JPH021422A - 有機化合物に関する改良 - Google Patents

有機化合物に関する改良

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JPH021422A
JPH021422A JP1022460A JP2246089A JPH021422A JP H021422 A JPH021422 A JP H021422A JP 1022460 A JP1022460 A JP 1022460A JP 2246089 A JP2246089 A JP 2246089A JP H021422 A JPH021422 A JP H021422A
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JP1022460A
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Richard James Anderson
リチャード・ジェイムズ・アンダーソン
Jonas Grina
ジョナス・グリナ
Fred Kuhnen
フレッド・クーネン
Shy-Fuh Lee
シャイ‐フー・リー
Gary Wayne Luehr
ガレイ・ウエイン・ルエル
Hermann Schneider
ヘルマン・シュナイデル
Seckinger Karl
カルル・ゼッキンゲル
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Sandoz AG
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Sandoz AG
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、新規ジオン化合物、21tj;’j撲滅に
おける前記化合物の使用、前記ジオン化合物を含有する
新規除草組成物および前記新規化合物の製造方法に関す
るものである。
[発明の構成] さらに詳しくは、この発明は、式(I)[式中、 R2、R3、R3およびR4は、独立して、6個以下の
炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水素残基、6g以下
の炭素原子を有するシクロアルキル基、Arまたは(A
、)nX基であるが、ただし、R2、R2、R3および
R4のうちの1つはO3−、アルコキシカルボニルでも
あり得、R2、R2、R5およびR4のうち少なく七も
1つは(A 、)nXであり、またR3とR2またはR
1とR4は一緒になってC1−、アルキレンであり得、
またR1およびR7は一緒になってオキソまたはCl−
5アルキリデン基を形成し得、Arは、0、NおよびS
から選択された1〜3個のへテロ原子を含み、環炭素原
子により環へに連結された非置換または置換5または6
員へテロアリールであり、 nは0またはlであり、 Xは、H10R6、SR?、NRnR9、No、1ハロ
ゲン、CN、CF、、CHF、、S(O)mR1osC
ON HRIl、 COR+ *、CR13R14C0
0(C,−、アルキル)またはベンジルであり、AIは
、非置換または1個もしくはそれ以上のC1−、アルキ
ル基により置換された、メチレンまたはエチレンであり
、 R8およびR7は、独立してH1炭化水素残基、ハロア
ルキル、ヘテロアリールまたは基C0−R2、であり、 R8は、H1炭化水素残基、ヘテロアリールまたは基G
o−R,,であり、 R8、R3゜、R13およびR14は、独立してHlC
l−8アルキルまたはアリールであり、RoはHまたは
炭化水素残基であり、 R12およびRd8は、独立してH1炭化水素残基また
はへテロアリールであり、 mは!または2であり、 A、は、結合、CRI 6 Rl ?、CR18RI、
−CR18R1゜、O,S、NR,。またはCOであり
、R18およびR111は、独立してH1炭化水素残基
または遊離形態、塩形態もしくはエステル化形態のカル
ボキシル基であるが、ただし、lR+eとR1は隣接炭
素原子のところで一緒になって結合を形成し得、 RllおよびRteは、独立してH1炭化水素残基また
は(A 、)nX基(式中、A2、nおよびXは前記の
意味)であるが、ただし、R16とRllまたはR16
とR19は一緒になってG−CH−)*−s基を意味し
得、すなわちスピロ化合物を形成し得、および/または
1118は隣接炭素原子のところでR1と一緒になり、
またはRlsは隣接炭素原子のところでR3と一緒にな
って(CH*)+−sを形成し得、すなわち二環式環を
形成し得、 R2oは、H1炭化水素残基またはCORts (式中
、Rd5は前記の意味)であり、 A3−−−A4は、C=C(ORaX基A)実たはC(
Xυ−C(OX基B)であり、 X、はFまたはCQであり、 Raは、H1塩形成部分またはそれが結合している酸素
と一緒になってエーテルまたはエステル部分を示し、 Yは、Rll、RllおよびR23により置換されたフ
ェニルまたはAr’であり、 Ar’は、0、SおよびNから選択された2、2または
3個のへテロ原子を含む、5または6員へテロ芳香族基
であって、ヘテロ芳香族基は非置換または置換され、環
炭素原子によりそれが結合しているCO基に連結され、 RllおよびR2!は、連立してH1ハロゲン、C14
アルキル、C,−、アルコキシ、O3−。ハロアルキル
、ON、NCL、CF301RbS(O)p、NRcR
’、C(O)−R’、SO2−NRcRdtたはNRc
−C(O)−R’であるが、ただし、RllおよびR2
xは一緒になってメチレンジオキシ基を形成し得、pは
、01 lまたは2であり、 Rbは、所望によりハロゲン、シアノ、フェニルまたは
ベンジルで置換されていてもよいC8−4アルキルであ
り、 RcおよびRdは、独立してHまたはCl−4アルキル
であり、 R8はCl−4アルキルまたはCl−4アルコキシであ
り、 R23は、ハロゲン、NO2、CN%C1−、アルキル
、Cl−tアルコキシ、cI−tハロアルキルまたはC
1−4アルキル−8(O)qであり、qは、0、lまた
は2であり、 ただし、Yか所望により置換されていてもよいピリミジ
ニル以外である場合、R2、R2、R3およびR4のう
ちの1つはフェニルまたは置換フェニルであるが、 a)下記条件、すなわち、 1 ) CR+ n 2  A 2は、c (R2)=
 C(R、?)またはCR,R1−0R21、R22R
,?−CR,8R,。、1i)Yは所望により置換され
ていてもよいフェニルまたは所望により置換されていて
もよいピリミンニル以外、 1ii)R+およびR2は一緒になってオキソまたはC
+−Sアルキリデンを形成、 iv)他の置換基R2、R3、R3およびR4のうち少
なくとも1つは、不飽和脂肪族炭化水素残基、ンクロア
ルキル、非置換もしくは置換フェニルまたはAr。
■)他の置換基R+SRz、R3、RいR1?およびR
19のうちの少なくとも1つは、基(A 、)nX(式
中、XはH以外)、または νi)へ。−−−A4はC(X、)−G(O)のうら少
なくとも1つが当てはまる場合、R1112、R3およ
び1N4のうらの1つに、しけろXはI−1のみであり
、 b) CRI R2A tがC(Rt)−〇(R+Jで
ある場合、R,およびR4は共にI]ではなく、c)R
,およびR2が一緒になってオキソである場合、A2は
0、S、NR,。またはCOではないものとする] で示される新規化合物に関するものである。
式(I)で示される化合物は、式(II)(式中、R2
、R2、R3、R4およびA、は11り記の、き味) で示される化合物を、式(III) Y−Co−Hal    (III) (式中、Yは前記の意味であり、Hatはハロゲンであ
る) で示される化合物と反応させ、次いで、こうして(式中
、Y、R21、R22R2、R3、R4およびA、は前
記の意味) で示されるエステルの転位により、式(1b)(式中、
YSA21R21、R22R21、R22RoおよびR
4は前記の意味であり、MはHまたは塩形成部分である
)で示される化合物を得、所望によりこうして得られた
式(Ib)の化合物をエーテル化、エステル化またはハ
ロゲン化することにより、対応する2−(YCo)−2
−エン−1−オン−3−オールエーテル、2−(Y−C
o)−2−エンー■−オンー3オールエステルまたは2
−X、−2−(YCO)1.3−ジオン化合物を得るこ
とにより製造される。
ハライドによるl−オン−3−オール化合物のエステル
化は、アルコールおよび酸ハライドからのエステルの製
造に関する自体公知の方法で実施され得ろ。
この反応は、好都合には反応条件下で不活性な溶媒、例
えばジクロロメタン中、好ましくは酸結合剤、例えばト
リエチルアミンの存在下で行なわれる。適当な反応温度
は0°〜40°の範囲内、例えば20°Cである。
所望の式(I)で示される化合物の生成を目的とする、
こうして得られた式(TV)で示されるエステルの転位
は、β−ケトエノール・エステルからのα−アシル化β
−ジケトンの製造に関して知られている条件下で行なわ
れ得る。その目的の場合、一般にはそれらが形成される
反応混合物からのエステルの単離は必要ではない。
上記転位は、触媒、例えば4−ジメチルアミノピリジン
、ルイス酸触媒、または温和な(中程度の)塩基、例え
ば第3アミン塩基、例、トリエチルアミンによるシアニ
ド供与体、例えばアセトン・シアノヒドリンの存在下で
行なわれ得る。
上記転位反応の適当なルイス酸触媒は、例えば塩化アル
ミニウム、塩化亜鉛または塩化錫(IV)である。
適当な溶媒の例には、メチレンクロリド、アセトニトリ
ルまたはトルエンがある。反応温度は、好都合にはO℃
〜還流温度、好ましくは室温(約20°C)である。
式(Ib)で示される化合物は、確立された手順による
後処理によりそれらが形成される反応混合物から回収さ
れ得る。
反応条件により異なるが、式(1b)で示される化合物
は、遊離酸形態(MはHである)または塩形態で製造さ
れ得る。
式(Ib)で示される化合物が遊離酸形態である場合、
それらは様々な互変異性形態で存在し得る。
これらの酸は、自体公知の方法で対応する塩に変換され
得、逆もまた同様である。
式(1b)で示される化合物か塩形態(Mは塩形成部分
である)である場合、Mは、無機質(例、N asCa
、FeまたはCuの金属等価物)または有機質、例えば
アミン(例、I−(メチルアミツメデル)ナフタレン)
のアンモニウム塩部分、スルホニウム、スルホキソニウ
ムもしくはホスホニウム部分であり得る。Mの性質によ
り異なるが、前記塩はキレート形態で存在し得る。
同様に、式(1)で示される化合物のエステルおよびエ
ーテル形態は、自体公知の方法で式(I)の対応する化
合物の遊離酸または塩形態から製造される。
すなわち、式(Ia) (式中、OR’aはエーテルまたはエステル部分であり
、Y、At並びにR2、R3、R8およびR4は前記の
意味である) で示される化合物は、 a)化合物R’aOHおよび触媒、 b)化合物R’aQおよび温和な(中程度の)塩基(式
中、Qはハロゲン原子である)、またはC)化合物R,
,NHCOC1またはその官能性反応性誘導体 との反応により式(1b)の対応する化合物から得られ
る。
上記反応a)は、触媒、例えば濃硫酸の存在下で行なわ
れる。この反応は、好都合には反応体でもある溶媒、例
えばメタノール中、高温で行なわれる。
上記反応b)は、温和な(中程度の)塩基、例えばトリ
エチルアミンまたはピリジンの存在下、好都合には室温
またはそれより低温で行なわれる。エーテル化合物の製
造の場合、前記反応b)はまた、自体公知の方法により
、式(lb)で示される化合物の銀塩形態を用いて行な
われ得る。
上記反応C)は、カルバメートの製造に関して知られて
いる条件下、所望によりN−置換されていてもよいカル
バモイルクロリドまたは対応するイソシアネートとアル
コールとの反応により行なわれる。前記カルバメートは
また、対応するカーボネートを介してNH3または第1
アミンとの反応により製造され得るものとする。
適当なエーテル部分OR’aの例には、ヒドロカルビル
オキシ基、例えばO−C、−、アルキル、0−C2−8
アルケニル、0−C2−1lアルキニル、〇−ベンジル
、0−フェニル、〇−トリルおよびベンゾイルメトキシ
がある。
適当なエステル部分OR’aの例には、アシルオキシ基
、例えば基o−cooヒドロカルビル(炭化水素残基)
、0−COヒドロカルビルおよび0−9o、−ヒドロカ
ルビル基、例えばO−アセチル、0−メシル、0−トシ
ル、0−ベンゾイル、o−cooc、−、アルキル(例
、0−CO0CH3)、o−cooフェニル 0−CO
−ベンジルおよびOCON HR1H例、OC0NHt
およびOCON HCr−eアルキル)がある。
式(1)(ただし、A3−−−A−は基Bである)で示
される化合物は、塩素化剤またはフッ素化剤により式(
Ib)で示される化合物を塩素化またはフッ素化するこ
とにより得られる。
進択される塩素化剤またはフッ素化剤は、式(lb)の
化合物に存在する特定の置換基により異なる。
適当な塩素化剤は、塩素カチオン供与体、例えばアルカ
リ金属次亜塩素酸塩(例、Na−またはKCIQ)また
はN−Cl−スクシンイミドを含む。式(1b)の化合
物に存在し得る置換基の塩素化を避けるために、式(I
b)の化合物のアニオン形態による塩素化の実施が望ま
しい場合もあり得る。
適当なフッ素化剤は、フッ素カチオン供与体、例えばF
C!03またはp−)シル−N(F)CH3を含む。好
都合には式(lb)の化合物のアニオン形態によるフッ
素化が行なわれる。
式(I)で示される化合物は、一般にシス/トランス混
合物形態で得られ、それらが1個またはそれ以上のキラ
ル中心を含む場合、ラセミ体またはジアステレオマー混
合物形態で得られる。
式(I)で示される化合物の好ましいサブグループの例
は、次の通りである。
一式(1)において、R1か(AI)nX’であり、X
゛かHを除きXの場合と同意義であり、AI、1゜R2
、R3、R4、A2、A 3−−−A 4およびYが前
記のき味である化合物[以後、式(IZ)の化合物と称
す]、 式(I)において、R8が、6個以下の炭素原子を有す
る不飽和脂肪族炭化水素残基、6個以下の炭素原子を有
するシクロアルキル基またはArであり、A、r、R2
1、R22R,JSR21、R22A8、A 3−−−
A 4およびYが前記の意味である化合物[以後、式(
Iy)の化合物と称す]、式(I)において、CR+ 
Rt  A tがC(R,)−CR1?であり、R3、
R12、R18、RII、R3、R4、A3−−−A4
およびYか前記の意味である化合物[以後、式(lx)
の化合物と称す]、 式(1)において、R1およびR2が一緒になってオキ
ソまたはCl−5アルキリデンを示し、A2、As−−
−Ah、R3、R4およびYが前記の意味である化合物
[以後、式(Iw)の化合物と称す]、式(I)におい
て、A 3−−−A4がC(X、)−C(O)であり、
X、、R21、R22R21、R22R3、R4、A2
およびYが前記の意味である化合物[以後、式(1v)
の化合物と称すコ、 式(I)の化合物において、A2がc (c F 2)
R、eまたはC(CF3)R16−CR18R19であ
り、R。
6、R18、RI9、R2、R2、R3、R4、A3A
4およびYが前記の意味である化合物[以後、式(1u
)の化合物と称す]、 式(I)において、Yが所望により置換されていてもよ
いチエニル、ピリジル、ピラゾリル、イソチアゾリル、
1,2.3−チアジアゾリルまたはピラジニル、さらに
好ましくは所望により置換されていてもよいチエニル、
ピリジルまたはピラゾリル、特に所望により置換されて
いてもよいピリジルまたはピラゾリル、最も好ましくは
1−CH,−4−NO2−ピラゾール−5−イルまたは
1−CH,−4−NO2−ピラゾール3−イルであり、
R2、R2、R3、R4、A、およびA 3−−− A
−が前記の意味である化合物[以後、式(lt)の化合
物と弥す]、 式(1)において、Yが、R21、R22およびR23
により置換されたフェニル、または0、NおよびSから
選ばれる1〜3個のへテロ原子を含む所望により置換さ
れていてもよい5もしくは6員へテロアリールであり、
前記へテロアリールが環炭素原子を介して環へに連結さ
れ、RいR2、R3およびR4のうちの1つかフェニル
または置換フェニルであり、R2、R2、R3およびR
4のその他の置換基が、独立して6個以下の炭素原子を
有する不飽和脂肪族炭化水素残基、6g以下の炭素原子
を有するシクロアルキル基、Arまたは(AI)nX基
である(ただし、R2、A3A6、R3およびR4は前
記の意味)化合物[以後、式(1s)の化合物と称す]
、 式(I)ニおイテ、CR+ R2A 2がCR,R2−
CR111RI?−CR18R18であり、R2、R2
、RI6、R32、Rle、Rlg、R3、R4、A3
−−−A4およびYが前記の意味である化合物[以後、
式(Ir)の化合物と称す]。
式(Ir)、(Iu)、(Iv)、(1w)、(lx)
、(Iy)および(Iz)で示される化合物において、
Yは、好ましくは置換フェニル、ピリジル、チエニル、
ピラゾリルまたはピリミジニル、さらに好ましくは置換
フェニル、ピリジル、ピリミジニルまたはピラゾリル、
最も好ましくは置換フェニル、ピリジルまたはピラゾリ
ル、特に置換フェニル、l−CH3−4No、−ピラゾ
ール−5−イルまたは1−CH。
4−NO2−ピラゾール−−3−イルである。
式(1s)の化合物において、Yは、好ましくはR11
xR1tおよびR23により置換されたフェニル、置換
ピリジル、チエニルまたはピラゾリル、さらに好ましく
は置換フェニル、ピリジルまたはピラゾリル、最も好ま
しくは置換フェニル、l−CH4−NO2−ピラゾール
−−5−イルまたはlCH:1 4  −NO2−ピラ
ゾール−3−イルである。
式(Is)の化合物においてR1がフェニルまたは置換
フェニルである場合、(A+)nX基(あれば)は好ま
しくはHまたはC5−4アルキルである。
R2、R2、R3およびR4のうちの1個またはそれ以
上が、6個以下の炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水
素残基である場合、それは好都合には1個の二重または
三重結合を有する。
R3、R愛、R3およびR4のうちの1個またはそれ以
上が、6個以下の炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水
素残基である場合、それは好ましくは4個以下の炭素原
子を含む。この範ちゅうに属する好ましい基の例には、
ビニル、アリルおよびプロパルギルがある。
RISR21、R22R3およびR4の中にシクロアル
キルを示す基がある場合、それは好ましくはシクロプロ
ピルである。
R2、R3、R3およびR4のうちの1個が置換フェニ
ルである場合、このフェニルは、好都合にはC3−4ア
ルキル、Cl−4アルコキシ、ハロゲンおよびCF3か
ら選ばれるl、2または3gの置換基を含み、好ましく
はモノまたはジ置換、さらに好ましくはモノ置換(特に
ハロゲンにより)されている。
R3、R2、R5、R4、R6、R2、R6、RItお
よびRISがヘテロアリールの中にヘテロアリールを示
す基がある場合、この基は、好都合にはチエニル、フリ
ル、ピロリル、イソオキサシリル、イソチアゾリル、ピ
ラゾリル、! 、2.3−チアジアゾリル、ピリジル、
ピリミジニル、ピラジニルおよびピリダジニルから選ば
れ、これらの基は非置換または置換され得る。
上記へテロアリール基およびAr’(ただし、Ar゛は
置換されたヘテロアリールである)の適当な置換基の例
には、ハロゲン(例、F、CIまたはBr)、非置換ま
たはハロゲン(例、FSClまたはBr)、フェニル、
5CI−4アルキルまたはC9−4アルコキシにより置
換されたC・l−4アルキル、NO21、R22CN%
Ct−iアルコキン、ホルミルまたはC2−4アルカノ
イルおよび官能性誘導体、例えばそれらのオキシム、ア
セタールおよびケタール[例、C(=NOCI−4アル
キル)  Ct−3アルキル、C(O−0゜4アルキル
)y  CI−sアルキル、CH(OCI−4アルキル
)を等]、C3−、アルキル−S、C,−。アルキル−
9o、CI−、アルキル−5OW、C1−、アルコキシ
−カルボニルがある。
R2、R2、R3、R4、R6、R2、R8、R1!お
よびRIsの中にヘテロアリールを示す基がある場合、
それは、好ましくは非置換またはハロゲン、NO21、
R22Cl−4アルキル、C8−4アルコキシもしくは
CI−4アルキルチオによりモノ置換された、さらに好
ましくは非置換のチエニルまたはフリルである。
R2、R21、R22R3、R4の中に所望により置換
されていてもよいフェニルがある場合、それは好ましく
は非置換である。
R1がR1と一緒になってCI−Sアルキリデンを形成
する場合、それは好ましくは1〜4個、さらに好ましく
は1個または2個の炭素原子を含む。
好ましくはR2、R2、R3およびR4のうちの多くて
1個はへテロアリールまたは所望により置換されていて
もよいフェニルであり、さらに好ましくは環Aは、芳香
族炭化水素残基、芳香脂肪族炭化水素残基またはへテロ
アリールから選ばれる基2個以上では置換されていない
Ra、  R21、R22Ra、  R21、R22、
R,21  R21、R22R皿81R簸71R、、、
R,s、 R,。のうちの1個またはそれ以上が炭化水
素残基である場合、この炭化水素残基は脂肪族、芳香族
または芳香脂肪族であり得、好都合には8g1以下の炭
素原子を有する。この炭化水素が脂肪族である場合、そ
れは好ましくは5個以下の炭素原子を有し、飽和または
不飽和状態であり得る。それが不飽和状態である場合、
好都合には1個の二重または三重結合を含む。その炭化
水素が芳香族または芳香脂肪族である場合、その芳香環
は1個またはそれ以上の置換基により置換され得、それ
らの置換基は、好都合にはハロゲン、C4アルコキシお
よびC1−4アルキルおよびCF。
から1択される。
R6およびR7のうちハロアルキルを示す括がある場合
、それは例えばクロロアルキルであり、好ましくは1〜
4個の炭素原子を有する。
R8、R1o、 R13およびR14のうちの1個また
はそれ以上が01−8アルキルである場合、それは好ま
しくはC3−4アルキル、例えばCH3である。
Ro ”−R2(Iのうちアリールを示す基がある場合
、それは好ましくはフェニルであり、非置換またはハロ
ゲン、C1−4アルコキシ、c、−4アルキルおよびC
F、から選ばれる1〜3個の置換基により置換されてお
り、さらに好ましくはそれは3個未満の置換基を何する
R8、R2、R8、R12、R12、RI、〜R7゜の
中で芳香脂肪族炭化水素残基を示す基がある場合、それ
は、好ましくは非置換、またはフェニル環がハロゲン、
C1−4アルコキシ、C1−4アルキルおよびCF、か
ら選ばれる1〜3個、好ましくは1個または2gの置換
基により置換されたベンジルまたはα−メチルベンジル
である。
Ar’が置換へテロアリールである場合、このヘテロア
リールは、ハロゲン、CF3、NO2、c14アルキル
、Cl−4アルコキソ(この場合、2個の隣接する置換
基が一緒になってメチレンジオキシを形成し得る)、C
8−4アルキル−5SC,−、アルキルS  C+−4
7ルキシ、CI −47ルキシ−5゜、およびベンジル
から選ばれる1〜3個の置換基を含み得る。それらの置
換基におけるアルキル部分は、好ましくは1個または2
個、さらに好ましくは1個の炭素原子を有する。
Ar’は好ましくは置換されたヘテロアリールである。
Arが示す好ましい意味としては、置換されたチエニル
、ピラゾリル、イソチアゾリル、1,2゜3−デアジア
ゾリル、ビリノル、ピラジニルおよびピリミジニル、さ
らに好ましくは置換されたチエニル、ピラゾリル、ピリ
ミジニルおよびピリジル、最ら好ましくは置換されたピ
ラゾリル、ピリミジニルおよびピリジルがある。
好ましくはAr’の一置換基は、Ar’が結合している
COに対して〇−位に位置し、および/またはメチレン
ジオキシであることにより、追加の置換基(Iまたは2
個)が存在し得る。メチレンジオキノ置換アリール基A
r’の適当な例は、5,6メチレンジオキンー3−ピリ
ジル、4.5−メチレンジオキシ−3−ピリジルおよび
4.5−メチレンンオキシビリミジニルである。
Ar’のオルト置換基の好ましい例としては、(メチレ
ンツオキシ以外に)NO2、ハロゲン、CN、CF3、
CH,−8o2およびCH3SCH2がある。
追加の置換基の好ましい例は、ハロゲンおよびCl−4
アルキル(環炭素原子に結合している場合)並びにCl
−4アルキル、ベンジルおよびCI−4アルキル−チオ
−C7−。アルキル(環N原子に結合している場合)で
ある。
Ar’が示す特に好ましい意味には、I  CH34N
O2−ピラゾール−5−イルおよびl−CH3−4−N
o、−ピラゾール−3−イルがある。
Arが置換ピリジルである場合、それは好ましくは3.
5−フクロロー2−ピリジルである。
AIがH1!]またはそれ以上の01−、アルキル基に
より置換されたメチレンまたはエチレンである場合、そ
れらのアルキル置換基は好ましくは4個以下の炭素原子
を有し、さらに好ましくはメチルである。
R21がC3−6アルコキシまたはCl−aアルキルチ
オである場合、それは好都合には1〜4個、好ましくは
1個の炭素原子を有する。
R21、R22、R,2およびR23のうちの1個また
はそれ以上がC3−、アルキルスルホニルである場合、
それは好都合には1〜4個、好ましくは1個の炭素原子
を有する。
Rttは好ましくはカルボニル基のパラ位に位置し、R
13は好ましくはオルト位に位置する。
Roは好ましくは)(、ハロゲン(P、CL Br)、
Cl−4アルキル−S、C,−、アルキル−SO3また
はRttと一緒になってメチレンジオキシを示す。
R11は好ましくはH1ハロゲンまたはCH,である。
RtSは好ましくはハロゲン(例、CI)、CF3、N
O2、CNまたはcHs−sowである。
好ましい基CRIRt  A tの例は、CR1R2。
CR1R2−CH21、R22CR,R1−CH(CH
3)、CR、R*  C(CHs)21CR1R2−C
o、CRIRを−〇、CR,R1−CHCF’、、CR
,Rt−C)(、−CH2、CR+R*  CH(CH
3)  CH(CH3)およびC(R,)=CHである
R3は、好ましくはビニル、アリル、プロパルギル、シ
クロプロピル、所望により置換されていてもよいフェニ
ル、フリルまたはチエニル、CHlOHlCH(OH)
CH3、CH2CH3OH,基(AI)nx’(式中、
AIおよびnは前記の意味であり、X゛はHを除きXの
場合と同意義である)、またはR1と一緒になってオキ
ソ、CHtもしくは、CHCH,基、またはRtSと一
緒になって結合を示す。さらに、Yが所望により置換さ
れていてもよいフェニルまたはピリミジニル以外である
場合、R1は好ましくはCl−4アルキル、さらに好ま
しくはCH,またはCt Hs、特にCHsである。
R1が(At)nX’である場合、A1は、好ましくは
所望により1個または2個のCH,基と置換されていて
もよいCH,または(cHt)tである。
A1が、1個またはそれ以上のCI−、アルキル基によ
り置換されたメチレンまたはエチレンである場合、それ
らのアルキル置換基は好ましくは4個以下の炭素原子を
有し、さらに好ましくはメチルである。
好ましい基X゛の例は、cI−4アルキルチオ、フェニ
ルチオ、Cl−4アルコキシ、フェノキシ、CHo、C
r−sアルカノイル、OHおよびC6−6脂肪族カルボ
ン酸または所望により置換されていてもよい安息香酸に
よるそれらのエステル類、C!−5カルボアルコキシー
CH21C*−sカルボアルコキシCH(CH3)、’
i7ノ、F、CI2.CHF2、Cr5、NO2、CO
N H*、Co−NH(C,−、アルキル)、ジ(CI
−4アルキル)Nまたはベンジル、特にC1−4アルキ
ルチオである。
(At)nX’は好ましくはC1−4アルキルチオであ
る。
好ましい基R2、R2およびR4の例は、H,Cr−4
アルキル、Cl−4アルコキシ、C,−、アルキルチオ
、OH,C,−、アルキル−CO−0、C3−、カルボ
アルコキシ、チエニルおよびフリル、特にHlCH21
、R22OCH3、SCH3、OH,CH3CO−0お
よびC00CH21、R22さらに好ましくはHまたは
CHsである。
A、は好ましくはCR+ s RI ?またはOである
R16が示す好ましい意味の例は、HSC,−、アルキ
ル、所望により置換されていてもよいフェニルまたはベ
ンジル、チエニル、フリル、C00H(酸、塩またはエ
ステル形態で)および上記で示した(R,と−緒に形成
する)結合であり、特にHおよびCH3、最も好ましく
はHである。
R2,の好ましい意味の例は、Hs CI−aアルキル
、C1−4アルコキシ、C、−、アルキルチオ、C,−
4アルキルチオ−C1−4アルキルおよびCF、、特に
H,5C−R3、CH,およびCF、、最も好ましくは
HまたはCF3である。
RtSおよびRtSは、好ましくは独立してHまたはC
I−4アルキル、さらに好ましくはHまたはCR5であ
る。
特に好ましい式(1)の化合物は、下記特性のうち1つ
またはそれ以上を有する。
R,は、H,CH225CHs、S (O)CR5、S
O,CH3、フェニルまたはC3−、アルキル、01−
アルコキシ、ハロゲンもしくはCF 3によりモノ置換
されたフェニルであるか、または4個以下の炭素原子を
有するアルケニルもしくはアルキニルである。
R2、R3およびR4は、独立して■(またはCHff
iであり、R3、R8およびR4のうちの1個はまた、
5CH、、S (O) C)(3または5O2CH3で
あるが、たたし、R,〜R,のうちの1個のみがS C
H3、S (O) C)(3またはS O2CH3であ
る。
A2は、CH(CF 3)、CH2またはOである。
Yは、3.5−ジクロロ−2−ビリノル、IC113−
4−NO2−ピラゾール−−5−イル、1−co3−4
−NO2−ピラゾール−3−イルまたはR22、R2,
およびR23により置換されたフェニルであり、前記フ
ェニル置換基は面性の好ましい意味を有する。
それらの特に好ましい式(1)の化合物の例には、式(
1)ニおイテ、R3がS CH225(O)Ci−(3
またはS O2CH3、R2、R3およびR4が独立し
てHまたはCH5、A、がCH2,0またはCH(CF
3)並びにYが35−ジクロロ−2−ピリジル、1−C
H21、R22−4−No2−ピラゾール5−イル、l
−CH3−4−NO2−ピラゾール3−イルまたはR2
1、R22SR2!およびR33により置換されたフェ
ニルである化合物、式(I)において、R3がS CH
225(O)CH3またはS O、Cl−13、R2、
R3およびR4が独立してl(またはCH3、A、がC
H(CF’3)または0、並びにYがRffil、R7
,およびR23により置換されたフェニルである化合物
、 式(1)において、R3が4個以下の炭素原子を有する
アルケニルまたはアルキニル、R3、R8およびR4か
独立してHSCH3、SCH225(O) CH3また
はS O! CH3であるが、ただし、R1〜R4のう
ちの1個のみがSCH225(O)CH3およびS O
、CH,から成る群から選ばれ、A2がCH2,0また
はCH(CF3)fff2びにYが3.5−フクロロー
2−ピリジル、1−CH54−NO2−ピラゾール−5
−イル、I  CH34NO2−ピラゾール−3−イル
またはR2、R72およびR23により置換されたフェ
ニルである化合物、 式(I)において、R3がフェニルまたはCl−4アル
ギル、Cl−4アルコキシ、ハロゲンもしくはCF、に
よりモノ置換されたフェニル、R2、R3およびR4が
独立し71−1またハCH、、A、がCl4(CF、)
、CH,または0%並びにYが3゜5−ジクロロ−2−
ピリジル、l−CH3−4゜−NO2−ピラゾール−5
−イル、l−CH34−NO2−ピラゾール−−3−イ
ルまたはR2+、R12およびR23により置換された
フェニル、最も好ましくはR22、R2,およびR23
により置換されたフェニルである化合物 がある。
出発材料として使用される式(■)の化合物は、自体公
知の方法で得ることができろ。
式(Ub) (式中、n、A、、A2、x、R21、R22R3およ
びR4は前記のき味である) で示される互変異性体形態でも存在し得る式(ITa)
に適した親電子性剤を用いることによる、式(V)(式
中、A2、R3、R3およびR4は前記の意味である) で示されるβノカルボニル化合物のジアニオンのガンマ
置換により得られる。
式(V)のβ−ジカルボニル化合物のジアニオンのガン
マ置換による基(A 、)nXの導入に適した親電子性
剤は文献に記載されている。それらの性質は、(A 、
)nXの示す意味により異なる。
例えばCQによるガンマ置換に適した親電子性剤は、c
乙c −c cI23またはN−C12−スクシンイミ
ド、Brの場合はBr21S−炭化水素残基の場合はジ
スルフィド、例えばアルキル−5−S−アルキルおよび
フェニル−9−8−フェニル、SHの場合は硫黄、OH
の場合はO2、C0OHの(フェニル)、)の場合はカ
ルボニル付加によるアルデヒドまたはケトン(例、(フ
ェニル)、GO)、NOfの場合はイソペンチルニトレ
ート、脂肪族または芳香脂肪族炭化水素残基の場合は対
応する炭化水素残基ハライドである。
こうして導入された官能性基は、所望により自体公知の
方法で他の官能性基に変換され得る。
式(■)(ただし、R1およびR22は−緒になって結
合を形成する)で示される化合物は、対応するハロゲン
化化合物の脱水素ハロゲン化により生成され得る。こう
して得られた式(n)の化合物はまた、例えばメタノー
ル、酢酸等との付加反応で使用されることにより、例え
ばメトキシ、アセトキシ等により置換された式(II)
の飽和化合物を生成し得る。
式(V)の化合物の多くは、ディークマン縮合反応を用
いた閉環により生成され得る。
式(Vl)の化合物の製造に至る反応式の例を次頁に示
す。
■! VII 式(■)(ただし、R1はビニル)で示される化合物は
、例えば式R,(ただし、R,はCH* CH* OH
)で示される化合物から好都合にはトシレートを介して
脱水により製造され得る。
上記のビニル化合物は、例えばZn/CH1l!を用い
るサイセン/スミスの方法に従い対応するシクロプロピ
ル化合物に変換され得る。
式(■)(ただし、R1およびR,は−緒になってCH
,を形成)で示される化合物は、式(■)(ただし、R
8およびR2はH)で示される対応する化合物のジアニ
オン形態とCICH,SCH3との反応、生成した式(
■)(ただし、R1はCHtSCH3)の化合物のS−
酸化、および前記基CHe5(O)CH2のCHを基へ
の変換により製造され得る。
式(■)(ただし、R3およびR7は一緒になってC1
−、アルキリデンを形成)で示される化合物は、式(■
)(ただし、R1およびR2はI−()の対応する化合
物のジアニオン形態と脂肪族Ct−Sアルデヒドまたは
C1−、ケトンとの反応、次いでこうして得られたアル
コールの脱水により得られる。
式(II)で示される化合物の製造に必要とされる適当
な反応経路および反応工程の最も適切な順序の選択は、
置換基の望ましい組合わせにより大きく異なるものとす
る。この選択は熟練した化学者により容易に行なわれ得
る。
出発材料の製造が記載されていない限り、それらの化合
物は公知であるか、またはそれらが新規な場合にはこの
明細書に記載された方法もしくは公知方法に即した方法
で製造され得る。
式(1)で示される化合物の遊離酸形態またはエーテル
、エステルもしくは農業的に許容し得る塩形態は、興味
深い広範な除草活性を示す。それらは、例えばそれらの
興味深い作物安全性および/または環境許容性(例えば
に最適の土壌移動性に起因)の点から見て既知ジオン除
草剤に対する貴重な代替薬剤を提供する。
従って、この発明はまた、雑草の座(locus)に対
する式(1)の化合物の遊離酸形態または農業的に許容
し得る塩形聾の除草有効量の適用を含む、雑草との闘争
方法に関するものである。
発芽前および発芽後活性は、0.33.1.0および3
kg/haの適用割合に相当する試験用量による温室試
験において示され得る。適用すべき式(I)の化合物の
量は、撲滅すべき特定の雑草、使用される化合物、その
適用方法、処理の状態などにより異なる。適当な適用割
合は、当技術分野の熟練者により常用手順で決定され得
るか、または所望される式(1)の化合物の活性を、例
えば温室での通用割合が既に知られている標準と比較す
ることにより決定され得る。一般に、式(1)の化合物
を植物の座Lha当たり約0.03〜3 、0 kgの
範囲の割合で適用すると、満足すべき結果が得られる。
式(1)で示される様々な化合物は、この範囲内で興味
深い選択的除草活性を示す。すなわち、化合物2.82
(後記第A表)は、特に約1〜2に97haの適用割合
で発芽後適用されると、大豆において優れた選択性を示
し、広葉雑草を非常によく抑制する。
式(I)の化合物は、農業上許容し得る希釈剤(複数も
可)と組み合わせて除草組成物として使用され得、好ま
しくは使用される。適当な製剤は、001〜99重1%
の有効成分、0〜20%の界面活性剤および1〜99%
の固体または液体希釈剤(複数も可)を含有する。界面
活性剤対有効成分の比率の高いことが望ましい場合もあ
り、製剤への混入またはタンク・ミキシング(混合)に
より達成される。組成物の適用形態は、一般に0.0I
〜25重量%の有効成分を含有する。勿論、指示用途、
化合物の物理特性および適用方法次第で低または高レベ
ルの有効成分が存在し得る。使用曲に希釈されるべき組
成物の濃縮形態は、一般に2ないし90重量%、好まし
くはIOないし80重1%の有効成分を含有する。
式(1)で示される化合物の有用な製剤には、粉剤、か
粒剤、@濁濃厚液、水和剤、乳化用濃厚液、水分散性濃
厚懸濁剤などがある。それらは常法、例えば式(りの化
合物を希釈剤(複数も可)および所望により他の成分と
混合することにより得られる。
別法として、式(1)の化合物は、マイクロカプセル封
入形態で使用され得る。
農業上許容し得る添加剤を除草組成物に用いることによ
り、例えば有効成分の効果が改善され、発泡、固まりお
よび腐食が低減され得る。
この明細書で使用されている「界面活性剤」なる語は、
乳化性、拡散性、湿潤性、分散性または他の界面修飾特
性を与える農業上許容し得る材料を包含する。界面活性
剤の例には、リグニンスルホン酸ナトリウムおよびラウ
リル硫酸ナトリウムがある。
この明細書で使用されている「希釈剤」なる語は、濃縮
材料を使用可能または望ましい強度に希釈するのに使用
される液体または固体の農業上許容し得る材料を包含す
る。粉剤またはか粒剤の場合、それは、例えばタルク、
カオリンまたは珪藻土であり得、液体濃縮形態の場合、
例えば炭化水素(例、キシレン)またはアルコール(例
、イソプロパツール)であり、液体適用形態の場合特に
水またはディーゼル油であり得る。
この発明の組成物はまた、生物活性を有する他の化合物
、例えば類似または補助的除草活性を有する化合物また
は解毒、殺菌もしくは殺虫活性を有する化合物を含み得
る。
以下、実施例によりこの発明の実践方法を詳説する。温
度は摂氏で与えられ、RTは室温を意味し、部およびパ
ーセンテージは重量に関するものである。
[実施例] (除草組成物) 実施例A 水和剤 式(1)の化合物、例えば後記実施例1の化合物25部
を、平均粒子サイズが約5ミクロンになるまで、合成微
細シリカ25部、ラウリル硫酸ナトリウム2部、リグニ
ンスルホン酸ナトリウム3部および細かく分割されたカ
オリン45部と混合および粉砕する。
実施例B 乳化用濃厚液 式(1)の化合物、例えば後記実施例1の化合物25部
、キシレン50部、ジメチルホルムアミド15部および
乳化剤10部を、均質溶液が得られるまで充分に混合す
る。
(除草スクリーニング) 試験例1 発芽前処理 砂質ロームに相当する基質により播種鉢を満たす。アブ
ティロン・テオフラステイ(Abutilo+v th
eophrast i、イチビ、キリアサ、以後At)
、アマランラス・レトロフレクス(Amaranthu
s retrofleXUS、アオビユ、アオゲイトウ
、Ar)、シナビス・アルバ(Sinapis alb
aSSa)、ソラヌム・ニグルム(Solanum n
igrum、イヌホオズキ、Sn)、グロムス1テクト
ルム(Bromus tec10rum、ヤセチャヒキ
、Bt)、セタリア・ビリシス(Setaria vi
ridis1エノコログサ、Sv)、アベナ・ファツア
(Avenll [atua、カラスムギ、Af)、エ
キノコロア・クルスガリ(Echinochloa c
rus−galli1イヌビエ、E、c)の種子を6鉢
に播く。
次に、式(1)で示される試験物質をlha当たり0.
25.1および/または4に9の有効成分に対応する割
合でlha当たり10ooリットルに一致する適用容量
を用いて適用する(例えば実施例Bに従い製剤化された
試験液体水溶液により噴霧する)。適用後、種子を基質
の薄層(約0 、5 cm)で被覆する。鉢を1日に1
4〜17.時間(E光またはその均等物により)照らし
て21日間室温(30゜−24°)に保つ。
21日の期間後除草効果の測定を行う。この測定は、様
々な種子植物に対する損害の程度および質の視覚による
評価を含む。
除草活性が観察される。
試験例2 発芽後処理 試験例1で用いられた手順と同様の手順に従うが、ただ
し、植物が2−4枚葉段階にある時点で試験化合物を適
用する。他の実験条件(適用割合、適用容量、温度、照
明)お上−び評価手順(21日後退用)は、試験例1の
記載と同様である。
除草活性が観察される。
試験例3 広葉系雑草アブティロン・テオフラステイ(前出、イチ
ビ、キリアサ)、カブセラ・ブルサ・バストリス(Ca
psella bursa pas10ris、ナズナ
)、カシア・オブツシフオリア(Cassia obt
usifol’ia)、ケノボディウム・アルブム(C
henopodium album。
シロザ)、ダツラ・ストラモニウム(Datura s
tramoniums シロバナヨウシュチョウセンア
サガオ)、ガリ、ラム・アパリネ(Galium ap
arine、ヤエムグラ)、イボモニア・プルプレア(
Ipomoea purpurea。
マルバアサガオ)、ポリゴヌム・ペンシルバニクム(P
olygonum pensylvanicum)、ポ
ルツラカ・オレラセア(Portulaca oler
acea、スベリヒュ)、セネシオ・ブルガリス(Se
n−ecio vulgaris、ノボロギク)、シダ
・スピノサ(Sida 5pinosa、アメリカキン
ゴジカ)、ソラヌム・ニグルム(前出、イヌホオズキ)
、ステラリア・メディア(Stellaria med
ia1ハコベ)、キサンチウム・ストルマリウム(Xa
nthium strumarium)、イネ科雑草ア
グロピロン・レペンス(Agropyron repe
ns、ジノくムギ、ヒメカモジグサ)、キペルス・ロツ
ンズス(Cyperus rotundus、ハマスゲ
)、アロペクルス・ミオスロイデス(Alopecur
us myosuroides)、アベラ・スピカベン
チ(Apera 5pica−venti)、アベナ・
ファツア(前出、カラスムギ)、ブラキアリア・プラン
タギネア(Brachiaria plantagin
ea)、ブロムス・テクトルム(前出、ヤセチャヒキ)
、ジギタリア・サンギナリス(Digitaria s
anguinalis、メヒシバ)、エキノコロア・ク
ルスガリ(前出、イヌビエ)、パニクム・ジコトミフロ
ルム(Panicum dicho10mirloru
m)、ボア・アヌア(Poa annua、スズメノカ
タビラ)、セタリア・ファベリ(Setaria fa
beri)およびソルグムIハレペンセ(Sorghu
m halepense、セイバンモロコシ)並びに穀
物、例えば広葉穀物の綿、大豆、テンサイ、ヒマワリお
よびイネ科穀物のイネ、とうもろこしくゼア・マイス、
Zea mays)およびマイロ(ソルグム・ビコロル
、Sorghum bicolor)から選ばれる様々
な単子葉および双子葉雑草に対して式(I)の化合物を
選択し、様々な濃度の試験液体を用いて、試験例1およ
び2の記載と同様の試験を行う。この場合、所望の適用
割合(−般にIha当たり式(1)の化合物0.11.
0.33および1.0kgの適用割合に一致する)を実
現する濃度が選択される。適用容量は600リツトル/
haに一致する。
適用の28日後に評価を行う。除草活性は、30〜l 
0009/haの適用範囲で観察される。
特に興味深い除草活性は、特に下記の群に属する式(I
)の化合物により観察される。
式(Ib)において、A、がCH21、R22R,がフ
ェニルまたは置換フェニル(好ましくはフェニル、1−
F−フェニルまたは4−F−フェニル)、R3−R4が
独立してHまたはCH,並びにYがR22、R2,およ
びR23により置換されたフェニルである化合物、例え
ば後記化合物2.82.2.88および2.89゜ 式(Ib)において、A、がCH(CFs)およびR〜
R4が独立してHまたはCH,である化合物、例えば式
(Ib)において、A、がC)((CF’3)、R、〜
R,がHまたはCH3並びにYがR2,SR,。
およびR23により置換されたフェニルである化合物、
例えば後記化合物2−177.2−192、l−195
および2−248゜ 式(Ib)において、Yが置換ピラゾリル(特に、1−
CH,−4−No、−ピラゾール−5−イルまたは1−
CH3−4−No、−ピラゾール−3イル)およびA2
がCHtまたはOである化合物(例えば、R,−R,が
独立してHまたはCH8である化合物を含む)およびそ
れらのエステルまたは塩類、例えば後記化合物2−16
5.2167.2−169.2−172.2−123.
2−174.8−21,9−1および92゜ 式(Ib)において、A3−−−A4がC(Cr2)=
C(O)およびA、がCH,である化合物(例えば、Y
がR221、R22R,2およびR23により置換され
たフェニル並びにR1−R3が独立してHまたはCH,
である化合物を含む)、例えば後記化合物10.1およ
び1O82゜ 式(If)において、A、がCHであり(例えば、Yが
R21、R22、R22およびR1により置換されたフ
ェニルである化合物を含む)、R1〜R4が独立して■
1またはCH,である化合物、例えば化合物2−156
゜ 試験結果1 下記第1表のデータは、IJc9/haに一致する適用
割合で上記試験例1および2に従い試験された式(1)
の化合物の抜粋の除草活性を示す。
除草活性の評価は十進法により行なわれており、lは0
〜10%およびIOは90〜100%の除草活性に相当
する。
キサンチウム・ストルマリウム アグロピロン・レペンス キベルス中ロッンズス アロベクルス・ミオスロイデス アペラ・スピカーペンチ アベナ嗜ファツア ブラキアリア・プランタギネア ブロムス・テクトルム ジギタリス・サンギナリス エキノコロア・クルスーガリ バニクム・ジコトミフロルム ボア・アヌア セタリア・ファベリ ソルグム・ハレベンセ エキノコロア・クルス 大豆 てんさい ひまわり 発芽前適用 発芽後適用 ANSP GRRE YPRO LOMY G55V VEFA RAPL ROTE D I GSA CHCG ANDI P OA A N ETFA 0RHA ガリ湿性ECHwet oybea ugarb sunfl。
re O 試験結果2 下記第2表のデータは、この表に具体的に示した適用割
合および時間(発芽前または後)で上記試験例3に従い
試験された式(1)で示される化合物の溶液の除草活性
を示す。評価は、第1表と同様十進法に従い表されてい
る。
第2表では下記の省略形を用いる。
アブティロンφテオフラスティ ABUTHカブセラ・
ブルサ・パストリス CAPBPカシア・オブツシフロ
リア   CASOBヶノポディウム・アルブム   
CHEALダツラ・ストラモニウム    DATST
ガリウム拳アパリネ      GALAPイボモニア
・プルプレア    IPOMOポリゴニウム・ペンシ
ルバニクムPOLPYボルツラ力・オレラセア    
POROLセネシオ・ブルガリス     5ENVU
シダ・スピノサ        5IDSPソラヌム◆
ニグルム      5OLNIステラリア・メディア
     STEME第2表 適用時間 前 後 後 除草活f’1 萌  後  後   前 後 APBP CASO!I IIEAL DATSτ ALAP iPOM□ 01JY 0ROL EIMI xosp S田ll 5TE)1!! AIJSP ot10n AΦuI YPRO ^LOMY ^G55V VEFA RAPL BRψI IGSA CIIeG ANM 除位活性 j用時間 前 後 後  riii  イ(後0AAN ETFA 0RHA CHvet ric@ heat m11゜ 前後 前後 最終化合物 実施例1 2−[(4−クロロ−2−二トロ)ベンゾイル]44.
6−1−ジメチル−6−メチルチオ−1,3シクロヘキ
サン−ジオン。
8.079(O,021モル)の3−[(4−クロロ2
−二I・口)ベンゾイルオキシ]−4,4,,6−ドリ
メチルー6−メチルチオー2−シクロヘキセンl−オン
を、3.5iQ(O,025モル)のトリエチルアミン
、0.4iQのアセトンシアノヒドリンおよび60順の
乾燥アセトニトリルから成る温(45°)混合物に溶か
す。室温で3時間位はん後、反応溶液を200zCのジ
エチルエーテルで希釈し、35a9のlO%HC4およ
び150*2の水で続けて洗浄し、次に無水NaySO
4で乾燥する。
溶媒の回転蒸発後に残る残留物をンリカゲル・カラム・
クロマトグラフィーにかける。ヘキサンジエチルエーテ
ル(III)で溶離すると、分析上線枠な標記化合物が
得られる(nrpH1−12°)。
実施例2 実施例1の手順と同様に、式(I)で示される下記化合
物(遊離酸形態で)が、式(IV)の対応する化合物の
転位により得られる(第A、B、CおよびD表)。
第A表 ・ 式(Ic)で示される化合物実施例3 2−(2−ニトロベンゾイル)−4−フェノキシ1.3
−ンクロヘキサンノオン。
4.19(O,02モル)の4−フェノキシ−1,3ン
クロヘキサンジオン、3 7g(O,02モル)の2−
ニトロベンゾイルクロリド、2.0g(O,02モル)
のトリエチルアミンおよび601112のトルエンから
成る混合物を1時間還流温度で撹はんする。次いで、混
合物を冷却し、200πQのエーテルを加える。沈澱し
たトリエチルアミン塩酸塩を吸引ろ過し、エーテルで洗
浄する。ろ液を1on(1の2N塩酸、20yQの水、
1oIIcの2N水酸化ナトリウムおよび50a(の水
により連続抽出する。
有機層をM g S O4で乾燥する。30°でエーテ
ルを減圧濃縮すると、中間生成物のトルエン溶液が残る
が、これに19(O、Ol 2モル)のアセトンシアノ
ヒドリンおよび29(O,02モル)のトリエチルアミ
ンを加え、室温で3時間位はんすることにより転位させ
る。
反応混合物を200πeのエーテルに溶解し、15 m
(H1) 2 N塩酸、20.v(H1)水、20祿(
1)2N水酸化ナトリウムおよび50yQの水で連続抽
出する。
最後の2つの水性抽出物を合わせ、エーテルで洗浄し、
次いで301の2N塩酸により撹はんしながら酸性化す
る。30分後、沈澱を吸引ろ過し、メタノールで洗浄す
ると、+01−115°Cの融点を有する2、89の白
色粉末が得られる。エタノールから再結晶化させろと、
標記化合物の179の結晶が得られる(mpH5−11
6℃)。
実施例4 実施例3の手順と同様にして、上記第A、B。
CおよびD表の化合物が、式([V)のエステルの単離
を伴わずに式(II)および(III)の対応する化合
物から得られる。
実施例5 2−(2,4−ジクロロベンゾイル)−3−メトキシ−
4−アリル−4,6,6−トリメチル−2=シクロヘキ
セン=1−オン。
3.679(O,01モル)の2−[(2,4−ジクロ
ロ)ベンゾイル]−4−アリル〜4,6.6−1−リメ
チルー!、3−シクロヘキサンジオンを10mQの0.
1N−NaOHに溶かし、次いでNa塩の生成した溶液
を10m(H1)水中1.7g(O,01モル)のAg
NO3により処理する。
生成したAg塩の沈澱を10m12の水で希釈し、吸引
ろ過し、真空デシケータ−中P、0.で乾燥する。こう
して得られた乾燥Ag塩を100a+Cの乾燥ジエチル
エーテルに懸濁し、1m12(O,016モル)のヨウ
化メチルで処理する。
3時間の還流後、反応混合物を周囲温度に放冷し、ろ過
する。
ろ液の回転蒸発後に淡黄色粘稠性油状物として残った粗
標記化合物をシリカゲル・カラム・クロマトグラフィー
により(ジエチルエーテル/ヘキサン1:5で溶離)精
製する。
実施例6 2−[(2−クロロ−4−メチルスルホニル)ベンゾイ
ル]−3−アセトキシ−4−メチルチオ−4,6,6−
)ジメチル−2−シクロヘキセン−1オン。
4.879(O,0117モル)の2−[(2−クロロ
−4−メチルスルホニル)ベンゾイル]−4−メチルチ
オ−4,6,6−)ジメチル−1,3−シクロヘキサン
ジオンおよび25R0,の乾燥ジメチルホルムアミドか
ら成る充分撹はんした溶液に、0゜35g(O,011
7モル)の水素化ナトリウム(鉱油中80%分散液)を
全部1回で加える。
発熱(42°)反応が鎮静後、生成したNa塩溶液をさ
らに1時間室温で撹はんし、次いで0.93、q(lc
o、013モル)のアセチルクロリドで処理する。室温
で18時間の反応期間後、300Hの水を加える。形成
された淡黄色エノール酢酸塩を吸引ろ過し、水洗し、充
分水気を切り、60°で乾燥する。
こうして得られた粗標記エステルをシリカゲル・カラム
・クロマトグラフィーに付す。ジエチルエーテル/ヘキ
サン(4:l)で溶離すると、126−28°の融点を
有する分析上純粋な標記化合物が得られる(Rf=0.
4、ジエチルエーテルによりシリカゲルで)。
実施例7 実施例5の方法と同様の要領で、式(Ib)の対応する
出発材料および化合物Ra’Iを用いると、式(1a)
で示される下記化合物が得られる(第8表)。
実施例8 実施例6の方法と同様の要領で、式(Ib)の対応する
出発材料およびアシルハライドR’aCQを用いると、
式(la)で示される下記化合物が得られる(第F表)
実施例9 2−[(2−ニトロ−4−クロロ)ベンゾイル]4−メ
チルチオー4−メチル−1,3−シクロヘキサンジオン
のアンモニウム塩の製造。
0.961?(O,0056モル)の1−(メチルアミ
ノメチル)ナフタレンおよび10m(lのメチレンクロ
リドから成る溶液を、2.Og(O,0056モル)の
1−[(2−ニトロ−4−クロロ)ベンゾイル]4−メ
チルチオー4−メチル−1,3−シクロヘキサンジオン
および301112のメチレンクロリドから成る懸濁液
に加える。1時間後、溶媒を濃縮し、固体残留物を40
℃で減圧乾燥すると、黄色結晶として2.959の塩が
得られる(mp75°−80’C)。
実施例9の方法と同様の要領で、 9.1・・・2−(1−メチル−4−NO2−ピラゾー
ル−5−オイル)−13−シクロヘキサンジオンのトリ
エチルアンモニウム塩、mp87−99゜ 9.2・・・2−(1−メチル−4−NO2−ピラゾー
ル−5−オイル)−4,4,6,6−チトラメチルー1
3−シクロヘキサンジオンのトリエチルアンモニウム塩
、mp!44145゜ が得られる。
実施例10 2−クロロ−2−[(2−ニトロ−4−クロロ)ベンゾ
イル]−5,5−ツメチル−13−シクロヘキサンジオ
ン。
3.259(O,01モル)の2−[(2−ニトロ4−
クロロ)ベンゾイル]−5,5−ツメチル−13−シク
ロヘキサンジオンおよび1.39(O,01モル)のN
−クロロスクシンイミドおよび40z(!のメチレンク
ロリドから成る混合物を2日間還流させる。次いで、溶
媒を濃縮する。ジエチルエーテルを残留物に加え、未溶
解材料をろ過する(スクンンイミドの結晶0,59、m
p123−125°C)。ろ液を回転蒸発させ、生成物
をシクロヘキサン/酢酸エチル(8・2)によるシリカ
ゲル・カラム・クロマトグラフィーに付すことにより、
融点135−138°の黄色結晶として標記化合物か得
られる。
実施例10の方法と同様の要領で、望ましい2アロイル
−1,3−環状ジオンおよびN−クロロスクシンイミド
を用いると、 101・・2−クロロ−2−(4−クロロ−2−ニトロ
ベンゾイル)−4,4,61リメチル1.3−シクロヘ
キサンジオン、mp7778゜ 10.2・2−クロロ−2−(4−り四ロー2−ニトロ
ベンゾイル:l−4,4,6,6−テトラメチル−1,
3−ンクロヘキサンノオン、mp87−99゜ が得られる。
実施例11 2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−1゜3−
シクロへブタンジオン。
5.959のシクロへブタン−1,3−ジオン(O゜4
72モル)および50t12のCH,CI、から成る溶
液に、95I9の4−クロロ−2−二I・口安息香酸(
O,472モル)を−度で加え、次いで6.21りのト
リエチルアミン(1,3当量)を滴下する。反応混合物
を室温で2時間撹はんし、CH2Cl2で希釈し、水(
30fff2)で洗浄する。濃縮後、殆ど純粋なエノー
ルエステル、3−(4−クロロ−2ニトロペンゾイルオ
キン)−2−フクロヘプテンl−オンが得られる。
上記エノールエステル14.62y(O,0472モル
)を50a(!のアセトニトリルに溶かし、9.559
のトリエチルアミンを一度で加える。
次に、1.E12のアセトンシアノヒドリンを注射器に
より加え、混合物を室温で一夜撹はんする。
アセトニトリルを真空除去し、残留物をジエチルエーテ
ルに溶かす。溶液を2N−HCρで洗浄し、分離し、M
g5Oiで乾燥し、濃縮して得られた残留物をクロマト
グラフィーに付すことにより、標記化合物(mpH2°
C)か得られる。
実施例12 2−[C2−ニトロ−4−クロロ)ヘンゾイル]4−ク
ロロメヂルチオ−4−メチル−13−ンクロヘキサンジ
オン。
a、69(o、o 1モル)の2−[(2−ニトロ−4
クロロ)ベンゾイル]−4−メチルチオ−4−メチル−
1,3−シクロヘキサンジオンおよび1.39(O,0
1モル)のN−クロロスクシンイミドおよび50岬のメ
チレンクロリドから成る混合物を5日間加熱還流する。
溶媒を濃縮し、残留物をメチレンクロリドによるシリカ
ゲル・カラム・クロマトグラフィーに付すことにより、
143−144℃の融点を有する黄色結晶として標記化
合物が得られる。
東促本[式(IV)の化合物] 実施例13 3−7[(4−クロロ−2−二トロ)ベンゾイルオキシ
]−4,,4,6−)ジメチル−6−メチルチ第2−シ
クロヘキセン−1−オン。
0°で6m12(O、043モル)の乾燥トリエチルア
ミンを、7.059(O,032モル)の4−クロロ−
2−二トロペンゾイルクロリドおよび6.4g(O,0
32モル)の4−メチルチオ−4,6,6−ドリメチル
ー1.3−シクロヘキサンジオンおよび701RQの乾
燥メチレンクロリドから成る充分撹はんおよび冷却した
溶液に5分間にわたり滴下する。
滴下完了後、水浴を除去する。、反応混合物を周囲温度
に放暖し、その温度で3時間維持し、次いで150i1
2の水で処理する。有機相を分離し、100酎の2N−
HCl2,15.0JII2の水、100RQの5%K
 t CO3溶液および150zQの食塩水で連続的に
洗浄し、次いで無水N a t S Oaで乾燥する。
溶媒除去後に残る粘稠性油状物を急速に結晶塊に固化さ
せる。これをヘキサンと磨砕すると、分析上純粋なエノ
ールエステル(mp120−22°)が得られる。
実施例14 実施例13の方法と同様の要領で、式(II)および(
I[[)の対応する出発材料を用いると、式(IVa)
で示される下記化合物が得られる(第0表)。
実施例15 実施例13の方法と同様の要領で、式(IT)および(
I[[)の対応する出発材料を用いると、式(IV)で
示される下記化合物が得られる(第H表)。
実施例16 4−メチルチオ−4,6,6−ドリメチルー1゜3−シ
クロヘキサンジオン。
乾燥N、−雰囲雰囲気へキサン(O,48モル)中n−
ブチルリチウムのX、a+ル溶液300酎を、420m
Qのテトラヒドロフラン(THF14オングストローム
の分子ふるいにおいて乾燥)中48゜59(O,48モ
ル)のジイソプロピルアミンに、撹はんしながら温度が
一68°を越えることのない速度で滴下する。
滴下完了後、反応混合物(リチウムジイソプロピルアミ
ドを含有)をさらに30分間−70°で撹はんし、次い
で同温度で30.99(O,2モル)の4.4.6−)
ジメチル−1,3−シクロヘキサンジオンおよび200
i12の乾燥THF’から成る溶液により処理する。
ジオンを全て導入後、反応溶液を一70°で30分間保
つ。
最後に、45.29(O,48モル)のジメチルジスル
フィドおよび150i(2の乾燥THFから成る溶液を
一70°で15分間にわたり滴下する。
次いで、固体Co、/アセトン浴を除去し、反応混合物
を一9°に放暖し、aHCQ100Il!aで処理する
テトラヒドロフランの回転蒸発(30°)後に残った残
留物を200III12(7)水で希釈し、500m(
<7)ジエチルエーテルで2回抽出する。
エーテル性抽出物を合わせて乾燥(NatS 04)し
、約3分の1の体積に真空濃縮し、次いで沈澱した結晶
を吸引ろ過する。
イソプロパツールから再結晶化させると、147°の融
点を有する分析上純粋な標記ジオンが得られる。(Rr
=0.24、シリカゲルで、ジエチルエーテル/ヘキサ
ン2:1を使用)。
実施例17 4−メチルチオ−4−メチル−1,3−シクロヘキサン
ジオン。
439(O,5モル)のメチルアクリレートおよび59
9(O,5モル)の3−メチルチオブタノン−2から成
る混合物を、100xi2の5.4モル(O,54モル
)メタノール性ナトリウムメチラートおよび200m1
2のジメチルスルホキシドから成る溶液に撹はんしなが
ら30分以内に加える。発熱反応を40℃未満に保つ。
撹はんを一夜室温で続ける。
次いで水片および60zQの濃塩酸を反応混合物に加え
ると、帯黄色沈澱が形成されるが、これを吸引ろ過し、
50℃で真空乾燥する。生成物の融点は120−22℃
である。
実施例18 4−メトキシ−4−カルボメトキシ−1,3−シクロヘ
キサンジオン。
589(O,358モル)のジメチル−メトキシマロネ
ートおよび259(O,357モル)のメチルビニルケ
トンから成る混合物を、68m+12の5.4Eフル(
O,356モル)メタノール性ナトリウムメチラートお
よび120112のジメチルスルホキシドから成る溶液
に撹はんしながら20分以内に加える。
水浴で冷却することにより発熱反応を35℃に保つ。1
時間後、200x(!の水を加え、混合物をメチレンク
ロリドで2回抽出する。水層を80zQの20%塩酸で
酸性化し、メチレンクロリドで抽出する。抽出物を水で
洗浄し、M g S Oaで乾燥し、真空濃縮すると、
粘稠性油状物が得られる。これをエーテルで処理すると
、122−24℃の融点を有する黄色結晶が得られる。
実施例19 4−メチルチオ−6,6−シメチルー4−シクロヘキセ
ン−1,3−ジオン。
2.89(O,0t 5モル)の4−メチルチオ−6゜
6−シメチルー1.3−シクロヘキサンジオンおよび5
0i12のメチレンクロリドから成る溶液に、5.39
(O,0169モル)のm−クロa過安息香酸(55%
)を冷却せずに分割して加える。
過酸を全て導入後、112(O,0175モル)の氷酢
酸を加え、反応混合物を18時間還流下沸騰させる。
次いでそれを周囲温度に放冷し、ろ過する。
ろ液を回転濃縮後、結晶塊として得られた標記化合物を
シリカゲル・クロマトグラフィーにより精製する(ジエ
チルエーテル/ヘキサン3:1で溶離)。Rf=0.2
8(ノリカゲルでジエチルエーテルニよる)、mplf
33−65°C0実施例20 実施例17のシクロヘキサン化合物から出発すると、付
加反応により下記化合物が得られる。
4−メトキシ−4−メチルチオ−6,6−シメチルー1
3−シクロへギサンジオン(メタノールの付加)、 4−アセトキン−4=メチルチオ−66−シメチルー1
.3−ノクロヘキサンジオン(酢酸の付加)。
実施例21 実施例17の手順と同様の要領で、出発材料として適当
なメチルケトンおよびカルボン酸エステルを用いると、
式(II)で示される下記化合物が得られる(第5表)
実施例22 実施例16の手順と同様の要領で、式(V)で示される
適当な出発材料および!電子性剤(第に表)を用いると
、第り表の式(TI)で示される化合物が得られる。
実施例23 4.4−ジメチル−6−メチレン−1,3−ンクロヘキ
サンジオン(a)および4.4−ジメチル−6メトキン
メチルー1.3−シクロヘキサンジオン(b)。
269(O,2モル)の2−ヒドロキンメチル−2プロ
ペン酸エチルエステルおよび17.29(O2モル)の
3−メチル−2−ブタノンから成る混合物を、5.4モ
ルのメタノール性ナトリウムメトキシド40mQおよび
乾燥ジメチルスルホキ7180吋から成る溶液に、撹は
んしながら温度が40°を越えることのない速度で滴下
する。滴下完了後、褐色反応溶液をさらに2時間室温で
撹はんし、次いで300好の水で処理する。この水溶液
を100πQのCH,CI、で2回抽出し、有機抽出物
を無水NazSO+で乾燥し、真空濃縮する。生成した
2種の標記化合物から成る粗混合物を、移動相としてヘ
キサン−ジエチルエーテルを用いたクロマトグラフィー
により分離する。最初に溶離(ヘキサン−エーテル3;
l)されるのは、6−メチレン置換ジオン(aXmpl
 44−46°、Rf=0゜35、シリカゲル・エーテ
ル)であり、これは最初に形成された6−ヒドロキシメ
チル誘導体のレトロ(戻り)マイケル反応生成物である
。次に7リカゲル・カラムの連続溶離により(ヘキサン
−エーテル2:X)、IQ8i0°の融点を有する6メ
トキシメチル置換ンクロヘキサンノオン(b)が得られ
る(Rf=0.24、シリカゲル・エーテル)。
実施例24 4−メチル−5−トリフルオロメチル−1,3シクロヘ
キサンジオン。
7.29<0.1モル)の2−ブタノンおよび1689
(O,1モル)のβ−(トリフルオロメチル)アクリル
酸エチルから成る混合物を、20mQのメタノールおよ
び60mQの乾燥キンレンに2.79のNaを溶かした
溶液に30分間撹はんしながら滴下する。反応混合物を
3時間還流し、濃縮乾固する。
残留物を50mQの水に溶かし、aHc12で処理する
。沈澱した結晶を吸引ろ過し、水およびジエチルエーテ
ルで洗浄し、乾燥する。mp122−128℃。
実施例24の手順と同様の要領で、5−トリフルオロメ
チル−1,3−シクロヘキサンジオン(mp143−4
4°)および4.4−ジメチル−5−トリフルオロメチ
ル−1,3−シクロヘキサンジオン(mp122−12
8°)が得られる。

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、 R_1、R_2、R_3およびR_4は、独立して、6
    個以下の炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水素残基、
    6個以下の炭素原子を有するシクロアルキル基、Arま
    たは(A_1)nX基であるが、ただし、R_1、R_
    2、R_3およびR_4のうちの1つはC_2−_5ア
    ルコキシカルボニルでもあり得、R_1、R_2、R_
    3およびR_4のうち少なくとも1つは(A_1)nX
    であり、またR_1とR_2またはR_3とR_4は一
    緒になってC_2−_5アルキレンであり得、またR_
    1およびR_2は一緒になってオキソまたはC_1−_
    5アルキリデン基を形成し得、Arは、O、NおよびS
    から選択された1〜3個のヘテロ原子を含み、環炭素原
    子により環Aに連結された非置換または置換5または6
    員ヘテロアリールであり、 nは0または1であり、 Xは、H、OR_6、SR_7、NR_8R_9、NO
    _2、ハロゲン、CN、CF_3、CHF_2、S(O
    )mR_1_0、CO−NHR_1_1、CO−R_1
    _2、CR_1_3R_1_4−COO(C_1−_6
    アルキル)またはベンジルであり、A_1は、非置換ま
    たは1個もしくはそれ以上のC_1−_5アルキル基に
    より置換された、メチレンまたはエチレンであり、 R_6およびR_7は、独立してH、炭化水素残基、ハ
    ロアルキル、ヘテロアリールまたは基CO−R_1_5
    であり、 R_9は、H、炭化水素残基、ヘテロアリールまたは基
    CO−R_1_5であり、 R_9、R_1_0、R_1_3、およびR_1_4は
    、独立してH、C_1−_6アルキルまたはアリールで
    あり、R_1_1はHまたは炭化水素残基であり、R_
    1_2およびR_1_5は、独立してH、炭化水素残基
    またはヘテロアリールであり、 mは1または2であり、 A_2は、結合、CR_1_6R_1_7CR_1_6
    R_1_7CR_1_8R_1_9、O、S、NR_2
    _0またはCOであり、R_1_6およびR_1_8は
    、独立してH、炭化水素残基または遊離形態、塩形態も
    しくはエステル化形態のカルボキシル基であるが、ただ
    し、R_1_6とR_1は隣接炭素原子のところで一緒
    になって結合を形成し得、 R_1_7およびR_1_9は、独立してH、炭化水素
    残基または(A_1)nX基(式中、A_1、nおよび
    Xは前記の意味)であるが、ただし、R_1_6とR_
    1_7またはR_1_8とR_1_9は一緒になって(
    CH_2)_2−_5基を意味し得、すなわちスピロ化
    合物を形成し得、および/またはR_1_6は隣接炭素
    原子上のR_1と一緒になり、またはR_1_8は隣接
    炭素原子上のR_3と一緒になって(CH_2)_1−
    _5を形成し得、すなわち二環式環を形成し得、 R_2_0は、H、炭化水素残基またはCO−R_1_
    5(式中、R_1_5は前記の意味)であり、 A_3¥‐‐‐¥A_4は、C=C(ORa)(基A)
    またはC(X1)−C(O)(基B)であり、 X_1はFまたはClであり、 Raは、H、塩形成部分、またはそれが結合している酸
    素と一緒になってエーテルまたはエステル部分を示し、 Yは、R_2_1、R_2_2およびR_2_3により
    置換されたフェニルまたはAr′であり、 Ar′は、O、SおよびNから選択された1、2または
    3個のヘテロ原子を含む、5または6員ヘテロ芳香族基
    であって、ヘテロ芳香族基は、非置換または置換であり
    環炭素原子によりそれが結合しているCO基に連結され
    、 R_2_1およびR_2_2は、独立してH、ハロゲン
    、C1−_4アルキル、C_1−_4アルコキシ、C_
    1−4_ハロアルキル、CN、NO_2、CF_3O、
    R^bS(O)pNNR^cR^d、C(O)−R^e
    、SO_2−NR^cR^dまたはNR^c−C(O)
    −R^dであるが、ただし、R_2_1およびR_2_
    2は一緒になってメチレンジオキシ基を形成し得、pは
    、0、1または2であり、 R^bは、所望によりハロゲン、シアノ、フェニルまた
    はベンジルで置換されていてもよいC_1−_4アルキ
    ルであり、 R^cおよびR^dは、独立してHまたはC_1−_4
    アルキルであり、 R^eはC_1−_4アルキルまたはC_1−_4アル
    コキシであり、 R_2_3は、ハロゲン、NO_2、CN、C_1−_
    2アルキル、C_1−_2アルコキシ、C_1−_2ハ
    ロアルキルまたはC_1−_4アルキル−S(O)qで
    あり、qは、0、1または2であり、 ただし、Yが所望により置換されていてもよいピリミジ
    ニル以外である場合、R_1、R_2、R_3およびR
    _4のうちの1つはフェニルまたは置換フェニルである
    が、 a)下記条件、すなわち、 i)CR_1R_2−A_2は、C(R_2)=C(R
    _1_7)またはCR_1R_2−CR_1_6R_1
    _7−CR_1_8R_1_9、ii)Yは所望により
    置換されていてもよいフェニルまたは所望により置換さ
    れていてもよいピリミジニル以外、 iii)R_1およびR_2は一緒になってオキソまた
    はC1−_5アルキリデン、 iv)他の置換基R_1、R_2、R_3およびR_4
    のうち少なくとも1つは、不飽和脂肪族炭化水素残基、
    シクロアルキル、非置換もしくは置換フェニルまたはA
    r、 v)他の置換基R_1、_R_2、R_3、_R_4、
    _R_1_7およびR_1_9のうちの少なくとも1つ
    は、基(A_1)nX(式中、XはH以外)、または vi)A_3¥‐‐‐¥A_4はC(X_1)−C(O
    )の条件のうち少なくとも1つが当てはまる場合、R_
    1、R_2、R_3およびR_4のうちの1つにおける
    XはHのみであり、 b)CR_1R_2−A_2がC(R_2)=C(R_
    1_7)である場合、R_3およびR_4は共にHでは
    なく、c)R_1およびR_2が一緒になってオキソで
    ある場合、A_2はO、S、NR_2_0またはCOで
    はないものとする] で示される化合物。
  2. (2)R_1が6個以下の炭素原子を有する不飽和脂肪
    族基、6個以下の炭素原子を有するシクロアルキル基ま
    たはAr(ただし、Arは請求項1記載の意味)である
    、請求項1記載の化合物。
  3. (3)CR_1R_2−A_2がC(R_2)=C(R
    _1_7)(ただし、R_2およびR_1_7は請求項
    1記載の意味)である、請求項1記載の化合物。
  4. (4)R_1およびR_2が一緒になってオキソまたは
    C_1−_5アルキリデンである、請求項1記載の化合
    物。
  5. (5)A_3¥‐‐‐¥A_4がC(X_1)−C(O
    )(ただし、X_1は請求項1記載の意味)である、請
    求項1記載の化合物。
  6. (6)R_1が、CH_3、C_2H_5、ビニル、ア
    リル、プロパルギル、シクロプロピル、所望により置換
    されていてもよいフェニル、フリル、チエニル、(A_
    1)nX′であるか、またはR_1がR_2と一緒にな
    ってオキソ、CH_2またはCH−CH_3基を示すか
    、またはR_1がR_1_8と一緒になって結合を示し
    、nが0または1であり、A_1が、所望により1個ま
    たは2個のCH_3基で置換されていてもよいCH_2
    または(CH_2)_2であり、X′が、C_1−_4
    アルキルチオ、フェニルチオ、C_1−_4アルコキシ
    、フェノキシ、CHO、C_2−_5アルカノイル、O
    HおよびC_2−_5脂肪族カルボン酸もしくは所望に
    より置換されていてもよい安息香酸とのそれらのエステ
    ル類、(C_2−_5カルボアルコキシ)−CH_2(
    C_2−_5カルボアルコキシ)−CH(CH_3)、
    シアノ、F、Cl、CHF_2、CF_3、NO_2、
    CONH_2、CONH(C_1−_4アルキル)、ジ
    (C_1−_4アルキル)Nまたはベンジルであり、R
    _2、R_3およびR_4のうちの1つがH、C_1−
    _4アルキル、C_1−_4アルコキシ、C_1−_4
    アルキルチオ、OH、C_1−_4アルキル−CO−O
    、C_2−_5カルボアルコキシ、チエニルまたはフリ
    ルであり、R_2、R_3およびR_4のうちの残りの
    置換基がHまたはCH_3である、請求項1記載の化合
    物。
  7. (7)A_2が、結合、CH_2、CH(CH_3)、
    C(CH_3)_2、CO、O、CH(CF_3)、C
    H_2−CH_2またはCH(CH_3)−CH(CH
    _3)であるか、またはA_2がCR_1R_2と一緒
    になってC(R_2)=C(R_1_7)(ただし、R
    _1_7は、H、SCH_3、CH_3またはCF_3
    である)である、請求項6記載の化合物。
  8. (8)A_2が、CH_2、CH(CH_3)またはC
    (CH_3)_2であり、(A_1)nX′がNO_2
    、チエニルまたはフリルであり、YがR_2_1、R_
    2_2およびR_2_3により置換されたフェニルであ
    る、請求項7記載の化合物。
  9. (9)nが1または2であり、YがR_2_1、R_2
    _2およびR_2_3により置換されたフェニルである
    、請求項7記載の化合物。
  10. (10)YがR_2_1、R_2_2およびR_2_3
    により置換されたフェニルであるか、またはチエニル、
    ピラゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピラジニルま
    たはピリミジニルであり、ヘテロ芳香族基が、メチレン
    ジオキシ、NO_2、ハロゲン、CN、CF_3、CH
    _3−SO_2もしくはCH_3SCH_2により置換
    され、所望によりハロゲンおよびC_1−_4アルキル
    (ただし、環炭素原子に結合)並びにC_1−_4アル
    キル、ベンジルおよびC_1−_4アルキル−チオ−C
    _1−_4アルキル(ただし、環N原子に結合)から選
    ばれる1個または2個の追加置換基を含んでいてもよく
    、R_2_2がカルボニル基のパラ位に位置してH、ハ
    ロゲン、C_1−_4アルキル−S、C_1−_4アル
    キル−SO_2であり、R_2_3がカルボニル基のオ
    ルト位に位置してハロゲン、CF_3、NO_2、CN
    またはCH_3SO_2であり、R_2_1がH、ハロ
    ゲンまたはCH_3である、請求項1〜7のいずれか1
    項記載の化合物。
  11. (11)YがR_2_1、R_2_2およびR_2_3
    により置換されたフェニルである、請求項10記載の化
    合物。
  12. (12)Yが、置換ピラゾリル、ピリミジニルまたはピ
    リジルである、請求項10記載の化合物。
  13. (13)Yが置換ピラゾリルである、請求項12記載の
    化合物。
  14. (14)Yが置換ピリジルである、請求項12記載の化
    合物。
  15. (15)R_1が、H、CH_3、SCH_3、S(O
    )CH_3、SO_2CH_3、フェニルまたはC_1
    −_4アルキル、C_1−_4アルコキシ、ハロゲンも
    しくはCF_3によりモノ置換されたフェニルであるか
    、または4個以下の炭素原子を有するアルケニルもしく
    はアルキニルである、請求項1記載の化合物。
  16. (16)R_2、R_3およびR_4が独立してHまた
    はCH_3であり、またR_2、R_3およびR_4の
    うち1つがSCH_3、S(O)CH_3またはSO_
    2(CH_3)であるが、ただし、R_1〜R_4のう
    ち1つだけがSCH_3、S(O)CH_3またはSO
    _2CH_3である、請求項1または15記載の化合物
  17. (17)A_2がCH(CF_3)、CH_2またはO
    である、請求項16記載の化合物。
  18. (18)Yが3,5−ジクロロ−2−ピリジルである、
    請求項17記載の化合物。
  19. (19)Yが1−CH_3−4−NO_2−ピラゾール
    −5−イルまたは1−CH_3−4−NO_2−ピラゾ
    ール−3−イルである、請求項17記載の化合物。
  20. (20)YがR_2_1、R_2_2およびR_2_3
    により置換されたフェニル(ただし、R_2_1、R_
    2_2およびR_2_3は請求項1記載の意味)である
    、請求項17記載の化合物。
  21. (21)R_1がSCH_3、S(O)CH_3または
    SO_2CH_3であり、R_2、R_3およびR_4
    が独立してHまたはCH_3であり、A_2がCH_2
    、OまたはCH(CF_3)であり、Yが3,5−ジク
    ロロ−2−ピリジル、1−CH_3−4−NO_2−ピ
    ラゾール−5−イル、1−CH_3−4−NO_2−ピ
    ラゾール−3−イルまたはR_2_1、R_2_2およ
    びR_2_3により置換されたフェニルである、請求項
    15記載の化合物。
  22. (22)A_2がCH(CF_3)またはOであり、Y
    がR_2_1、R_2_2およびR_2_3により置換
    されたフェニルである、請求項21記載の化合物。
  23. (23)R_1が4個以下の炭素原子を有するアルケニ
    ルまたはアルキニルであり、R_2、R_3およびR_
    4が独立してH、CH_3、SCH_3、S(O)CH
    _3またはSO_2CH_3であるが、ただし、R_2
    〜R_4のうちの1つだけがSCH_3、S(O)CH
    _3およびSO_2CH_3から成る群から選ばれ、A
    _2がCH_2、OまたはCH(CF_3)であり、Y
    が3,5−ジクロロ−2−ピリジル、1−CH_3−4
    −NO_2−ピラゾール−5−イル、1−CH_3−4
    −NO_2−ピラゾール−3−イルまたはR_2_1、
    R_2_2およびR_2_3により置換されたフェニル
    である、請求項15記載の化合物。
  24. (24)R_1がフェニルまたはC_1−_4アルキル
    、C_1−_4アルコキシ、ハロゲンもしくはCF_3
    によりモノ置換されたフェニルであり、R_2、R_3
    およびR_4が独立してHまたはCH_3であり、A_
    2がCH(CF_3)、CH_2またはOであり、Yが
    3,5−ジクロロ−2−ピリジル、1−CH_3−4−
    NO_2−ピラゾール−5−イル、1−CH_3−4−
    NO_2−ピラゾール−3−イルまたはR_2_1、R
    _2_2およびR_2_3により置換されたフェニルで
    ある、請求項15記載の化合物。
  25. (25)YがR_2_1、R_2_2およびR_2_3
    により置換されたフェニルである、請求項24記載の化
    合物。
  26. (26)A_3¥‐‐‐¥A_4がC=C(ORa)で
    ある、請求項1〜25のいずれか1項記載の化合物。
  27. (27) a、2−(1−メチル−4−ニトロ−5−ピラゾリルカ
    ルボニル)−1,3−シクロヘキサンジオン、b、2−
    (1−メチル−4−ニトロ−3−ピラゾリルカルボニル
    )−1,3−シクロヘキサンジオン、c、2−(1−メ
    チル−4−ニトロ−3−ピラゾリルカルボニル)−5−
    メチル−1,3−シクロヘキサンジオン、 d、2−(1−メチル−4−ニトロ−3−ピラゾリルカ
    ルボニル)−4,4,6−トリメチル−1,3−シクロ
    ヘキサンジオン、 e、2−(1−メチル−4−ニトロ−3−ピラゾリルカ
    ルボニル)−4,4,6,6−テトラメチル−1,3−
    シクロヘキサンジオン、 f、4−(1−メチル−4−ニトロ−3−ピラゾリルカ
    ルボニル)−2,2,6,6−テトラメチル−3,6−
    ジヒドロ−2H−ピラン−3−オン、g、2−(4−ク
    ロロ−2−ニトロベンゾイル)−4−フェニル−1,3
    −シクロヘキサンジオン、h、2−(4−クロロ−2−
    ニトロベンゾイル)−5−トリフルオロメチル−1,3
    −シクロヘキサンジオン、 i、2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−4−
    メチル−5−トリフルオロメチル−1,3−シクロヘキ
    サンジオン、 j、2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−4,
    4−ジメチル−5−トリフルオロメチル−1,3−シク
    ロヘキサンジオン、 k、2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−4−
    (2−フルオロフェニル−1,3−シクロヘキサンジオ
    ン、 l、2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−4−
    (4−フルオロフェニル−1,3−シクロヘキサンジオ
    ン、 m、2−(2−クロロ−4−メチルスルホニルベンゾイ
    ル)−5−トリフルオロメチル−1,3−シクロヘキサ
    ンジオン、 n、2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−4,
    6,6−トリメチル−4−シクロヘキセン−1,3−ジ
    オン、 o、2−クロロ−2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾ
    イル)−4,4,6,6−テトラメチル−1,3−シク
    ロヘキサン−1,3−ジオン、 p、2−クロロ−2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾ
    イル)−4,4,6−トリメチル−1,3−シクロヘキ
    サン−1,3−ジオン、 q、2−(3,5−ジクロロ−2−ピリジルカルボニル
    )−1,3−シクロヘキサンジオン から選ばれる、請求項1記載の化合物。
  28. (28)RaがHである、遊離形態または塩形態の請求
    項26記載の化合物。
  29. (29)遊離形態または塩形態である、請求項27記載
    の化合物。
  30. (30)2−(1−メチル−4−ニトロ−3−ピラゾリ
    ルカルボニル−3−(フェノキシカルボニルオキシ)−
    2−シクロヘキセン−1−オン。
  31. (31)Raが、それと結合している酸素と一緒になっ
    てエーテルまたはエステル部分を示す、請求項26記載
    の化合物。
  32. (32)請求項1記載の式( I )で示される化合物の
    製造方法であって、式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4およびA_2
    は前記の意味) で示される化合物を、式(III) Y−CO−Hal(III) (式中、Yは前記の意味であり、Halはハロゲンであ
    る) で示される化合物と反応させ、次いで、こうして得られ
    た式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、Y、R_1、R_2、R_3、R_4およびA
    _2は前記の意味) で示されるエステルの転位により、式( I b)▲数式
    、化学式、表等があります▼( I b) [式中、Y、A_2、R_1、R_2、R_3およびR
    _4は前記の意味であり、MはHまたは塩形成部分であ
    る]で示される化合物を得、所望によりこうして得られ
    た式( I b)の化合物をエーテル化、エステル化また
    はハロゲン化することにより、対応する2−(Y−CO
    )−2−エン−1−オン−3−オールエーテル、2−(
    Y−CO)−2−エン−1−オン−3−オールエステル
    または2−X_1−2−(YCO)−1,3−ジオン化
    合物を得ることを含む方法。
  33. (33)請求項1〜31のいずれか1項による式( I
    )の化合物を含む除草組成物。
  34. (34)請求項1〜31のいずれか1項による式( I
    )で示される化合物の除草有効量を雑草またはそれらの
    座に適用することを含む雑草との駆除方法。
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