JPH0214900A - 熱処理方法 - Google Patents
熱処理方法Info
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- JPH0214900A JPH0214900A JP16403288A JP16403288A JPH0214900A JP H0214900 A JPH0214900 A JP H0214900A JP 16403288 A JP16403288 A JP 16403288A JP 16403288 A JP16403288 A JP 16403288A JP H0214900 A JPH0214900 A JP H0214900A
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Links
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は酸化物単結晶を育成する際、並び励起光により
発生するカラーセンターを酸素雰囲中で、特定の温度保
持条件により減衰させるための熱処理方法に関する。
発生するカラーセンターを酸素雰囲中で、特定の温度保
持条件により減衰させるための熱処理方法に関する。
(従来技術)
YVO4並びNd : YVO4は酸素濃度2.0%雰
囲気ガス中でチョクラルスキー法によって単結晶化が行
なわれている。
囲気ガス中でチョクラルスキー法によって単結晶化が行
なわれている。
育成に用いるイリジウム製るつぼの関係で雰囲気ガス中
の酸素濃度をこれ以上高濃度にすることは困難であるた
め、酸素1度がこのように低い状態で単結晶化しなけれ
ばならない。そのため単結晶中に酸素欠陥が発生し光学
材料として問題になるカラーセンターが生じる。
の酸素濃度をこれ以上高濃度にすることは困難であるた
め、酸素1度がこのように低い状態で単結晶化しなけれ
ばならない。そのため単結晶中に酸素欠陥が発生し光学
材料として問題になるカラーセンターが生じる。
(発明が解決しようとする問題点)
チョクラルスキー法によるYVO4、Nd:YVO4結
晶育成に最適な酸素濃度を確かめるため育成雰囲気中の
酸素濃度を0.1〜2.0%の範囲で種々変えて実験を
行なったところ酸素濃度が2.0%が最良であった。従
って、より高濃度の方が良いことが当然考えられたが、
これ以上育成雰囲気中の酸素濃度を上げることは、育成
に用いるイリジウム製るつぼの消耗が著しく、るつぼの
寿命が短縮されることになるので実行不可能であった。
晶育成に最適な酸素濃度を確かめるため育成雰囲気中の
酸素濃度を0.1〜2.0%の範囲で種々変えて実験を
行なったところ酸素濃度が2.0%が最良であった。従
って、より高濃度の方が良いことが当然考えられたが、
これ以上育成雰囲気中の酸素濃度を上げることは、育成
に用いるイリジウム製るつぼの消耗が著しく、るつぼの
寿命が短縮されることになるので実行不可能であった。
つまり、カラーセンターの発生を抑制する点では不充分
な状況にあった。
な状況にあった。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、チョクラルスキー法で育成したイノトリウム
バナデイト(YVO4)単結晶並びに不純物としてネオ
ジムを添加したイットリウムバナデイト (Nd :
YVO4)単結晶を酸素雰囲気中で1400°C以内の
温度で且つ1時間以上保持することで育成中に、あるい
はレーザ素子として使用する際に励起光により発生した
酸素欠陥を補い光学的に有害なカラーセンターを減衰さ
せることを特徴とする。
バナデイト(YVO4)単結晶並びに不純物としてネオ
ジムを添加したイットリウムバナデイト (Nd :
YVO4)単結晶を酸素雰囲気中で1400°C以内の
温度で且つ1時間以上保持することで育成中に、あるい
はレーザ素子として使用する際に励起光により発生した
酸素欠陥を補い光学的に有害なカラーセンターを減衰さ
せることを特徴とする。
(作用)
本発明の方法、すなわち電気炉中で酸素濃度100%に
して温度1200°Cで10時間保持することで育成中
に生じる酸素欠陥によるカラーセンターを除去できる。
して温度1200°Cで10時間保持することで育成中
に生じる酸素欠陥によるカラーセンターを除去できる。
本発明は育成中の酸素欠陥並び励起光によるカラーセン
ターのいずれの場合でも有効に作用することを特徴とす
る。
ターのいずれの場合でも有効に作用することを特徴とす
る。
(実施例)
以下、本発明は図面を参照して説明する。
第一図は本発明の熱処理方法による分光吸収特性の変化
を示す図である。チョクラルスキー法によって、育成雰
囲気中の酸素濃度2%でyvo4ヲ単結晶化シ、101
1′II+×101′1ffl×30rrImノ試料ヲ
作成して1400〜200.n mの範囲で分光吸収測
定を行なった。
を示す図である。チョクラルスキー法によって、育成雰
囲気中の酸素濃度2%でyvo4ヲ単結晶化シ、101
1′II+×101′1ffl×30rrImノ試料ヲ
作成して1400〜200.n mの範囲で分光吸収測
定を行なった。
未処理の試料では800nm附近より吸光度が増加し始
め、酸素欠陥によるカラーセンターが生じている。この
試料を電気炉中で純酸素を21/min流しつづけ、最
高温度1200°Cで10時間保持したところ、分光吸
収曲線は3のように変化し、約500nm附近よりわず
かづつ増加が始まるようになり酸素欠陥によるカラーセ
ンサーは改善されている。更に前記2または3の試料に
キセノンランプからのパルス光(50ジユルを50回)
を照射し、光吸収が飽和状態1になった試料を前記の熱
処理条件で処理後、再び吸収測定を行ったところ曲線3
に戻り、カラーセンターが除去できることがわかった。
め、酸素欠陥によるカラーセンターが生じている。この
試料を電気炉中で純酸素を21/min流しつづけ、最
高温度1200°Cで10時間保持したところ、分光吸
収曲線は3のように変化し、約500nm附近よりわず
かづつ増加が始まるようになり酸素欠陥によるカラーセ
ンサーは改善されている。更に前記2または3の試料に
キセノンランプからのパルス光(50ジユルを50回)
を照射し、光吸収が飽和状態1になった試料を前記の熱
処理条件で処理後、再び吸収測定を行ったところ曲線3
に戻り、カラーセンターが除去できることがわかった。
(発明の効果)
以上説明したように本発明によれば、高融点中で育成し
た単結晶中の酸素欠陥によるカラーセンター、並びに励
起光によるカラーセンターのいずれも結晶を電気炉中で
雰囲気を純酸素に保ち熱処理することで容易に改善され
る。
た単結晶中の酸素欠陥によるカラーセンター、並びに励
起光によるカラーセンターのいずれも結晶を電気炉中で
雰囲気を純酸素に保ち熱処理することで容易に改善され
る。
第一図は本発明の効果をしらべるための吸収測定の一実
施例の図である。 図中、1.2.3はそれぞれ光吸収が飽和状態、未処理
の状態、本発明の処理を行なった状態の曲線である。
施例の図である。 図中、1.2.3はそれぞれ光吸収が飽和状態、未処理
の状態、本発明の処理を行なった状態の曲線である。
Claims (1)
- イットリウムバナデイト(YVO_4)単結晶あるいは
不純物としてネオジムを添加したイットリウムバナデイ
ト(Nd:YVO_4)単結晶を酸素雰囲気中で140
0℃以内の温度で、且つ1時間以上保持することを特徴
とする熱処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16403288A JPH0214900A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 熱処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16403288A JPH0214900A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 熱処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0214900A true JPH0214900A (ja) | 1990-01-18 |
Family
ID=15785515
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16403288A Pending JPH0214900A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 熱処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0214900A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1041004C (zh) * | 1995-08-15 | 1998-12-02 | 中国科学院物理研究所 | 掺镱的钒酸钇激光晶体及其制备方法 |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP16403288A patent/JPH0214900A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1041004C (zh) * | 1995-08-15 | 1998-12-02 | 中国科学院物理研究所 | 掺镱的钒酸钇激光晶体及其制备方法 |
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