
上記バーナ１１による急速加熱は、ファン手段１２によ
る撹拌とともに行い、搬出ベスチブル６内の温度及び雰
囲気の均一化を図るようにしているので、生産効率を損
なうことはない。

また、ガス導入管１３よりのガスの導入は、シャツタフ
の開成と同時に開始し、当初所定の雰囲気するために導
入量はＶｌであるが、所定時間経過後、カーボンポテン
シャルが略０．９％になると、導入量が上記ｖｌとそれ
より小さいＶ２との間でコントロールされて雰囲気がカ
ーボンポテンシャル略０，９％（一定）に保たれる。し
かして、開閉ドア１５の開放と同時に、搬出ベスチブル
６内への添加ガスの供給は停止され、カーボンポテンシ
ャルは低下するが、シャツタフの開成により上記制御が
再び繰返される。。

上記実施例では、搬出ベスチブル６を浸炭処理炉の一部
として用いているが、ガス導入管より窒化性ガスを導入
するようにすることで、窒化処理炉として用いることが
できる。このようにすれば、従来浸炭窒化を行う場合に
は、浸炭焼入れ後にバッチ炉で再加熱して窒化処理を行
っていたのが、再加熱の必要がなくなり、浸炭窒化処理
の生産効率が向上する。

（発明の効果）本発明は上記のように構成したから、炉スベスを増やす
ことなく、搬出ベスチブルを浸炭処理炉の一部または窒
化処理炉として有効に利用して、生産効率を向上させる
ことができる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示し、第１図は浸炭炉の要部縦
断面図、第２図は第１図の■−■線における同断面図、
第３図は同要部概略平面図、第４図はタイムチャートで
ある。１・・・・・・浸炭炉、４・・・・・・被処理物、６・
・・・・・搬出ベスチブル、１１・・・・・・バーナ、１２・・・・・・ファン手段、１３・・・・・・ガス導入管

Claims

【特許請求の範囲】

（１）トンネル方式の炉内で被処理物を間欠送りして浸
炭処理し、浸炭処理後に搬出ベスチブルから被処理物を
搬出するものにおいて、前記搬出ベスチブルに、前記搬
出ベスチブル内に浸炭性ガスまたは窒化性ガスを導入す
るためのガス導入管と、前記搬出ベスチブル内の温度を
所定温度に加熱する加熱手段と、前記搬出ベスチブル内
のガス雰囲気を均一化させるファン手段とが設けられ、
前記搬出ベスチブルが被処理物の搬出後に急速加熱され
ることを特徴とする浸炭炉。