JPH0214433A - 焦点制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） この発明は、光学装置のフォーカス状態を検出するため
の装置に係り、より詳細には情報記録媒体に情報を記録
する又は記録された情報を情報記録媒体から読出す為の
光ビームを情報記録媒体上にフォーカスさせる装置に関
する。

（従来の技術） 近年、文書などの画像情報を記録し、必要に応じてその
画像情報を検索してハードコピー或いはソフトコピーと
して再生し得る光デイスク装置のような画像情報記録１
１■生装置が開発されている。

光デイスク装置においては、集束性の光ビームが円盤状
記録媒体、即ち光ディスクに向けて照射されて情報が記
録又は再生される。すなわち、記録時においては、光ビ
ームが照射されることによって記録面上には状態変化が
起こされ、その結果情報は例えばピットとして光ディス
クに記録される。

また再生時においては定常光ビームが情報記録媒体上に
照射され、記録情報に応じて光ビームはビットで強度変
調される。変調された光ビーム強度を処理して情報が再
生される。記録及び再生の際、光ディスクが線速一定に
回転され、光ビームを光ディスクに向けるための光学ヘ
ッドが光デイスク上の半径方向に直線移動される。

光学ヘッドは、光学ディスク上にレーザ光を集束させる
対物レンズを備え、対物レンズは所定領域に正確に集光
ビームを照射するためにその先軸方向に移動可能に支持
されている。焦点制御系の可動機構によって対物レンズ
が光軸方向に移動されて対物レンズが合焦状態に維持さ
れ、対物レンズからの光ビームが光ディスクに集束され
る。対物レンズを合焦状態に維持させるために記録媒体
上における焦点ずれ状態が検出されその検出結果が対物
レンズの移動機構にフィードバックされる。

（発明が解決しようとする課題） この発明は、情報記録媒体上のフォーカス状態を検出す
るための、新たな焦点制御装置を提供することを［１的
とする。

［発明の構成コ （課題を解決するための手段） この発明によれば、光ビームを記録媒体上に集束する集
束手段と、前記記録媒体からの光ビームの近傍に配置さ
れたピンホールと、前記ピンホールを光ビームの光軸方
向に振動させる手段と、前記記録媒体に対する前記集束
手段の位置を調整する前記振動手段により振動されてい
るピンホールを通過する光ビームに応答する手段を備え
る焦点制御装置が提供される。

（作用） この発明においては、ピンホールを通過する光ビームの
光強度変化を検出することによってフォーカス状態が制
御される。そのため光検出器の構成は単純となり組立て
及び調整の容品な高精度のフォー力ッシング制御が達成
される。

（実施例） この発明の一実施例を図面を参照しながら以下に説明す
る。

第１図は、この発明の焦点制御装置が組込まれる光デイ
スク装置の平面図を示している。第１図において光ディ
スク（記録媒体）１は、ガラス或いは、プラスチックス
等の円盤状の基板上に情報記録膜としてテルル或いは、
ビスマス等の金属波膜がコーティングされて形成される
。円盤状の基板上には、トラッキングガイド領域を定め
るグループ５が同心固状に形成されている。光ディスク
１に対向して光学ヘッド３が設けられ２、記録、再生及
び検索時には、光ディスク１が駆動機構によって光学ヘ
ッド３に対して線速一定で回転駆動される。第１図にお
いて、記録領域を規定するグループ５はＺ方向に延出さ
れている。

光学ヘッド３は光源としての半導体レーザ１１を備え、
半導体レーザ１１からは発散性のレーザビームＬが発生
される。レーザビームＬは情報を先ディスク１の記録膜
に書込む記録時には書込むべき情報に応じてその光強度
が変調されて発生され、又情報を光ディスク１の記録膜
から読み出す再生時には一定の強度で発生される。この
半導体レーザ１１から発生された発散性のレーザビーム
しはコリメータレンズ１３によって平行光束に麦換され
てハーフプリズム１４に導かれる。／Ｘ−フプリズム１
４に導かれたレーザビームしは、ノ＼−フプリズム１４
を通過して対物レンズ１６に入射され、対物レンズ１６
によってレーザビームしは、先ディスク１の記録膜に向
けて集束される。

対物レンズ１６は、その先軸方向及び光軸に垂直な平面
上で移動可能に支持される。対物レンズ１６が光軸上の
最適位置即ち、合焦位置に配置されると、この対物レン
ズ１６から発せられた集束性のレーザビームＬのビーム
ウェストが先ディスク１の記録膜の表面上に投射され、
それによって最少ビームスポットが先ディスク１の記録
膜の表面上に形成される。一方、対物レンズ１６が光軸
と直交する面内（記録膜面に平行な面内）で最適位置即
ち、谷トラック位置に配置されると光デイスク１上に形
成されるビームスポットが記録領域として定められたト
ラック上に正確に形成され、それによってトラックがレ
ーザビームで追跡される。この２つの状態（合焦状態・
合トラック状ａ）が保たれることによって情報の書込み
及び読出しが可能となる。即ち、記録時には強度変調さ
れたレーザービームによって記録膜にビット等の状態変
化が起こされ、再生時には一定強度のレーザビームがト
ラック内のピット等で形成された記録領域で強度変調さ
れて反射される。

光ディスク１の記録膜で反射された発散性のし−ザビー
ムＬは、合焦時において対物レンズ１６によって平行光
束に変換され、再びノ１−フプリズム１４に戻される。

ハーフプリズム１４で反射されたレーザビームしは集束
用の球面凸レンズ１７を透過されてハーフミラ−３０に
入射される。入射された先ビームの一部はハーフミラ−
３０で反射され残りの光ビームは透過される。反射され
た光ビームＬａは集束されて光検出器２１上に照射され
る。光検出器２１に照射された光ビームＬａは各光検出
領域で７１ｉ気信号に変換されて所定の方法で処理され
る。

信号が処理されることによってトラッキングのずれに相
当するトラッキング・エラー信号が発生される。トラッ
キング・エラー信号に応じて駆動回路（図示しない）を
介してボイスコイル８に電流が供給されて光学ヘッド３
が対物レンズ１６の光軸に垂直な市内で駆動されて光ビ
ームによって所定のトラックが追跡される。更に光検出
領域２１Ａ、２１Ｂで検出された信号は読取信号として
利用される。

一ノｊハーフミラー３０を透過された光ビームＬｂは、
プレート１９の略中央部に空けられた円形状のピンホー
ル２５に向けて集光される。集光された光ビームのうち
ピンホール２５を通過された光ビームが検出器２０上に
照射される。ピンホール２５が形成されたプレート１９
は光軸方向（Ｚ方向）に伸縮性を有するピエゾ素子１８
の一端に取付けられ、ピエゾ素子１８の伸縮に応じて光
ビームの光軸方向に振動される。またプレート１９のピ
ンホール２５は、その内径が最少のビーム径、すなわち
ビームウェストの径よりもいくらか小さく形成されてい
る。そのため検出器２０上に照射される光ビームの強度
は、ピエゾ素子１８の振動に応じて移動するプレート１
９の光軸方向の位置に依仔して変化される。光検出器２
０に照射された光ビームＬｂは光検出領域で電気信号に
変換されて所定の方法で処理される。信号が処理される
ことによって光デイスク上での光ビームのフォー力ッシ
ング状態に応じてフォー力ッシングエラーｆＪ号が発生
される。その発生された電気信号は駆動回路（図示しな
い）を介してボイスコイル８に供給されて対物レンズ１
６がその光軸方向に駆動され、それによって光ビームの
焦点が制御される。

上に述べたピエゾ素Ｔ−１８及びそれに設けられたプレ
ート１９のピンホール２５の機能をさらに詳細に説明す
る。ピエゾ索子１８は印加される電圧信号に対して特定
方向、例えば光軸方向（Ｚ方向）に伸縮特性を示す逆圧
電効果を利用した圧電素子である。ピエゾ索子１８はそ
の一端が伸縮方向に垂直な基阜面に固定され、他端には
上に述べたプレート１９が取付けられている。したがっ
てピエゾ索子１８に交流電圧信号が印加されると、その
電圧に応じてプレート１９は光ビームの光軸ノｊ向に圧
電気振動される。言替えるならば、プレート１９は外部
から交流電圧信号を印加させることによって光軸方向に
振動する圧電振動子として作用する。

第２Ａ図乃至第２Ｃ図には合焦時及び非合焦時における
ピンホール２５を通過される光ビームの光路図が示され
ている。

対物レンズ］６が光ディスクの記録面に対し合焦位置に
配置された場合には、第２Ｂ図に示されるような光路を
経て光ビームが光検出器２０上に照射される。合焦時に
おいて、光ディスクで反射された発散性の光ビームは対
物レンズ１６で５１乞行光に戻されてハーフプリズム１
４の接合面で反射されて集光レンズ１７に入射される。

集光レンズ１７を通過された光ビームのうちハーフミラ
−３０を透過された光ビームは光軸上の特定位置に集光
されて最少のビーム径、すなわちビームウェストを形成
しその後再び発散光ビームとして光検出器２０上に向け
て投射される。この光ビームの光路上にはそのビーム径
よりも小さなピンホール２５を有するプレート１９が配
置され、ピエゾ索子の伸縮に応じて光軸方向（Ｚ方向）
に特定の振幅りで振動される。そのため、ピンホールを
経て光検出器２０上に照射される先ビームの光強度はピ
ンホール２５とビームウェストとの相互位置に依（ｊＬ
、て変化される。例えば合焦時においては、第２Ｂ図に
示されるようにプレート１９の振幅りの中央部すが光ビ
ームのビームウェストの位置に一致するように予め配置
されているため、プレート１９のピンホール２５の位置
がビームウェストを中心に光軸方向に対称的に振動され
ると、光検出器２０上に照射される光ビーム強度は振幅
りの中央部すがビームウェストの位置に一致する位置を
最大値として振動される。例えばプレート１９がｂ−ａ
−ｂ−ｃ−ｂの順で振動されると、検出される光強度す
なわち検出器上に照射される投影像の面積は第３Ｂ図に
示されるように５Ｐ−８Ｑ−ｓ、、−５Ｑ−ｓｐと変化
される。プレート１９のピンホール２５の位置がビーム
ウェストと一致するとき検出器２０上には第３Ｂ図に実
線で示されるような゛１乞径Ｒ２の最も大きい略円形状
の像が投影される。

また対物レンズ１６が光ディスク１に対して合焦位置よ
りも近づいた場合、光ディスクからは合焦時よりもわず
かに発散された光ビームが入射される。そのためハーフ
ミラ−３０を通過された光ビームのビームウェストは合
焦時よりも光軸方向で後方位置に形成される。第２Ａ図
に示されるように例えばプレート１９の振幅りの後端部
Ｃがビームウェストに一致するように振動されると、光
検出ＪＳ１２０上に照射される光ビーム強度は振幅の後
端部Ｃがビームウェストと一致する位置を最大値として
変化される。例えばプレート１９がｂ−ａ−ｂ−ｃ−ｂ
の順で振動されると、検出される光強度すなわち検出器
上に照射される投影像の面積は第３Ａ図に示されるよう
に５Ｑ−Ｓｌｌ　　５Ｑ−８ｒ−ＳＱと変化される。プ
レート１９が振幅りの中央部すに位置する場合、検出器
２０上には第３Ａ図に実線で示されるような半径Ｒ１の
略円形状の像が投影される。

逆に対物レンズ１６が光ディスクに対し合焦位置から離
れた場合、光ディスクからは合焦時よりもわずかに集束
された光ビームが入射される。そのためハーフミラ−３
０を通過された光ビームのビームウェストは合焦時より
も光軸方向の前方位置に形成される。第２Ｃ図に示され
るように例えばプレート１９の振幅りの前端部ａがビー
ムウェストに一致するように振動されると、光検出器２
０上に照射される光ビーム強度は振幅の前端部Ｃがビー
ムウェストと一致する位置を最大値として変化される。

例えばプレート１９がｂ−ａ−ｂ−ｃ−ｂの順で振動さ
れると、検出される光強度すなわち検出器上に照射され
る投影像の面積は第３Ｃ図に示されるように５Ｑ−３ｐ
−３Ｑ−３゜−８Ｑと変化される。プレート１９が振幅
りの中央部すに位置する場合、検出器２０上には第３Ｃ
図に実線で示されるような半径Ｒ３の略円形状の像が投
影される。

上に述べたように光検出領域に投影される像の面積、す
なわち光ビームの強度はピエゾ素子１８に応じて動かさ
れるピンホールの振動に伴って周期的に変動される。そ
のため光検出器２０からは合焦時及び非合焦時に応じて
第４図に示されるような信号波形が発生される。

第４図の上側には光検出器２０で検出される信号波形が
示されている。図面において縦軸は光検出器で検出され
る光検出出力信号（Ｐ−Ｄ出力）、横軸は時間を示す。

またその下側には光ビームのフォーカス状態のズレを検
出するために基準信号として利用されるピエゾ索子駆動
信号の信号波形が示されている。その縦軸はピエゾ索子
駆動信号、横軸は時間を示す。

第４図において、合焦時すなわち、第２Ｂ図のようにプ
レート１９の振幅りの中央部すが光ビームのビームウェ
ストの位置に一致されているとき、光ビームの照射され
た検出器からは出力信号波形■で示される信号が発生さ
れる。また対物レンズ１６が光ディスクの記録面に対し
て合焦位置よりも近付いた場合、例えば第２Ａ図のよう
にプレート１９の振幅りの後端部Ｃがビームウェストに
一致するように配置されるとき、光ビームの照射された
検出器からは出力信号波形■で示される信号が発生され
る。また対物レンズ１６が光ディスクの記録面に対して
合焦位置よりも近付いた場合、例えば第２Ｃ図のように
プレート１９の振幅りの前端部ａがビームウェストに一
致するように配置されるとき、光ビームの照射された検
出器からは出力信号波形■で示されるような信号が発生
される。さらにまた信号波形■はプレート１９を光軸方
向に振動させるために利用される基準信号としてのピエ
ゾ索子駆動信号を示す。

信号波形■に示されるように、合焦時においてはプレー
ト１９が位置すに配置されたとき、すなわちピンホール
２５がビームウェストに配置されるとき最大の出力信号
Ｐが発生される。そしてビームウェストから離れるにつ
れて出力信号が減少され、ピンホール２５が位置ａ及び
位置Ｃに配置された際に出力信号Ｑが発生される。この
出力信号はピンホールの振動に応じて繰返されるため、
プレート１９の一往復運動ずなイっちピエゾ索子駆動信
号の１３号波形■が１回振動される間に出力信号波形■
は２回振動される。このとき出力信号波形■は出力値Ｐ
と出力値Ｑの間で振動される。

他方、対物レンズ１６が光ディスクの記録面に対して合
焦位置よりも近づいた場合、出力信号波形■に示すよう
にプレート１９が位置Ｃに配置されたとき出力信号Ｐが
発生される。そしてビームウェストから遠ざかるに連れ
て出力信号が減少され、ピンホール２５が位置すに配置
されたときに出力信号Ｑが発生され位置ａに配置された
ときに出力信号Ｒが発生される。このためプレート１９
の一往復運動、すなわちピエゾ索子駆動信号の信号波形
■か１回振動される間に出力信号波形■も１回振動され
る。このとき出力信号波形■は出力値Ｐと出力値Ｒの間
で振動される。

反＆、Ｊに対物レンズ１６が光ディスクの記録面に対し
て合焦位置から離れた場合、出力信号波形■に示すよう
にプレート１９が位置ａに配置されたとき、即ちピンホ
ール２５がビームウェストに配置されるとき最大出力信
号Ｐが発生される。そしてビームウェストから離れるに
つれて出力信号が減少され、ピンホール２５が位置すに
配置された際に出力信号Ｑが発生され位置ａに配置され
た際に出力信号Ｒが発生される。このためプレート１つ
の一往復運動、すなわちピエゾ素子駆動信号の信号波形
■が１回振動される間に出力信号波形■も１回振動され
る。このとき出力信号波形■は出力値Ｐと出力値Ｒの間
で振動される。このとき信号波形■及び信号波形■は互
いにその位相が１／２波長ずれて発生される。

また第４図に記載されたピエゾ素子駆動信号の信号波形
■は、好ましい基準信号を発生するようにその位相が遅
らされた信号波形である。すなわち信号波形■はその信
号のピーク位置が合焦時の信号波形■のピーク位置と２
周期に１度一致するように基準信号発生回路（図示しな
い）でその位相が定められている。このように基準信号
が発生されるとき、信号波形■はピエゾ素子駆動信号の
信号波形■に対してその位相は１／４波長遅れて発生さ
れ、信号波形■はピエゾ索子駆動信号の信号波形■に対
してその位相は１／４波長進んで発生される。光ビーム
の焦点はこの基準信号波形■と検出信号波形が以下のよ
うに処理されることによって制御される。

合焦時と非合焦時とのフォーカス位置のずれ量は検出信
号自体の振幅差となってあられれる。例えば合焦時にお
いて信号波形■は出力Ｐと出力Ｑの間で振動される。そ
れに対して非合焦時における信号波形■及び信号波形■
は合焦時よりも大きい振幅で振動される。このため振幅
を検出することによって、フォーカス位置のずれ量の絶
対値が７１−１定される。

またフォーカス位置のずれ方向は基準信号と検出信号と
の位相差としてあられれる。第４図に示されたピエゾ索
子駆動信号の信号波形■は合焦時の信号波形■とそのピ
ーク位置が一致するように予め設定されている。例えば
対物レンズが合焦位置から光ディスクに対して近付いた
場ａ１光検出器からは基準信号の信号波形■に対してそ
の位相が１／４波長遅れた信号波形■が発生される。ま
た反対の対物レンズが合焦位置から離れた場合、光検出
器からは基準信号の信号波形■に対してその位相が１／
４波長進んだ信号波形■が発生される。この位相の遅れ
又は進みを位相比較回路（図示しない）で検出すること
によってフォーカス位置のずれ方向が決定される。

このようにして決定されたフォーカス位置のずれ量及び
ずれ方向に応じて、ボイスコイルに駆動信号が供給され
て対物レンズが合焦位置に向けて駆動される。なお駆動
信号は光検出器２０で検出される信号が信、号波形■に
一致した際に停止される。第５図には上に述べた信号の
処理方法を示すブロック図が示されている。

第５図において、ピエゾ素子を駆動するためのピエゾ素
ｒ−駆動回路から発生された駆動信号は基準信号発生回
路４１に供給される。基準信号発生回路４１に供給され
た信号は所定の位相差、すなわち所定の位相遅、れが与
えられて位相比較回路４６に供給される。なおこの位相
比較回路４６に供給される信号は光検出器２０で検出さ
れる検出信号との位相のずれ方向を決定するための基準
信号として利用される。−力先ビーム強度に応じて光検
出器２０から発生された検出信号も位相比較回路４６に
供給される。基準信号及び検出信号の供給された位相比
較回路４６からは基準信号に対する検出信号の位相の進
み又は遅れに応じて定められたｎ号信号が発生される。

他方、光検出器２０の検出信号は振幅検出回路４７にも
Ｏ（給される。振幅検出回路４７に供給された検出信号
はその振幅が検出され、合焦時の振幅との差信号に相当
する焦点ぼけ検出信号（Ｆ　−Ｅ）の絶対値信号が発生
される。次にそれぞれ位相比較回路４６からの信号及び
振幅検出回路４７からの信号はそれぞれ符号反転回路４
８に０（給される。ｎ号反転回路４８にお（亀で振幅検
出回路４７からの焦点ぼけ検出信号の絶対値信号と位相
比較回路４６からの符号信号は結合される。これによっ
て符号反転回路４８からは、焦点ぼけの補正量及びその
符号が定められた焦点ぼけ検出信号（Ｆ−Ｅ）が発生さ
れてボイスコイル駆動回路４４に供給される。ボイスコ
イル駆動回路４４からは対物レンズをその先軸方向に駆
動するための駆動信号が発生されてボイスコイルに供給
され、供給された信号に応じて対物レンズが光軸方向の
最適位置、すなわち合焦位置に駆動される。

６Ａ図乃至第６Ｃ図にはハーフミラ−３０の接合面で反
射された光ビームＬａを検出する光検出′ａ２１が示さ
れている。第６Ａ図乃至第６Ｃ図に示されるように、光
検出器２１はその中央部で先非検出領域としての横方向
（Ｚ方向）の分割線３５によって２つの検出領域２１Ａ
及び２１Ｂに分割されＣいる。光ディスクに入射された
光ビームがＺ方向に延出するグループ５で回折される結
果、グループの影、即ち帯状の暗部が分割線３５と平行
にビームスポット内に現れる。これらの帯状の暗部は所
定のグループ（トラック）上に光ビームを常に維持する
制御、即ちトラッキング制御の為に利用される。言替え
るならば、分離された光検出領域２１Ａ、２１Ｂ上に照
射される光ビームの光強度の差はグループの影の位置に
応じて変化されため、゛光検出領域２１Ａ、２１Ｂ上に
照射される光強度の差を利用することによってトラッキ
ング制御に利用できる。

例えば対物レンズ１６が光ディスクに対して合トラック
位置に位置する場合、第６Ｂ図に示されるように光検出
器２１上の光検出領域２１Ａ１２１Ｂ上には等しい光強
度の光ビームが照射される。そのため光検出器からは光
強度の差に応じた信号、すなわち零信号が発生される。

また対物レンズ１６が先ディスクに対して合トラック位
置からいずれかの方向にずれた場合、Ｔ、　６　Ａ図又
は第６Ｃ図に示されるように光検出領域２１Ａ上に照射
される光ビームの強度と２１Ｂ上に照射される光ビーム
の強度とは異なる。そのため光検出器からは光強度の差
に応じたトラッキングエラー信号が発生される。検出器
２１から発生されたトラッキングエラー信号は駆動回路
４５を介して対物レンズ１６を駆動するためのボイスコ
イル８に供給され、それによって対物レンズ１６の位置
が光ディスクに平行な平面上で調整される。

次に第７図を参照して光検出器２１で検出された電気信
号の処理回路について説明する。光検出領域２１Ａの出
力信号は増幅回路３１Ａに供給され、増幅回路３１Ａで
増幅された出力信号は比較回路４２の反転入力端に供給
される。また光検出領域２１Ｂの出力信号は増幅回路３
１Ｂに供給され、増幅回路３１．８で増幅された出力信
号は比較回路４２の非反転入力端に供給される。比較回
路４２で光検出領域２］Ａの検出信号と、光検出領域２
１Ｂの検出信号とが比較される。比較された信号の差信
号、即ちフォーカスずれに相当する電気信号が駆動回路
４５を介してボイスコイル（図示しない）に１共給され
る。それによって対物レンズ１６がその光軸に垂直な面
内で駆動されてトラッキングずれが補正される。

また同様に光検出器２１で検出された信号は情報再生信
号として利用される。すなわち光検出器２１Ａ、２１Ｂ
の出力信号は増幅回路３１Ａ１３１Ｂにそれぞれ供給さ
れて増幅される。増幅された信号はそれぞれ加算回路３
６に供給されて加算される。加算された信号は信号処理
回路４３に供給されて情報再生信号として利用される。

上述した装置においては、ハーフプリズム１４で反射さ
れたし１ザビームＬは球面凸レンズ１７を通過されてハ
ーフミラ−３０に入射され、ハーフミラ−３０で光ビー
ムＬａ５Ｌｂに分岐される。

接合面で反射された一方の光ビームＬａは光検出器２１
上に投射されて７ｄ気信号に変換され、変換された信号
は所定の方法で処理されてトラッキング制御信号及び情
報再生信号として利用される。

他方の透過された光ビームＬ　ｂはプレート１９に空け
られたピンホール２５に入射され、ピンホール２５を透
過された光ビームが光検出器２０上に照射される。光検
出器２０上に投射された光ビーム強度は電気信号に変換
され、変換された信号は所定の方法で処理されて焦点制
御用用として利用される。しかしながら、この発明の装
置の配列はこれらの配置に制限されない。例えばハーフ
ミラ−３０で反射された光ビームＬａが焦点制御用に利
用され、透過された光ビームＬｂがトラッキングガイド
用に利用されてもよい。

［発明の効果コ この発明の焦点制御装置においては、ピンホールを通過
する光ビームの光強度変化を検出することによってフォ
ーカス状態が制御される。光ビームの検出器は１つの検
出餉域で横１戊されるため組立て及び調整が容易となる
と同時に高精°度のフォー力ッシング制御が達成される
。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の焦点制御装置を備える光学ヘッドの
概略構成を示す正面図、第２Ａ図乃至第２Ｃ図は光ビー
ムの合焦状態及び非合焦状態におけるピンホールを通過
する光ビームの光路図、第’うＡ図乃至第３Ｃ図は２八
図乃至第２Ｃ図の光ビムが投射される光検出器の１１−
面図、第４図は第３Ａ図乃至第３Ｃ図の光検出器の検出
信号とピンホール駆動信号の関係を示す波形図、第５図
は第４図に示される信号゛の処理方法を示すブロック図
、第６Ａ図乃至第６Ｃ図は光ビームの合トラック状態及
び非ごトラック状態を示す２分割光検出器の正面図、第
７図は第６図の光検出器で検出される信号の処理方法を
示す電気回路図である。 １・・・光ディスク、３・・・光学ヘッド、５・・・グ
ループ、８・・・ボイスコイル、１１・・・半導体レー
ザ、１３・・・コリメータレンズ、１４・・・ハーフプ
リズム、１６・・・対物レンズ、１７・・・球面凸レン
ズ、１８・・・ピエゾ素子、１９・・・プレート、２０
・・・光検出器（光検出領域）、２１・・・光検出器、
２１、　Ａ、２１Ｂ・・・光検出領域、２５・・・ピン
ホール、３０・・・ハーフミラ−３１Ａ、３１Ｂ・・・
増幅回路、３２．３３・・・加算回路、３５・・・分割
線、３６・・・比較回路、４０・・・駆動信号発生回路
、４１・・・基準信号発生回路、４２・・・比較回路、
４３・・・信号処理回路、４４．４５・・・ボイスコイ
ル駆動回路、４６・・・位相比較回路、４７・・・振幅
検出回路、４８・・・７１号反転回路。 出願人代理人　弁理士　鈴江武彦 第 第２Ｃ図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　光ビームを記録媒体上に集束する集束手段と、前記記
   録媒体からの光ビームの近傍に配置されたピンホールと
   、 前記ピンホールを光ビームの光軸方向に振動させる手段
   と、 前記記録媒体に対する前記集束手段の位置を調整する前
   記振動手段により振動されているピンホールを通過する
   光ビームに応答する手段を具備することを特徴とする焦
   点制御装置。