JPH021422A - 有機化合物に関する改良 - Google Patents
有機化合物に関する改良Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、新規ジオン化合物、21tj;’j撲滅に
おける前記化合物の使用、前記ジオン化合物を含有する
新規除草組成物および前記新規化合物の製造方法に関す
るものである。
おける前記化合物の使用、前記ジオン化合物を含有する
新規除草組成物および前記新規化合物の製造方法に関す
るものである。
[発明の構成]
さらに詳しくは、この発明は、式(I)[式中、
R2、R3、R3およびR4は、独立して、6個以下の
炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水素残基、6g以下
の炭素原子を有するシクロアルキル基、Arまたは(A
、)nX基であるが、ただし、R2、R2、R3および
R4のうちの1つはO3−、アルコキシカルボニルでも
あり得、R2、R2、R5およびR4のうち少なく七も
1つは(A 、)nXであり、またR3とR2またはR
1とR4は一緒になってC1−、アルキレンであり得、
またR1およびR7は一緒になってオキソまたはCl−
5アルキリデン基を形成し得、Arは、0、NおよびS
から選択された1〜3個のへテロ原子を含み、環炭素原
子により環へに連結された非置換または置換5または6
員へテロアリールであり、 nは0またはlであり、 Xは、H10R6、SR?、NRnR9、No、1ハロ
ゲン、CN、CF、、CHF、、S(O)mR1osC
ON HRIl、 COR+ *、CR13R14C0
0(C,−、アルキル)またはベンジルであり、AIは
、非置換または1個もしくはそれ以上のC1−、アルキ
ル基により置換された、メチレンまたはエチレンであり
、 R8およびR7は、独立してH1炭化水素残基、ハロア
ルキル、ヘテロアリールまたは基C0−R2、であり、 R8は、H1炭化水素残基、ヘテロアリールまたは基G
o−R,,であり、 R8、R3゜、R13およびR14は、独立してHlC
l−8アルキルまたはアリールであり、RoはHまたは
炭化水素残基であり、 R12およびRd8は、独立してH1炭化水素残基また
はへテロアリールであり、 mは!または2であり、 A、は、結合、CRI 6 Rl ?、CR18RI、
−CR18R1゜、O,S、NR,。またはCOであり
、R18およびR111は、独立してH1炭化水素残基
または遊離形態、塩形態もしくはエステル化形態のカル
ボキシル基であるが、ただし、lR+eとR1は隣接炭
素原子のところで一緒になって結合を形成し得、 RllおよびRteは、独立してH1炭化水素残基また
は(A 、)nX基(式中、A2、nおよびXは前記の
意味)であるが、ただし、R16とRllまたはR16
とR19は一緒になってG−CH−)*−s基を意味し
得、すなわちスピロ化合物を形成し得、および/または
1118は隣接炭素原子のところでR1と一緒になり、
またはRlsは隣接炭素原子のところでR3と一緒にな
って(CH*)+−sを形成し得、すなわち二環式環を
形成し得、 R2oは、H1炭化水素残基またはCORts (式中
、Rd5は前記の意味)であり、 A3−−−A4は、C=C(ORaX基A)実たはC(
Xυ−C(OX基B)であり、 X、はFまたはCQであり、 Raは、H1塩形成部分またはそれが結合している酸素
と一緒になってエーテルまたはエステル部分を示し、 Yは、Rll、RllおよびR23により置換されたフ
ェニルまたはAr’であり、 Ar’は、0、SおよびNから選択された2、2または
3個のへテロ原子を含む、5または6員へテロ芳香族基
であって、ヘテロ芳香族基は非置換または置換され、環
炭素原子によりそれが結合しているCO基に連結され、 RllおよびR2!は、連立してH1ハロゲン、C14
アルキル、C,−、アルコキシ、O3−。ハロアルキル
、ON、NCL、CF301RbS(O)p、NRcR
’、C(O)−R’、SO2−NRcRdtたはNRc
−C(O)−R’であるが、ただし、RllおよびR2
xは一緒になってメチレンジオキシ基を形成し得、pは
、01 lまたは2であり、 Rbは、所望によりハロゲン、シアノ、フェニルまたは
ベンジルで置換されていてもよいC8−4アルキルであ
り、 RcおよびRdは、独立してHまたはCl−4アルキル
であり、 R8はCl−4アルキルまたはCl−4アルコキシであ
り、 R23は、ハロゲン、NO2、CN%C1−、アルキル
、Cl−tアルコキシ、cI−tハロアルキルまたはC
1−4アルキル−8(O)qであり、qは、0、lまた
は2であり、 ただし、Yか所望により置換されていてもよいピリミジ
ニル以外である場合、R2、R2、R3およびR4のう
ちの1つはフェニルまたは置換フェニルであるが、 a)下記条件、すなわち、 1 ) CR+ n 2 A 2は、c (R2)=
C(R、?)またはCR,R1−0R21、R22R
,?−CR,8R,。、1i)Yは所望により置換され
ていてもよいフェニルまたは所望により置換されていて
もよいピリミンニル以外、 1ii)R+およびR2は一緒になってオキソまたはC
+−Sアルキリデンを形成、 iv)他の置換基R2、R3、R3およびR4のうち少
なくとも1つは、不飽和脂肪族炭化水素残基、ンクロア
ルキル、非置換もしくは置換フェニルまたはAr。
炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水素残基、6g以下
の炭素原子を有するシクロアルキル基、Arまたは(A
、)nX基であるが、ただし、R2、R2、R3および
R4のうちの1つはO3−、アルコキシカルボニルでも
あり得、R2、R2、R5およびR4のうち少なく七も
1つは(A 、)nXであり、またR3とR2またはR
1とR4は一緒になってC1−、アルキレンであり得、
またR1およびR7は一緒になってオキソまたはCl−
5アルキリデン基を形成し得、Arは、0、NおよびS
から選択された1〜3個のへテロ原子を含み、環炭素原
子により環へに連結された非置換または置換5または6
員へテロアリールであり、 nは0またはlであり、 Xは、H10R6、SR?、NRnR9、No、1ハロ
ゲン、CN、CF、、CHF、、S(O)mR1osC
ON HRIl、 COR+ *、CR13R14C0
0(C,−、アルキル)またはベンジルであり、AIは
、非置換または1個もしくはそれ以上のC1−、アルキ
ル基により置換された、メチレンまたはエチレンであり
、 R8およびR7は、独立してH1炭化水素残基、ハロア
ルキル、ヘテロアリールまたは基C0−R2、であり、 R8は、H1炭化水素残基、ヘテロアリールまたは基G
o−R,,であり、 R8、R3゜、R13およびR14は、独立してHlC
l−8アルキルまたはアリールであり、RoはHまたは
炭化水素残基であり、 R12およびRd8は、独立してH1炭化水素残基また
はへテロアリールであり、 mは!または2であり、 A、は、結合、CRI 6 Rl ?、CR18RI、
−CR18R1゜、O,S、NR,。またはCOであり
、R18およびR111は、独立してH1炭化水素残基
または遊離形態、塩形態もしくはエステル化形態のカル
ボキシル基であるが、ただし、lR+eとR1は隣接炭
素原子のところで一緒になって結合を形成し得、 RllおよびRteは、独立してH1炭化水素残基また
は(A 、)nX基(式中、A2、nおよびXは前記の
意味)であるが、ただし、R16とRllまたはR16
とR19は一緒になってG−CH−)*−s基を意味し
得、すなわちスピロ化合物を形成し得、および/または
1118は隣接炭素原子のところでR1と一緒になり、
またはRlsは隣接炭素原子のところでR3と一緒にな
って(CH*)+−sを形成し得、すなわち二環式環を
形成し得、 R2oは、H1炭化水素残基またはCORts (式中
、Rd5は前記の意味)であり、 A3−−−A4は、C=C(ORaX基A)実たはC(
Xυ−C(OX基B)であり、 X、はFまたはCQであり、 Raは、H1塩形成部分またはそれが結合している酸素
と一緒になってエーテルまたはエステル部分を示し、 Yは、Rll、RllおよびR23により置換されたフ
ェニルまたはAr’であり、 Ar’は、0、SおよびNから選択された2、2または
3個のへテロ原子を含む、5または6員へテロ芳香族基
であって、ヘテロ芳香族基は非置換または置換され、環
炭素原子によりそれが結合しているCO基に連結され、 RllおよびR2!は、連立してH1ハロゲン、C14
アルキル、C,−、アルコキシ、O3−。ハロアルキル
、ON、NCL、CF301RbS(O)p、NRcR
’、C(O)−R’、SO2−NRcRdtたはNRc
−C(O)−R’であるが、ただし、RllおよびR2
xは一緒になってメチレンジオキシ基を形成し得、pは
、01 lまたは2であり、 Rbは、所望によりハロゲン、シアノ、フェニルまたは
ベンジルで置換されていてもよいC8−4アルキルであ
り、 RcおよびRdは、独立してHまたはCl−4アルキル
であり、 R8はCl−4アルキルまたはCl−4アルコキシであ
り、 R23は、ハロゲン、NO2、CN%C1−、アルキル
、Cl−tアルコキシ、cI−tハロアルキルまたはC
1−4アルキル−8(O)qであり、qは、0、lまた
は2であり、 ただし、Yか所望により置換されていてもよいピリミジ
ニル以外である場合、R2、R2、R3およびR4のう
ちの1つはフェニルまたは置換フェニルであるが、 a)下記条件、すなわち、 1 ) CR+ n 2 A 2は、c (R2)=
C(R、?)またはCR,R1−0R21、R22R
,?−CR,8R,。、1i)Yは所望により置換され
ていてもよいフェニルまたは所望により置換されていて
もよいピリミンニル以外、 1ii)R+およびR2は一緒になってオキソまたはC
+−Sアルキリデンを形成、 iv)他の置換基R2、R3、R3およびR4のうち少
なくとも1つは、不飽和脂肪族炭化水素残基、ンクロア
ルキル、非置換もしくは置換フェニルまたはAr。
■)他の置換基R+SRz、R3、RいR1?およびR
19のうちの少なくとも1つは、基(A 、)nX(式
中、XはH以外)、または νi)へ。−−−A4はC(X、)−G(O)のうら少
なくとも1つが当てはまる場合、R1112、R3およ
び1N4のうらの1つに、しけろXはI−1のみであり
、 b) CRI R2A tがC(Rt)−〇(R+Jで
ある場合、R,およびR4は共にI]ではなく、c)R
,およびR2が一緒になってオキソである場合、A2は
0、S、NR,。またはCOではないものとする] で示される新規化合物に関するものである。
19のうちの少なくとも1つは、基(A 、)nX(式
中、XはH以外)、または νi)へ。−−−A4はC(X、)−G(O)のうら少
なくとも1つが当てはまる場合、R1112、R3およ
び1N4のうらの1つに、しけろXはI−1のみであり
、 b) CRI R2A tがC(Rt)−〇(R+Jで
ある場合、R,およびR4は共にI]ではなく、c)R
,およびR2が一緒になってオキソである場合、A2は
0、S、NR,。またはCOではないものとする] で示される新規化合物に関するものである。
式(I)で示される化合物は、式(II)(式中、R2
、R2、R3、R4およびA、は11り記の、き味) で示される化合物を、式(III) Y−Co−Hal (III) (式中、Yは前記の意味であり、Hatはハロゲンであ
る) で示される化合物と反応させ、次いで、こうして(式中
、Y、R21、R22R2、R3、R4およびA、は前
記の意味) で示されるエステルの転位により、式(1b)(式中、
YSA21R21、R22R21、R22RoおよびR
4は前記の意味であり、MはHまたは塩形成部分である
)で示される化合物を得、所望によりこうして得られた
式(Ib)の化合物をエーテル化、エステル化またはハ
ロゲン化することにより、対応する2−(YCo)−2
−エン−1−オン−3−オールエーテル、2−(Y−C
o)−2−エンー■−オンー3オールエステルまたは2
−X、−2−(YCO)1.3−ジオン化合物を得るこ
とにより製造される。
、R2、R3、R4およびA、は11り記の、き味) で示される化合物を、式(III) Y−Co−Hal (III) (式中、Yは前記の意味であり、Hatはハロゲンであ
る) で示される化合物と反応させ、次いで、こうして(式中
、Y、R21、R22R2、R3、R4およびA、は前
記の意味) で示されるエステルの転位により、式(1b)(式中、
YSA21R21、R22R21、R22RoおよびR
4は前記の意味であり、MはHまたは塩形成部分である
)で示される化合物を得、所望によりこうして得られた
式(Ib)の化合物をエーテル化、エステル化またはハ
ロゲン化することにより、対応する2−(YCo)−2
−エン−1−オン−3−オールエーテル、2−(Y−C
o)−2−エンー■−オンー3オールエステルまたは2
−X、−2−(YCO)1.3−ジオン化合物を得るこ
とにより製造される。
ハライドによるl−オン−3−オール化合物のエステル
化は、アルコールおよび酸ハライドからのエステルの製
造に関する自体公知の方法で実施され得ろ。
化は、アルコールおよび酸ハライドからのエステルの製
造に関する自体公知の方法で実施され得ろ。
この反応は、好都合には反応条件下で不活性な溶媒、例
えばジクロロメタン中、好ましくは酸結合剤、例えばト
リエチルアミンの存在下で行なわれる。適当な反応温度
は0°〜40°の範囲内、例えば20°Cである。
えばジクロロメタン中、好ましくは酸結合剤、例えばト
リエチルアミンの存在下で行なわれる。適当な反応温度
は0°〜40°の範囲内、例えば20°Cである。
所望の式(I)で示される化合物の生成を目的とする、
こうして得られた式(TV)で示されるエステルの転位
は、β−ケトエノール・エステルからのα−アシル化β
−ジケトンの製造に関して知られている条件下で行なわ
れ得る。その目的の場合、一般にはそれらが形成される
反応混合物からのエステルの単離は必要ではない。
こうして得られた式(TV)で示されるエステルの転位
は、β−ケトエノール・エステルからのα−アシル化β
−ジケトンの製造に関して知られている条件下で行なわ
れ得る。その目的の場合、一般にはそれらが形成される
反応混合物からのエステルの単離は必要ではない。
上記転位は、触媒、例えば4−ジメチルアミノピリジン
、ルイス酸触媒、または温和な(中程度の)塩基、例え
ば第3アミン塩基、例、トリエチルアミンによるシアニ
ド供与体、例えばアセトン・シアノヒドリンの存在下で
行なわれ得る。
、ルイス酸触媒、または温和な(中程度の)塩基、例え
ば第3アミン塩基、例、トリエチルアミンによるシアニ
ド供与体、例えばアセトン・シアノヒドリンの存在下で
行なわれ得る。
上記転位反応の適当なルイス酸触媒は、例えば塩化アル
ミニウム、塩化亜鉛または塩化錫(IV)である。
ミニウム、塩化亜鉛または塩化錫(IV)である。
適当な溶媒の例には、メチレンクロリド、アセトニトリ
ルまたはトルエンがある。反応温度は、好都合にはO℃
〜還流温度、好ましくは室温(約20°C)である。
ルまたはトルエンがある。反応温度は、好都合にはO℃
〜還流温度、好ましくは室温(約20°C)である。
式(Ib)で示される化合物は、確立された手順による
後処理によりそれらが形成される反応混合物から回収さ
れ得る。
後処理によりそれらが形成される反応混合物から回収さ
れ得る。
反応条件により異なるが、式(1b)で示される化合物
は、遊離酸形態(MはHである)または塩形態で製造さ
れ得る。
は、遊離酸形態(MはHである)または塩形態で製造さ
れ得る。
式(Ib)で示される化合物が遊離酸形態である場合、
それらは様々な互変異性形態で存在し得る。
それらは様々な互変異性形態で存在し得る。
これらの酸は、自体公知の方法で対応する塩に変換され
得、逆もまた同様である。
得、逆もまた同様である。
式(1b)で示される化合物か塩形態(Mは塩形成部分
である)である場合、Mは、無機質(例、N asCa
、FeまたはCuの金属等価物)または有機質、例えば
アミン(例、I−(メチルアミツメデル)ナフタレン)
のアンモニウム塩部分、スルホニウム、スルホキソニウ
ムもしくはホスホニウム部分であり得る。Mの性質によ
り異なるが、前記塩はキレート形態で存在し得る。
である)である場合、Mは、無機質(例、N asCa
、FeまたはCuの金属等価物)または有機質、例えば
アミン(例、I−(メチルアミツメデル)ナフタレン)
のアンモニウム塩部分、スルホニウム、スルホキソニウ
ムもしくはホスホニウム部分であり得る。Mの性質によ
り異なるが、前記塩はキレート形態で存在し得る。
同様に、式(1)で示される化合物のエステルおよびエ
ーテル形態は、自体公知の方法で式(I)の対応する化
合物の遊離酸または塩形態から製造される。
ーテル形態は、自体公知の方法で式(I)の対応する化
合物の遊離酸または塩形態から製造される。
すなわち、式(Ia)
(式中、OR’aはエーテルまたはエステル部分であり
、Y、At並びにR2、R3、R8およびR4は前記の
意味である) で示される化合物は、 a)化合物R’aOHおよび触媒、 b)化合物R’aQおよび温和な(中程度の)塩基(式
中、Qはハロゲン原子である)、またはC)化合物R,
,NHCOC1またはその官能性反応性誘導体 との反応により式(1b)の対応する化合物から得られ
る。
、Y、At並びにR2、R3、R8およびR4は前記の
意味である) で示される化合物は、 a)化合物R’aOHおよび触媒、 b)化合物R’aQおよび温和な(中程度の)塩基(式
中、Qはハロゲン原子である)、またはC)化合物R,
,NHCOC1またはその官能性反応性誘導体 との反応により式(1b)の対応する化合物から得られ
る。
上記反応a)は、触媒、例えば濃硫酸の存在下で行なわ
れる。この反応は、好都合には反応体でもある溶媒、例
えばメタノール中、高温で行なわれる。
れる。この反応は、好都合には反応体でもある溶媒、例
えばメタノール中、高温で行なわれる。
上記反応b)は、温和な(中程度の)塩基、例えばトリ
エチルアミンまたはピリジンの存在下、好都合には室温
またはそれより低温で行なわれる。エーテル化合物の製
造の場合、前記反応b)はまた、自体公知の方法により
、式(lb)で示される化合物の銀塩形態を用いて行な
われ得る。
エチルアミンまたはピリジンの存在下、好都合には室温
またはそれより低温で行なわれる。エーテル化合物の製
造の場合、前記反応b)はまた、自体公知の方法により
、式(lb)で示される化合物の銀塩形態を用いて行な
われ得る。
上記反応C)は、カルバメートの製造に関して知られて
いる条件下、所望によりN−置換されていてもよいカル
バモイルクロリドまたは対応するイソシアネートとアル
コールとの反応により行なわれる。前記カルバメートは
また、対応するカーボネートを介してNH3または第1
アミンとの反応により製造され得るものとする。
いる条件下、所望によりN−置換されていてもよいカル
バモイルクロリドまたは対応するイソシアネートとアル
コールとの反応により行なわれる。前記カルバメートは
また、対応するカーボネートを介してNH3または第1
アミンとの反応により製造され得るものとする。
適当なエーテル部分OR’aの例には、ヒドロカルビル
オキシ基、例えばO−C、−、アルキル、0−C2−8
アルケニル、0−C2−1lアルキニル、〇−ベンジル
、0−フェニル、〇−トリルおよびベンゾイルメトキシ
がある。
オキシ基、例えばO−C、−、アルキル、0−C2−8
アルケニル、0−C2−1lアルキニル、〇−ベンジル
、0−フェニル、〇−トリルおよびベンゾイルメトキシ
がある。
適当なエステル部分OR’aの例には、アシルオキシ基
、例えば基o−cooヒドロカルビル(炭化水素残基)
、0−COヒドロカルビルおよび0−9o、−ヒドロカ
ルビル基、例えばO−アセチル、0−メシル、0−トシ
ル、0−ベンゾイル、o−cooc、−、アルキル(例
、0−CO0CH3)、o−cooフェニル 0−CO
−ベンジルおよびOCON HR1H例、OC0NHt
およびOCON HCr−eアルキル)がある。
、例えば基o−cooヒドロカルビル(炭化水素残基)
、0−COヒドロカルビルおよび0−9o、−ヒドロカ
ルビル基、例えばO−アセチル、0−メシル、0−トシ
ル、0−ベンゾイル、o−cooc、−、アルキル(例
、0−CO0CH3)、o−cooフェニル 0−CO
−ベンジルおよびOCON HR1H例、OC0NHt
およびOCON HCr−eアルキル)がある。
式(1)(ただし、A3−−−A−は基Bである)で示
される化合物は、塩素化剤またはフッ素化剤により式(
Ib)で示される化合物を塩素化またはフッ素化するこ
とにより得られる。
される化合物は、塩素化剤またはフッ素化剤により式(
Ib)で示される化合物を塩素化またはフッ素化するこ
とにより得られる。
進択される塩素化剤またはフッ素化剤は、式(lb)の
化合物に存在する特定の置換基により異なる。
化合物に存在する特定の置換基により異なる。
適当な塩素化剤は、塩素カチオン供与体、例えばアルカ
リ金属次亜塩素酸塩(例、Na−またはKCIQ)また
はN−Cl−スクシンイミドを含む。式(1b)の化合
物に存在し得る置換基の塩素化を避けるために、式(I
b)の化合物のアニオン形態による塩素化の実施が望ま
しい場合もあり得る。
リ金属次亜塩素酸塩(例、Na−またはKCIQ)また
はN−Cl−スクシンイミドを含む。式(1b)の化合
物に存在し得る置換基の塩素化を避けるために、式(I
b)の化合物のアニオン形態による塩素化の実施が望ま
しい場合もあり得る。
適当なフッ素化剤は、フッ素カチオン供与体、例えばF
C!03またはp−)シル−N(F)CH3を含む。好
都合には式(lb)の化合物のアニオン形態によるフッ
素化が行なわれる。
C!03またはp−)シル−N(F)CH3を含む。好
都合には式(lb)の化合物のアニオン形態によるフッ
素化が行なわれる。
式(I)で示される化合物は、一般にシス/トランス混
合物形態で得られ、それらが1個またはそれ以上のキラ
ル中心を含む場合、ラセミ体またはジアステレオマー混
合物形態で得られる。
合物形態で得られ、それらが1個またはそれ以上のキラ
ル中心を含む場合、ラセミ体またはジアステレオマー混
合物形態で得られる。
式(I)で示される化合物の好ましいサブグループの例
は、次の通りである。
は、次の通りである。
一式(1)において、R1か(AI)nX’であり、X
゛かHを除きXの場合と同意義であり、AI、1゜R2
、R3、R4、A2、A 3−−−A 4およびYが前
記のき味である化合物[以後、式(IZ)の化合物と称
す]、 式(I)において、R8が、6個以下の炭素原子を有す
る不飽和脂肪族炭化水素残基、6個以下の炭素原子を有
するシクロアルキル基またはArであり、A、r、R2
1、R22R,JSR21、R22A8、A 3−−−
A 4およびYが前記の意味である化合物[以後、式(
Iy)の化合物と称す]、式(I)において、CR+
Rt A tがC(R,)−CR1?であり、R3、
R12、R18、RII、R3、R4、A3−−−A4
およびYか前記の意味である化合物[以後、式(lx)
の化合物と称す]、 式(1)において、R1およびR2が一緒になってオキ
ソまたはCl−5アルキリデンを示し、A2、As−−
−Ah、R3、R4およびYが前記の意味である化合物
[以後、式(Iw)の化合物と称す]、式(I)におい
て、A 3−−−A4がC(X、)−C(O)であり、
X、、R21、R22R21、R22R3、R4、A2
およびYが前記の意味である化合物[以後、式(1v)
の化合物と称すコ、 式(I)の化合物において、A2がc (c F 2)
R、eまたはC(CF3)R16−CR18R19であ
り、R。
゛かHを除きXの場合と同意義であり、AI、1゜R2
、R3、R4、A2、A 3−−−A 4およびYが前
記のき味である化合物[以後、式(IZ)の化合物と称
す]、 式(I)において、R8が、6個以下の炭素原子を有す
る不飽和脂肪族炭化水素残基、6個以下の炭素原子を有
するシクロアルキル基またはArであり、A、r、R2
1、R22R,JSR21、R22A8、A 3−−−
A 4およびYが前記の意味である化合物[以後、式(
Iy)の化合物と称す]、式(I)において、CR+
Rt A tがC(R,)−CR1?であり、R3、
R12、R18、RII、R3、R4、A3−−−A4
およびYか前記の意味である化合物[以後、式(lx)
の化合物と称す]、 式(1)において、R1およびR2が一緒になってオキ
ソまたはCl−5アルキリデンを示し、A2、As−−
−Ah、R3、R4およびYが前記の意味である化合物
[以後、式(Iw)の化合物と称す]、式(I)におい
て、A 3−−−A4がC(X、)−C(O)であり、
X、、R21、R22R21、R22R3、R4、A2
およびYが前記の意味である化合物[以後、式(1v)
の化合物と称すコ、 式(I)の化合物において、A2がc (c F 2)
R、eまたはC(CF3)R16−CR18R19であ
り、R。
6、R18、RI9、R2、R2、R3、R4、A3A
4およびYが前記の意味である化合物[以後、式(1u
)の化合物と称す]、 式(I)において、Yが所望により置換されていてもよ
いチエニル、ピリジル、ピラゾリル、イソチアゾリル、
1,2.3−チアジアゾリルまたはピラジニル、さらに
好ましくは所望により置換されていてもよいチエニル、
ピリジルまたはピラゾリル、特に所望により置換されて
いてもよいピリジルまたはピラゾリル、最も好ましくは
1−CH,−4−NO2−ピラゾール−5−イルまたは
1−CH,−4−NO2−ピラゾール3−イルであり、
R2、R2、R3、R4、A、およびA 3−−− A
−が前記の意味である化合物[以後、式(lt)の化合
物と弥す]、 式(1)において、Yが、R21、R22およびR23
により置換されたフェニル、または0、NおよびSから
選ばれる1〜3個のへテロ原子を含む所望により置換さ
れていてもよい5もしくは6員へテロアリールであり、
前記へテロアリールが環炭素原子を介して環へに連結さ
れ、RいR2、R3およびR4のうちの1つかフェニル
または置換フェニルであり、R2、R2、R3およびR
4のその他の置換基が、独立して6個以下の炭素原子を
有する不飽和脂肪族炭化水素残基、6g以下の炭素原子
を有するシクロアルキル基、Arまたは(AI)nX基
である(ただし、R2、A3A6、R3およびR4は前
記の意味)化合物[以後、式(1s)の化合物と称す]
、 式(I)ニおイテ、CR+ R2A 2がCR,R2−
CR111RI?−CR18R18であり、R2、R2
、RI6、R32、Rle、Rlg、R3、R4、A3
−−−A4およびYが前記の意味である化合物[以後、
式(Ir)の化合物と称す]。
4およびYが前記の意味である化合物[以後、式(1u
)の化合物と称す]、 式(I)において、Yが所望により置換されていてもよ
いチエニル、ピリジル、ピラゾリル、イソチアゾリル、
1,2.3−チアジアゾリルまたはピラジニル、さらに
好ましくは所望により置換されていてもよいチエニル、
ピリジルまたはピラゾリル、特に所望により置換されて
いてもよいピリジルまたはピラゾリル、最も好ましくは
1−CH,−4−NO2−ピラゾール−5−イルまたは
1−CH,−4−NO2−ピラゾール3−イルであり、
R2、R2、R3、R4、A、およびA 3−−− A
−が前記の意味である化合物[以後、式(lt)の化合
物と弥す]、 式(1)において、Yが、R21、R22およびR23
により置換されたフェニル、または0、NおよびSから
選ばれる1〜3個のへテロ原子を含む所望により置換さ
れていてもよい5もしくは6員へテロアリールであり、
前記へテロアリールが環炭素原子を介して環へに連結さ
れ、RいR2、R3およびR4のうちの1つかフェニル
または置換フェニルであり、R2、R2、R3およびR
4のその他の置換基が、独立して6個以下の炭素原子を
有する不飽和脂肪族炭化水素残基、6g以下の炭素原子
を有するシクロアルキル基、Arまたは(AI)nX基
である(ただし、R2、A3A6、R3およびR4は前
記の意味)化合物[以後、式(1s)の化合物と称す]
、 式(I)ニおイテ、CR+ R2A 2がCR,R2−
CR111RI?−CR18R18であり、R2、R2
、RI6、R32、Rle、Rlg、R3、R4、A3
−−−A4およびYが前記の意味である化合物[以後、
式(Ir)の化合物と称す]。
式(Ir)、(Iu)、(Iv)、(1w)、(lx)
、(Iy)および(Iz)で示される化合物において、
Yは、好ましくは置換フェニル、ピリジル、チエニル、
ピラゾリルまたはピリミジニル、さらに好ましくは置換
フェニル、ピリジル、ピリミジニルまたはピラゾリル、
最も好ましくは置換フェニル、ピリジルまたはピラゾリ
ル、特に置換フェニル、l−CH3−4No、−ピラゾ
ール−5−イルまたは1−CH。
、(Iy)および(Iz)で示される化合物において、
Yは、好ましくは置換フェニル、ピリジル、チエニル、
ピラゾリルまたはピリミジニル、さらに好ましくは置換
フェニル、ピリジル、ピリミジニルまたはピラゾリル、
最も好ましくは置換フェニル、ピリジルまたはピラゾリ
ル、特に置換フェニル、l−CH3−4No、−ピラゾ
ール−5−イルまたは1−CH。
4−NO2−ピラゾール−−3−イルである。
式(1s)の化合物において、Yは、好ましくはR11
xR1tおよびR23により置換されたフェニル、置換
ピリジル、チエニルまたはピラゾリル、さらに好ましく
は置換フェニル、ピリジルまたはピラゾリル、最も好ま
しくは置換フェニル、l−CH4−NO2−ピラゾール
−−5−イルまたはlCH:1 4 −NO2−ピラ
ゾール−3−イルである。
xR1tおよびR23により置換されたフェニル、置換
ピリジル、チエニルまたはピラゾリル、さらに好ましく
は置換フェニル、ピリジルまたはピラゾリル、最も好ま
しくは置換フェニル、l−CH4−NO2−ピラゾール
−−5−イルまたはlCH:1 4 −NO2−ピラ
ゾール−3−イルである。
式(Is)の化合物においてR1がフェニルまたは置換
フェニルである場合、(A+)nX基(あれば)は好ま
しくはHまたはC5−4アルキルである。
フェニルである場合、(A+)nX基(あれば)は好ま
しくはHまたはC5−4アルキルである。
R2、R2、R3およびR4のうちの1個またはそれ以
上が、6個以下の炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水
素残基である場合、それは好都合には1個の二重または
三重結合を有する。
上が、6個以下の炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水
素残基である場合、それは好都合には1個の二重または
三重結合を有する。
R3、R愛、R3およびR4のうちの1個またはそれ以
上が、6個以下の炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水
素残基である場合、それは好ましくは4個以下の炭素原
子を含む。この範ちゅうに属する好ましい基の例には、
ビニル、アリルおよびプロパルギルがある。
上が、6個以下の炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水
素残基である場合、それは好ましくは4個以下の炭素原
子を含む。この範ちゅうに属する好ましい基の例には、
ビニル、アリルおよびプロパルギルがある。
RISR21、R22R3およびR4の中にシクロアル
キルを示す基がある場合、それは好ましくはシクロプロ
ピルである。
キルを示す基がある場合、それは好ましくはシクロプロ
ピルである。
R2、R3、R3およびR4のうちの1個が置換フェニ
ルである場合、このフェニルは、好都合にはC3−4ア
ルキル、Cl−4アルコキシ、ハロゲンおよびCF3か
ら選ばれるl、2または3gの置換基を含み、好ましく
はモノまたはジ置換、さらに好ましくはモノ置換(特に
ハロゲンにより)されている。
ルである場合、このフェニルは、好都合にはC3−4ア
ルキル、Cl−4アルコキシ、ハロゲンおよびCF3か
ら選ばれるl、2または3gの置換基を含み、好ましく
はモノまたはジ置換、さらに好ましくはモノ置換(特に
ハロゲンにより)されている。
R3、R2、R5、R4、R6、R2、R6、RItお
よびRISがヘテロアリールの中にヘテロアリールを示
す基がある場合、この基は、好都合にはチエニル、フリ
ル、ピロリル、イソオキサシリル、イソチアゾリル、ピ
ラゾリル、! 、2.3−チアジアゾリル、ピリジル、
ピリミジニル、ピラジニルおよびピリダジニルから選ば
れ、これらの基は非置換または置換され得る。
よびRISがヘテロアリールの中にヘテロアリールを示
す基がある場合、この基は、好都合にはチエニル、フリ
ル、ピロリル、イソオキサシリル、イソチアゾリル、ピ
ラゾリル、! 、2.3−チアジアゾリル、ピリジル、
ピリミジニル、ピラジニルおよびピリダジニルから選ば
れ、これらの基は非置換または置換され得る。
上記へテロアリール基およびAr’(ただし、Ar゛は
置換されたヘテロアリールである)の適当な置換基の例
には、ハロゲン(例、F、CIまたはBr)、非置換ま
たはハロゲン(例、FSClまたはBr)、フェニル、
5CI−4アルキルまたはC9−4アルコキシにより置
換されたC・l−4アルキル、NO21、R22CN%
Ct−iアルコキン、ホルミルまたはC2−4アルカノ
イルおよび官能性誘導体、例えばそれらのオキシム、ア
セタールおよびケタール[例、C(=NOCI−4アル
キル) Ct−3アルキル、C(O−0゜4アルキル
)y CI−sアルキル、CH(OCI−4アルキル
)を等]、C3−、アルキル−S、C,−。アルキル−
9o、CI−、アルキル−5OW、C1−、アルコキシ
−カルボニルがある。
置換されたヘテロアリールである)の適当な置換基の例
には、ハロゲン(例、F、CIまたはBr)、非置換ま
たはハロゲン(例、FSClまたはBr)、フェニル、
5CI−4アルキルまたはC9−4アルコキシにより置
換されたC・l−4アルキル、NO21、R22CN%
Ct−iアルコキン、ホルミルまたはC2−4アルカノ
イルおよび官能性誘導体、例えばそれらのオキシム、ア
セタールおよびケタール[例、C(=NOCI−4アル
キル) Ct−3アルキル、C(O−0゜4アルキル
)y CI−sアルキル、CH(OCI−4アルキル
)を等]、C3−、アルキル−S、C,−。アルキル−
9o、CI−、アルキル−5OW、C1−、アルコキシ
−カルボニルがある。
R2、R2、R3、R4、R6、R2、R8、R1!お
よびRIsの中にヘテロアリールを示す基がある場合、
それは、好ましくは非置換またはハロゲン、NO21、
R22Cl−4アルキル、C8−4アルコキシもしくは
CI−4アルキルチオによりモノ置換された、さらに好
ましくは非置換のチエニルまたはフリルである。
よびRIsの中にヘテロアリールを示す基がある場合、
それは、好ましくは非置換またはハロゲン、NO21、
R22Cl−4アルキル、C8−4アルコキシもしくは
CI−4アルキルチオによりモノ置換された、さらに好
ましくは非置換のチエニルまたはフリルである。
R2、R21、R22R3、R4の中に所望により置換
されていてもよいフェニルがある場合、それは好ましく
は非置換である。
されていてもよいフェニルがある場合、それは好ましく
は非置換である。
R1がR1と一緒になってCI−Sアルキリデンを形成
する場合、それは好ましくは1〜4個、さらに好ましく
は1個または2個の炭素原子を含む。
する場合、それは好ましくは1〜4個、さらに好ましく
は1個または2個の炭素原子を含む。
好ましくはR2、R2、R3およびR4のうちの多くて
1個はへテロアリールまたは所望により置換されていて
もよいフェニルであり、さらに好ましくは環Aは、芳香
族炭化水素残基、芳香脂肪族炭化水素残基またはへテロ
アリールから選ばれる基2個以上では置換されていない
。
1個はへテロアリールまたは所望により置換されていて
もよいフェニルであり、さらに好ましくは環Aは、芳香
族炭化水素残基、芳香脂肪族炭化水素残基またはへテロ
アリールから選ばれる基2個以上では置換されていない
。
Ra、 R21、R22Ra、 R21、R22、
R,21 R21、R22R皿81R簸71R、、、
R,s、 R,。のうちの1個またはそれ以上が炭化水
素残基である場合、この炭化水素残基は脂肪族、芳香族
または芳香脂肪族であり得、好都合には8g1以下の炭
素原子を有する。この炭化水素が脂肪族である場合、そ
れは好ましくは5個以下の炭素原子を有し、飽和または
不飽和状態であり得る。それが不飽和状態である場合、
好都合には1個の二重または三重結合を含む。その炭化
水素が芳香族または芳香脂肪族である場合、その芳香環
は1個またはそれ以上の置換基により置換され得、それ
らの置換基は、好都合にはハロゲン、C4アルコキシお
よびC1−4アルキルおよびCF。
R,21 R21、R22R皿81R簸71R、、、
R,s、 R,。のうちの1個またはそれ以上が炭化水
素残基である場合、この炭化水素残基は脂肪族、芳香族
または芳香脂肪族であり得、好都合には8g1以下の炭
素原子を有する。この炭化水素が脂肪族である場合、そ
れは好ましくは5個以下の炭素原子を有し、飽和または
不飽和状態であり得る。それが不飽和状態である場合、
好都合には1個の二重または三重結合を含む。その炭化
水素が芳香族または芳香脂肪族である場合、その芳香環
は1個またはそれ以上の置換基により置換され得、それ
らの置換基は、好都合にはハロゲン、C4アルコキシお
よびC1−4アルキルおよびCF。
から1択される。
R6およびR7のうちハロアルキルを示す括がある場合
、それは例えばクロロアルキルであり、好ましくは1〜
4個の炭素原子を有する。
、それは例えばクロロアルキルであり、好ましくは1〜
4個の炭素原子を有する。
R8、R1o、 R13およびR14のうちの1個また
はそれ以上が01−8アルキルである場合、それは好ま
しくはC3−4アルキル、例えばCH3である。
はそれ以上が01−8アルキルである場合、それは好ま
しくはC3−4アルキル、例えばCH3である。
Ro ”−R2(Iのうちアリールを示す基がある場合
、それは好ましくはフェニルであり、非置換またはハロ
ゲン、C1−4アルコキシ、c、−4アルキルおよびC
F、から選ばれる1〜3個の置換基により置換されてお
り、さらに好ましくはそれは3個未満の置換基を何する
。
、それは好ましくはフェニルであり、非置換またはハロ
ゲン、C1−4アルコキシ、c、−4アルキルおよびC
F、から選ばれる1〜3個の置換基により置換されてお
り、さらに好ましくはそれは3個未満の置換基を何する
。
R8、R2、R8、R12、R12、RI、〜R7゜の
中で芳香脂肪族炭化水素残基を示す基がある場合、それ
は、好ましくは非置換、またはフェニル環がハロゲン、
C1−4アルコキシ、C1−4アルキルおよびCF、か
ら選ばれる1〜3個、好ましくは1個または2gの置換
基により置換されたベンジルまたはα−メチルベンジル
である。
中で芳香脂肪族炭化水素残基を示す基がある場合、それ
は、好ましくは非置換、またはフェニル環がハロゲン、
C1−4アルコキシ、C1−4アルキルおよびCF、か
ら選ばれる1〜3個、好ましくは1個または2gの置換
基により置換されたベンジルまたはα−メチルベンジル
である。
Ar’が置換へテロアリールである場合、このヘテロア
リールは、ハロゲン、CF3、NO2、c14アルキル
、Cl−4アルコキソ(この場合、2個の隣接する置換
基が一緒になってメチレンジオキシを形成し得る)、C
8−4アルキル−5SC,−、アルキルS C+−4
7ルキシ、CI −47ルキシ−5゜、およびベンジル
から選ばれる1〜3個の置換基を含み得る。それらの置
換基におけるアルキル部分は、好ましくは1個または2
個、さらに好ましくは1個の炭素原子を有する。
リールは、ハロゲン、CF3、NO2、c14アルキル
、Cl−4アルコキソ(この場合、2個の隣接する置換
基が一緒になってメチレンジオキシを形成し得る)、C
8−4アルキル−5SC,−、アルキルS C+−4
7ルキシ、CI −47ルキシ−5゜、およびベンジル
から選ばれる1〜3個の置換基を含み得る。それらの置
換基におけるアルキル部分は、好ましくは1個または2
個、さらに好ましくは1個の炭素原子を有する。
Ar’は好ましくは置換されたヘテロアリールである。
Arが示す好ましい意味としては、置換されたチエニル
、ピラゾリル、イソチアゾリル、1,2゜3−デアジア
ゾリル、ビリノル、ピラジニルおよびピリミジニル、さ
らに好ましくは置換されたチエニル、ピラゾリル、ピリ
ミジニルおよびピリジル、最ら好ましくは置換されたピ
ラゾリル、ピリミジニルおよびピリジルがある。
、ピラゾリル、イソチアゾリル、1,2゜3−デアジア
ゾリル、ビリノル、ピラジニルおよびピリミジニル、さ
らに好ましくは置換されたチエニル、ピラゾリル、ピリ
ミジニルおよびピリジル、最ら好ましくは置換されたピ
ラゾリル、ピリミジニルおよびピリジルがある。
好ましくはAr’の一置換基は、Ar’が結合している
COに対して〇−位に位置し、および/またはメチレン
ジオキシであることにより、追加の置換基(Iまたは2
個)が存在し得る。メチレンジオキノ置換アリール基A
r’の適当な例は、5,6メチレンジオキンー3−ピリ
ジル、4.5−メチレンジオキシ−3−ピリジルおよび
4.5−メチレンンオキシビリミジニルである。
COに対して〇−位に位置し、および/またはメチレン
ジオキシであることにより、追加の置換基(Iまたは2
個)が存在し得る。メチレンジオキノ置換アリール基A
r’の適当な例は、5,6メチレンジオキンー3−ピリ
ジル、4.5−メチレンジオキシ−3−ピリジルおよび
4.5−メチレンンオキシビリミジニルである。
Ar’のオルト置換基の好ましい例としては、(メチレ
ンツオキシ以外に)NO2、ハロゲン、CN、CF3、
CH,−8o2およびCH3SCH2がある。
ンツオキシ以外に)NO2、ハロゲン、CN、CF3、
CH,−8o2およびCH3SCH2がある。
追加の置換基の好ましい例は、ハロゲンおよびCl−4
アルキル(環炭素原子に結合している場合)並びにCl
−4アルキル、ベンジルおよびCI−4アルキル−チオ
−C7−。アルキル(環N原子に結合している場合)で
ある。
アルキル(環炭素原子に結合している場合)並びにCl
−4アルキル、ベンジルおよびCI−4アルキル−チオ
−C7−。アルキル(環N原子に結合している場合)で
ある。
Ar’が示す特に好ましい意味には、I CH34N
O2−ピラゾール−5−イルおよびl−CH3−4−N
o、−ピラゾール−3−イルがある。
O2−ピラゾール−5−イルおよびl−CH3−4−N
o、−ピラゾール−3−イルがある。
Arが置換ピリジルである場合、それは好ましくは3.
5−フクロロー2−ピリジルである。
5−フクロロー2−ピリジルである。
AIがH1!]またはそれ以上の01−、アルキル基に
より置換されたメチレンまたはエチレンである場合、そ
れらのアルキル置換基は好ましくは4個以下の炭素原子
を有し、さらに好ましくはメチルである。
より置換されたメチレンまたはエチレンである場合、そ
れらのアルキル置換基は好ましくは4個以下の炭素原子
を有し、さらに好ましくはメチルである。
R21がC3−6アルコキシまたはCl−aアルキルチ
オである場合、それは好都合には1〜4個、好ましくは
1個の炭素原子を有する。
オである場合、それは好都合には1〜4個、好ましくは
1個の炭素原子を有する。
R21、R22、R,2およびR23のうちの1個また
はそれ以上がC3−、アルキルスルホニルである場合、
それは好都合には1〜4個、好ましくは1個の炭素原子
を有する。
はそれ以上がC3−、アルキルスルホニルである場合、
それは好都合には1〜4個、好ましくは1個の炭素原子
を有する。
Rttは好ましくはカルボニル基のパラ位に位置し、R
13は好ましくはオルト位に位置する。
13は好ましくはオルト位に位置する。
Roは好ましくは)(、ハロゲン(P、CL Br)、
Cl−4アルキル−S、C,−、アルキル−SO3また
はRttと一緒になってメチレンジオキシを示す。
Cl−4アルキル−S、C,−、アルキル−SO3また
はRttと一緒になってメチレンジオキシを示す。
R11は好ましくはH1ハロゲンまたはCH,である。
RtSは好ましくはハロゲン(例、CI)、CF3、N
O2、CNまたはcHs−sowである。
O2、CNまたはcHs−sowである。
好ましい基CRIRt A tの例は、CR1R2。
CR1R2−CH21、R22CR,R1−CH(CH
3)、CR、R* C(CHs)21CR1R2−C
o、CRIRを−〇、CR,R1−CHCF’、、CR
,Rt−C)(、−CH2、CR+R* CH(CH
3) CH(CH3)およびC(R,)=CHである
。
3)、CR、R* C(CHs)21CR1R2−C
o、CRIRを−〇、CR,R1−CHCF’、、CR
,Rt−C)(、−CH2、CR+R* CH(CH
3) CH(CH3)およびC(R,)=CHである
。
R3は、好ましくはビニル、アリル、プロパルギル、シ
クロプロピル、所望により置換されていてもよいフェニ
ル、フリルまたはチエニル、CHlOHlCH(OH)
CH3、CH2CH3OH,基(AI)nx’(式中、
AIおよびnは前記の意味であり、X゛はHを除きXの
場合と同意義である)、またはR1と一緒になってオキ
ソ、CHtもしくは、CHCH,基、またはRtSと一
緒になって結合を示す。さらに、Yが所望により置換さ
れていてもよいフェニルまたはピリミジニル以外である
場合、R1は好ましくはCl−4アルキル、さらに好ま
しくはCH,またはCt Hs、特にCHsである。
クロプロピル、所望により置換されていてもよいフェニ
ル、フリルまたはチエニル、CHlOHlCH(OH)
CH3、CH2CH3OH,基(AI)nx’(式中、
AIおよびnは前記の意味であり、X゛はHを除きXの
場合と同意義である)、またはR1と一緒になってオキ
ソ、CHtもしくは、CHCH,基、またはRtSと一
緒になって結合を示す。さらに、Yが所望により置換さ
れていてもよいフェニルまたはピリミジニル以外である
場合、R1は好ましくはCl−4アルキル、さらに好ま
しくはCH,またはCt Hs、特にCHsである。
R1が(At)nX’である場合、A1は、好ましくは
所望により1個または2個のCH,基と置換されていて
もよいCH,または(cHt)tである。
所望により1個または2個のCH,基と置換されていて
もよいCH,または(cHt)tである。
A1が、1個またはそれ以上のCI−、アルキル基によ
り置換されたメチレンまたはエチレンである場合、それ
らのアルキル置換基は好ましくは4個以下の炭素原子を
有し、さらに好ましくはメチルである。
り置換されたメチレンまたはエチレンである場合、それ
らのアルキル置換基は好ましくは4個以下の炭素原子を
有し、さらに好ましくはメチルである。
好ましい基X゛の例は、cI−4アルキルチオ、フェニ
ルチオ、Cl−4アルコキシ、フェノキシ、CHo、C
r−sアルカノイル、OHおよびC6−6脂肪族カルボ
ン酸または所望により置換されていてもよい安息香酸に
よるそれらのエステル類、C!−5カルボアルコキシー
CH21C*−sカルボアルコキシCH(CH3)、’
i7ノ、F、CI2.CHF2、Cr5、NO2、CO
N H*、Co−NH(C,−、アルキル)、ジ(CI
−4アルキル)Nまたはベンジル、特にC1−4アルキ
ルチオである。
ルチオ、Cl−4アルコキシ、フェノキシ、CHo、C
r−sアルカノイル、OHおよびC6−6脂肪族カルボ
ン酸または所望により置換されていてもよい安息香酸に
よるそれらのエステル類、C!−5カルボアルコキシー
CH21C*−sカルボアルコキシCH(CH3)、’
i7ノ、F、CI2.CHF2、Cr5、NO2、CO
N H*、Co−NH(C,−、アルキル)、ジ(CI
−4アルキル)Nまたはベンジル、特にC1−4アルキ
ルチオである。
(At)nX’は好ましくはC1−4アルキルチオであ
る。
る。
好ましい基R2、R2およびR4の例は、H,Cr−4
アルキル、Cl−4アルコキシ、C,−、アルキルチオ
、OH,C,−、アルキル−CO−0、C3−、カルボ
アルコキシ、チエニルおよびフリル、特にHlCH21
、R22OCH3、SCH3、OH,CH3CO−0お
よびC00CH21、R22さらに好ましくはHまたは
CHsである。
アルキル、Cl−4アルコキシ、C,−、アルキルチオ
、OH,C,−、アルキル−CO−0、C3−、カルボ
アルコキシ、チエニルおよびフリル、特にHlCH21
、R22OCH3、SCH3、OH,CH3CO−0お
よびC00CH21、R22さらに好ましくはHまたは
CHsである。
A、は好ましくはCR+ s RI ?またはOである
。
。
R16が示す好ましい意味の例は、HSC,−、アルキ
ル、所望により置換されていてもよいフェニルまたはベ
ンジル、チエニル、フリル、C00H(酸、塩またはエ
ステル形態で)および上記で示した(R,と−緒に形成
する)結合であり、特にHおよびCH3、最も好ましく
はHである。
ル、所望により置換されていてもよいフェニルまたはベ
ンジル、チエニル、フリル、C00H(酸、塩またはエ
ステル形態で)および上記で示した(R,と−緒に形成
する)結合であり、特にHおよびCH3、最も好ましく
はHである。
R2,の好ましい意味の例は、Hs CI−aアルキル
、C1−4アルコキシ、C、−、アルキルチオ、C,−
4アルキルチオ−C1−4アルキルおよびCF、、特に
H,5C−R3、CH,およびCF、、最も好ましくは
HまたはCF3である。
、C1−4アルコキシ、C、−、アルキルチオ、C,−
4アルキルチオ−C1−4アルキルおよびCF、、特に
H,5C−R3、CH,およびCF、、最も好ましくは
HまたはCF3である。
RtSおよびRtSは、好ましくは独立してHまたはC
I−4アルキル、さらに好ましくはHまたはCR5であ
る。
I−4アルキル、さらに好ましくはHまたはCR5であ
る。
特に好ましい式(1)の化合物は、下記特性のうち1つ
またはそれ以上を有する。
またはそれ以上を有する。
R,は、H,CH225CHs、S (O)CR5、S
O,CH3、フェニルまたはC3−、アルキル、01−
。
O,CH3、フェニルまたはC3−、アルキル、01−
。
アルコキシ、ハロゲンもしくはCF 3によりモノ置換
されたフェニルであるか、または4個以下の炭素原子を
有するアルケニルもしくはアルキニルである。
されたフェニルであるか、または4個以下の炭素原子を
有するアルケニルもしくはアルキニルである。
R2、R3およびR4は、独立して■(またはCHff
iであり、R3、R8およびR4のうちの1個はまた、
5CH、、S (O) C)(3または5O2CH3で
あるが、たたし、R,〜R,のうちの1個のみがS C
H3、S (O) C)(3またはS O2CH3であ
る。
iであり、R3、R8およびR4のうちの1個はまた、
5CH、、S (O) C)(3または5O2CH3で
あるが、たたし、R,〜R,のうちの1個のみがS C
H3、S (O) C)(3またはS O2CH3であ
る。
A2は、CH(CF 3)、CH2またはOである。
Yは、3.5−ジクロロ−2−ビリノル、IC113−
4−NO2−ピラゾール−−5−イル、1−co3−4
−NO2−ピラゾール−3−イルまたはR22、R2,
およびR23により置換されたフェニルであり、前記フ
ェニル置換基は面性の好ましい意味を有する。
4−NO2−ピラゾール−−5−イル、1−co3−4
−NO2−ピラゾール−3−イルまたはR22、R2,
およびR23により置換されたフェニルであり、前記フ
ェニル置換基は面性の好ましい意味を有する。
それらの特に好ましい式(1)の化合物の例には、式(
1)ニおイテ、R3がS CH225(O)Ci−(3
またはS O2CH3、R2、R3およびR4が独立し
てHまたはCH5、A、がCH2,0またはCH(CF
3)並びにYが35−ジクロロ−2−ピリジル、1−C
H21、R22−4−No2−ピラゾール5−イル、l
−CH3−4−NO2−ピラゾール3−イルまたはR2
1、R22SR2!およびR33により置換されたフェ
ニルである化合物、式(I)において、R3がS CH
225(O)CH3またはS O、Cl−13、R2、
R3およびR4が独立してl(またはCH3、A、がC
H(CF’3)または0、並びにYがRffil、R7
,およびR23により置換されたフェニルである化合物
、 式(1)において、R3が4個以下の炭素原子を有する
アルケニルまたはアルキニル、R3、R8およびR4か
独立してHSCH3、SCH225(O) CH3また
はS O! CH3であるが、ただし、R1〜R4のう
ちの1個のみがSCH225(O)CH3およびS O
、CH,から成る群から選ばれ、A2がCH2,0また
はCH(CF3)fff2びにYが3.5−フクロロー
2−ピリジル、1−CH54−NO2−ピラゾール−5
−イル、I CH34NO2−ピラゾール−3−イル
またはR2、R72およびR23により置換されたフェ
ニルである化合物、 式(I)において、R3がフェニルまたはCl−4アル
ギル、Cl−4アルコキシ、ハロゲンもしくはCF、に
よりモノ置換されたフェニル、R2、R3およびR4が
独立し71−1またハCH、、A、がCl4(CF、)
、CH,または0%並びにYが3゜5−ジクロロ−2−
ピリジル、l−CH3−4゜−NO2−ピラゾール−5
−イル、l−CH34−NO2−ピラゾール−−3−イ
ルまたはR2+、R12およびR23により置換された
フェニル、最も好ましくはR22、R2,およびR23
により置換されたフェニルである化合物 がある。
1)ニおイテ、R3がS CH225(O)Ci−(3
またはS O2CH3、R2、R3およびR4が独立し
てHまたはCH5、A、がCH2,0またはCH(CF
3)並びにYが35−ジクロロ−2−ピリジル、1−C
H21、R22−4−No2−ピラゾール5−イル、l
−CH3−4−NO2−ピラゾール3−イルまたはR2
1、R22SR2!およびR33により置換されたフェ
ニルである化合物、式(I)において、R3がS CH
225(O)CH3またはS O、Cl−13、R2、
R3およびR4が独立してl(またはCH3、A、がC
H(CF’3)または0、並びにYがRffil、R7
,およびR23により置換されたフェニルである化合物
、 式(1)において、R3が4個以下の炭素原子を有する
アルケニルまたはアルキニル、R3、R8およびR4か
独立してHSCH3、SCH225(O) CH3また
はS O! CH3であるが、ただし、R1〜R4のう
ちの1個のみがSCH225(O)CH3およびS O
、CH,から成る群から選ばれ、A2がCH2,0また
はCH(CF3)fff2びにYが3.5−フクロロー
2−ピリジル、1−CH54−NO2−ピラゾール−5
−イル、I CH34NO2−ピラゾール−3−イル
またはR2、R72およびR23により置換されたフェ
ニルである化合物、 式(I)において、R3がフェニルまたはCl−4アル
ギル、Cl−4アルコキシ、ハロゲンもしくはCF、に
よりモノ置換されたフェニル、R2、R3およびR4が
独立し71−1またハCH、、A、がCl4(CF、)
、CH,または0%並びにYが3゜5−ジクロロ−2−
ピリジル、l−CH3−4゜−NO2−ピラゾール−5
−イル、l−CH34−NO2−ピラゾール−−3−イ
ルまたはR2+、R12およびR23により置換された
フェニル、最も好ましくはR22、R2,およびR23
により置換されたフェニルである化合物 がある。
出発材料として使用される式(■)の化合物は、自体公
知の方法で得ることができろ。
知の方法で得ることができろ。
式(Ub)
(式中、n、A、、A2、x、R21、R22R3およ
びR4は前記のき味である) で示される互変異性体形態でも存在し得る式(ITa)
に適した親電子性剤を用いることによる、式(V)(式
中、A2、R3、R3およびR4は前記の意味である) で示されるβノカルボニル化合物のジアニオンのガンマ
置換により得られる。
びR4は前記のき味である) で示される互変異性体形態でも存在し得る式(ITa)
に適した親電子性剤を用いることによる、式(V)(式
中、A2、R3、R3およびR4は前記の意味である) で示されるβノカルボニル化合物のジアニオンのガンマ
置換により得られる。
式(V)のβ−ジカルボニル化合物のジアニオンのガン
マ置換による基(A 、)nXの導入に適した親電子性
剤は文献に記載されている。それらの性質は、(A 、
)nXの示す意味により異なる。
マ置換による基(A 、)nXの導入に適した親電子性
剤は文献に記載されている。それらの性質は、(A 、
)nXの示す意味により異なる。
例えばCQによるガンマ置換に適した親電子性剤は、c
乙c −c cI23またはN−C12−スクシンイミ
ド、Brの場合はBr21S−炭化水素残基の場合はジ
スルフィド、例えばアルキル−5−S−アルキルおよび
フェニル−9−8−フェニル、SHの場合は硫黄、OH
の場合はO2、C0OHの(フェニル)、)の場合はカ
ルボニル付加によるアルデヒドまたはケトン(例、(フ
ェニル)、GO)、NOfの場合はイソペンチルニトレ
ート、脂肪族または芳香脂肪族炭化水素残基の場合は対
応する炭化水素残基ハライドである。
乙c −c cI23またはN−C12−スクシンイミ
ド、Brの場合はBr21S−炭化水素残基の場合はジ
スルフィド、例えばアルキル−5−S−アルキルおよび
フェニル−9−8−フェニル、SHの場合は硫黄、OH
の場合はO2、C0OHの(フェニル)、)の場合はカ
ルボニル付加によるアルデヒドまたはケトン(例、(フ
ェニル)、GO)、NOfの場合はイソペンチルニトレ
ート、脂肪族または芳香脂肪族炭化水素残基の場合は対
応する炭化水素残基ハライドである。
こうして導入された官能性基は、所望により自体公知の
方法で他の官能性基に変換され得る。
方法で他の官能性基に変換され得る。
式(■)(ただし、R1およびR22は−緒になって結
合を形成する)で示される化合物は、対応するハロゲン
化化合物の脱水素ハロゲン化により生成され得る。こう
して得られた式(n)の化合物はまた、例えばメタノー
ル、酢酸等との付加反応で使用されることにより、例え
ばメトキシ、アセトキシ等により置換された式(II)
の飽和化合物を生成し得る。
合を形成する)で示される化合物は、対応するハロゲン
化化合物の脱水素ハロゲン化により生成され得る。こう
して得られた式(n)の化合物はまた、例えばメタノー
ル、酢酸等との付加反応で使用されることにより、例え
ばメトキシ、アセトキシ等により置換された式(II)
の飽和化合物を生成し得る。
式(V)の化合物の多くは、ディークマン縮合反応を用
いた閉環により生成され得る。
いた閉環により生成され得る。
式(Vl)の化合物の製造に至る反応式の例を次頁に示
す。
す。
■!
VII
式(■)(ただし、R1はビニル)で示される化合物は
、例えば式R,(ただし、R,はCH* CH* OH
)で示される化合物から好都合にはトシレートを介して
脱水により製造され得る。
、例えば式R,(ただし、R,はCH* CH* OH
)で示される化合物から好都合にはトシレートを介して
脱水により製造され得る。
上記のビニル化合物は、例えばZn/CH1l!を用い
るサイセン/スミスの方法に従い対応するシクロプロピ
ル化合物に変換され得る。
るサイセン/スミスの方法に従い対応するシクロプロピ
ル化合物に変換され得る。
式(■)(ただし、R1およびR,は−緒になってCH
,を形成)で示される化合物は、式(■)(ただし、R
8およびR2はH)で示される対応する化合物のジアニ
オン形態とCICH,SCH3との反応、生成した式(
■)(ただし、R1はCHtSCH3)の化合物のS−
酸化、および前記基CHe5(O)CH2のCHを基へ
の変換により製造され得る。
,を形成)で示される化合物は、式(■)(ただし、R
8およびR2はH)で示される対応する化合物のジアニ
オン形態とCICH,SCH3との反応、生成した式(
■)(ただし、R1はCHtSCH3)の化合物のS−
酸化、および前記基CHe5(O)CH2のCHを基へ
の変換により製造され得る。
式(■)(ただし、R3およびR7は一緒になってC1
−、アルキリデンを形成)で示される化合物は、式(■
)(ただし、R1およびR2はI−()の対応する化合
物のジアニオン形態と脂肪族Ct−Sアルデヒドまたは
C1−、ケトンとの反応、次いでこうして得られたアル
コールの脱水により得られる。
−、アルキリデンを形成)で示される化合物は、式(■
)(ただし、R1およびR2はI−()の対応する化合
物のジアニオン形態と脂肪族Ct−Sアルデヒドまたは
C1−、ケトンとの反応、次いでこうして得られたアル
コールの脱水により得られる。
式(II)で示される化合物の製造に必要とされる適当
な反応経路および反応工程の最も適切な順序の選択は、
置換基の望ましい組合わせにより大きく異なるものとす
る。この選択は熟練した化学者により容易に行なわれ得
る。
な反応経路および反応工程の最も適切な順序の選択は、
置換基の望ましい組合わせにより大きく異なるものとす
る。この選択は熟練した化学者により容易に行なわれ得
る。
出発材料の製造が記載されていない限り、それらの化合
物は公知であるか、またはそれらが新規な場合にはこの
明細書に記載された方法もしくは公知方法に即した方法
で製造され得る。
物は公知であるか、またはそれらが新規な場合にはこの
明細書に記載された方法もしくは公知方法に即した方法
で製造され得る。
式(1)で示される化合物の遊離酸形態またはエーテル
、エステルもしくは農業的に許容し得る塩形態は、興味
深い広範な除草活性を示す。それらは、例えばそれらの
興味深い作物安全性および/または環境許容性(例えば
に最適の土壌移動性に起因)の点から見て既知ジオン除
草剤に対する貴重な代替薬剤を提供する。
、エステルもしくは農業的に許容し得る塩形態は、興味
深い広範な除草活性を示す。それらは、例えばそれらの
興味深い作物安全性および/または環境許容性(例えば
に最適の土壌移動性に起因)の点から見て既知ジオン除
草剤に対する貴重な代替薬剤を提供する。
従って、この発明はまた、雑草の座(locus)に対
する式(1)の化合物の遊離酸形態または農業的に許容
し得る塩形聾の除草有効量の適用を含む、雑草との闘争
方法に関するものである。
する式(1)の化合物の遊離酸形態または農業的に許容
し得る塩形聾の除草有効量の適用を含む、雑草との闘争
方法に関するものである。
発芽前および発芽後活性は、0.33.1.0および3
kg/haの適用割合に相当する試験用量による温室試
験において示され得る。適用すべき式(I)の化合物の
量は、撲滅すべき特定の雑草、使用される化合物、その
適用方法、処理の状態などにより異なる。適当な適用割
合は、当技術分野の熟練者により常用手順で決定され得
るか、または所望される式(1)の化合物の活性を、例
えば温室での通用割合が既に知られている標準と比較す
ることにより決定され得る。一般に、式(1)の化合物
を植物の座Lha当たり約0.03〜3 、0 kgの
範囲の割合で適用すると、満足すべき結果が得られる。
kg/haの適用割合に相当する試験用量による温室試
験において示され得る。適用すべき式(I)の化合物の
量は、撲滅すべき特定の雑草、使用される化合物、その
適用方法、処理の状態などにより異なる。適当な適用割
合は、当技術分野の熟練者により常用手順で決定され得
るか、または所望される式(1)の化合物の活性を、例
えば温室での通用割合が既に知られている標準と比較す
ることにより決定され得る。一般に、式(1)の化合物
を植物の座Lha当たり約0.03〜3 、0 kgの
範囲の割合で適用すると、満足すべき結果が得られる。
式(1)で示される様々な化合物は、この範囲内で興味
深い選択的除草活性を示す。すなわち、化合物2.82
(後記第A表)は、特に約1〜2に97haの適用割合
で発芽後適用されると、大豆において優れた選択性を示
し、広葉雑草を非常によく抑制する。
深い選択的除草活性を示す。すなわち、化合物2.82
(後記第A表)は、特に約1〜2に97haの適用割合
で発芽後適用されると、大豆において優れた選択性を示
し、広葉雑草を非常によく抑制する。
式(I)の化合物は、農業上許容し得る希釈剤(複数も
可)と組み合わせて除草組成物として使用され得、好ま
しくは使用される。適当な製剤は、001〜99重1%
の有効成分、0〜20%の界面活性剤および1〜99%
の固体または液体希釈剤(複数も可)を含有する。界面
活性剤対有効成分の比率の高いことが望ましい場合もあ
り、製剤への混入またはタンク・ミキシング(混合)に
より達成される。組成物の適用形態は、一般に0.0I
〜25重量%の有効成分を含有する。勿論、指示用途、
化合物の物理特性および適用方法次第で低または高レベ
ルの有効成分が存在し得る。使用曲に希釈されるべき組
成物の濃縮形態は、一般に2ないし90重量%、好まし
くはIOないし80重1%の有効成分を含有する。
可)と組み合わせて除草組成物として使用され得、好ま
しくは使用される。適当な製剤は、001〜99重1%
の有効成分、0〜20%の界面活性剤および1〜99%
の固体または液体希釈剤(複数も可)を含有する。界面
活性剤対有効成分の比率の高いことが望ましい場合もあ
り、製剤への混入またはタンク・ミキシング(混合)に
より達成される。組成物の適用形態は、一般に0.0I
〜25重量%の有効成分を含有する。勿論、指示用途、
化合物の物理特性および適用方法次第で低または高レベ
ルの有効成分が存在し得る。使用曲に希釈されるべき組
成物の濃縮形態は、一般に2ないし90重量%、好まし
くはIOないし80重1%の有効成分を含有する。
式(1)で示される化合物の有用な製剤には、粉剤、か
粒剤、@濁濃厚液、水和剤、乳化用濃厚液、水分散性濃
厚懸濁剤などがある。それらは常法、例えば式(りの化
合物を希釈剤(複数も可)および所望により他の成分と
混合することにより得られる。
粒剤、@濁濃厚液、水和剤、乳化用濃厚液、水分散性濃
厚懸濁剤などがある。それらは常法、例えば式(りの化
合物を希釈剤(複数も可)および所望により他の成分と
混合することにより得られる。
別法として、式(1)の化合物は、マイクロカプセル封
入形態で使用され得る。
入形態で使用され得る。
農業上許容し得る添加剤を除草組成物に用いることによ
り、例えば有効成分の効果が改善され、発泡、固まりお
よび腐食が低減され得る。
り、例えば有効成分の効果が改善され、発泡、固まりお
よび腐食が低減され得る。
この明細書で使用されている「界面活性剤」なる語は、
乳化性、拡散性、湿潤性、分散性または他の界面修飾特
性を与える農業上許容し得る材料を包含する。界面活性
剤の例には、リグニンスルホン酸ナトリウムおよびラウ
リル硫酸ナトリウムがある。
乳化性、拡散性、湿潤性、分散性または他の界面修飾特
性を与える農業上許容し得る材料を包含する。界面活性
剤の例には、リグニンスルホン酸ナトリウムおよびラウ
リル硫酸ナトリウムがある。
この明細書で使用されている「希釈剤」なる語は、濃縮
材料を使用可能または望ましい強度に希釈するのに使用
される液体または固体の農業上許容し得る材料を包含す
る。粉剤またはか粒剤の場合、それは、例えばタルク、
カオリンまたは珪藻土であり得、液体濃縮形態の場合、
例えば炭化水素(例、キシレン)またはアルコール(例
、イソプロパツール)であり、液体適用形態の場合特に
水またはディーゼル油であり得る。
材料を使用可能または望ましい強度に希釈するのに使用
される液体または固体の農業上許容し得る材料を包含す
る。粉剤またはか粒剤の場合、それは、例えばタルク、
カオリンまたは珪藻土であり得、液体濃縮形態の場合、
例えば炭化水素(例、キシレン)またはアルコール(例
、イソプロパツール)であり、液体適用形態の場合特に
水またはディーゼル油であり得る。
この発明の組成物はまた、生物活性を有する他の化合物
、例えば類似または補助的除草活性を有する化合物また
は解毒、殺菌もしくは殺虫活性を有する化合物を含み得
る。
、例えば類似または補助的除草活性を有する化合物また
は解毒、殺菌もしくは殺虫活性を有する化合物を含み得
る。
以下、実施例によりこの発明の実践方法を詳説する。温
度は摂氏で与えられ、RTは室温を意味し、部およびパ
ーセンテージは重量に関するものである。
度は摂氏で与えられ、RTは室温を意味し、部およびパ
ーセンテージは重量に関するものである。
[実施例]
(除草組成物)
実施例A
水和剤
式(1)の化合物、例えば後記実施例1の化合物25部
を、平均粒子サイズが約5ミクロンになるまで、合成微
細シリカ25部、ラウリル硫酸ナトリウム2部、リグニ
ンスルホン酸ナトリウム3部および細かく分割されたカ
オリン45部と混合および粉砕する。
を、平均粒子サイズが約5ミクロンになるまで、合成微
細シリカ25部、ラウリル硫酸ナトリウム2部、リグニ
ンスルホン酸ナトリウム3部および細かく分割されたカ
オリン45部と混合および粉砕する。
実施例B
乳化用濃厚液
式(1)の化合物、例えば後記実施例1の化合物25部
、キシレン50部、ジメチルホルムアミド15部および
乳化剤10部を、均質溶液が得られるまで充分に混合す
る。
、キシレン50部、ジメチルホルムアミド15部および
乳化剤10部を、均質溶液が得られるまで充分に混合す
る。
(除草スクリーニング)
試験例1
発芽前処理
砂質ロームに相当する基質により播種鉢を満たす。アブ
ティロン・テオフラステイ(Abutilo+v th
eophrast i、イチビ、キリアサ、以後At)
、アマランラス・レトロフレクス(Amaranthu
s retrofleXUS、アオビユ、アオゲイトウ
、Ar)、シナビス・アルバ(Sinapis alb
aSSa)、ソラヌム・ニグルム(Solanum n
igrum、イヌホオズキ、Sn)、グロムス1テクト
ルム(Bromus tec10rum、ヤセチャヒキ
、Bt)、セタリア・ビリシス(Setaria vi
ridis1エノコログサ、Sv)、アベナ・ファツア
(Avenll [atua、カラスムギ、Af)、エ
キノコロア・クルスガリ(Echinochloa c
rus−galli1イヌビエ、E、c)の種子を6鉢
に播く。
ティロン・テオフラステイ(Abutilo+v th
eophrast i、イチビ、キリアサ、以後At)
、アマランラス・レトロフレクス(Amaranthu
s retrofleXUS、アオビユ、アオゲイトウ
、Ar)、シナビス・アルバ(Sinapis alb
aSSa)、ソラヌム・ニグルム(Solanum n
igrum、イヌホオズキ、Sn)、グロムス1テクト
ルム(Bromus tec10rum、ヤセチャヒキ
、Bt)、セタリア・ビリシス(Setaria vi
ridis1エノコログサ、Sv)、アベナ・ファツア
(Avenll [atua、カラスムギ、Af)、エ
キノコロア・クルスガリ(Echinochloa c
rus−galli1イヌビエ、E、c)の種子を6鉢
に播く。
次に、式(1)で示される試験物質をlha当たり0.
25.1および/または4に9の有効成分に対応する割
合でlha当たり10ooリットルに一致する適用容量
を用いて適用する(例えば実施例Bに従い製剤化された
試験液体水溶液により噴霧する)。適用後、種子を基質
の薄層(約0 、5 cm)で被覆する。鉢を1日に1
4〜17.時間(E光またはその均等物により)照らし
て21日間室温(30゜−24°)に保つ。
25.1および/または4に9の有効成分に対応する割
合でlha当たり10ooリットルに一致する適用容量
を用いて適用する(例えば実施例Bに従い製剤化された
試験液体水溶液により噴霧する)。適用後、種子を基質
の薄層(約0 、5 cm)で被覆する。鉢を1日に1
4〜17.時間(E光またはその均等物により)照らし
て21日間室温(30゜−24°)に保つ。
21日の期間後除草効果の測定を行う。この測定は、様
々な種子植物に対する損害の程度および質の視覚による
評価を含む。
々な種子植物に対する損害の程度および質の視覚による
評価を含む。
除草活性が観察される。
試験例2
発芽後処理
試験例1で用いられた手順と同様の手順に従うが、ただ
し、植物が2−4枚葉段階にある時点で試験化合物を適
用する。他の実験条件(適用割合、適用容量、温度、照
明)お上−び評価手順(21日後退用)は、試験例1の
記載と同様である。
し、植物が2−4枚葉段階にある時点で試験化合物を適
用する。他の実験条件(適用割合、適用容量、温度、照
明)お上−び評価手順(21日後退用)は、試験例1の
記載と同様である。
除草活性が観察される。
試験例3
広葉系雑草アブティロン・テオフラステイ(前出、イチ
ビ、キリアサ)、カブセラ・ブルサ・バストリス(Ca
psella bursa pas10ris、ナズナ
)、カシア・オブツシフオリア(Cassia obt
usifol’ia)、ケノボディウム・アルブム(C
henopodium album。
ビ、キリアサ)、カブセラ・ブルサ・バストリス(Ca
psella bursa pas10ris、ナズナ
)、カシア・オブツシフオリア(Cassia obt
usifol’ia)、ケノボディウム・アルブム(C
henopodium album。
シロザ)、ダツラ・ストラモニウム(Datura s
tramoniums シロバナヨウシュチョウセンア
サガオ)、ガリ、ラム・アパリネ(Galium ap
arine、ヤエムグラ)、イボモニア・プルプレア(
Ipomoea purpurea。
tramoniums シロバナヨウシュチョウセンア
サガオ)、ガリ、ラム・アパリネ(Galium ap
arine、ヤエムグラ)、イボモニア・プルプレア(
Ipomoea purpurea。
マルバアサガオ)、ポリゴヌム・ペンシルバニクム(P
olygonum pensylvanicum)、ポ
ルツラカ・オレラセア(Portulaca oler
acea、スベリヒュ)、セネシオ・ブルガリス(Se
n−ecio vulgaris、ノボロギク)、シダ
・スピノサ(Sida 5pinosa、アメリカキン
ゴジカ)、ソラヌム・ニグルム(前出、イヌホオズキ)
、ステラリア・メディア(Stellaria med
ia1ハコベ)、キサンチウム・ストルマリウム(Xa
nthium strumarium)、イネ科雑草ア
グロピロン・レペンス(Agropyron repe
ns、ジノくムギ、ヒメカモジグサ)、キペルス・ロツ
ンズス(Cyperus rotundus、ハマスゲ
)、アロペクルス・ミオスロイデス(Alopecur
us myosuroides)、アベラ・スピカベン
チ(Apera 5pica−venti)、アベナ・
ファツア(前出、カラスムギ)、ブラキアリア・プラン
タギネア(Brachiaria plantagin
ea)、ブロムス・テクトルム(前出、ヤセチャヒキ)
、ジギタリア・サンギナリス(Digitaria s
anguinalis、メヒシバ)、エキノコロア・ク
ルスガリ(前出、イヌビエ)、パニクム・ジコトミフロ
ルム(Panicum dicho10mirloru
m)、ボア・アヌア(Poa annua、スズメノカ
タビラ)、セタリア・ファベリ(Setaria fa
beri)およびソルグムIハレペンセ(Sorghu
m halepense、セイバンモロコシ)並びに穀
物、例えば広葉穀物の綿、大豆、テンサイ、ヒマワリお
よびイネ科穀物のイネ、とうもろこしくゼア・マイス、
Zea mays)およびマイロ(ソルグム・ビコロル
、Sorghum bicolor)から選ばれる様々
な単子葉および双子葉雑草に対して式(I)の化合物を
選択し、様々な濃度の試験液体を用いて、試験例1およ
び2の記載と同様の試験を行う。この場合、所望の適用
割合(−般にIha当たり式(1)の化合物0.11.
0.33および1.0kgの適用割合に一致する)を実
現する濃度が選択される。適用容量は600リツトル/
haに一致する。
olygonum pensylvanicum)、ポ
ルツラカ・オレラセア(Portulaca oler
acea、スベリヒュ)、セネシオ・ブルガリス(Se
n−ecio vulgaris、ノボロギク)、シダ
・スピノサ(Sida 5pinosa、アメリカキン
ゴジカ)、ソラヌム・ニグルム(前出、イヌホオズキ)
、ステラリア・メディア(Stellaria med
ia1ハコベ)、キサンチウム・ストルマリウム(Xa
nthium strumarium)、イネ科雑草ア
グロピロン・レペンス(Agropyron repe
ns、ジノくムギ、ヒメカモジグサ)、キペルス・ロツ
ンズス(Cyperus rotundus、ハマスゲ
)、アロペクルス・ミオスロイデス(Alopecur
us myosuroides)、アベラ・スピカベン
チ(Apera 5pica−venti)、アベナ・
ファツア(前出、カラスムギ)、ブラキアリア・プラン
タギネア(Brachiaria plantagin
ea)、ブロムス・テクトルム(前出、ヤセチャヒキ)
、ジギタリア・サンギナリス(Digitaria s
anguinalis、メヒシバ)、エキノコロア・ク
ルスガリ(前出、イヌビエ)、パニクム・ジコトミフロ
ルム(Panicum dicho10mirloru
m)、ボア・アヌア(Poa annua、スズメノカ
タビラ)、セタリア・ファベリ(Setaria fa
beri)およびソルグムIハレペンセ(Sorghu
m halepense、セイバンモロコシ)並びに穀
物、例えば広葉穀物の綿、大豆、テンサイ、ヒマワリお
よびイネ科穀物のイネ、とうもろこしくゼア・マイス、
Zea mays)およびマイロ(ソルグム・ビコロル
、Sorghum bicolor)から選ばれる様々
な単子葉および双子葉雑草に対して式(I)の化合物を
選択し、様々な濃度の試験液体を用いて、試験例1およ
び2の記載と同様の試験を行う。この場合、所望の適用
割合(−般にIha当たり式(1)の化合物0.11.
0.33および1.0kgの適用割合に一致する)を実
現する濃度が選択される。適用容量は600リツトル/
haに一致する。
適用の28日後に評価を行う。除草活性は、30〜l
0009/haの適用範囲で観察される。
0009/haの適用範囲で観察される。
特に興味深い除草活性は、特に下記の群に属する式(I
)の化合物により観察される。
)の化合物により観察される。
式(Ib)において、A、がCH21、R22R,がフ
ェニルまたは置換フェニル(好ましくはフェニル、1−
F−フェニルまたは4−F−フェニル)、R3−R4が
独立してHまたはCH,並びにYがR22、R2,およ
びR23により置換されたフェニルである化合物、例え
ば後記化合物2.82.2.88および2.89゜ 式(Ib)において、A、がCH(CFs)およびR〜
R4が独立してHまたはCH,である化合物、例えば式
(Ib)において、A、がC)((CF’3)、R、〜
R,がHまたはCH3並びにYがR2,SR,。
ェニルまたは置換フェニル(好ましくはフェニル、1−
F−フェニルまたは4−F−フェニル)、R3−R4が
独立してHまたはCH,並びにYがR22、R2,およ
びR23により置換されたフェニルである化合物、例え
ば後記化合物2.82.2.88および2.89゜ 式(Ib)において、A、がCH(CFs)およびR〜
R4が独立してHまたはCH,である化合物、例えば式
(Ib)において、A、がC)((CF’3)、R、〜
R,がHまたはCH3並びにYがR2,SR,。
およびR23により置換されたフェニルである化合物、
例えば後記化合物2−177.2−192、l−195
および2−248゜ 式(Ib)において、Yが置換ピラゾリル(特に、1−
CH,−4−No、−ピラゾール−5−イルまたは1−
CH3−4−No、−ピラゾール−3イル)およびA2
がCHtまたはOである化合物(例えば、R,−R,が
独立してHまたはCH8である化合物を含む)およびそ
れらのエステルまたは塩類、例えば後記化合物2−16
5.2167.2−169.2−172.2−123.
2−174.8−21,9−1および92゜ 式(Ib)において、A3−−−A4がC(Cr2)=
C(O)およびA、がCH,である化合物(例えば、Y
がR221、R22R,2およびR23により置換され
たフェニル並びにR1−R3が独立してHまたはCH,
である化合物を含む)、例えば後記化合物10.1およ
び1O82゜ 式(If)において、A、がCHであり(例えば、Yが
R21、R22、R22およびR1により置換されたフ
ェニルである化合物を含む)、R1〜R4が独立して■
1またはCH,である化合物、例えば化合物2−156
゜ 試験結果1 下記第1表のデータは、IJc9/haに一致する適用
割合で上記試験例1および2に従い試験された式(1)
の化合物の抜粋の除草活性を示す。
例えば後記化合物2−177.2−192、l−195
および2−248゜ 式(Ib)において、Yが置換ピラゾリル(特に、1−
CH,−4−No、−ピラゾール−5−イルまたは1−
CH3−4−No、−ピラゾール−3イル)およびA2
がCHtまたはOである化合物(例えば、R,−R,が
独立してHまたはCH8である化合物を含む)およびそ
れらのエステルまたは塩類、例えば後記化合物2−16
5.2167.2−169.2−172.2−123.
2−174.8−21,9−1および92゜ 式(Ib)において、A3−−−A4がC(Cr2)=
C(O)およびA、がCH,である化合物(例えば、Y
がR221、R22R,2およびR23により置換され
たフェニル並びにR1−R3が独立してHまたはCH,
である化合物を含む)、例えば後記化合物10.1およ
び1O82゜ 式(If)において、A、がCHであり(例えば、Yが
R21、R22、R22およびR1により置換されたフ
ェニルである化合物を含む)、R1〜R4が独立して■
1またはCH,である化合物、例えば化合物2−156
゜ 試験結果1 下記第1表のデータは、IJc9/haに一致する適用
割合で上記試験例1および2に従い試験された式(1)
の化合物の抜粋の除草活性を示す。
除草活性の評価は十進法により行なわれており、lは0
〜10%およびIOは90〜100%の除草活性に相当
する。
〜10%およびIOは90〜100%の除草活性に相当
する。
キサンチウム・ストルマリウム
アグロピロン・レペンス
キベルス中ロッンズス
アロベクルス・ミオスロイデス
アペラ・スピカーペンチ
アベナ嗜ファツア
ブラキアリア・プランタギネア
ブロムス・テクトルム
ジギタリス・サンギナリス
エキノコロア・クルスーガリ
バニクム・ジコトミフロルム
ボア・アヌア
セタリア・ファベリ
ソルグム・ハレベンセ
エキノコロア・クルス
大豆
てんさい
ひまわり
発芽前適用
発芽後適用
ANSP
GRRE
YPRO
LOMY
G55V
VEFA
RAPL
ROTE
D I GSA
CHCG
ANDI
P OA A N
ETFA
0RHA
ガリ湿性ECHwet
oybea
ugarb
sunfl。
re
O
試験結果2
下記第2表のデータは、この表に具体的に示した適用割
合および時間(発芽前または後)で上記試験例3に従い
試験された式(1)で示される化合物の溶液の除草活性
を示す。評価は、第1表と同様十進法に従い表されてい
る。
合および時間(発芽前または後)で上記試験例3に従い
試験された式(1)で示される化合物の溶液の除草活性
を示す。評価は、第1表と同様十進法に従い表されてい
る。
第2表では下記の省略形を用いる。
アブティロンφテオフラスティ ABUTHカブセラ・
ブルサ・パストリス CAPBPカシア・オブツシフロ
リア CASOBヶノポディウム・アルブム
CHEALダツラ・ストラモニウム DATST
ガリウム拳アパリネ GALAPイボモニア
・プルプレア IPOMOポリゴニウム・ペンシ
ルバニクムPOLPYボルツラ力・オレラセア
POROLセネシオ・ブルガリス 5ENVU
シダ・スピノサ 5IDSPソラヌム◆
ニグルム 5OLNIステラリア・メディア
STEME第2表 適用時間 前 後 後 除草活f’1 萌 後 後 前 後 APBP CASO!I IIEAL DATSτ ALAP iPOM□ 01JY 0ROL EIMI xosp S田ll 5TE)1!! AIJSP ot10n AΦuI YPRO ^LOMY ^G55V VEFA RAPL BRψI IGSA CIIeG ANM 除位活性 j用時間 前 後 後 riii イ(後0AAN ETFA 0RHA CHvet ric@ heat m11゜ 前後 前後 最終化合物 実施例1 2−[(4−クロロ−2−二トロ)ベンゾイル]44.
6−1−ジメチル−6−メチルチオ−1,3シクロヘキ
サン−ジオン。
ブルサ・パストリス CAPBPカシア・オブツシフロ
リア CASOBヶノポディウム・アルブム
CHEALダツラ・ストラモニウム DATST
ガリウム拳アパリネ GALAPイボモニア
・プルプレア IPOMOポリゴニウム・ペンシ
ルバニクムPOLPYボルツラ力・オレラセア
POROLセネシオ・ブルガリス 5ENVU
シダ・スピノサ 5IDSPソラヌム◆
ニグルム 5OLNIステラリア・メディア
STEME第2表 適用時間 前 後 後 除草活f’1 萌 後 後 前 後 APBP CASO!I IIEAL DATSτ ALAP iPOM□ 01JY 0ROL EIMI xosp S田ll 5TE)1!! AIJSP ot10n AΦuI YPRO ^LOMY ^G55V VEFA RAPL BRψI IGSA CIIeG ANM 除位活性 j用時間 前 後 後 riii イ(後0AAN ETFA 0RHA CHvet ric@ heat m11゜ 前後 前後 最終化合物 実施例1 2−[(4−クロロ−2−二トロ)ベンゾイル]44.
6−1−ジメチル−6−メチルチオ−1,3シクロヘキ
サン−ジオン。
8.079(O,021モル)の3−[(4−クロロ2
−二I・口)ベンゾイルオキシ]−4,4,,6−ドリ
メチルー6−メチルチオー2−シクロヘキセンl−オン
を、3.5iQ(O,025モル)のトリエチルアミン
、0.4iQのアセトンシアノヒドリンおよび60順の
乾燥アセトニトリルから成る温(45°)混合物に溶か
す。室温で3時間位はん後、反応溶液を200zCのジ
エチルエーテルで希釈し、35a9のlO%HC4およ
び150*2の水で続けて洗浄し、次に無水NaySO
4で乾燥する。
−二I・口)ベンゾイルオキシ]−4,4,,6−ドリ
メチルー6−メチルチオー2−シクロヘキセンl−オン
を、3.5iQ(O,025モル)のトリエチルアミン
、0.4iQのアセトンシアノヒドリンおよび60順の
乾燥アセトニトリルから成る温(45°)混合物に溶か
す。室温で3時間位はん後、反応溶液を200zCのジ
エチルエーテルで希釈し、35a9のlO%HC4およ
び150*2の水で続けて洗浄し、次に無水NaySO
4で乾燥する。
溶媒の回転蒸発後に残る残留物をンリカゲル・カラム・
クロマトグラフィーにかける。ヘキサンジエチルエーテ
ル(III)で溶離すると、分析上線枠な標記化合物が
得られる(nrpH1−12°)。
クロマトグラフィーにかける。ヘキサンジエチルエーテ
ル(III)で溶離すると、分析上線枠な標記化合物が
得られる(nrpH1−12°)。
実施例2
実施例1の手順と同様に、式(I)で示される下記化合
物(遊離酸形態で)が、式(IV)の対応する化合物の
転位により得られる(第A、B、CおよびD表)。
物(遊離酸形態で)が、式(IV)の対応する化合物の
転位により得られる(第A、B、CおよびD表)。
第A表 ・ 式(Ic)で示される化合物実施例3
2−(2−ニトロベンゾイル)−4−フェノキシ1.3
−ンクロヘキサンノオン。
−ンクロヘキサンノオン。
4.19(O,02モル)の4−フェノキシ−1,3ン
クロヘキサンジオン、3 7g(O,02モル)の2−
ニトロベンゾイルクロリド、2.0g(O,02モル)
のトリエチルアミンおよび601112のトルエンから
成る混合物を1時間還流温度で撹はんする。次いで、混
合物を冷却し、200πQのエーテルを加える。沈澱し
たトリエチルアミン塩酸塩を吸引ろ過し、エーテルで洗
浄する。ろ液を1on(1の2N塩酸、20yQの水、
1oIIcの2N水酸化ナトリウムおよび50a(の水
により連続抽出する。
クロヘキサンジオン、3 7g(O,02モル)の2−
ニトロベンゾイルクロリド、2.0g(O,02モル)
のトリエチルアミンおよび601112のトルエンから
成る混合物を1時間還流温度で撹はんする。次いで、混
合物を冷却し、200πQのエーテルを加える。沈澱し
たトリエチルアミン塩酸塩を吸引ろ過し、エーテルで洗
浄する。ろ液を1on(1の2N塩酸、20yQの水、
1oIIcの2N水酸化ナトリウムおよび50a(の水
により連続抽出する。
有機層をM g S O4で乾燥する。30°でエーテ
ルを減圧濃縮すると、中間生成物のトルエン溶液が残る
が、これに19(O、Ol 2モル)のアセトンシアノ
ヒドリンおよび29(O,02モル)のトリエチルアミ
ンを加え、室温で3時間位はんすることにより転位させ
る。
ルを減圧濃縮すると、中間生成物のトルエン溶液が残る
が、これに19(O、Ol 2モル)のアセトンシアノ
ヒドリンおよび29(O,02モル)のトリエチルアミ
ンを加え、室温で3時間位はんすることにより転位させ
る。
反応混合物を200πeのエーテルに溶解し、15 m
(H1) 2 N塩酸、20.v(H1)水、20祿(
1)2N水酸化ナトリウムおよび50yQの水で連続抽
出する。
(H1) 2 N塩酸、20.v(H1)水、20祿(
1)2N水酸化ナトリウムおよび50yQの水で連続抽
出する。
最後の2つの水性抽出物を合わせ、エーテルで洗浄し、
次いで301の2N塩酸により撹はんしながら酸性化す
る。30分後、沈澱を吸引ろ過し、メタノールで洗浄す
ると、+01−115°Cの融点を有する2、89の白
色粉末が得られる。エタノールから再結晶化させろと、
標記化合物の179の結晶が得られる(mpH5−11
6℃)。
次いで301の2N塩酸により撹はんしながら酸性化す
る。30分後、沈澱を吸引ろ過し、メタノールで洗浄す
ると、+01−115°Cの融点を有する2、89の白
色粉末が得られる。エタノールから再結晶化させろと、
標記化合物の179の結晶が得られる(mpH5−11
6℃)。
実施例4
実施例3の手順と同様にして、上記第A、B。
CおよびD表の化合物が、式([V)のエステルの単離
を伴わずに式(II)および(III)の対応する化合
物から得られる。
を伴わずに式(II)および(III)の対応する化合
物から得られる。
実施例5
2−(2,4−ジクロロベンゾイル)−3−メトキシ−
4−アリル−4,6,6−トリメチル−2=シクロヘキ
セン=1−オン。
4−アリル−4,6,6−トリメチル−2=シクロヘキ
セン=1−オン。
3.679(O,01モル)の2−[(2,4−ジクロ
ロ)ベンゾイル]−4−アリル〜4,6.6−1−リメ
チルー!、3−シクロヘキサンジオンを10mQの0.
1N−NaOHに溶かし、次いでNa塩の生成した溶液
を10m(H1)水中1.7g(O,01モル)のAg
NO3により処理する。
ロ)ベンゾイル]−4−アリル〜4,6.6−1−リメ
チルー!、3−シクロヘキサンジオンを10mQの0.
1N−NaOHに溶かし、次いでNa塩の生成した溶液
を10m(H1)水中1.7g(O,01モル)のAg
NO3により処理する。
生成したAg塩の沈澱を10m12の水で希釈し、吸引
ろ過し、真空デシケータ−中P、0.で乾燥する。こう
して得られた乾燥Ag塩を100a+Cの乾燥ジエチル
エーテルに懸濁し、1m12(O,016モル)のヨウ
化メチルで処理する。
ろ過し、真空デシケータ−中P、0.で乾燥する。こう
して得られた乾燥Ag塩を100a+Cの乾燥ジエチル
エーテルに懸濁し、1m12(O,016モル)のヨウ
化メチルで処理する。
3時間の還流後、反応混合物を周囲温度に放冷し、ろ過
する。
する。
ろ液の回転蒸発後に淡黄色粘稠性油状物として残った粗
標記化合物をシリカゲル・カラム・クロマトグラフィー
により(ジエチルエーテル/ヘキサン1:5で溶離)精
製する。
標記化合物をシリカゲル・カラム・クロマトグラフィー
により(ジエチルエーテル/ヘキサン1:5で溶離)精
製する。
実施例6
2−[(2−クロロ−4−メチルスルホニル)ベンゾイ
ル]−3−アセトキシ−4−メチルチオ−4,6,6−
)ジメチル−2−シクロヘキセン−1オン。
ル]−3−アセトキシ−4−メチルチオ−4,6,6−
)ジメチル−2−シクロヘキセン−1オン。
4.879(O,0117モル)の2−[(2−クロロ
−4−メチルスルホニル)ベンゾイル]−4−メチルチ
オ−4,6,6−)ジメチル−1,3−シクロヘキサン
ジオンおよび25R0,の乾燥ジメチルホルムアミドか
ら成る充分撹はんした溶液に、0゜35g(O,011
7モル)の水素化ナトリウム(鉱油中80%分散液)を
全部1回で加える。
−4−メチルスルホニル)ベンゾイル]−4−メチルチ
オ−4,6,6−)ジメチル−1,3−シクロヘキサン
ジオンおよび25R0,の乾燥ジメチルホルムアミドか
ら成る充分撹はんした溶液に、0゜35g(O,011
7モル)の水素化ナトリウム(鉱油中80%分散液)を
全部1回で加える。
発熱(42°)反応が鎮静後、生成したNa塩溶液をさ
らに1時間室温で撹はんし、次いで0.93、q(lc
o、013モル)のアセチルクロリドで処理する。室温
で18時間の反応期間後、300Hの水を加える。形成
された淡黄色エノール酢酸塩を吸引ろ過し、水洗し、充
分水気を切り、60°で乾燥する。
らに1時間室温で撹はんし、次いで0.93、q(lc
o、013モル)のアセチルクロリドで処理する。室温
で18時間の反応期間後、300Hの水を加える。形成
された淡黄色エノール酢酸塩を吸引ろ過し、水洗し、充
分水気を切り、60°で乾燥する。
こうして得られた粗標記エステルをシリカゲル・カラム
・クロマトグラフィーに付す。ジエチルエーテル/ヘキ
サン(4:l)で溶離すると、126−28°の融点を
有する分析上純粋な標記化合物が得られる(Rf=0.
4、ジエチルエーテルによりシリカゲルで)。
・クロマトグラフィーに付す。ジエチルエーテル/ヘキ
サン(4:l)で溶離すると、126−28°の融点を
有する分析上純粋な標記化合物が得られる(Rf=0.
4、ジエチルエーテルによりシリカゲルで)。
実施例7
実施例5の方法と同様の要領で、式(Ib)の対応する
出発材料および化合物Ra’Iを用いると、式(1a)
で示される下記化合物が得られる(第8表)。
出発材料および化合物Ra’Iを用いると、式(1a)
で示される下記化合物が得られる(第8表)。
実施例8
実施例6の方法と同様の要領で、式(Ib)の対応する
出発材料およびアシルハライドR’aCQを用いると、
式(la)で示される下記化合物が得られる(第F表)
。
出発材料およびアシルハライドR’aCQを用いると、
式(la)で示される下記化合物が得られる(第F表)
。
実施例9
2−[(2−ニトロ−4−クロロ)ベンゾイル]4−メ
チルチオー4−メチル−1,3−シクロヘキサンジオン
のアンモニウム塩の製造。
チルチオー4−メチル−1,3−シクロヘキサンジオン
のアンモニウム塩の製造。
0.961?(O,0056モル)の1−(メチルアミ
ノメチル)ナフタレンおよび10m(lのメチレンクロ
リドから成る溶液を、2.Og(O,0056モル)の
1−[(2−ニトロ−4−クロロ)ベンゾイル]4−メ
チルチオー4−メチル−1,3−シクロヘキサンジオン
および301112のメチレンクロリドから成る懸濁液
に加える。1時間後、溶媒を濃縮し、固体残留物を40
℃で減圧乾燥すると、黄色結晶として2.959の塩が
得られる(mp75°−80’C)。
ノメチル)ナフタレンおよび10m(lのメチレンクロ
リドから成る溶液を、2.Og(O,0056モル)の
1−[(2−ニトロ−4−クロロ)ベンゾイル]4−メ
チルチオー4−メチル−1,3−シクロヘキサンジオン
および301112のメチレンクロリドから成る懸濁液
に加える。1時間後、溶媒を濃縮し、固体残留物を40
℃で減圧乾燥すると、黄色結晶として2.959の塩が
得られる(mp75°−80’C)。
実施例9の方法と同様の要領で、
9.1・・・2−(1−メチル−4−NO2−ピラゾー
ル−5−オイル)−13−シクロヘキサンジオンのトリ
エチルアンモニウム塩、mp87−99゜ 9.2・・・2−(1−メチル−4−NO2−ピラゾー
ル−5−オイル)−4,4,6,6−チトラメチルー1
3−シクロヘキサンジオンのトリエチルアンモニウム塩
、mp!44145゜ が得られる。
ル−5−オイル)−13−シクロヘキサンジオンのトリ
エチルアンモニウム塩、mp87−99゜ 9.2・・・2−(1−メチル−4−NO2−ピラゾー
ル−5−オイル)−4,4,6,6−チトラメチルー1
3−シクロヘキサンジオンのトリエチルアンモニウム塩
、mp!44145゜ が得られる。
実施例10
2−クロロ−2−[(2−ニトロ−4−クロロ)ベンゾ
イル]−5,5−ツメチル−13−シクロヘキサンジオ
ン。
イル]−5,5−ツメチル−13−シクロヘキサンジオ
ン。
3.259(O,01モル)の2−[(2−ニトロ4−
クロロ)ベンゾイル]−5,5−ツメチル−13−シク
ロヘキサンジオンおよび1.39(O,01モル)のN
−クロロスクシンイミドおよび40z(!のメチレンク
ロリドから成る混合物を2日間還流させる。次いで、溶
媒を濃縮する。ジエチルエーテルを残留物に加え、未溶
解材料をろ過する(スクンンイミドの結晶0,59、m
p123−125°C)。ろ液を回転蒸発させ、生成物
をシクロヘキサン/酢酸エチル(8・2)によるシリカ
ゲル・カラム・クロマトグラフィーに付すことにより、
融点135−138°の黄色結晶として標記化合物か得
られる。
クロロ)ベンゾイル]−5,5−ツメチル−13−シク
ロヘキサンジオンおよび1.39(O,01モル)のN
−クロロスクシンイミドおよび40z(!のメチレンク
ロリドから成る混合物を2日間還流させる。次いで、溶
媒を濃縮する。ジエチルエーテルを残留物に加え、未溶
解材料をろ過する(スクンンイミドの結晶0,59、m
p123−125°C)。ろ液を回転蒸発させ、生成物
をシクロヘキサン/酢酸エチル(8・2)によるシリカ
ゲル・カラム・クロマトグラフィーに付すことにより、
融点135−138°の黄色結晶として標記化合物か得
られる。
実施例10の方法と同様の要領で、望ましい2アロイル
−1,3−環状ジオンおよびN−クロロスクシンイミド
を用いると、 101・・2−クロロ−2−(4−クロロ−2−ニトロ
ベンゾイル)−4,4,61リメチル1.3−シクロヘ
キサンジオン、mp7778゜ 10.2・2−クロロ−2−(4−り四ロー2−ニトロ
ベンゾイル:l−4,4,6,6−テトラメチル−1,
3−ンクロヘキサンノオン、mp87−99゜ が得られる。
−1,3−環状ジオンおよびN−クロロスクシンイミド
を用いると、 101・・2−クロロ−2−(4−クロロ−2−ニトロ
ベンゾイル)−4,4,61リメチル1.3−シクロヘ
キサンジオン、mp7778゜ 10.2・2−クロロ−2−(4−り四ロー2−ニトロ
ベンゾイル:l−4,4,6,6−テトラメチル−1,
3−ンクロヘキサンノオン、mp87−99゜ が得られる。
実施例11
2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−1゜3−
シクロへブタンジオン。
シクロへブタンジオン。
5.959のシクロへブタン−1,3−ジオン(O゜4
72モル)および50t12のCH,CI、から成る溶
液に、95I9の4−クロロ−2−二I・口安息香酸(
O,472モル)を−度で加え、次いで6.21りのト
リエチルアミン(1,3当量)を滴下する。反応混合物
を室温で2時間撹はんし、CH2Cl2で希釈し、水(
30fff2)で洗浄する。濃縮後、殆ど純粋なエノー
ルエステル、3−(4−クロロ−2ニトロペンゾイルオ
キン)−2−フクロヘプテンl−オンが得られる。
72モル)および50t12のCH,CI、から成る溶
液に、95I9の4−クロロ−2−二I・口安息香酸(
O,472モル)を−度で加え、次いで6.21りのト
リエチルアミン(1,3当量)を滴下する。反応混合物
を室温で2時間撹はんし、CH2Cl2で希釈し、水(
30fff2)で洗浄する。濃縮後、殆ど純粋なエノー
ルエステル、3−(4−クロロ−2ニトロペンゾイルオ
キン)−2−フクロヘプテンl−オンが得られる。
上記エノールエステル14.62y(O,0472モル
)を50a(!のアセトニトリルに溶かし、9.559
のトリエチルアミンを一度で加える。
)を50a(!のアセトニトリルに溶かし、9.559
のトリエチルアミンを一度で加える。
次に、1.E12のアセトンシアノヒドリンを注射器に
より加え、混合物を室温で一夜撹はんする。
より加え、混合物を室温で一夜撹はんする。
アセトニトリルを真空除去し、残留物をジエチルエーテ
ルに溶かす。溶液を2N−HCρで洗浄し、分離し、M
g5Oiで乾燥し、濃縮して得られた残留物をクロマト
グラフィーに付すことにより、標記化合物(mpH2°
C)か得られる。
ルに溶かす。溶液を2N−HCρで洗浄し、分離し、M
g5Oiで乾燥し、濃縮して得られた残留物をクロマト
グラフィーに付すことにより、標記化合物(mpH2°
C)か得られる。
実施例12
2−[C2−ニトロ−4−クロロ)ヘンゾイル]4−ク
ロロメヂルチオ−4−メチル−13−ンクロヘキサンジ
オン。
ロロメヂルチオ−4−メチル−13−ンクロヘキサンジ
オン。
a、69(o、o 1モル)の2−[(2−ニトロ−4
クロロ)ベンゾイル]−4−メチルチオ−4−メチル−
1,3−シクロヘキサンジオンおよび1.39(O,0
1モル)のN−クロロスクシンイミドおよび50岬のメ
チレンクロリドから成る混合物を5日間加熱還流する。
クロロ)ベンゾイル]−4−メチルチオ−4−メチル−
1,3−シクロヘキサンジオンおよび1.39(O,0
1モル)のN−クロロスクシンイミドおよび50岬のメ
チレンクロリドから成る混合物を5日間加熱還流する。
溶媒を濃縮し、残留物をメチレンクロリドによるシリカ
ゲル・カラム・クロマトグラフィーに付すことにより、
143−144℃の融点を有する黄色結晶として標記化
合物が得られる。
ゲル・カラム・クロマトグラフィーに付すことにより、
143−144℃の融点を有する黄色結晶として標記化
合物が得られる。
東促本[式(IV)の化合物]
実施例13
3−7[(4−クロロ−2−二トロ)ベンゾイルオキシ
]−4,,4,6−)ジメチル−6−メチルチ第2−シ
クロヘキセン−1−オン。
]−4,,4,6−)ジメチル−6−メチルチ第2−シ
クロヘキセン−1−オン。
0°で6m12(O、043モル)の乾燥トリエチルア
ミンを、7.059(O,032モル)の4−クロロ−
2−二トロペンゾイルクロリドおよび6.4g(O,0
32モル)の4−メチルチオ−4,6,6−ドリメチル
ー1.3−シクロヘキサンジオンおよび701RQの乾
燥メチレンクロリドから成る充分撹はんおよび冷却した
溶液に5分間にわたり滴下する。
ミンを、7.059(O,032モル)の4−クロロ−
2−二トロペンゾイルクロリドおよび6.4g(O,0
32モル)の4−メチルチオ−4,6,6−ドリメチル
ー1.3−シクロヘキサンジオンおよび701RQの乾
燥メチレンクロリドから成る充分撹はんおよび冷却した
溶液に5分間にわたり滴下する。
滴下完了後、水浴を除去する。、反応混合物を周囲温度
に放暖し、その温度で3時間維持し、次いで150i1
2の水で処理する。有機相を分離し、100酎の2N−
HCl2,15.0JII2の水、100RQの5%K
t CO3溶液および150zQの食塩水で連続的に
洗浄し、次いで無水N a t S Oaで乾燥する。
に放暖し、その温度で3時間維持し、次いで150i1
2の水で処理する。有機相を分離し、100酎の2N−
HCl2,15.0JII2の水、100RQの5%K
t CO3溶液および150zQの食塩水で連続的に
洗浄し、次いで無水N a t S Oaで乾燥する。
溶媒除去後に残る粘稠性油状物を急速に結晶塊に固化さ
せる。これをヘキサンと磨砕すると、分析上純粋なエノ
ールエステル(mp120−22°)が得られる。
せる。これをヘキサンと磨砕すると、分析上純粋なエノ
ールエステル(mp120−22°)が得られる。
実施例14
実施例13の方法と同様の要領で、式(II)および(
I[[)の対応する出発材料を用いると、式(IVa)
で示される下記化合物が得られる(第0表)。
I[[)の対応する出発材料を用いると、式(IVa)
で示される下記化合物が得られる(第0表)。
実施例15
実施例13の方法と同様の要領で、式(IT)および(
I[[)の対応する出発材料を用いると、式(IV)で
示される下記化合物が得られる(第H表)。
I[[)の対応する出発材料を用いると、式(IV)で
示される下記化合物が得られる(第H表)。
実施例16
4−メチルチオ−4,6,6−ドリメチルー1゜3−シ
クロヘキサンジオン。
クロヘキサンジオン。
乾燥N、−雰囲雰囲気へキサン(O,48モル)中n−
ブチルリチウムのX、a+ル溶液300酎を、420m
Qのテトラヒドロフラン(THF14オングストローム
の分子ふるいにおいて乾燥)中48゜59(O,48モ
ル)のジイソプロピルアミンに、撹はんしながら温度が
一68°を越えることのない速度で滴下する。
ブチルリチウムのX、a+ル溶液300酎を、420m
Qのテトラヒドロフラン(THF14オングストローム
の分子ふるいにおいて乾燥)中48゜59(O,48モ
ル)のジイソプロピルアミンに、撹はんしながら温度が
一68°を越えることのない速度で滴下する。
滴下完了後、反応混合物(リチウムジイソプロピルアミ
ドを含有)をさらに30分間−70°で撹はんし、次い
で同温度で30.99(O,2モル)の4.4.6−)
ジメチル−1,3−シクロヘキサンジオンおよび200
i12の乾燥THF’から成る溶液により処理する。
ドを含有)をさらに30分間−70°で撹はんし、次い
で同温度で30.99(O,2モル)の4.4.6−)
ジメチル−1,3−シクロヘキサンジオンおよび200
i12の乾燥THF’から成る溶液により処理する。
ジオンを全て導入後、反応溶液を一70°で30分間保
つ。
つ。
最後に、45.29(O,48モル)のジメチルジスル
フィドおよび150i(2の乾燥THFから成る溶液を
一70°で15分間にわたり滴下する。
フィドおよび150i(2の乾燥THFから成る溶液を
一70°で15分間にわたり滴下する。
次いで、固体Co、/アセトン浴を除去し、反応混合物
を一9°に放暖し、aHCQ100Il!aで処理する
。
を一9°に放暖し、aHCQ100Il!aで処理する
。
テトラヒドロフランの回転蒸発(30°)後に残った残
留物を200III12(7)水で希釈し、500m(
<7)ジエチルエーテルで2回抽出する。
留物を200III12(7)水で希釈し、500m(
<7)ジエチルエーテルで2回抽出する。
エーテル性抽出物を合わせて乾燥(NatS 04)し
、約3分の1の体積に真空濃縮し、次いで沈澱した結晶
を吸引ろ過する。
、約3分の1の体積に真空濃縮し、次いで沈澱した結晶
を吸引ろ過する。
イソプロパツールから再結晶化させると、147°の融
点を有する分析上純粋な標記ジオンが得られる。(Rr
=0.24、シリカゲルで、ジエチルエーテル/ヘキサ
ン2:1を使用)。
点を有する分析上純粋な標記ジオンが得られる。(Rr
=0.24、シリカゲルで、ジエチルエーテル/ヘキサ
ン2:1を使用)。
実施例17
4−メチルチオ−4−メチル−1,3−シクロヘキサン
ジオン。
ジオン。
439(O,5モル)のメチルアクリレートおよび59
9(O,5モル)の3−メチルチオブタノン−2から成
る混合物を、100xi2の5.4モル(O,54モル
)メタノール性ナトリウムメチラートおよび200m1
2のジメチルスルホキシドから成る溶液に撹はんしなが
ら30分以内に加える。発熱反応を40℃未満に保つ。
9(O,5モル)の3−メチルチオブタノン−2から成
る混合物を、100xi2の5.4モル(O,54モル
)メタノール性ナトリウムメチラートおよび200m1
2のジメチルスルホキシドから成る溶液に撹はんしなが
ら30分以内に加える。発熱反応を40℃未満に保つ。
撹はんを一夜室温で続ける。
次いで水片および60zQの濃塩酸を反応混合物に加え
ると、帯黄色沈澱が形成されるが、これを吸引ろ過し、
50℃で真空乾燥する。生成物の融点は120−22℃
である。
ると、帯黄色沈澱が形成されるが、これを吸引ろ過し、
50℃で真空乾燥する。生成物の融点は120−22℃
である。
実施例18
4−メトキシ−4−カルボメトキシ−1,3−シクロヘ
キサンジオン。
キサンジオン。
589(O,358モル)のジメチル−メトキシマロネ
ートおよび259(O,357モル)のメチルビニルケ
トンから成る混合物を、68m+12の5.4Eフル(
O,356モル)メタノール性ナトリウムメチラートお
よび120112のジメチルスルホキシドから成る溶液
に撹はんしながら20分以内に加える。
ートおよび259(O,357モル)のメチルビニルケ
トンから成る混合物を、68m+12の5.4Eフル(
O,356モル)メタノール性ナトリウムメチラートお
よび120112のジメチルスルホキシドから成る溶液
に撹はんしながら20分以内に加える。
水浴で冷却することにより発熱反応を35℃に保つ。1
時間後、200x(!の水を加え、混合物をメチレンク
ロリドで2回抽出する。水層を80zQの20%塩酸で
酸性化し、メチレンクロリドで抽出する。抽出物を水で
洗浄し、M g S Oaで乾燥し、真空濃縮すると、
粘稠性油状物が得られる。これをエーテルで処理すると
、122−24℃の融点を有する黄色結晶が得られる。
時間後、200x(!の水を加え、混合物をメチレンク
ロリドで2回抽出する。水層を80zQの20%塩酸で
酸性化し、メチレンクロリドで抽出する。抽出物を水で
洗浄し、M g S Oaで乾燥し、真空濃縮すると、
粘稠性油状物が得られる。これをエーテルで処理すると
、122−24℃の融点を有する黄色結晶が得られる。
実施例19
4−メチルチオ−6,6−シメチルー4−シクロヘキセ
ン−1,3−ジオン。
ン−1,3−ジオン。
2.89(O,0t 5モル)の4−メチルチオ−6゜
6−シメチルー1.3−シクロヘキサンジオンおよび5
0i12のメチレンクロリドから成る溶液に、5.39
(O,0169モル)のm−クロa過安息香酸(55%
)を冷却せずに分割して加える。
6−シメチルー1.3−シクロヘキサンジオンおよび5
0i12のメチレンクロリドから成る溶液に、5.39
(O,0169モル)のm−クロa過安息香酸(55%
)を冷却せずに分割して加える。
過酸を全て導入後、112(O,0175モル)の氷酢
酸を加え、反応混合物を18時間還流下沸騰させる。
酸を加え、反応混合物を18時間還流下沸騰させる。
次いでそれを周囲温度に放冷し、ろ過する。
ろ液を回転濃縮後、結晶塊として得られた標記化合物を
シリカゲル・クロマトグラフィーにより精製する(ジエ
チルエーテル/ヘキサン3:1で溶離)。Rf=0.2
8(ノリカゲルでジエチルエーテルニよる)、mplf
33−65°C0実施例20 実施例17のシクロヘキサン化合物から出発すると、付
加反応により下記化合物が得られる。
シリカゲル・クロマトグラフィーにより精製する(ジエ
チルエーテル/ヘキサン3:1で溶離)。Rf=0.2
8(ノリカゲルでジエチルエーテルニよる)、mplf
33−65°C0実施例20 実施例17のシクロヘキサン化合物から出発すると、付
加反応により下記化合物が得られる。
4−メトキシ−4−メチルチオ−6,6−シメチルー1
3−シクロへギサンジオン(メタノールの付加)、 4−アセトキン−4=メチルチオ−66−シメチルー1
.3−ノクロヘキサンジオン(酢酸の付加)。
3−シクロへギサンジオン(メタノールの付加)、 4−アセトキン−4=メチルチオ−66−シメチルー1
.3−ノクロヘキサンジオン(酢酸の付加)。
実施例21
実施例17の手順と同様の要領で、出発材料として適当
なメチルケトンおよびカルボン酸エステルを用いると、
式(II)で示される下記化合物が得られる(第5表)
。
なメチルケトンおよびカルボン酸エステルを用いると、
式(II)で示される下記化合物が得られる(第5表)
。
実施例22
実施例16の手順と同様の要領で、式(V)で示される
適当な出発材料および!電子性剤(第に表)を用いると
、第り表の式(TI)で示される化合物が得られる。
適当な出発材料および!電子性剤(第に表)を用いると
、第り表の式(TI)で示される化合物が得られる。
実施例23
4.4−ジメチル−6−メチレン−1,3−ンクロヘキ
サンジオン(a)および4.4−ジメチル−6メトキン
メチルー1.3−シクロヘキサンジオン(b)。
サンジオン(a)および4.4−ジメチル−6メトキン
メチルー1.3−シクロヘキサンジオン(b)。
269(O,2モル)の2−ヒドロキンメチル−2プロ
ペン酸エチルエステルおよび17.29(O2モル)の
3−メチル−2−ブタノンから成る混合物を、5.4モ
ルのメタノール性ナトリウムメトキシド40mQおよび
乾燥ジメチルスルホキ7180吋から成る溶液に、撹は
んしながら温度が40°を越えることのない速度で滴下
する。滴下完了後、褐色反応溶液をさらに2時間室温で
撹はんし、次いで300好の水で処理する。この水溶液
を100πQのCH,CI、で2回抽出し、有機抽出物
を無水NazSO+で乾燥し、真空濃縮する。生成した
2種の標記化合物から成る粗混合物を、移動相としてヘ
キサン−ジエチルエーテルを用いたクロマトグラフィー
により分離する。最初に溶離(ヘキサン−エーテル3;
l)されるのは、6−メチレン置換ジオン(aXmpl
44−46°、Rf=0゜35、シリカゲル・エーテ
ル)であり、これは最初に形成された6−ヒドロキシメ
チル誘導体のレトロ(戻り)マイケル反応生成物である
。次に7リカゲル・カラムの連続溶離により(ヘキサン
−エーテル2:X)、IQ8i0°の融点を有する6メ
トキシメチル置換ンクロヘキサンノオン(b)が得られ
る(Rf=0.24、シリカゲル・エーテル)。
ペン酸エチルエステルおよび17.29(O2モル)の
3−メチル−2−ブタノンから成る混合物を、5.4モ
ルのメタノール性ナトリウムメトキシド40mQおよび
乾燥ジメチルスルホキ7180吋から成る溶液に、撹は
んしながら温度が40°を越えることのない速度で滴下
する。滴下完了後、褐色反応溶液をさらに2時間室温で
撹はんし、次いで300好の水で処理する。この水溶液
を100πQのCH,CI、で2回抽出し、有機抽出物
を無水NazSO+で乾燥し、真空濃縮する。生成した
2種の標記化合物から成る粗混合物を、移動相としてヘ
キサン−ジエチルエーテルを用いたクロマトグラフィー
により分離する。最初に溶離(ヘキサン−エーテル3;
l)されるのは、6−メチレン置換ジオン(aXmpl
44−46°、Rf=0゜35、シリカゲル・エーテ
ル)であり、これは最初に形成された6−ヒドロキシメ
チル誘導体のレトロ(戻り)マイケル反応生成物である
。次に7リカゲル・カラムの連続溶離により(ヘキサン
−エーテル2:X)、IQ8i0°の融点を有する6メ
トキシメチル置換ンクロヘキサンノオン(b)が得られ
る(Rf=0.24、シリカゲル・エーテル)。
実施例24
4−メチル−5−トリフルオロメチル−1,3シクロヘ
キサンジオン。
キサンジオン。
7.29<0.1モル)の2−ブタノンおよび1689
(O,1モル)のβ−(トリフルオロメチル)アクリル
酸エチルから成る混合物を、20mQのメタノールおよ
び60mQの乾燥キンレンに2.79のNaを溶かした
溶液に30分間撹はんしながら滴下する。反応混合物を
3時間還流し、濃縮乾固する。
(O,1モル)のβ−(トリフルオロメチル)アクリル
酸エチルから成る混合物を、20mQのメタノールおよ
び60mQの乾燥キンレンに2.79のNaを溶かした
溶液に30分間撹はんしながら滴下する。反応混合物を
3時間還流し、濃縮乾固する。
残留物を50mQの水に溶かし、aHc12で処理する
。沈澱した結晶を吸引ろ過し、水およびジエチルエーテ
ルで洗浄し、乾燥する。mp122−128℃。
。沈澱した結晶を吸引ろ過し、水およびジエチルエーテ
ルで洗浄し、乾燥する。mp122−128℃。
実施例24の手順と同様の要領で、5−トリフルオロメ
チル−1,3−シクロヘキサンジオン(mp143−4
4°)および4.4−ジメチル−5−トリフルオロメチ
ル−1,3−シクロヘキサンジオン(mp122−12
8°)が得られる。
チル−1,3−シクロヘキサンジオン(mp143−4
4°)および4.4−ジメチル−5−トリフルオロメチ
ル−1,3−シクロヘキサンジオン(mp122−12
8°)が得られる。
Claims (34)
- (1)式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、 R_1、R_2、R_3およびR_4は、独立して、6
個以下の炭素原子を有する不飽和脂肪族炭化水素残基、
6個以下の炭素原子を有するシクロアルキル基、Arま
たは(A_1)nX基であるが、ただし、R_1、R_
2、R_3およびR_4のうちの1つはC_2−_5ア
ルコキシカルボニルでもあり得、R_1、R_2、R_
3およびR_4のうち少なくとも1つは(A_1)nX
であり、またR_1とR_2またはR_3とR_4は一
緒になってC_2−_5アルキレンであり得、またR_
1およびR_2は一緒になってオキソまたはC_1−_
5アルキリデン基を形成し得、Arは、O、NおよびS
から選択された1〜3個のヘテロ原子を含み、環炭素原
子により環Aに連結された非置換または置換5または6
員ヘテロアリールであり、 nは0または1であり、 Xは、H、OR_6、SR_7、NR_8R_9、NO
_2、ハロゲン、CN、CF_3、CHF_2、S(O
)mR_1_0、CO−NHR_1_1、CO−R_1
_2、CR_1_3R_1_4−COO(C_1−_6
アルキル)またはベンジルであり、A_1は、非置換ま
たは1個もしくはそれ以上のC_1−_5アルキル基に
より置換された、メチレンまたはエチレンであり、 R_6およびR_7は、独立してH、炭化水素残基、ハ
ロアルキル、ヘテロアリールまたは基CO−R_1_5
であり、 R_9は、H、炭化水素残基、ヘテロアリールまたは基
CO−R_1_5であり、 R_9、R_1_0、R_1_3、およびR_1_4は
、独立してH、C_1−_6アルキルまたはアリールで
あり、R_1_1はHまたは炭化水素残基であり、R_
1_2およびR_1_5は、独立してH、炭化水素残基
またはヘテロアリールであり、 mは1または2であり、 A_2は、結合、CR_1_6R_1_7CR_1_6
R_1_7CR_1_8R_1_9、O、S、NR_2
_0またはCOであり、R_1_6およびR_1_8は
、独立してH、炭化水素残基または遊離形態、塩形態も
しくはエステル化形態のカルボキシル基であるが、ただ
し、R_1_6とR_1は隣接炭素原子のところで一緒
になって結合を形成し得、 R_1_7およびR_1_9は、独立してH、炭化水素
残基または(A_1)nX基(式中、A_1、nおよび
Xは前記の意味)であるが、ただし、R_1_6とR_
1_7またはR_1_8とR_1_9は一緒になって(
CH_2)_2−_5基を意味し得、すなわちスピロ化
合物を形成し得、および/またはR_1_6は隣接炭素
原子上のR_1と一緒になり、またはR_1_8は隣接
炭素原子上のR_3と一緒になって(CH_2)_1−
_5を形成し得、すなわち二環式環を形成し得、 R_2_0は、H、炭化水素残基またはCO−R_1_
5(式中、R_1_5は前記の意味)であり、 A_3¥‐‐‐¥A_4は、C=C(ORa)(基A)
またはC(X1)−C(O)(基B)であり、 X_1はFまたはClであり、 Raは、H、塩形成部分、またはそれが結合している酸
素と一緒になってエーテルまたはエステル部分を示し、 Yは、R_2_1、R_2_2およびR_2_3により
置換されたフェニルまたはAr′であり、 Ar′は、O、SおよびNから選択された1、2または
3個のヘテロ原子を含む、5または6員ヘテロ芳香族基
であって、ヘテロ芳香族基は、非置換または置換であり
環炭素原子によりそれが結合しているCO基に連結され
、 R_2_1およびR_2_2は、独立してH、ハロゲン
、C1−_4アルキル、C_1−_4アルコキシ、C_
1−4_ハロアルキル、CN、NO_2、CF_3O、
R^bS(O)pNNR^cR^d、C(O)−R^e
、SO_2−NR^cR^dまたはNR^c−C(O)
−R^dであるが、ただし、R_2_1およびR_2_
2は一緒になってメチレンジオキシ基を形成し得、pは
、0、1または2であり、 R^bは、所望によりハロゲン、シアノ、フェニルまた
はベンジルで置換されていてもよいC_1−_4アルキ
ルであり、 R^cおよびR^dは、独立してHまたはC_1−_4
アルキルであり、 R^eはC_1−_4アルキルまたはC_1−_4アル
コキシであり、 R_2_3は、ハロゲン、NO_2、CN、C_1−_
2アルキル、C_1−_2アルコキシ、C_1−_2ハ
ロアルキルまたはC_1−_4アルキル−S(O)qで
あり、qは、0、1または2であり、 ただし、Yが所望により置換されていてもよいピリミジ
ニル以外である場合、R_1、R_2、R_3およびR
_4のうちの1つはフェニルまたは置換フェニルである
が、 a)下記条件、すなわち、 i)CR_1R_2−A_2は、C(R_2)=C(R
_1_7)またはCR_1R_2−CR_1_6R_1
_7−CR_1_8R_1_9、ii)Yは所望により
置換されていてもよいフェニルまたは所望により置換さ
れていてもよいピリミジニル以外、 iii)R_1およびR_2は一緒になってオキソまた
はC1−_5アルキリデン、 iv)他の置換基R_1、R_2、R_3およびR_4
のうち少なくとも1つは、不飽和脂肪族炭化水素残基、
シクロアルキル、非置換もしくは置換フェニルまたはA
r、 v)他の置換基R_1、_R_2、R_3、_R_4、
_R_1_7およびR_1_9のうちの少なくとも1つ
は、基(A_1)nX(式中、XはH以外)、または vi)A_3¥‐‐‐¥A_4はC(X_1)−C(O
)の条件のうち少なくとも1つが当てはまる場合、R_
1、R_2、R_3およびR_4のうちの1つにおける
XはHのみであり、 b)CR_1R_2−A_2がC(R_2)=C(R_
1_7)である場合、R_3およびR_4は共にHでは
なく、c)R_1およびR_2が一緒になってオキソで
ある場合、A_2はO、S、NR_2_0またはCOで
はないものとする] で示される化合物。 - (2)R_1が6個以下の炭素原子を有する不飽和脂肪
族基、6個以下の炭素原子を有するシクロアルキル基ま
たはAr(ただし、Arは請求項1記載の意味)である
、請求項1記載の化合物。 - (3)CR_1R_2−A_2がC(R_2)=C(R
_1_7)(ただし、R_2およびR_1_7は請求項
1記載の意味)である、請求項1記載の化合物。 - (4)R_1およびR_2が一緒になってオキソまたは
C_1−_5アルキリデンである、請求項1記載の化合
物。 - (5)A_3¥‐‐‐¥A_4がC(X_1)−C(O
)(ただし、X_1は請求項1記載の意味)である、請
求項1記載の化合物。 - (6)R_1が、CH_3、C_2H_5、ビニル、ア
リル、プロパルギル、シクロプロピル、所望により置換
されていてもよいフェニル、フリル、チエニル、(A_
1)nX′であるか、またはR_1がR_2と一緒にな
ってオキソ、CH_2またはCH−CH_3基を示すか
、またはR_1がR_1_8と一緒になって結合を示し
、nが0または1であり、A_1が、所望により1個ま
たは2個のCH_3基で置換されていてもよいCH_2
または(CH_2)_2であり、X′が、C_1−_4
アルキルチオ、フェニルチオ、C_1−_4アルコキシ
、フェノキシ、CHO、C_2−_5アルカノイル、O
HおよびC_2−_5脂肪族カルボン酸もしくは所望に
より置換されていてもよい安息香酸とのそれらのエステ
ル類、(C_2−_5カルボアルコキシ)−CH_2(
C_2−_5カルボアルコキシ)−CH(CH_3)、
シアノ、F、Cl、CHF_2、CF_3、NO_2、
CONH_2、CONH(C_1−_4アルキル)、ジ
(C_1−_4アルキル)Nまたはベンジルであり、R
_2、R_3およびR_4のうちの1つがH、C_1−
_4アルキル、C_1−_4アルコキシ、C_1−_4
アルキルチオ、OH、C_1−_4アルキル−CO−O
、C_2−_5カルボアルコキシ、チエニルまたはフリ
ルであり、R_2、R_3およびR_4のうちの残りの
置換基がHまたはCH_3である、請求項1記載の化合
物。 - (7)A_2が、結合、CH_2、CH(CH_3)、
C(CH_3)_2、CO、O、CH(CF_3)、C
H_2−CH_2またはCH(CH_3)−CH(CH
_3)であるか、またはA_2がCR_1R_2と一緒
になってC(R_2)=C(R_1_7)(ただし、R
_1_7は、H、SCH_3、CH_3またはCF_3
である)である、請求項6記載の化合物。 - (8)A_2が、CH_2、CH(CH_3)またはC
(CH_3)_2であり、(A_1)nX′がNO_2
、チエニルまたはフリルであり、YがR_2_1、R_
2_2およびR_2_3により置換されたフェニルであ
る、請求項7記載の化合物。 - (9)nが1または2であり、YがR_2_1、R_2
_2およびR_2_3により置換されたフェニルである
、請求項7記載の化合物。 - (10)YがR_2_1、R_2_2およびR_2_3
により置換されたフェニルであるか、またはチエニル、
ピラゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピラジニルま
たはピリミジニルであり、ヘテロ芳香族基が、メチレン
ジオキシ、NO_2、ハロゲン、CN、CF_3、CH
_3−SO_2もしくはCH_3SCH_2により置換
され、所望によりハロゲンおよびC_1−_4アルキル
(ただし、環炭素原子に結合)並びにC_1−_4アル
キル、ベンジルおよびC_1−_4アルキル−チオ−C
_1−_4アルキル(ただし、環N原子に結合)から選
ばれる1個または2個の追加置換基を含んでいてもよく
、R_2_2がカルボニル基のパラ位に位置してH、ハ
ロゲン、C_1−_4アルキル−S、C_1−_4アル
キル−SO_2であり、R_2_3がカルボニル基のオ
ルト位に位置してハロゲン、CF_3、NO_2、CN
またはCH_3SO_2であり、R_2_1がH、ハロ
ゲンまたはCH_3である、請求項1〜7のいずれか1
項記載の化合物。 - (11)YがR_2_1、R_2_2およびR_2_3
により置換されたフェニルである、請求項10記載の化
合物。 - (12)Yが、置換ピラゾリル、ピリミジニルまたはピ
リジルである、請求項10記載の化合物。 - (13)Yが置換ピラゾリルである、請求項12記載の
化合物。 - (14)Yが置換ピリジルである、請求項12記載の化
合物。 - (15)R_1が、H、CH_3、SCH_3、S(O
)CH_3、SO_2CH_3、フェニルまたはC_1
−_4アルキル、C_1−_4アルコキシ、ハロゲンも
しくはCF_3によりモノ置換されたフェニルであるか
、または4個以下の炭素原子を有するアルケニルもしく
はアルキニルである、請求項1記載の化合物。 - (16)R_2、R_3およびR_4が独立してHまた
はCH_3であり、またR_2、R_3およびR_4の
うち1つがSCH_3、S(O)CH_3またはSO_
2(CH_3)であるが、ただし、R_1〜R_4のう
ち1つだけがSCH_3、S(O)CH_3またはSO
_2CH_3である、請求項1または15記載の化合物
。 - (17)A_2がCH(CF_3)、CH_2またはO
である、請求項16記載の化合物。 - (18)Yが3,5−ジクロロ−2−ピリジルである、
請求項17記載の化合物。 - (19)Yが1−CH_3−4−NO_2−ピラゾール
−5−イルまたは1−CH_3−4−NO_2−ピラゾ
ール−3−イルである、請求項17記載の化合物。 - (20)YがR_2_1、R_2_2およびR_2_3
により置換されたフェニル(ただし、R_2_1、R_
2_2およびR_2_3は請求項1記載の意味)である
、請求項17記載の化合物。 - (21)R_1がSCH_3、S(O)CH_3または
SO_2CH_3であり、R_2、R_3およびR_4
が独立してHまたはCH_3であり、A_2がCH_2
、OまたはCH(CF_3)であり、Yが3,5−ジク
ロロ−2−ピリジル、1−CH_3−4−NO_2−ピ
ラゾール−5−イル、1−CH_3−4−NO_2−ピ
ラゾール−3−イルまたはR_2_1、R_2_2およ
びR_2_3により置換されたフェニルである、請求項
15記載の化合物。 - (22)A_2がCH(CF_3)またはOであり、Y
がR_2_1、R_2_2およびR_2_3により置換
されたフェニルである、請求項21記載の化合物。 - (23)R_1が4個以下の炭素原子を有するアルケニ
ルまたはアルキニルであり、R_2、R_3およびR_
4が独立してH、CH_3、SCH_3、S(O)CH
_3またはSO_2CH_3であるが、ただし、R_2
〜R_4のうちの1つだけがSCH_3、S(O)CH
_3およびSO_2CH_3から成る群から選ばれ、A
_2がCH_2、OまたはCH(CF_3)であり、Y
が3,5−ジクロロ−2−ピリジル、1−CH_3−4
−NO_2−ピラゾール−5−イル、1−CH_3−4
−NO_2−ピラゾール−3−イルまたはR_2_1、
R_2_2およびR_2_3により置換されたフェニル
である、請求項15記載の化合物。 - (24)R_1がフェニルまたはC_1−_4アルキル
、C_1−_4アルコキシ、ハロゲンもしくはCF_3
によりモノ置換されたフェニルであり、R_2、R_3
およびR_4が独立してHまたはCH_3であり、A_
2がCH(CF_3)、CH_2またはOであり、Yが
3,5−ジクロロ−2−ピリジル、1−CH_3−4−
NO_2−ピラゾール−5−イル、1−CH_3−4−
NO_2−ピラゾール−3−イルまたはR_2_1、R
_2_2およびR_2_3により置換されたフェニルで
ある、請求項15記載の化合物。 - (25)YがR_2_1、R_2_2およびR_2_3
により置換されたフェニルである、請求項24記載の化
合物。 - (26)A_3¥‐‐‐¥A_4がC=C(ORa)で
ある、請求項1〜25のいずれか1項記載の化合物。 - (27) a、2−(1−メチル−4−ニトロ−5−ピラゾリルカ
ルボニル)−1,3−シクロヘキサンジオン、b、2−
(1−メチル−4−ニトロ−3−ピラゾリルカルボニル
)−1,3−シクロヘキサンジオン、c、2−(1−メ
チル−4−ニトロ−3−ピラゾリルカルボニル)−5−
メチル−1,3−シクロヘキサンジオン、 d、2−(1−メチル−4−ニトロ−3−ピラゾリルカ
ルボニル)−4,4,6−トリメチル−1,3−シクロ
ヘキサンジオン、 e、2−(1−メチル−4−ニトロ−3−ピラゾリルカ
ルボニル)−4,4,6,6−テトラメチル−1,3−
シクロヘキサンジオン、 f、4−(1−メチル−4−ニトロ−3−ピラゾリルカ
ルボニル)−2,2,6,6−テトラメチル−3,6−
ジヒドロ−2H−ピラン−3−オン、g、2−(4−ク
ロロ−2−ニトロベンゾイル)−4−フェニル−1,3
−シクロヘキサンジオン、h、2−(4−クロロ−2−
ニトロベンゾイル)−5−トリフルオロメチル−1,3
−シクロヘキサンジオン、 i、2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−4−
メチル−5−トリフルオロメチル−1,3−シクロヘキ
サンジオン、 j、2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−4,
4−ジメチル−5−トリフルオロメチル−1,3−シク
ロヘキサンジオン、 k、2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−4−
(2−フルオロフェニル−1,3−シクロヘキサンジオ
ン、 l、2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−4−
(4−フルオロフェニル−1,3−シクロヘキサンジオ
ン、 m、2−(2−クロロ−4−メチルスルホニルベンゾイ
ル)−5−トリフルオロメチル−1,3−シクロヘキサ
ンジオン、 n、2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾイル)−4,
6,6−トリメチル−4−シクロヘキセン−1,3−ジ
オン、 o、2−クロロ−2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾ
イル)−4,4,6,6−テトラメチル−1,3−シク
ロヘキサン−1,3−ジオン、 p、2−クロロ−2−(4−クロロ−2−ニトロベンゾ
イル)−4,4,6−トリメチル−1,3−シクロヘキ
サン−1,3−ジオン、 q、2−(3,5−ジクロロ−2−ピリジルカルボニル
)−1,3−シクロヘキサンジオン から選ばれる、請求項1記載の化合物。 - (28)RaがHである、遊離形態または塩形態の請求
項26記載の化合物。 - (29)遊離形態または塩形態である、請求項27記載
の化合物。 - (30)2−(1−メチル−4−ニトロ−3−ピラゾリ
ルカルボニル−3−(フェノキシカルボニルオキシ)−
2−シクロヘキセン−1−オン。 - (31)Raが、それと結合している酸素と一緒になっ
てエーテルまたはエステル部分を示す、請求項26記載
の化合物。 - (32)請求項1記載の式( I )で示される化合物の
製造方法であって、式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4およびA_2
は前記の意味) で示される化合物を、式(III) Y−CO−Hal(III) (式中、Yは前記の意味であり、Halはハロゲンであ
る) で示される化合物と反応させ、次いで、こうして得られ
た式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、Y、R_1、R_2、R_3、R_4およびA
_2は前記の意味) で示されるエステルの転位により、式( I b)▲数式
、化学式、表等があります▼( I b) [式中、Y、A_2、R_1、R_2、R_3およびR
_4は前記の意味であり、MはHまたは塩形成部分であ
る]で示される化合物を得、所望によりこうして得られ
た式( I b)の化合物をエーテル化、エステル化また
はハロゲン化することにより、対応する2−(Y−CO
)−2−エン−1−オン−3−オールエーテル、2−(
Y−CO)−2−エン−1−オン−3−オールエステル
または2−X_1−2−(YCO)−1,3−ジオン化
合物を得ることを含む方法。 - (33)請求項1〜31のいずれか1項による式( I
)の化合物を含む除草組成物。 - (34)請求項1〜31のいずれか1項による式( I
)で示される化合物の除草有効量を雑草またはそれらの
座に適用することを含む雑草との駆除方法。
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