JPH02147631A - 熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステル及びその製造法 - Google Patents
熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステル及びその製造法Info
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- JPH02147631A JPH02147631A JP63300616A JP30061688A JPH02147631A JP H02147631 A JPH02147631 A JP H02147631A JP 63300616 A JP63300616 A JP 63300616A JP 30061688 A JP30061688 A JP 30061688A JP H02147631 A JPH02147631 A JP H02147631A
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Classifications
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は寸法安定性に優れた熱可塑性の液晶性全芳香族
ポリイミドエステル及びその製法に関する。さらに詳し
くは、流動方向(MD)とそれに直角方向(TD)共に
優れた寸法安定性、寸法精度を要求される電気・電子部
品、特に精密射出成形品分野あるいはフィルム、シート
、繊維分野などにおいて好適に用いられる新規なポリイ
ミドエステルに関する。
ポリイミドエステル及びその製法に関する。さらに詳し
くは、流動方向(MD)とそれに直角方向(TD)共に
優れた寸法安定性、寸法精度を要求される電気・電子部
品、特に精密射出成形品分野あるいはフィルム、シート
、繊維分野などにおいて好適に用いられる新規なポリイ
ミドエステルに関する。
近年、MDで線膨張係数が極めて小さい熱可塑性樹脂が
知られるようになった。これらはサーモトロピック液晶
高分子と呼ばれる一群の樹脂で、例えば、特公昭63−
3888号公報、特開昭59−30821号公報、特開
昭59−78232号公報、特開昭58−45224号
公報などに記載されている全芳香族ポリエステルなどを
挙げることができる。
知られるようになった。これらはサーモトロピック液晶
高分子と呼ばれる一群の樹脂で、例えば、特公昭63−
3888号公報、特開昭59−30821号公報、特開
昭59−78232号公報、特開昭58−45224号
公報などに記載されている全芳香族ポリエステルなどを
挙げることができる。
これらのポリエステルはMDでの線膨張係数は小さいが
、TDでは線膨張係数は通常の熱可塑性樹脂と同程度で
あり、寸法安定性が十分であるとはいえなかった。
、TDでは線膨張係数は通常の熱可塑性樹脂と同程度で
あり、寸法安定性が十分であるとはいえなかった。
TDの力学的性質の改良策としては、特開昭63−14
6959号公報などに記載されているように、一般に無
機質の充填剤(例えばグラスファイバー、炭酸カルシウ
ムなど)を導入することが行われているが、効果は充分
でない また、重合体分子中に、イミド結合とエステル結合を含
むポリイミドエステルはよく知られている。例えば、米
国特許第3542731号明細書には耐熱性の高いもの
が、特開昭58=67725号公報には、耐熱性、機械
的物性、加工性の改良されたものが、特開昭55−84
326号公報には高弾性率のものが、特開昭58−11
3222号公報には強靭性のものが、特開昭60−45
31号公報には高剛性のものが記載されているが、これ
らのポリイミドエステルも寸法安定性が十分であるとは
いえなかった。
6959号公報などに記載されているように、一般に無
機質の充填剤(例えばグラスファイバー、炭酸カルシウ
ムなど)を導入することが行われているが、効果は充分
でない また、重合体分子中に、イミド結合とエステル結合を含
むポリイミドエステルはよく知られている。例えば、米
国特許第3542731号明細書には耐熱性の高いもの
が、特開昭58=67725号公報には、耐熱性、機械
的物性、加工性の改良されたものが、特開昭55−84
326号公報には高弾性率のものが、特開昭58−11
3222号公報には強靭性のものが、特開昭60−45
31号公報には高剛性のものが記載されているが、これ
らのポリイミドエステルも寸法安定性が十分であるとは
いえなかった。
本発明は耐熱性、強度、弾性率、耐薬品性などサーモド
ロピンク液晶の優れた特性を保持したまま、MDとTD
共に優れた寸法安定性、寸法精度を有する新規な熱可塑
性の全芳香族共重合ポリイミドエステル及びその好適な
製法を提供することを目的とするものである。
ロピンク液晶の優れた特性を保持したまま、MDとTD
共に優れた寸法安定性、寸法精度を有する新規な熱可塑
性の全芳香族共重合ポリイミドエステル及びその好適な
製法を提供することを目的とするものである。
〔課題を解決するための手段]
本発明者らは前記課題を解決するために鋭意研究を行い
、特定の芳香族ポリエステルに特定のイミド基を導入し
て得られたポリイミドエステルにより前記目的が達成さ
れることを見出し本発明を完成するに至った。
、特定の芳香族ポリエステルに特定のイミド基を導入し
て得られたポリイミドエステルにより前記目的が達成さ
れることを見出し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、芳香族ジカルボン酸に由来する単
位(a)とアラルキル基で核置換された置換ヒドロキノ
ンに由来する単位(ト)とカルボキシ−N−(カルボキ
シフェニル)フタルイミドに由来する単位(C)及び/
又はカルボキシ−N−(ヒドロキシフェニル)フタルイ
ミドに由来する単位(d)とを含む熱可塑性の液晶性全
芳香族ポリイミドエステルを提供するものである。
位(a)とアラルキル基で核置換された置換ヒドロキノ
ンに由来する単位(ト)とカルボキシ−N−(カルボキ
シフェニル)フタルイミドに由来する単位(C)及び/
又はカルボキシ−N−(ヒドロキシフェニル)フタルイ
ミドに由来する単位(d)とを含む熱可塑性の液晶性全
芳香族ポリイミドエステルを提供するものである。
本発明のポリイミドエステルは、熱可塑性であり、MD
、TD共に優れた寸法安定性、寸法精度を有している。
、TD共に優れた寸法安定性、寸法精度を有している。
本発明のポリイミドエステルにおいて、カルボキシ−N
−(カルボキシフェニル)フタルイミドに由来する単位
(C)及び/又はカルボキシ−N−(ヒドロキシフェニ
ル)フタルイミドに由来する単位(d)のモル分率は0
.1〜30モル%、好ましくは0.5〜20モル%とす
る。0.1モル%未満であると本発明の効果が達成され
ず、30モル%を超えると強度が低下する。
−(カルボキシフェニル)フタルイミドに由来する単位
(C)及び/又はカルボキシ−N−(ヒドロキシフェニ
ル)フタルイミドに由来する単位(d)のモル分率は0
.1〜30モル%、好ましくは0.5〜20モル%とす
る。0.1モル%未満であると本発明の効果が達成され
ず、30モル%を超えると強度が低下する。
本発明の全芳香族ポリイミドエステルとしては下記の構
造単位I、■及び■あるいは■、■及び■を主たる構成
成分とする熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステ
ルが比較的安価な原料から製造することができる。
造単位I、■及び■あるいは■、■及び■を主たる構成
成分とする熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステ
ルが比較的安価な原料から製造することができる。
(式中、単位■の2つのカルボニル基はメタ又はパラ位
に存在し、かつパラ位に90モル%以上存在し、単位■
のχ及びYは水素又は炭素数1〜3のアルキル基を示し
、Arは炭素数6〜12のアリール基を示し、単位■の
左端のカルボニル基とイミド基、及び単位IVの左端の
オキシ基とイミド基は、それぞれ互いにパラ位又はメタ
位に存在する。
に存在し、かつパラ位に90モル%以上存在し、単位■
のχ及びYは水素又は炭素数1〜3のアルキル基を示し
、Arは炭素数6〜12のアリール基を示し、単位■の
左端のカルボニル基とイミド基、及び単位IVの左端の
オキシ基とイミド基は、それぞれ互いにパラ位又はメタ
位に存在する。
また、単位I、■及び■並びに栄位■、■及びIVのそ
れぞれの両端はエステル結合により連結されている。)
構造単位■はArがフェニル基であるものが好ましい
。
れぞれの両端はエステル結合により連結されている。)
構造単位■はArがフェニル基であるものが好ましい
。
構造単位■は左端のカルボニル基とイミド基が互いにパ
ラ位にあるもの、構造単位■は左端のオキシ基とイミド
基が互いにパラ位にあるものが好ましい。
ラ位にあるもの、構造単位■は左端のオキシ基とイミド
基が互いにパラ位にあるものが好ましい。
本発明のポリイミドエステルには、パラオキシ安息香酸
又は置換パラオキシ安息香酸に由来する単位(e)を1
〜20モル%含有させてもよい。
又は置換パラオキシ安息香酸に由来する単位(e)を1
〜20モル%含有させてもよい。
本発明のポリイミドエステルは例えば、芳香族ジカルボ
ン酸又はその誘導体(A)とアラルキル基で核置換され
た置換ヒドロキノン又はその誘導体(B)とカルボキシ
−N−(カルボキシフェニル)フタルイミド又はその誘
導体(C)及び/あるいはカルボキシ−N−(ヒドロキ
シフェニル)フタルイミド又はその誘導体(D)とをA
+C:Bのモル比が実質的に1:1であり、A十B+C
・)D : C+Dのモル比が100 : 0.1〜3
0となるように重縮合反応させることにより製造するこ
とができる。
ン酸又はその誘導体(A)とアラルキル基で核置換され
た置換ヒドロキノン又はその誘導体(B)とカルボキシ
−N−(カルボキシフェニル)フタルイミド又はその誘
導体(C)及び/あるいはカルボキシ−N−(ヒドロキ
シフェニル)フタルイミド又はその誘導体(D)とをA
+C:Bのモル比が実質的に1:1であり、A十B+C
・)D : C+Dのモル比が100 : 0.1〜3
0となるように重縮合反応させることにより製造するこ
とができる。
この反応にはポリエステル製造における良く知られた方
法が用いられる。例えば、次に示すような方法が挙げら
れる。
法が用いられる。例えば、次に示すような方法が挙げら
れる。
(1) ジヒドロキシ化合物についてはアシル化した
誘導体を用い、ジカルボキシ化合物についてはそのまま
使用して反応させる方法。この場合、アシル化誘導体の
具体例としては、メチルエステル、エチルエステル、プ
ロピルエステルなどが挙げられる。
誘導体を用い、ジカルボキシ化合物についてはそのまま
使用して反応させる方法。この場合、アシル化誘導体の
具体例としては、メチルエステル、エチルエステル、プ
ロピルエステルなどが挙げられる。
(2) ジヒドロキシ化合物及びジカルボキシ化合物
をアシル化剤を使用して反応させる方法、この場合、ア
シル化剤としては、一般式R’C00COR” (R
’、R2は炭素数1〜3のアルキル基)で表される化合
物が用いられる。
をアシル化剤を使用して反応させる方法、この場合、ア
シル化剤としては、一般式R’C00COR” (R
’、R2は炭素数1〜3のアルキル基)で表される化合
物が用いられる。
(3) ジカルボキシ化合物のアリールエステルとジ
ヒドロキシ化合物を使用して反応させる方法。
ヒドロキシ化合物を使用して反応させる方法。
(4) ジカルボキシ化合物とジヒドロキシ化合物を
芳香族カルボン酸無水物、例えば無水安息香酸などの縮
合剤を用いて反応させる方法。
芳香族カルボン酸無水物、例えば無水安息香酸などの縮
合剤を用いて反応させる方法。
上記いずれの方法においても重縮合触媒を使用するとか
できる。
できる。
また、本発明のポリイミドエステルは、芳香族ジカルボ
ン酸又はその誘導体(A)とアラルキル基で核置換され
た置換ヒドロキノン又はその誘導体(B)と(カルボキ
シフタル)カルボキシアニリド又はその誘導体(E)及
び/あるいは(カルボキシフタル)ヒドロキシアニリド
又はその誘導体(F)とをA十E : Bのモル比が実
質的にl:1であり、A+B+E+F : E+Fのモ
ル比が100 : 0.1〜30となるよう反応させ、
(E)又は(F)の環化と重縮合を行うことにより製造
するごともできる。
ン酸又はその誘導体(A)とアラルキル基で核置換され
た置換ヒドロキノン又はその誘導体(B)と(カルボキ
シフタル)カルボキシアニリド又はその誘導体(E)及
び/あるいは(カルボキシフタル)ヒドロキシアニリド
又はその誘導体(F)とをA十E : Bのモル比が実
質的にl:1であり、A+B+E+F : E+Fのモ
ル比が100 : 0.1〜30となるよう反応させ、
(E)又は(F)の環化と重縮合を行うことにより製造
するごともできる。
この方法は1、イミド基含有モノマーを単離せずに、前
駆体であるアミド酸を反応原料として使用し、イミド環
化と縮合反応を行うもので、ジカルボキシ化合物とジヒ
ドロキシ化合物の反応の態様は、基本的にはイミド基含
有モノマーを使用する前記の反応の場合と同様である。
駆体であるアミド酸を反応原料として使用し、イミド環
化と縮合反応を行うもので、ジカルボキシ化合物とジヒ
ドロキシ化合物の反応の態様は、基本的にはイミド基含
有モノマーを使用する前記の反応の場合と同様である。
また、前記縮合反応にパラオキシ安息香酸又は置換パラ
オキシ安息香酸あるいはこれらの誘導体を加えることに
より、パラオキシ安息香酸又は置換パラオキシ安息香酸
に由来する単位をポリイミドエステルに導入することが
できる。この単位のモル分率は好ましくは1〜20モル
%である。
オキシ安息香酸あるいはこれらの誘導体を加えることに
より、パラオキシ安息香酸又は置換パラオキシ安息香酸
に由来する単位をポリイミドエステルに導入することが
できる。この単位のモル分率は好ましくは1〜20モル
%である。
反応原料の芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸
、4,4′−ジフェニルジカルボン酸、2.6−ナフタ
レンジカルボン酸、1.5−ナフタレンジカルボン酸、
又はこれらの核置換誘導体が用いられる。これらの中で
、テレフタル酸が好適に用いられる。
、4,4′−ジフェニルジカルボン酸、2.6−ナフタ
レンジカルボン酸、1.5−ナフタレンジカルボン酸、
又はこれらの核置換誘導体が用いられる。これらの中で
、テレフタル酸が好適に用いられる。
反応原料のアラルキル基で核置換された置換ヒドロキノ
ンとしては、前記構造単位■が由来する置換されたヒド
ロキノンが好ましく用いられる。
ンとしては、前記構造単位■が由来する置換されたヒド
ロキノンが好ましく用いられる。
具体的には、ベンジルヒドロキノン、α−メチルベンジ
ルヒドロキノン、α、α−ジメチルベンジルヒドロキノ
ン、α−エチルベンジルヒドロキノン、α−ブチルベン
ジルヒドロキノン、4−メチルベンジルヒドロキノン、
3−メチル−α−エチルベンジルヒドロキノン、4−ブ
チル−α−メチルーα−エチルベンジルヒドロキノン、
1−ナフチルメチルヒドロキノン、2−ナフチルメチル
ヒドロキノン等が挙げられる。これらの中で特に好まし
いものは、■のArがフェニル基のもので、ベンジルヒ
ドロキノン、α−メチルベンジルヒドロキノン、α、α
−ジメチルベンジルヒドロキノンが挙げられる。
ルヒドロキノン、α、α−ジメチルベンジルヒドロキノ
ン、α−エチルベンジルヒドロキノン、α−ブチルベン
ジルヒドロキノン、4−メチルベンジルヒドロキノン、
3−メチル−α−エチルベンジルヒドロキノン、4−ブ
チル−α−メチルーα−エチルベンジルヒドロキノン、
1−ナフチルメチルヒドロキノン、2−ナフチルメチル
ヒドロキノン等が挙げられる。これらの中で特に好まし
いものは、■のArがフェニル基のもので、ベンジルヒ
ドロキノン、α−メチルベンジルヒドロキノン、α、α
−ジメチルベンジルヒドロキノンが挙げられる。
これらの置換ヒドロキノンは、ヒドロキノンと置換基に
対応するアルコール又はビニル性二重結合を有する不飽
和化合物とをリン酸又は硫酸等の酸性触媒の存在下、適
当な溶媒中で反応させることにより合成可能である。
対応するアルコール又はビニル性二重結合を有する不飽
和化合物とをリン酸又は硫酸等の酸性触媒の存在下、適
当な溶媒中で反応させることにより合成可能である。
前記置換ヒドロキノンはアラルキル基の他に、ハロゲン
、特にクロル又はブロムで核置換されていてもよい。
、特にクロル又はブロムで核置換されていてもよい。
前記構造単位IIに加えて他の置換ヒドロキノンに由来
する単位を1〜20モル%含有させることカテキる。他
の置換ヒドロキノンとしては炭素数1〜10のアルキル
基で置換されたヒドロキノンやハロゲン原子で置換され
たヒドロキノンを挙げることができる。
する単位を1〜20モル%含有させることカテキる。他
の置換ヒドロキノンとしては炭素数1〜10のアルキル
基で置換されたヒドロキノンやハロゲン原子で置換され
たヒドロキノンを挙げることができる。
次に、バラヒドロキシ安息香酸又は置換バラヒドロキシ
安息香酸に由来する単位(e)を導入するだめの原料と
しては、バラヒドロキシ安息香酸又は置換パラヒドロキ
シ安息香酸あるいはこれらをアシル化又はエステル化し
て得られた化合物が挙げられる。これらの中でバラヒド
ロキシ安息香酸、バラアセトキシ安息香酸が好ましく用
いられる。
安息香酸に由来する単位(e)を導入するだめの原料と
しては、バラヒドロキシ安息香酸又は置換パラヒドロキ
シ安息香酸あるいはこれらをアシル化又はエステル化し
て得られた化合物が挙げられる。これらの中でバラヒド
ロキシ安息香酸、バラアセトキシ安息香酸が好ましく用
いられる。
原料(C)、(D)としては、種々の製造法により得ら
れたイミド化合物が用いられる。製造方法としては、例
えば一般式 〔式中、Zは水素又は炭素数1〜18の炭化水素基を表
す〕で示される、カルボキシフタル酸無水物誘導体と、 一般式、Ht N @ W 〔式中、讐は−OZ又は−coozをす。〕で表される
芳香族アミノ化合物誘導体との反応により一般式〔式中
、Z及び縁は前記と同じ意味を有する。〕で示されるア
ミド酸を生成させ、次いでこれを脱水、環化することに
より、イミド化合物が得られる。
れたイミド化合物が用いられる。製造方法としては、例
えば一般式 〔式中、Zは水素又は炭素数1〜18の炭化水素基を表
す〕で示される、カルボキシフタル酸無水物誘導体と、 一般式、Ht N @ W 〔式中、讐は−OZ又は−coozをす。〕で表される
芳香族アミノ化合物誘導体との反応により一般式〔式中
、Z及び縁は前記と同じ意味を有する。〕で示されるア
ミド酸を生成させ、次いでこれを脱水、環化することに
より、イミド化合物が得られる。
上記のカルボキシフタル酸無水物誘導体と、芳香族アミ
ノ化合物誘導体の反応は、両成分を好ましくは溶液とし
て接触させるだけで容易に進行し、難溶性のアミド酸を
生成し、通常は沈澱として析出する。反応は室温で十分
に進行するが好ましい反応温度条件は一50’C−10
0’Cの範囲であり、多くの場合O〜80℃の範囲で実
施される。反応は短時間で進行し、通常特別な触媒の存
在を必要としない。
ノ化合物誘導体の反応は、両成分を好ましくは溶液とし
て接触させるだけで容易に進行し、難溶性のアミド酸を
生成し、通常は沈澱として析出する。反応は室温で十分
に進行するが好ましい反応温度条件は一50’C−10
0’Cの範囲であり、多くの場合O〜80℃の範囲で実
施される。反応は短時間で進行し、通常特別な触媒の存
在を必要としない。
上記で示されるアミド酸の脱水環化には種々の方法が用
いられている。具体的な例としては、(1)カルボン酸
無水物の共存下に脱水環化する方法、(2)脱水作用を
有する無機酸およびその縮合物により脱水環化する方法
、(3)酸触媒存在下における共沸脱水環化する方法、
(4)特殊な脱水剤を使用する環化法、(5)加熱によ
る脱水環化法などが挙げられる。
いられている。具体的な例としては、(1)カルボン酸
無水物の共存下に脱水環化する方法、(2)脱水作用を
有する無機酸およびその縮合物により脱水環化する方法
、(3)酸触媒存在下における共沸脱水環化する方法、
(4)特殊な脱水剤を使用する環化法、(5)加熱によ
る脱水環化法などが挙げられる。
上記反応原料を用いた重縮合反応は、通常200〜40
0℃、好ましくは230〜370℃の温度で、通常大気
圧以下で行われ、重縮合の後半段階では好ましくは30
0〜0. OI Torrで行われる。
0℃、好ましくは230〜370℃の温度で、通常大気
圧以下で行われ、重縮合の後半段階では好ましくは30
0〜0. OI Torrで行われる。
反応時間は、目的とするポリマーの溶融粘度に応じて、
通常数分〜数10時間行われる。反応温度でのポリマー
の劣化を回避するためには数分〜数時間とすることが好
ましい。
通常数分〜数10時間行われる。反応温度でのポリマー
の劣化を回避するためには数分〜数時間とすることが好
ましい。
上記反応には触媒は特に必要としないが、適当な重縮合
触媒、例えば、酸化アンチモン、酸化ゲルマニウムなど
が使用できる。
触媒、例えば、酸化アンチモン、酸化ゲルマニウムなど
が使用できる。
反応原料の添加時期については、最初の段階で全ての反
応原料を混合して反応を行ってもよいし添加時期を変え
て反応を行ってもよい。この結果、ポリイミドエステル
の組成分布を制御することができ、ランダムコポリエス
テル、ブロックコポリエステルまで任意に制御すること
が可能である。
応原料を混合して反応を行ってもよいし添加時期を変え
て反応を行ってもよい。この結果、ポリイミドエステル
の組成分布を制御することができ、ランダムコポリエス
テル、ブロックコポリエステルまで任意に制御すること
が可能である。
本発明により得られたポリイミドエステルは、通常の成
形温度(400°C以下)で射出成形することができ、
また、押出成形、圧縮成形、紡糸など一般的に熱可塑性
樹脂に用いられる成形法がいずれも可能である。さらに
、成形品は適当な温度と時間、熱処理することもできる
。
形温度(400°C以下)で射出成形することができ、
また、押出成形、圧縮成形、紡糸など一般的に熱可塑性
樹脂に用いられる成形法がいずれも可能である。さらに
、成形品は適当な温度と時間、熱処理することもできる
。
従って、本発明のポリイミドエステルは寸法精度、寸法
安定性を要求される精密射出成形部品、フィラメント、
フィルム、シートなどの材料として有用である。
安定性を要求される精密射出成形部品、フィラメント、
フィルム、シートなどの材料として有用である。
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
発明はこれに限定されるものではない。
合1
4−カルボキシ−N−(4
ル)フタルイミドの合成
ヒドロキシフエニ
しす
無水トリメリット酸34.58g(0,18モル)とP
−アミノフェノール19.64g(0,18モル)を2
00dのDMFに溶解し、4時間還流した後冷却した。
−アミノフェノール19.64g(0,18モル)を2
00dのDMFに溶解し、4時間還流した後冷却した。
2!の水に反応物を投入すると淡黄色の結晶が析出した
。濾過して水洗して乾燥した。元素分析値は以下の通り
であった。理論値(実測値) C: 63.6 (63
,5)、H: 3.2 (3゜3) 、N : 4.9
(4,9) これから上記式で表される化合物が得られていることが
わかる。
。濾過して水洗して乾燥した。元素分析値は以下の通り
であった。理論値(実測値) C: 63.6 (63
,5)、H: 3.2 (3゜3) 、N : 4.9
(4,9) これから上記式で表される化合物が得られていることが
わかる。
合成例2
4−カルボキシ−N−(4−カルホキ・〉フェニル)フ
タルイミドの合成 しU 無水トリメリット酸34.58g(0,18モル)とp
−アミノ安息香酸24.69g(0,18モル)を20
0戒のDMFに溶解した。4時間還流した後、冷却した
。21の水に反応物を投入すると白縁色の結晶が析出し
た。濾過して水洗して乾燥した。元素分析値は以下の通
りであった。理論値(実測値) C: 61.7 (6
1,7)、H:2.9 (2゜8)、N : 4.5
(4,5) これから上記式で表される化合物が得られていることが
わかる。
タルイミドの合成 しU 無水トリメリット酸34.58g(0,18モル)とp
−アミノ安息香酸24.69g(0,18モル)を20
0戒のDMFに溶解した。4時間還流した後、冷却した
。21の水に反応物を投入すると白縁色の結晶が析出し
た。濾過して水洗して乾燥した。元素分析値は以下の通
りであった。理論値(実測値) C: 61.7 (6
1,7)、H:2.9 (2゜8)、N : 4.5
(4,5) これから上記式で表される化合物が得られていることが
わかる。
実施例1
テレフタル酸 212.6g(1,28モル)、α−メ
チルベンジルヒドロキノン 274.3(1゜28モル
)、 4−カルボキシ−N−(4−ヒドロキシフェニル)フタ
ルイミド 7.3 g (0,0259モル)、及び 無水酢酸 264.2g(2,59モル)を、ダブルヘ
リカル翼のついた1、41オートクレーブに投入し、窒
素気流下で撹拌しなから150°Cまで昇温し、1時間
還流を行った。続いて90分間で350°Cまで昇温し
酢酸を留去させた。その後系内を徐々に減圧し100T
orrで30分間、さらに2 Torrで30分間重合
を進行させた。
チルベンジルヒドロキノン 274.3(1゜28モル
)、 4−カルボキシ−N−(4−ヒドロキシフェニル)フタ
ルイミド 7.3 g (0,0259モル)、及び 無水酢酸 264.2g(2,59モル)を、ダブルヘ
リカル翼のついた1、41オートクレーブに投入し、窒
素気流下で撹拌しなから150°Cまで昇温し、1時間
還流を行った。続いて90分間で350°Cまで昇温し
酢酸を留去させた。その後系内を徐々に減圧し100T
orrで30分間、さらに2 Torrで30分間重合
を進行させた。
得られたポイミドエステルの元素分析の結果を下表に示
す。
す。
計算値(%) 76.6 4.65 0.08
76.6 4.65 0.08これらの結果か
ら下記の構造単位を有することがわかる。
76.6 4.65 0.08これらの結果か
ら下記の構造単位を有することがわかる。
対数粘度数−In 77−10.5 (di/g)又、
光学異方性の観察はホットステージ付きの偏光顕微鏡を
用いて行、った。
光学異方性の観察はホットステージ付きの偏光顕微鏡を
用いて行、った。
得られたポリイミドエステルの対数粘度は3.5a/g
であった。このポリイミドエステルは340°C以上の
溶融状態で光学異方性を示した。
であった。このポリイミドエステルは340°C以上の
溶融状態で光学異方性を示した。
対数粘度の測定はP−クロロフェノール/テトラクロロ
エタン(50150vo1%)混合溶媒を用いて30°
Cでポリマー濃度0.5 a/ gで相対粘度η、をウ
ベローデ形粘度計により求め、下式から算出した(以下
同じ)。
エタン(50150vo1%)混合溶媒を用いて30°
Cでポリマー濃度0.5 a/ gで相対粘度η、をウ
ベローデ形粘度計により求め、下式から算出した(以下
同じ)。
実施例2
テレフタル酸 212.6 g (1,28モル)、α
−メチルベンジルヒドロキノン 274.3(1゜28
モル)、 4−カルボキシ−N−(4−ヒドロキシフェニル)フタ
ルイミド 22.4 g (0,0792モル)、及び 無水酢酸 269.3 g (2,64モル)を、ダブ
ルヘリカル翼のついた】、41オートクレーブに投入し
、窒素気流下で攪拌しなから150°Cまで昇温し、1
時間還流を行った。続いて90分間で350°Cまで昇
温し7酢酸を留去させた。その後系内を徐々に減圧L
100Torrで30分間、さらに2 Torrで30
分間重合を進行させた。
−メチルベンジルヒドロキノン 274.3(1゜28
モル)、 4−カルボキシ−N−(4−ヒドロキシフェニル)フタ
ルイミド 22.4 g (0,0792モル)、及び 無水酢酸 269.3 g (2,64モル)を、ダブ
ルヘリカル翼のついた】、41オートクレーブに投入し
、窒素気流下で攪拌しなから150°Cまで昇温し、1
時間還流を行った。続いて90分間で350°Cまで昇
温し7酢酸を留去させた。その後系内を徐々に減圧L
100Torrで30分間、さらに2 Torrで30
分間重合を進行させた。
得られたボイミドエステルの元素分析の結果を下表に示
す。
す。
計算値(%) 76.5 4゜60 0.08
% 76.5 4.61 0.08又、
ポリマーの赤外吸収スペクトルを第1図に示す。
% 76.5 4.61 0.08又、
ポリマーの赤外吸収スペクトルを第1図に示す。
これらの結果から下記の構造単位を有することがわかる
。
。
■
しり
得られたポリイミドエステルの対数粘度数は3゜2 a
/ gであった。
/ gであった。
このポリイミドエステルは340°C以上の溶融状態で
光学異方性を示した。
光学異方性を示した。
実施例3
P・−アミノフェノール 31.0 g (0,284
モル)無水トリメリット酸 59.6 g (0,28
4モル)メチルエチルケトン 100mj! をダブルヘリカル翼を付けた1、41のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間撹拌し、アミド酸(4−カルボ
キシフタル−4−ヒドロキシアニリド)の沈澱を得た。
モル)無水トリメリット酸 59.6 g (0,28
4モル)メチルエチルケトン 100mj! をダブルヘリカル翼を付けた1、41のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間撹拌し、アミド酸(4−カルボ
キシフタル−4−ヒドロキシアニリド)の沈澱を得た。
次いで、
テレフタル酸 212.6 g (1,28モル)α−
メチルベンジルヒドロキノン 274.3g(1,28
モル) 無水酢酸 295.8 g (2,90モル)を投入し
、窒素気流下に撹拌しながら150″Cまで昇温し、メ
チルエチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還
流を行ったのち、90分間で320 ’Cまで昇温し、
水及び酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を
進行させた。その後、系内を100Torrの減圧で3
0分間、さらに2T。
メチルベンジルヒドロキノン 274.3g(1,28
モル) 無水酢酸 295.8 g (2,90モル)を投入し
、窒素気流下に撹拌しながら150″Cまで昇温し、メ
チルエチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還
流を行ったのち、90分間で320 ’Cまで昇温し、
水及び酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を
進行させた。その後、系内を100Torrの減圧で3
0分間、さらに2T。
rrの減圧で20分間重合を進行させた。
得られたポリマーの元素分析の結果を下表に示す。
計算値(%) 75.4 4.39 0.77
75.4 4.40 0.7にれらの結果から
下記の構造単位を有することがわかる。
75.4 4.40 0.7にれらの結果から
下記の構造単位を有することがわかる。
得られたポリイミドエステルの対数粘度数は4゜3a/
gであった。このポリイミドエステルは345°C以上
の溶融状態で光学異方性を示した。
gであった。このポリイミドエステルは345°C以上
の溶融状態で光学異方性を示した。
実施例4
p−アミノフェノール 53.2g(0,488モル)
無水トリメリット酸 102.5g(0,488モル)
メチルエチルケトン 100d
をダブルヘリカル翼を付けた1、41のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間攪拌し、アミド酸〔(4−カル
ボキシフタル)−4−ヒドロキシアニリド〕の沈澱を得
た。
に投入し、室温で1時間攪拌し、アミド酸〔(4−カル
ボキシフタル)−4−ヒドロキシアニリド〕の沈澱を得
た。
次いで、
テレフタル酸 212.7g(1,28モル)α−メチ
ルベンジルヒドロキノン 274.3 g(1,28モ
ル) 無水酢酸 317.2g(3,11モル)を投入し、窒
素気流下に攪拌しながら150°Cまで昇温し、メチル
エチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還流を
行ったのち、90分間で320 ’Cまで昇温し、水及
び酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を進行
させた。その後、系内を100Torrの減圧で30分
間、さらに2T。
ルベンジルヒドロキノン 274.3 g(1,28モ
ル) 無水酢酸 317.2g(3,11モル)を投入し、窒
素気流下に攪拌しながら150°Cまで昇温し、メチル
エチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還流を
行ったのち、90分間で320 ’Cまで昇温し、水及
び酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を進行
させた。その後、系内を100Torrの減圧で30分
間、さらに2T。
rrの減圧で15分間重合を進行させた。
得られたポリマーの元素分析の結果を下表に示す。
■
得られたポリイミドエステルの対数粘度数は2゜7 d
l/ gであった。このポリイミドエステルは347°
C以上の溶融状態で光学異方性を示した。
l/ gであった。このポリイミドエステルは347°
C以上の溶融状態で光学異方性を示した。
計算値(%) 74.7 4.22 1.20
% ?4.7 4.22 1.20これ
らの結果から下記の構造単位を有することがわかる。
% ?4.7 4.22 1.20これ
らの結果から下記の構造単位を有することがわかる。
+CO−@−CO+4□
実施例5
m−アミノフェノール 31.0 g (0,284モ
ル) 無水トリメリット酸 59.6g(0,284モル)メ
チルエチルケトン 100d をダブルヘリカル翼を付けた1、42のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間攪拌し、アミド酸〔(4−カル
ボキシフタル)−3−ヒドロキシアニリド〕の沈澱を得
た。
ル) 無水トリメリット酸 59.6g(0,284モル)メ
チルエチルケトン 100d をダブルヘリカル翼を付けた1、42のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間攪拌し、アミド酸〔(4−カル
ボキシフタル)−3−ヒドロキシアニリド〕の沈澱を得
た。
次いで、
テレフタル酸 212.6 g (1,28モル)α−
メチルベンジルヒドロキノン 274.3 g(1,2
8モル) 無水酢酸 295.8g(2,90モル)を投入し、窒
素気流下に攪拌しながら150°Cまで昇温し、メチル
エチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還流を
行ったのち、90分間で320°Cまで昇温し、水及び
酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を進行さ
せた。その後、系内をI O0Torrの減圧で30分
間、さらに2T。
メチルベンジルヒドロキノン 274.3 g(1,2
8モル) 無水酢酸 295.8g(2,90モル)を投入し、窒
素気流下に攪拌しながら150°Cまで昇温し、メチル
エチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還流を
行ったのち、90分間で320°Cまで昇温し、水及び
酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を進行さ
せた。その後、系内をI O0Torrの減圧で30分
間、さらに2T。
rrの減圧で15分間重合を進行させた。
得られたポリマーの元素分析の結果を下表に示す。
計算値(%) 75.4 4.39 0.77
75.4 4.40 0.7にれらの結果から
下記の構造単位を存することがわかる。
75.4 4.40 0.7にれらの結果から
下記の構造単位を存することがわかる。
+CO@−CO÷45
一+−0−e−OJ−as
得られたポリイミドエステルの対数粘度数は2゜6a/
gであった。このポリイミドエステルは334°C以上
の溶融状態で光学異方性を示した。
gであった。このポリイミドエステルは334°C以上
の溶融状態で光学異方性を示した。
実施例6
テレフタル酸 212.6 g (1,28モル)ベン
ジルヒドロキノン 256.3g(1,28モル) 4−カルボキシ−N−(4−ヒドロキシフェニル)フタ
ルイミド 無水酢酸 283.6g(2,78モル)を、ダブルへ
リカル翼の付いた1、42オートクレーブに投入し、窒
素気流下で攪拌しなから150°Cまで昇温し、1時間
還流を行った。続いて90分間で350 ’Cまで昇温
し酢酸を留去させた。その後系内を徐々に減圧にしI
O0Torrで30分間、さらに2 Torrで30分
間重合を進行させた。
ジルヒドロキノン 256.3g(1,28モル) 4−カルボキシ−N−(4−ヒドロキシフェニル)フタ
ルイミド 無水酢酸 283.6g(2,78モル)を、ダブルへ
リカル翼の付いた1、42オートクレーブに投入し、窒
素気流下で攪拌しなから150°Cまで昇温し、1時間
還流を行った。続いて90分間で350 ’Cまで昇温
し酢酸を留去させた。その後系内を徐々に減圧にしI
O0Torrで30分間、さらに2 Torrで30分
間重合を進行させた。
得られたポリイミドエステルの元素分析の結果を下表に
示す。
示す。
■
得られたポリイミドエステルの対数粘度数は4゜3dl
/gであ、りた。このポリイミドエステルは342°C
以上の溶融状態で光学異方性を示した。
/gであ、りた。このポリイミドエステルは342°C
以上の溶融状態で光学異方性を示した。
計算値(%) 75.6 4.12 0.49
75゜6 4.12 0.49 これらの結果から下記の構造単位を有することがわかる
。
75゜6 4.12 0.49 これらの結果から下記の構造単位を有することがわかる
。
+co−@)〜co呵。
実施例7
テレフタル酸 211.6g (1,274モル)α〜
メチルベンジルヒドロキノン 278.6 g(1,3
0モル) 4〜カルボキシ−N=(4−カルボキシフェニル)フタ
ルイミド 8.1g(0,026g)無水酢酸 270
.3 g (2,65モル)を、ダブルへリカル翼のつ
いた1、42オートクレーブに投入し、窒素気流下で撹
拌しながら150Cまで昇温し、1時間還流を行った。
メチルベンジルヒドロキノン 278.6 g(1,3
0モル) 4〜カルボキシ−N=(4−カルボキシフェニル)フタ
ルイミド 8.1g(0,026g)無水酢酸 270
.3 g (2,65モル)を、ダブルへリカル翼のつ
いた1、42オートクレーブに投入し、窒素気流下で撹
拌しながら150Cまで昇温し、1時間還流を行った。
続いて90分間で350°Cまで昇温し酢酸を留去させ
た。その後系内を徐々に減圧にし100Torrで30
分間、さらに2Torrで30分間重合を進行させた。
た。その後系内を徐々に減圧にし100Torrで30
分間、さらに2Torrで30分間重合を進行させた。
得られたポリイミドエステルの元素分析の結果を下表に
示す。
示す。
しり
得られたポリイミドエステルの対数粘度数は4゜3di
/gであった。このポリイミドエステルは343°C以
上の溶融状態で光学異方性を示した。
/gであった。このポリイミドエステルは343°C以
上の溶融状態で光学異方性を示した。
計算値(%)
76.6
4.66
0.08
76.6
4.66
0.08
これらの結果から下記の構造単位を有することがわかる
。
。
実施例8
テレフタル酸 202.7g(1,22モル)αヘーメ
チルベンジルヒドロキノン 278.6 g(1,30
モル) 4−カルボキシ−N−(4−カルボキシフェニル)フタ
ルイミド 24.3g (0,078g)無水酢酸 2
70.3 g (2,65モル)を、ダブルヘリカル翼
の付いた1、42オートクレーブに投入し、窒素気流下
で攪拌しなから150°Cまで昇温し、1時間還流を行
った。続いて90分間で350°Cまで昇温し酢酸を留
去させた。その後系内を徐々に減圧にし100Torr
で30分間、さらに2 Torrで30分間重合を進行
させた。
チルベンジルヒドロキノン 278.6 g(1,30
モル) 4−カルボキシ−N−(4−カルボキシフェニル)フタ
ルイミド 24.3g (0,078g)無水酢酸 2
70.3 g (2,65モル)を、ダブルヘリカル翼
の付いた1、42オートクレーブに投入し、窒素気流下
で攪拌しなから150°Cまで昇温し、1時間還流を行
った。続いて90分間で350°Cまで昇温し酢酸を留
去させた。その後系内を徐々に減圧にし100Torr
で30分間、さらに2 Torrで30分間重合を進行
させた。
得られたポリイミドエステルの元素分析の結果を下表に
示す。
示す。
計算値(%)76.5 4,62 0.24”I
76.5 4.63 0.
25これらの結果から下記の構造単位を有することがわ
かる。
76.5 4.63 0.
25これらの結果から下記の構造単位を有することがわ
かる。
得られたポリイミドエステルの対数粘度数は4゜3dl
/gであった。このポリイミドエステルは342°C以
上の溶融状態で光学異方性を示した6実施例9 p−アミノ安息香酸 35.7g(0,26モル)無水
トリメリット酸 54.6g(0,26モル)メチルエ
チルケトン 100 rnl をダブルヘリカル翼を付けた1、4!のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間攪拌し、アミド酸〔(4−カル
ボキシフタル)−4−カルボキシアニリド〕の沈澱を得
た。
/gであった。このポリイミドエステルは342°C以
上の溶融状態で光学異方性を示した6実施例9 p−アミノ安息香酸 35.7g(0,26モル)無水
トリメリット酸 54.6g(0,26モル)メチルエ
チルケトン 100 rnl をダブルヘリカル翼を付けた1、4!のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間攪拌し、アミド酸〔(4−カル
ボキシフタル)−4−カルボキシアニリド〕の沈澱を得
た。
次いで、
テレフタル酸 172.8g(1,04モル)α−メチ
ルベンジルヒドロキノン 278.6 g(1,30モ
ル) 無水酢酸 270.3 g (2,65モル)を投入し
、窒素気流下に攪拌しながら150°Cまで昇温し、メ
チルエチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還
流を行ったのち、90分間で320°Cまで昇温し、水
及び酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を進
行させた。その後、系内を100Torrの減圧で30
分間、さらに2T。
ルベンジルヒドロキノン 278.6 g(1,30モ
ル) 無水酢酸 270.3 g (2,65モル)を投入し
、窒素気流下に攪拌しながら150°Cまで昇温し、メ
チルエチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還
流を行ったのち、90分間で320°Cまで昇温し、水
及び酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を進
行させた。その後、系内を100Torrの減圧で30
分間、さらに2T。
rrの減圧で20分間重合を進行させた。
得られたポリマーの元素分析の結果を下表に示す。
計算値(%) 75.9 4.48 0.75
75.9 4,48 0.75これらの結果か
ら下記の構造単位を有することがわかる。
75.9 4,48 0.75これらの結果か
ら下記の構造単位を有することがわかる。
得られたポリイミドエステルの対数粘度数は4゜3dl
/gであった。このポリイミドエステルは347℃以上
の溶融状態で光学異方性を示L7た。
/gであった。このポリイミドエステルは347℃以上
の溶融状態で光学異方性を示L7た。
実施例10
p−アミノ安息香酸 57.1 g (0,416モル
)無水トリメリット酸 87.4 g (0,416モ
ル)メチルエチルケトン 100d をダブルへリカル翼を付けた1、41のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間攪拌し、アミド酸〔(4−カル
ボキシフタル)−4−カルボキシ”7ニリド]の沈澱を
得た。
)無水トリメリット酸 87.4 g (0,416モ
ル)メチルエチルケトン 100d をダブルへリカル翼を付けた1、41のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間攪拌し、アミド酸〔(4−カル
ボキシフタル)−4−カルボキシ”7ニリド]の沈澱を
得た。
次いで、
テレフタル酸 146.9 g (0,884モル)α
−メチルベンジルヒドロキノン 189.4g(130
モル) 無水酢酸 270.3g(2,65モル)を投入し、窒
素気流下に攪拌しながら150°Cまで昇温し、メチル
エチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還流を
行ったのち、90分間で320°Cまで昇温し、水及び
酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を進行さ
せた。その後、系内を100Torrの減圧で30分間
、さらに2T。
−メチルベンジルヒドロキノン 189.4g(130
モル) 無水酢酸 270.3g(2,65モル)を投入し、窒
素気流下に攪拌しながら150°Cまで昇温し、メチル
エチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還流を
行ったのち、90分間で320°Cまで昇温し、水及び
酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を進行さ
せた。その後、系内を100Torrの減圧で30分間
、さらに2T。
rrの減圧で10分間重合を進行させた。
得られたポリマーの元素分析の結果を下表に示す。
得られたポリイミドエステルの対数粘度は4.6a/g
であった。このポリイミドエステルは347°C以上の
溶融状態で光学異方性を示した。
であった。このポリイミドエステルは347°C以上の
溶融状態で光学異方性を示した。
計算値(%) 75.5 4.37 1.15
% 75.5 4.38 1.14こ
れらの結果から下記の構造単位を有することがわかる。
% 75.5 4.38 1.14こ
れらの結果から下記の構造単位を有することがわかる。
実施例ll
m−アミノ安息香酸 35.7g(0,26モル)無水
トリメリット酸 54.6g(0,26モル)メチルエ
チルケトン 100 ail をダブルへリカル翼を付けた1、4!のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間攪拌し、アミド酸〔(4−カル
ボキシフタル)−3−カルボキシアニリド〕の沈澱を得
た。
トリメリット酸 54.6g(0,26モル)メチルエ
チルケトン 100 ail をダブルへリカル翼を付けた1、4!のオートクレーブ
に投入し、室温で1時間攪拌し、アミド酸〔(4−カル
ボキシフタル)−3−カルボキシアニリド〕の沈澱を得
た。
次いで、
テレフタル酸 172.8g(1,04モル)α−メチ
ルベンジルヒドロキノン 278.6 g(1,30モ
ル) 無水酢酸 270.3 g (2,65モル)を投入し
、窒素気流下に攪拌しながら150°Cまで昇温し、メ
チルエチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還
流を行ったのち、90分間で320°Cまで昇温し、水
及び酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を進
行させた。その後、系内を100Torrの減圧で30
分間、さらに2T。
ルベンジルヒドロキノン 278.6 g(1,30モ
ル) 無水酢酸 270.3 g (2,65モル)を投入し
、窒素気流下に攪拌しながら150°Cまで昇温し、メ
チルエチルケトンを留出させた。この温度で1時間の還
流を行ったのち、90分間で320°Cまで昇温し、水
及び酢酸を留去させ、アミド酸の脱水環化及び重合を進
行させた。その後、系内を100Torrの減圧で30
分間、さらに2T。
rrの減圧で20分間重合を進行させた。
得られたポリマーの元素分析の結果を下表に示す。
得られたポリイミドエステルの対数粘度数は2゜8d1
/gであった。このポリイミドエステルは327“C以
上の溶融状態で光学異方性を示した。
/gであった。このポリイミドエステルは327“C以
上の溶融状態で光学異方性を示した。
計算値(%) 75.9 4.48 0.75
% 75.9 4.48 0.75こ
れらの結果から下記の構造単位を有することがわかる。
% 75.9 4.48 0.75こ
れらの結果から下記の構造単位を有することがわかる。
+co−■−co↓4゜
実施例12
テレフタル酸 189.4 g (1,14モル)ベン
ジルヒドロキノン 260.4g(1,30モル)4−
カルボキシ−N−(4−カルボキシフェニル)フタルイ
ミド 48.6g(0,156モル)無水酢酸 270
.3g(2,65モル)を、ダブルヘリカル翼の付いた
1、41オートクレーブに投入し、窒素気流下で攪拌し
なから150°Cまで昇温し、1時間還流を行った。続
いて90分間で350°Cまで昇温し酢酸を留去させた
。その後系内を徐々に減圧にし100Torrで30分
間、さらに2 Torrで30分間重合を進行させた。
ジルヒドロキノン 260.4g(1,30モル)4−
カルボキシ−N−(4−カルボキシフェニル)フタルイ
ミド 48.6g(0,156モル)無水酢酸 270
.3g(2,65モル)を、ダブルヘリカル翼の付いた
1、41オートクレーブに投入し、窒素気流下で攪拌し
なから150°Cまで昇温し、1時間還流を行った。続
いて90分間で350°Cまで昇温し酢酸を留去させた
。その後系内を徐々に減圧にし100Torrで30分
間、さらに2 Torrで30分間重合を進行させた。
得られたポリイミドエステルの元素分析の結果を下表に
示す。
示す。
計算イ直 (%) 75.8 4.1
6 0.4875.8 4.16 0.
48これらの結果から下記の構造単位を有することがわ
かる。
6 0.4875.8 4.16 0.
48これらの結果から下記の構造単位を有することがわ
かる。
得られたポリイミドエステルの対数粘度数は3゜1d1
/gであった。このポリイミドエステルは343°C以
上の溶融状態で光学異方性を示した。
/gであった。このポリイミドエステルは343°C以
上の溶融状態で光学異方性を示した。
比較例1
テレフタル酸 216.0 g (1,30モル)α−
メチルベンジルヒドロキノン 278.6 g(1,3
0モル) 無水酢酸 270.3 g (2,65モル)を原料と
して、実施例1と同様に重合を行った。
メチルベンジルヒドロキノン 278.6 g(1,3
0モル) 無水酢酸 270.3 g (2,65モル)を原料と
して、実施例1と同様に重合を行った。
得られたポリマーは下式に示されるホモポリエステルで
あった。
あった。
比較例2
テレフタル酸 216.0 g (1,30モル)ベン
ジルヒドロキノン 260.4g(1,30モル) 無水酢酸 132.6g(1,30モル)を原料として
、実施例1と同様に重合を行った。
ジルヒドロキノン 260.4g(1,30モル) 無水酢酸 132.6g(1,30モル)を原料として
、実施例1と同様に重合を行った。
得られたポリマーのは下式に示されるホモポリエステル
であった。
であった。
比較例3
市販のポリエーテルイミド(ジェネラルエレクトリック
社製ウルテム1000)を用いた。
社製ウルテム1000)を用いた。
比較例4
市販のサーモトロピック液晶性共重合ポリエステル(住
友化学工業(株)製エコノールE60000)を用いた
。
友化学工業(株)製エコノールE60000)を用いた
。
比較例5
市販のサーモトロピック液晶性共重合ポリエステル(セ
ラニーズ社製ベクトラA950)を用いた。
ラニーズ社製ベクトラA950)を用いた。
実施例1〜12及び比較例1〜5のポリマーの線膨張係
数、成形収縮率、曲げ特性、熱変形温度(HDT)を第
1表に示す。
数、成形収縮率、曲げ特性、熱変形温度(HDT)を第
1表に示す。
なお、これらの特性の測定は次のようにして行った。
テストピースの ノ
射出成形機(東芝l545P)を用いて、成形温度25
0〜350°C1金型温度120 ”Cで、成形した。
0〜350°C1金型温度120 ”Cで、成形した。
刈j9贋汰
1、線膨張係数
セイコー熱分析装置SSC〜300およびTMA−10
0を用い、63−5 X 63.5 X 1.6 mm
の平板の中心部から約10(測定方向)x5X1.6m
mに切り出したテストピースを圧縮モードにて荷重5g
、昇温速度10°C/minで測定した。
0を用い、63−5 X 63.5 X 1.6 mm
の平板の中心部から約10(測定方向)x5X1.6m
mに切り出したテストピースを圧縮モードにて荷重5g
、昇温速度10°C/minで測定した。
2、成形収縮率
上記平板のMD及びTDについて、次式により算出した
。
。
成形収縮率
東洋精a(株)製の装置を用い、127 X 12゜7
X3.2mmの試験片を用いて、荷重18.6 kg/
cfで測定した。
X3.2mmの試験片を用いて、荷重18.6 kg/
cfで測定した。
その他試験条件はASTM D648に準じた。
金型キャビティー内寸
X100 (%)
3、 曲げ特性
東洋精機(株)製)(TM250を用いて、127 X
12.7 X 3.2 mmの試験片について23゛
Cで測定した。
12.7 X 3.2 mmの試験片について23゛
Cで測定した。
その他の試験条件はASTM D790に準じた。
4、熱変形温度
第1表
本発明のポリイミドエステルは線膨張係数、成形収縮率
共に小さく、寸法安定性、寸法精度に優れていることが
わかる。また従来の液晶性ポリマーと比較して、MD、
TDの異方性が小さく、さらに、寸法安定性、寸法精度
に優れている。しかも、強度、弾性率の点でも大巾に優
れていることか明らかである。このことは、特に金属材
料、ガラス、・tラミックなど無機材料との張り合わせ
ての使用において、あるいは射出成形によるインサート
成形などでの使用において、温度変化による寸法変化に
伴い、剥離、曲がり、ねじれ、内部歪みの増大、内部応
力の増大など、従来の液晶性ポリマーで解決できなかっ
た問題点を回避することができる。また、ポリマー単体
での使用においてもMDとTDの線膨張係数が共にOに
近く、異方性が小さいため、温度変化に伴う寸法変化の
異方性が小さく、そりや変形などの問題が生じにくいと
いう掻めて優れた特性を有している。また、本発明のポ
リイミドエステルは強度、耐熱性においても優れている
。
共に小さく、寸法安定性、寸法精度に優れていることが
わかる。また従来の液晶性ポリマーと比較して、MD、
TDの異方性が小さく、さらに、寸法安定性、寸法精度
に優れている。しかも、強度、弾性率の点でも大巾に優
れていることか明らかである。このことは、特に金属材
料、ガラス、・tラミックなど無機材料との張り合わせ
ての使用において、あるいは射出成形によるインサート
成形などでの使用において、温度変化による寸法変化に
伴い、剥離、曲がり、ねじれ、内部歪みの増大、内部応
力の増大など、従来の液晶性ポリマーで解決できなかっ
た問題点を回避することができる。また、ポリマー単体
での使用においてもMDとTDの線膨張係数が共にOに
近く、異方性が小さいため、温度変化に伴う寸法変化の
異方性が小さく、そりや変形などの問題が生じにくいと
いう掻めて優れた特性を有している。また、本発明のポ
リイミドエステルは強度、耐熱性においても優れている
。
本発明により得られた熱可塑性の全芳香族ポリイミドエ
ステルは、射出成形が可能で、流動方向及びこれに直角
方向共に優れた寸法安定性、寸法精度を有し、また、強
度、弾性率(剛性)、耐熱性においても優れており、電
気・電子部品用等の素材としてその工業的価値は極めて
大である。
ステルは、射出成形が可能で、流動方向及びこれに直角
方向共に優れた寸法安定性、寸法精度を有し、また、強
度、弾性率(剛性)、耐熱性においても優れており、電
気・電子部品用等の素材としてその工業的価値は極めて
大である。
第1図は実施例2で得られたポリイミドエステルのIR
スペクトルを示すチャートである。
スペクトルを示すチャートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、芳香族ジカルボン酸に由来する単位(a)とアラル
キル基で核置換された置換ヒドロキノンに由来する単位
(b)とカルボキシ−N−(カルボキシフェニル)フタ
ルイミドに由来する単位(c)及び/又はカルボキシ−
N−(ヒドロキシフェニル)フタルイミドに由来する単
位(d)とを含む熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミド
エステル。 2、カルボキシ−N−(カルボキシフェニル)フタルイ
ミドに由来する単位(c)及び/又はカルボキシ−N−
(ヒドロキシフェニル)フタルイミドに由来する単位(
d)のモル分率が0.1〜30モル%である請求項1記
載の熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステル。 3、下記の構造単位 I 、II及びIIIあるいは I 、II及
びIVを主たる構成成分とする熱可塑性の液晶性全芳香族
ポリイミドエステル。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕 (式中、単位 I の2つのカルボニル基はメタ又はパラ
位に存在し、かつパラ位に90モル%以上存在し、単位
IIのX及びYは水素又は炭素数1〜3のアルキル基を示
し、Arは炭素数6〜12のアリール基を示し、単位I
IIの左端のカルボニル基とイミド基、及び単位IVの左端
のオキシ基とイミド基は、それぞれ互いにパラ位又はメ
タ位に存在する。また、単位 I 、II及びIII並びに単位
I 、II及びIVのそれぞれの両端はエステル結合により
連結されている、) 4、構造単位IIのArがフェニル基である請求項3記載
の熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステル。 5、構造単位IIIの左端のカルボニル基とイミド基が互
いにパラ位である請求項4記載の熱可塑性の液晶性全芳
香族ポリイミドエステル。 6、構造単位IVの左端のオキシ基とイミド基が互いにパ
ラ位である請求項4記載の熱可塑性の液晶性全芳香族ポ
リイミドエステル。 7、構造単位IIに加えて他の置換ヒドロキノンに由来す
る単位を1〜20モル%含有する請求項3記載の熱可塑
性の液晶性全芳香族ポリイミドエステル。 8、パラオキシ安息香酸又は置換パラオキシ安息香酸に
由来する単位(e)を1〜20モル%含有する請求項1
記載の熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステル。 9、芳香族ジカルボン酸又はその誘導体(A)とアラル
キル基で核置換された置換ヒドロキノン又はその誘導体
(B)とカルボキシ−N−(カルボキシフェニル)フタ
ルイミド又はその誘導体(C)及び/あるいはカルボキ
シ−N−(ヒドロキシフェニル)フタルイミド又はその
誘導体(D)とをA+C:Bのモル比が実質的に1:1
であり、A+B+C+ D:C+Dのモル比が100:0.1〜30となるよう
に重縮合反応させることを特徴とする熱可塑性の液晶性
全芳香族ポリイミドエステルの製造法。 10、芳香族ジカルボン酸又はその誘導体(A)とアラ
ルキル基で核置換されたモノ置換ヒドロキノン又はその
誘導体(B)と(カルボキシフタル)カルボキシアニリ
ド又はその誘導体(E)及び/あるいは(カルボキシフ
タル)ヒドロキシアニリド又はその誘導体 (F)とをA+E:Bのモル比が実質的に 1:1であり、A+B+E+F:E+Fのモル比が10
0:0.1〜30となるように反応を行い、(E)及び
/又は(F)の環化と重縮合を行うことを特徴とする熱
可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステルの製造法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63300616A JPH02147631A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステル及びその製造法 |
DE68914271T DE68914271T2 (de) | 1988-11-30 | 1989-11-28 | Flüssigkristallines, thermoplastisches, vollaromatiches Polyesterimid und Verfahren zur Herstellung. |
EP89121920A EP0375960B1 (en) | 1988-11-30 | 1989-11-28 | Thermoplastic, liquid-crystalline, wholly aromatic polyimide ester and method of producing the same |
US07/443,253 US5109100A (en) | 1988-11-30 | 1989-11-30 | Thermoplastic, liquid-crystalline, wholly aromatic polyimide ester and method of producing the same |
US07/726,920 US5120820A (en) | 1988-11-30 | 1991-07-08 | Thermoplastic liquid-crystalline, wholly aromatic polyimide ester from carboxy-n-(carboxyphenyl) phthalimide and aralky, hydroquinone |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63300616A JPH02147631A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステル及びその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02147631A true JPH02147631A (ja) | 1990-06-06 |
Family
ID=17887002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63300616A Pending JPH02147631A (ja) | 1988-11-30 | 1988-11-30 | 熱可塑性の液晶性全芳香族ポリイミドエステル及びその製造法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5109100A (ja) |
EP (1) | EP0375960B1 (ja) |
JP (1) | JPH02147631A (ja) |
DE (1) | DE68914271T2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8415451B2 (en) | 2009-05-11 | 2013-04-09 | Mitsubishi Chemical Corporation | Liquid crystal polyimide, liquid crystal resin composition containing same, and resin film for semiconductor elements |
JP2019214710A (ja) * | 2018-06-07 | 2019-12-19 | 東レ株式会社 | 樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、層間絶縁膜または半導体保護膜、薄膜トランジスタ、および液晶表示装置または有機el表示装置 |
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---|---|---|---|---|
DE4138764A1 (de) * | 1991-11-26 | 1993-05-27 | Basf Ag | Hochtemperaturbestaendige blockcopolykondensate |
IT1258302B (it) * | 1992-04-10 | 1996-02-22 | Eniricerche Spa | Poliestereimmide trmotropica, procedimento per la sua preparazione e suo impiego |
AT398977B (de) * | 1992-11-10 | 1995-02-27 | Chemie Linz Gmbh | Thermoplastische polyesterimide aus trimellitsäure, propandiphenol und einem aromatischen diamin mit verbesserten mechanischen eigenschaften, ihre herstellung und verwendung |
CN103764623B (zh) | 2011-08-29 | 2016-04-27 | 提克纳有限责任公司 | 芳族酰胺化合物 |
WO2013032967A1 (en) | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Ticona Llc | Cast molded parts formed form a liquid crystalline polymer |
US9074133B2 (en) | 2011-08-29 | 2015-07-07 | Ticona Llc | Thermotropic liquid crystalline polymer with improved low shear viscosity |
WO2013032971A1 (en) | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Ticona Llc | Melt-extruded substrate for use in thermoformed articles |
WO2013032981A1 (en) | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Ticona Llc | High flow liquid crystalline polymer composition |
WO2013032974A1 (en) | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Ticona Llc | Solid-state polymerization of a liquid crystalline polymer |
CN103764741B (zh) | 2011-08-29 | 2015-09-23 | 提克纳有限责任公司 | 低熔体粘度液晶聚合物的熔融聚合 |
JP2014525499A (ja) | 2011-08-29 | 2014-09-29 | ティコナ・エルエルシー | 低い融解温度をもつ耐熱性液晶ポリマー組成物 |
JP2014525498A (ja) | 2011-08-29 | 2014-09-29 | ティコナ・エルエルシー | 高流動性液晶ポリマー組成物 |
CN105358657A (zh) | 2013-06-07 | 2016-02-24 | 提克纳有限责任公司 | 高强度热致液晶聚合物 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0213362B1 (en) * | 1985-07-25 | 1989-09-27 | Teijin Limited | Crystalline polyester-imides, process for production thereof, and use thereof |
DE3542797A1 (de) * | 1985-12-04 | 1987-06-11 | Basf Ag | Vollaromatische mesomorphe polyesterimide, deren herstellung sowie verwendung |
US4874836A (en) * | 1987-10-28 | 1989-10-17 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Thermoplastic wholly aromatic polyimide esters and process for producing the same |
DE3737067A1 (de) * | 1987-10-31 | 1989-05-11 | Bayer Ag | Thermotrope polyesterimide mit ausgezeichneter waermeformbestaendigkeit, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur herstellung von formkoerpern, filamenten, fasern und folien |
DE3814974A1 (de) * | 1988-05-03 | 1989-11-16 | Bayer Ag | Thermotrope polyesterimide mit ausgezeichneter waermeformbestaendigkeit, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur herstellung von formkoerpern, filamenten, fasern und folien |
DE3816402A1 (de) * | 1988-05-13 | 1989-11-16 | Huels Chemische Werke Ag | Formmassen bestehend aus einem thermoplastisch verarbeitbaren, aromatischen polyesterimid |
-
1988
- 1988-11-30 JP JP63300616A patent/JPH02147631A/ja active Pending
-
1989
- 1989-11-28 DE DE68914271T patent/DE68914271T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-28 EP EP89121920A patent/EP0375960B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-30 US US07/443,253 patent/US5109100A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-07-08 US US07/726,920 patent/US5120820A/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2019214710A (ja) * | 2018-06-07 | 2019-12-19 | 東レ株式会社 | 樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、層間絶縁膜または半導体保護膜、薄膜トランジスタ、および液晶表示装置または有機el表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5109100A (en) | 1992-04-28 |
US5120820A (en) | 1992-06-09 |
DE68914271T2 (de) | 1994-11-24 |
EP0375960A1 (en) | 1990-07-04 |
DE68914271D1 (de) | 1994-05-05 |
EP0375960B1 (en) | 1994-03-30 |
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