JPH0214434A - 焦点制御装置 - Google Patents

焦点制御装置

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JPH0214434A
JPH0214434A JP16392988A JP16392988A JPH0214434A JP H0214434 A JPH0214434 A JP H0214434A JP 16392988 A JP16392988 A JP 16392988A JP 16392988 A JP16392988 A JP 16392988A JP H0214434 A JPH0214434 A JP H0214434A
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light
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、光学装置のフォーカス状態を検出するため
の装置に係り、より詳細には情報記録媒体に情報を記録
する又は記録された情報を情報記録媒体から読出す為の
光ビームを情報記録媒体上にフォーカスさせる装置に関
する。
(従来の技術) 近年、文書などの画像情報を記録し、必要に応じてその
画像情報を検索してハードコピー或いはソフトコピーと
してilT生し得る先ディスク装置のような画像情報記
録il生装置が開発されている。
光デイスク装置においては、集束性の光ビームが円盤状
記録媒体、即ち光ディスクに向けて照射されて情報が記
録又は再生される。すなわち、記録時においては、光ビ
ームが照射されることによって記録面上には状態変化が
起こされ、その結果情報は例えばビットとして光ディス
クに記録される。
また再生時においては定常光ビームが情報記録媒体上に
照射され記録情報に応じて光ビームはビットで強度変調
される。変調された光ビームの強度変化を検出すること
によって情報が再生される。
記録及び再生の際、光ディスクが線速一定に回転され光
ビームを光ディスクに向けるための光学ヘッドが先ディ
スク上の半径方向に直線移動される。
光学ヘッドは、光学ディスク上にレーザ光を集束させる
対物レンズを備え、対物レンズは所定領域に正確に集光
ビームを照射するためにその光軸方向に移動可能に支持
されている。焦点制御系の可動機構によって対物レンズ
が光軸方向に移動されて対物レンズが合焦状態に維持さ
れ、対物レンズからの光ビームが光ディスクに集束され
る。対物レンズを合焦状態に維持させるために記録媒体
上における焦点ずれ状態が検出されその検出結果が対物
レンズの移動機構にフィードバックされる。
この焦点ずれの検出方法としてウェッジプリズム法が知
られている。
ウェッジプリズム法において、フォーカッシング状態に
応じて情報記録媒体から出射された光ビームは集光レン
ズを経てウェッジプリズムで2つのビームに分岐される
。その際、2つの光ビームは入射ビームの光軸に対して
特定角度で互いに異なる方向に出射される。分岐された
光ビームはそれぞれ所定位置に配置された2つの検出器
上に照射され電気信号に変換される。電気信号は所定の
方法で処理され、フォー力ッシングエラーに応じた電流
が対物レンズ駆動用のボイスコイルに供給される。ボイ
スコイルに電流が供給されることによって対物レンズが
駆動され、光ビームが情報記録媒体上に合焦される。
(発明が解決しようとする課8) ウェッジプリズム法を用いた焦点制御においては、光ビ
ームはウェッジプリズムで入射光軸に対して特定角度で
互いに異なる方向に出射する2つのビームに分岐される
。このため2つのビームを検出する2つの検出器の間隔
は、ウェッジプリズムと検出器の間の光軸方向の距離に
大きく依存する。正確なフォー力ッシング制御を達成す
るにはウェッジプリズムの取付は位置に応じて検出器間
隔が調整されなければならない。
この発明は、情報記録媒体上のフォーカス状態を検出す
るための、新たな焦点制御装置を提供することを目的と
する。
また、この発明は光学部品の光軸方向の位置ずれによっ
ておこる検出器間隔の位置調整の問題を解決し、それに
よって組立てや調整の容易な焦点制御装置を提O(する
ことを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) この発明によれば、光ビームを記録媒体上に集束するた
めの集束手段と、前記記録媒体からの光ビームの光路上
に配置され入射された光ビームを第1及び第2の光ビー
ムに分岐する分岐手段と、前記分岐手段からの前記第1
の光ビームの光路上でその光軸に対して互いに異なる角
度に傾けて配置され前記第1の光ビームを互いに略平行
な第3及び第4の光ビームに分岐する第1及び第2の平
行平板と、前記記録媒体に対する集束手段の光軸方向の
位置を調整する前記第3及び第4の光ビームに応答する
手段と、前記記録媒体に対する集束手段の光軸に垂直な
平面内の位置を調整する前記分岐手段からの第2の光ビ
ームに応答する手段を備える焦点制御装置が提供される
(作用) この発明においては、第1及び第2の光屈折体から出射
される光ビームの間隔りが各光学部品の光軸のずれに影
響されずに略一定に保たれるため組立て及び調整が容易
となる。
(実施例) この発明の一実施例を図面を参照しながら以下に説明す
る。
第1図は、この発明の焦点制御装置が組込まれる光デイ
スク装置の平面図を示している。第1図において光ディ
スク(記録媒体)1は、ガラス或いは、プラスチックス
等の円盤状の基板上に情報記録膜としてテルル或いは、
ビスマス等の金属被膜がコーティングされて形成される
。円盤状の基板上には、トラッキングガイド領域を定め
るグル−ブ5が同心円状に形成されている。光ディスク
1に対向して光学ヘッド3が設けられ、記録、再生及び
検索時には、光ディスク1が光学ヘッド3に対して線速
一定で回転駆動される。第1図において記録領域を規定
するグループ5はZ方向に延出されている。
光学ヘッド3は光源としての半導体レーザ11を備え、
半導体レーザ11からは発散性のレーザビームLが発生
される。レーザビームしは情報を光ディスク1の記録膜
に書込む記録時には書込むべき情報に応じてその光強度
が変調されて発生され、又情報を光ディスク1の記録膜
から読み出す再生時には一定の強度で発生される。この
半導体レーザ11から発生された発散性のレーザビーム
しはコリメータレンズ13によって平行光束に変換され
てハーフプリズム14に導かれる。ハーフプリズム14
に導かれたレーザビームしは、ハーフプリズム14を通
過して対物レンズ16に入射され、対物レンズ16によ
ってレーザビームしは、光ディスク1の記録膜に向けて
集束される。
対物レンズ16は、その光軸方向及び光軸と直交する面
内方向で移動可能に支持される。対物レンズ16が光軸
上の最適位置即ち、合焦位置に配置されると、この対物
レンズ16から発せられた集束性のレーザビームLのビ
ームウェストが光ディスク1の記録膜の表面上に投射さ
れ、それによって最少ビームスポットが光ディスク1の
記録膜の表面上に形成される。一方、対物レンズ16が
光軸と直交する面内(記録膜面に平行な面内)で最適位
置即ち、合トラック位置に配置されると光デイスク1上
に形成されるビームスポットが記録領域として定められ
たトラック上に正確に形成され、それによってトラック
がレーザビームで追跡される。この2つの状態(合焦状
態・合トラック状態)が保たれることによって情報の書
込み及び読出しが可能となる。即ち、記録時には強度変
調されたレーザービームによって記録膜にピット等の状
態変化が起こされ、再生時には一定強度のレーザビーム
がトラック内のピット等で形成された記録領域で強度変
調されて反射される。
光ディスク1の記録膜で反射された発散性のレーザビー
ムLは、合焦時には、対物レンズ16によって平行光束
に変換され、再びハーフプリズム14に戻される。ハー
フプリズム14で反射されたレーザビームしは集束用の
球面凸レンズ17を透過されてビームスプリッタ30に
入射される。
入射された光ビームの一部はビームスプリッタ30の接
合面で反射され残りの光ビームは透過される。反射され
た光ビームLaは集束されて光検出器21上に照射され
る。光検出器21に照射された光ビームLaは各光検出
領域で電気信号に変換されて所定の方法で処理される。
所定の方法で処理されることによって比較回路42から
トラッキング・エラー信号が発生される。トラッキング
・エラー信号に応じて駆動回路45を介してボイスコイ
ル8に電流が供給されて光学ヘッド3が対物レンズ16
の光軸に垂直な面内で駆動され、それによって所定のト
ラックが光ビームによって追跡される。またビームスプ
リッタ30の接合面を透過された光ビームLbは、その
光軸上に配置された第1及び第2の光屈折体18.19
に入射される。第1及び第2の光屈折体18.19は光
ビームの光路上に配置され入射光ビームの光軸を境に2
本の平行な第1の光ビームL1及び第2の光ビームL2
に分岐する。分岐された光ビームL1及びL2はそれぞ
れ光検出器20上に照射される。
光検出器20に照射された光ビームL1及びL2は各光
検出領域でfJ3気信号に変換されて所定の方法で処理
される。信号処理によって比較回路41からフォー力ッ
シングエラー信号が発生される。
その発生された電気信号は駆動回路44を介してボイス
コイル8に供給されて対物レンズ16がその光軸方向に
駆動され、それによって光ビームの焦点が制御される。
更に光検出領域で検出された信号は信号処理回路43で
処理されて読取信号として利用される。
第2図を参照して第1及び第2の光屈折体18.19の
機能を詳細に説明する。第1及び第2の光屈折体18.
19は例えばガラス板で構成され、好ましくは同一の厚
さを釘する゛ト行゛1乙仮形状に形成されている。各平
行平板はX−Z平面に平行な側面をHし、その側面は互
いに入射ビームの光軸に接するように配置される。更に
その第1及び第2の平行平板18.19の入射面及び出
射面は、光軸に垂直な平面に対して所定の角度を有する
ように配置され、好ましくはその2つの平行平板18.
19は光軸に対して互いに異なる方向に等しい角度で配
置されている。これによって、入射光ビームは光デイス
ク上のグループの影が投影される方向(Y方向)に垂直
なX方向の線に沿って分割される。第1及び第2の平行
平板18.19のそれぞれの入射面及び出射面が傾けら
れることによって、平行平板18及び19を通過した光
ビームは互いに入射光ビームLの光軸に対して略平行で
且つ所定の間隔りを有する第1の光ビームL1及び第2
の光ビームL2に分岐されて光検出器20上に照射され
る。第1の光ビームL1及び第2の光ビームL2の間隔
りは第1の平行平板18及び第2の平行平板19の屈折
率n、厚さ及び・1之行平板18.19のなす角度θに
依存する。
この関係は第3A図及び第3B図に示される。
第3A図は第1及び第2の平行甲板18.19から入射
・光ビームLの光軸に対して略平行に出射される第1の
光ビームL1及び第2の光ビームL2の光路を示してい
る。この図において平行平板18.19は同一の厚さを
有する同一の材料で形成される。平行平板18.19の
厚さt1平行平板18.19の屈折率n、2枚の平行平
板18.19のなすh度をθと仮定すると、光ビームL
1及び光ビームL2の光軸の間隔りは、角度θが比較的
小さい範囲では(1−1/n)θtと近似的に表わされ
る。そのため光ビームの光軸のずれDは、集光レンズ1
7、平行平板18.19、及び光検出器20の相互距離
には依存しない。
また、第3B図は入射光線が誤って光軸に対して角度δ
を有して前記2つのガラス板18.19に入射された際
に発生される2つに分岐された光ビームL1、L2の光
軸のずれを示す。光軸に対して角度δを有して入射され
た場合、平行平板19によるずれ量は、(1−1/n)
δtだけ増加され、平行平板18によるずれ量は、(1
−1/n)δtだけ減少される。そのため2つの光ビー
ムの光軸の間隔りは、2つのガラス板のなす角θが比較
的小さい範囲では角度δに依存しない。このようにこの
発明の平行平板18.19から出射される光ビームの間
隔りは、各光学部品の光軸方向のずれに影響されずに略
一定に保たれる。そのため組立て及び調整の容易な焦点
制御装置が提供される。
上に述べた光屈折体としての平行平板18.19を透過
されて分岐された第1の光ビームL1及び第2の光ビー
ムL2の入射される光検出器20は第4図に示される。
第4図に示されるように、光検出器20は第1の光検出
器18を通過して照射された光ビームを検出する光検出
領域20 K、20M及び光屈折体19を通過して照射
された光ビームビーム検出する光検出領域2OL、2O
Nの4つの検出領域から構成されている。
光検出領域は先非検出領域としての縦方向(X方向)の
分割線23によって2分割され、また横方向(Y方向)
の分割線25によって2分割される。分割された光検出
領域20に、2OL。
20M、2ONの出力は焦点制御、及び情報再生に利用
される。
対物レンズ16が光ディスクの記録面に対し合焦位置に
配置された場合には、光検出器には第4B図に示される
ような像が投影される。即ち、第1の光屈折体18を通
過された光ビームL1による微少面積のビームスポット
が光検出領域20K及び20Mを分割する分割線23上
を中心として形成される。また同時に第2の光屈折体1
9を通過された光ビームL1による微少面積のビームス
ポットが光検出領域2OL及び2ONを分割する分割線
23上を中心として形成される。
言替えるならば、光検出領域20に〜2ON上に入射さ
れた光強度に対応する信号出力をそれぞれ■〜■とする
と、分割線23は合焦時においてF、E−1(■+■)
−(■十■))−〇の条件を満たすように設定される。
合焦時における光ビームのスポットサイズ及び検出器の
構成が上に述べたように設定されることによって、フォ
ーカスずれの検出が可能となる。
例えば対物レンズ16が光ディスクに対して合焦位置か
ら離れた場合、光ディスクからは合焦時よりもわずかに
集束された光ビームが平行平板18.19に入射される
。そのため検出器20上には第4A図に示されるような
像が投影される。
すなわち検出器20の光検出領域20K及び光検出領域
2ON上に略半円形状のビームスポットが形成される。
このときフォー力ッシングエラー信号は、F、E−+(
■+■)−(■+■))〉0となる。
逆に対物レンズ16が光ディスクに対し合焦位置よりも
近付いた場合、光ディスクからは合焦時よりもわずかに
発散された光ビームが平行平板18.19に入射される
。そのため検出器20上には第4C図に示されるような
像が投影される。すなわち検出器20の光検出領域20
L120M上に略半円形状のビームスポットが形成され
る。このときフォー力ッシングエラー信号は、F、E−
1(■+■)−(■+■)) 〉0となる。
次に第5図を参照して光検出器20で検出された電気信
号の処理回路について説明する。
光検出領域20に〜2ONの出力信号は、増幅回路31
に〜31Nにそれぞれ供給される。増幅回路31K及び
増幅回路31Nで増幅された信号は、加算回路32に供
給される。増幅回路31L及び増幅回路31Mで増幅さ
れた信号は、加算回路33に供給される。加算回路32
で加算された信号出力は比較回路41の反転入力端に供
給され、一方の加算回路33で加算された信号出力は比
較回路41の非反転入力端に供給される。比較回路41
で上記光検出領域20に、2ONの検出信号の加算結果
と光検出領域2OL、20Mの検出信号の加算結果とは
比較される。比較された差出力、即ちフォーカス状態の
ずれに相当する電気信号が駆動回路44を介してボイス
コイル(図示しない)に供給される。それによって対物
レンズ16がその光軸方向に沿って駆動されて焦点ぼけ
が補正される。
また増幅回路31に、31L、31M、31Nの出力は
全て信号処理回路43で加算される。加算された結果に
もとづいて光デイスク上に記録された情報が+If生さ
れる。
一方、ビームスプリッタ30の接合面で反射された光ビ
ームLaを検出する光検出器21は第6A図乃至第6C
図に示されている。
第6A図乃至第6C図に示されるように、光検出器21
はその中央部で先非検出領域としての横方向(Z方向)
の分割線35によって2つの検出領域21A及び21B
に分割されている。光ディスクに入射された光ビームが
Z方向に延出するグループ5で回折される結果として、
グループの影即ち帯状の暗部が分割線35と平行にビー
ムスポット内に現れる。これらの帯状の暗部は所定のグ
ループ(トラック)上に光ビームを常に維持する制御即
ちトラッキング制御の為に利用される。言替えるならば
、分離された光検出領域21A121B上に照射される
光ビームの光強度の差はグループの影の位置に応じて変
化されため、光検出領域21A、21B上に照射される
光強度の差を利用することによってトラッキング制御に
利用できる。
例えば対物レンズ16が光ディスクに対して心トラック
位置に位置する場合、第6B図に示されるように光検出
器21上の光検出領域21A、21B上には等しい光強
度の光ビームが照射される。そのため光検出器からは光
強度の差に応じた信号、すなわち零信号が発生される。
また対物レンズ16が光ディスクに対して合トラック位
置からいずれかの方向にずれた場合、第6A図又は第6
C図に示されるように光検出ml域21A上に照射され
る光ビームの強度と21B上に照射される光ビームの強
度とは異なる。そのため光検出器からは光強度の差に応
じたトラッキングエラー信号が発生される。検出器21
から発生されたトラッキングエラー信号は駆動回路45
を介して対物レンズ16を駆動するためのボイスコイル
8にa(給され、それによって対物レンズ16の位置か
光ディスクに平行な平面上で調整される。
次に第7図を参照して光検出器21で検出された電気信
号の処理回路について説明する。
光検出領域21Aの出力信号は増幅回路31Aに供給さ
れ、増幅回路31Aで増幅された出力信号は比較回路4
2の反転入力端に供給される。また光検出領域21Bの
出力信号は増幅回路31BにO(給され、増幅回路31
Bで増幅された出力信号は比較回路42の非反転入力端
に供給される。
比較回路42で光検出領域21Aの検出信号と、光検出
領域21Bの検出信号とが比較される。比較された信号
の差信号、即ちフォーカスずれに相当する電気信号が駆
動回路45を介してボイスコイル(図示しない)に供給
される。それによって対物レンズ16がその光軸に垂直
な面内で駆動されてトラッキングずれが補正される。
上述した装置においては、ハーフプリズム14で反射さ
れたレーザビームしは球面凸レンズ17を通過されてビ
ームスプリッタ30に入射され、ビームスプリッタ30
の接合面で光ビームLa。
Lbに分岐される。接合面で反射された一方の光ビーム
Laは光検出器21上に投射されて電気信号に変換、さ
れ、変換された信号は所定の方法で処理されてトラッキ
ング制御信号として利用される。
他方の接合面を透過された光ビームLbは第1及び第2
の光屈折体18.19に入射され、その光軸を境に互い
に略平行な第1の光ビームL1及び第2の光ビームL2
に分岐されて光検出器20上に照射される。第1及び第
2の光ビームL1、L2は光検出器20上に投射されて
電気信号に変換され、変換された信号は所定の方法で処
理されて焦点制御用及び情報再生用として利用される。
しかしながら、この発明の装置の配列はこれらの配置に
制限されない。例えばビームスプリッタ30で反射され
た光ビームLaが焦点制御用に利用され、透過された光
ビームLbがトラッキングガイド用に利用されてもよい
。また情報再生信号の検出は光検出器21によってなさ
れてもよい。
さらにまた、光屈折体は平行平板形状を有するガラス仮
18.19又で形成されている。しかしながら光屈折体
の材質及び形状は同様の効果を示す限り変更されてもよ
い。さらにまた光屈折体の変更に付随して検出器の位置
変更も可能である。例えば、実施例においては2つの光
屈折体が入射光ビームの光軸上に対称的に配置されてい
る。しかしながら、もし2つの光屈折体が入射光ビーム
の光軸上に対称的に配置されないとしても検出器の配置
及び検出器上の分割線23.25の位置を予め定めてお
くことで同様の検出が可能である。
[発明の効果] この発明においては、第1及び第2の光屈折体から出射
される光ビームの間隔りが各光学部品の光軸のずれに影
響されずに略一定に保たれる。そのため組立て及び調整
の容易な焦点制御装置が提15町される。またビームス
プリッタ30に入射された光ビームを2つの光ビームL
a、Lbに分岐し、その一方の光ビームLbからフォー
カス・エラー信号を検出し、同時に他方の光ビームLa
からトラック・エラー信号を検出する。そのため高精度
のフォー力ッシング制御及びトラッキング制御が達成さ
れる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の焦点制御装置を備える光学ヘッドの
概略構成を示す図、第2図はこの発明の焦点制御装置の
要部を示す斜視図、第3A図及び第3B図は光軸上に配
置された2つの平行平板と分岐される2つの光ビームの
光軸のずれとの関係を示す側面図、第4A図乃至第4C
図は光ビームの合焦状態及び非合焦状態を示す4分割光
検出器の正面図、第5図は光検出器20で検出される信
号の処理方法を示す電気回路図である。第6A図乃至第
6C図は光ビームの合トラック状態及び非合トラック状
態を示す2分割光検出器の正面図、第7図は光検出器2
1で検出される信号の処理方法を示す電気回路図である
。 1・・・光ディスク、3・・・光学ヘッド、5・・・グ
ループ、8・・・ボイスコイル、11・・・半導体レー
ザ、13・・・コリメータレンズ、14・・・ノ1−フ
プリズム、16・・・対物レンズ、17・・・球面凸レ
ンズ、18・・・第1の光屈折体、19・・・第2の光
屈折体、20・・・光検出器、20I(〜2ON・・・
光検出領域、21・・・光検出器、21A、20B・・
・光検出領域、23.25・・・分割線、30・・・ビ
ームスプリッタ、31A、31B、31に〜31N・・
・増幅回路、32.33・・・加算回路、35・・・分
割線、41.42・・・比較回路、43・・・信号処理
回路、44.45・・・駆動回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、光ビームを記録媒体上に集束するための集束手段と
    、 前記記録媒体からの光ビームの光路上に配置され入射さ
    れた光ビームを第1及び第2の光ビームに分岐する分岐
    手段と、 前記分岐手段からの前記第1の光ビームの光路上でその
    光軸に対して互いに異なる角度に傾けて配置され前記第
    1の光ビームを互いに略平行な第3及び第4の光ビーム
    に分岐する第1及び第2の平行平板と、 前記記録媒体に対する前記集束手段の光軸方向の位置を
    調整する前記第3及び第4の光ビームに応答する手段と
    、 前記記録媒体に対する集束手段の光軸に垂直な平面内の
    位置を調整する前記分岐手段からの第2の光ビームに応
    答する手段を具備することを特徴とする焦点制御装置。
JP16392988A 1988-06-30 1988-06-30 焦点制御装置 Expired - Lifetime JP2653478B2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0633291A (ja) * 1992-07-21 1994-02-08 Iketsukusu Kogyo:Kk 電鋳加工による多孔質成形型の製造方法
JPH0665779A (ja) * 1992-08-24 1994-03-08 Iketsukusu Kogyo:Kk 金属の電着方法
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US6403015B1 (en) 1999-10-27 2002-06-11 Ktx Co., Ltd. Process for molding three-dimensional molded product from a sheet

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