JPH02148429A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、ＣＤ−ＲＯＭ等に用いられる光ディスクに関
するものである。

［従来の技術］ 近年、コンパクトディスクにコンピュータ用のデジタル
情報を記録した光ディスク、いわゆるＣＤ−ＲＯＭが普
及してきており、文献情報の検索等に盛んに利用されて
きているが、このＣＤ−ＲＯＭは基本的にはコンパクト
ディスクと同じ構造を有している。

第２図は従来の光ディスクを半径方向に切断した断面図
である。第２図に示すように、ポリカポネート等の熱可
塑性樹脂からなる透明基板１の表面には符号化された記
録情報に対応する凹凸パターンが形成され、この凹凸パ
ターンの形成された透明基板１の表面には蒸着法等によ
りＡ！等の反射率の高い金属からなる反射膜２および保
護膜４が順次積層された構造となっている。

ここで、前）ホした凹凸パターンを有する透明基板１の
形成は通常、割出成形法を用いて行われる。

この射出成形法は、例えば、真利藤雄、林謙二共著「Ｃ
Ｄプレーヤ入門」第２５頁（コロナ社、　１９８３年）
に開示されているように、マスタリングプロセスを経て
形成されたマザースタンパに、軟化させた゛ポリカーボ
ネート樹脂を射出し、前記ポリカーボネート樹脂が硬化
した後、マザースタンパから剥離し、マザースタンパの
凹凸パターンを射出したポリカーボネート樹脂上に転写
して、凹凸パターンを有する基板を形成する方法である
。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上述した従来の光ディスクにおいては、
以下に述べるような問題点があつ゛た。即ち、基板表面
に形成する凹凸パターンは通常、幅０．４ＩＪＩｎ前後
、長さ０．９〜３．３如の極めて微細な凹凸パターンで
あり、このため凹凸パターンを射出成形法を用いてマザ
ースタンパからポリカーボネート樹脂製の透明基板１に
転写する際に、凹凸パターンの欠け、突起、パリ等が発
生することがあり、光ディスクの製造工程上大きな問題
となっていた。特にＣＤ−ＲＯＭの場合には従来のコン
パクトディスクに較べて格段の信頼性が求められている
ことから、前述の問題点をいかに解決するかが、大きな
課題となっているのが現状である。

また、既に述べたように、従来の光ディスクでは、反射
ＩＩ！２は凹凸パターンを有する透明基板１の上の全面
に形成される。ところで、本発明者らの検討によれば、
凹凸パターン上に成膜された反射膜２と透明基板１との
密着不良（反射膜２の透明基板１からの浮き上がり）の
殆どが、凹凸パターンの凹部と凸部の境界で発生するこ
とが明らかとなった。更に、従来構造のＣＤ−ＲＯＭを
長時間放置した時の反射膜２の腐食発生箇所を評価した
結果、やはり凹凸パターンの凹部と凸部の境界を中心と
して、反射膜２の腐食が多く発生することが明らかとな
った。

このような、反射膜２の密着不良あるいは腐食は、当然
のことながら光ディスクの信頼性を著しく損なうもので
あり、前述の射出成形時の突起。

パリ等の問題と同様、大きな問題となっている。

この反射膜の密着不良・腐食の問題の改善も、より高い
信頼性を求められるＣＤ−ＲＯＭにとっては、極めて重
要な問題と言える。このような反射膜の密着不良や腐食
の発生原因は、未だ不明な点も多いが、密着不良の一因
は凹部と凸部の境界での応力集中により反射膜が大きな
力を受けるためと考えられる。また、反射膜の腐食につ
いては、凹部と凸部の境界で反射膜の膜質が劣化するこ
と、密着不良の場合と同様に応力集中により、いわゆる
応力腐食が起こり、腐食が促進されることが原因と考え
られる。

本発明は、以上述べたような従来の問題点を解決するた
めになされたもので、反射膜における密着不良や腐食発
生がなく、高い信頼性を有すると共に、パターン化され
た反射膜以外の領域での不要な反射を抑制し、Ｓ／Ｎ比
の高い光ディスクを提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、透明円板状基板上に、所定のデジタル情報に
対応した金属膜パターンよりなる反射膜と、Ａ（ｊ、Ｋ
またはＯＬ＋の塩化物のうち、少なくとも一種からなる
塩化物膜と、保護膜とが順次積層されてなることを特徴
とする光ディスクである。

本発明において、所定のデジタル情報に対応した金属膜
パターンは、円板状の透明基板の上に金属膜からなる反
射膜を成膜した後、この反射膜を選択的にエツチングす
ることによって形成することができる。

［作用］ 本発明では、平坦な表面を有する円板状の透明基板の上
に、所定のデジタル情報に対応した金属膜パターンが形
成されている。このため従来の光ディスクで問題となっ
ていた凹凸パターンの凹部と凸部の境界における反射膜
の密着不良や腐食の問題が生じることがない。

また、本発明者らの検討によれば、塩化銀薄膜。

塩化カリウム薄膜、あるいは塩化銅薄膜（膜厚はいずれ
も０．５〜１．０庫）のレーザ光（波長７８００ｍ　）
に対する反射率は１０〜２０％と小さなものであった。

従って、これらの塩化物薄膜のうち少なくとも１つから
なる塩化物膜を、前述したパターン化された反射膜を含
む透明基板上に設けることによって、前記反射膜の存在
しない領域での不必要な反射を抑制することが可能とな
り、高いＳ／Ｎ比を有する光ディスクが実現される。

［実施例］ 以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明の一実施例の光ディスクを半径方向に切
断した断面図である。第１図に示す光ディスクの製造方
法は、まず強化ガラスからなる透明基板１の上にＡで膜
を０．１５卯の厚さに成膜する。へβ膜の成膜には電子
ビーム蒸着法を用い、その蒸着条件は到達真空度３ｘｌ
Ｏ’　Ｔｏｒｒ　、エミッション電流８５ｍＡ　、蒸着
時の基板温度７０℃とした。次いで、デジタル情報に対
応したパターンを有するフォトレジスト膜を前記のＡｌ
膜上に形成し、前記フォトレジスト膜をマスクとして前
記へ！膜をイオンエツチングにより除去して、反射膜３
を形成する。その後、フォトレジスト膜を有機溶媒ある
いは酸素アッシングにより除去する。

次いで、抵抗加熱蒸着法によりＡｇ、　ＫまたはＣＬＩ
の塩化物を蒸着し、これらの塩化物の少なくとも１つよ
りなる塩化物膜５を前記反射膜３を含む透明基板１表面
全面にわたって成膜する。塩化物の成膜条件は到達真空
度３ｘｔＯ−７Ｔｏｒｒ　、るつぼへの通電電流は２Ａ
であり、使用したるつぼは白金製ボートである。また、
蒸着時の基板温度は７０’Ｃとし、塩化物膜５の膜厚は
０．８〜１．０席とした。その後、酸化珪素膜からなる
保護膜６を塩化物膜５上に成膜する。保護膜６の成膜に
はスパッタリング法を用い、その成膜条件はＡｒガス圧
力５　ｘｌＯ’　Ｔｏｒｒ　、投入電力４００Ｗで、成
膜した膜厚は２卯である。

以上のようにして得られた光ディスクでは、微細な凹凸
パターンを射出成形法で透明基板１の上に形成する必要
が無いため、従来射出成形時の凹凸パターンの欠け、突
起、パリ等の発生という問題点は解決し、光デイスク製
造工程での歩留まりが大幅に向上した。また、平坦な基
板面上にパターン化した反射膜を形成する構造であるた
め、従来の光ディスクで問題となっていた凹凸パターン
の凹部と凸部の境界での反射膜の密着不良や腐食の発生
も見られなかった。

更に、本実施例による光ディスクのＳ／Ｎを測定したと
ころ、従来構造の光ディスクのＳ／Ｎに比較して約１．
６倍の高いＳ／Ｎを示し、塩化物膜５を形成しなかった
以外は本実施例と同一の構造を持つ光ディスクに比較し
ても約１，３倍の高いＳ／Ｎを示した。

このように、本発明による光ディスクは、従来の光ディ
スクに比較して高い信頼性を有し、コンピュータ用のデ
ジタル情報を記録するＣＤ−ＲＯＭとして優れた特性を
具備することが確認された。

また、それと同時に、従来構造の光ディスクあるいは塩
化物膜５を形成しなかった場合に比較して、高いＳ／Ｎ
を持つことが確認された。

なあ、上記の実施例では反射膜３の材料としてへ２膜を
用いたが、他の高反射率材料、例えばＡＬＪ、Ａｇ、　
Ｔａ、　Ｔ＊Ｎ、ｚｒＮ等を用イテもよい。また、実施
例中では塩化物膜５として、塩化銀、塩化カリウム、塩
化銅を単独に使用した例のみを述べたが、これらを混合
したもの、あるいは積層したものを塩化物１５として使
用してもよい。

［発明の効果］ 以上述べたように、本発明の光ディスクは、平坦な透明
基板上に反射膜を成膜した後、この反射膜をエツチング
によりパターン化することによりデジタル情報を記録す
るため、従来射出成形時に多く発生していた凹凸パター
ンの欠け、突起、パリ等の問題は解決し、光デイスク製
造工程での歩留まりが大幅に向上する。

また、基板上に予め形成された凹凸パターン上に反ｔｊ
ＪｇＩを成膜する必要が無いため、従来凹凸パターンの
凹部と凸部の境界で発生していた反則膜の密着不良や腐
食を抑制することが可能となり、高い信頼性をもつ光デ
ィスクが実現される。

更に、所定波長のレーザ光に対して反射率が極めて小さ
な塩化物膜を前記反射膜を含む透明基板の表面上に成膜
することにより、前述したパターン化された反射膜の存
在しない領域での不必要な反射′を抑制することが可能
となり、高いＳ／Ｎを有する光ディスクが実現される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例による光ディスクの半径方向
の断面図、第２図は従来の光ディスクの半径方向の断面
図である。 １・・・透明基板　　　２，３・・・反射膜４．６・・
・保護膜　　５・・・塩化物膜代 理 人

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明円板状基板上に、所定のデジタル情報に対応
   した金属膜パターンよりなる反射膜と、Ａｇ、Ｋまたは
   Ｃｕの塩化物のうち、少なくとも一種からなる塩化物膜
   と、保護膜とが順次積層されてなることを特徴とする光
   ディスク。