JPH02134377A - ビペリジニルベンズイミダゾール類 - Google Patents
ビペリジニルベンズイミダゾール類Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
- C07D401/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P37/00—Drugs for immunological or allergic disorders
- A61P37/08—Antiallergic agents
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ピペリジニルベンズイミダゾール抗ヒスタミ
ン剤類に関する。本発明の更に別の面シまアレルギー病
を治療する方法に関する。本発明の別の面は上記ピペリ
ジニルベンズイミダゾール抗ヒスタミン剤の合成に有用
な中間体(こ関する。本発明の更に別の面はピペリジニ
ルベンズイミダゾール抗ヒスタミン剤の製造方法に関す
る。最j麦の本発明の面は上記ピペリジニルベンズイミ
ダゾール抗ヒスタミン剤を含有している製剤組成物ζこ
間する。
ン剤類に関する。本発明の更に別の面シまアレルギー病
を治療する方法に関する。本発明の別の面は上記ピペリ
ジニルベンズイミダゾール抗ヒスタミン剤の合成に有用
な中間体(こ関する。本発明の更に別の面はピペリジニ
ルベンズイミダゾール抗ヒスタミン剤の製造方法に関す
る。最j麦の本発明の面は上記ピペリジニルベンズイミ
ダゾール抗ヒスタミン剤を含有している製剤組成物ζこ
間する。
本発明に従って新しい類のピペリジニルベンズイミダゾ
ール抗ヒスタミン剤が発見され、これこえ次の式で記載
される。
ール抗ヒスタミン剤が発見され、これこえ次の式で記載
される。
■
ここで式中YはCO又はCHOHで表わされ、mは1〜
2の整数であり、RはC1−4アルキル、C1−4アル
コキシ、ハロゲン、ヒドロキシ及び水素を表わし、Xは
水素又はC00R2(ここでR2はC1−4アルキル)
又は式 のアルキレンフェニル基であり、ここてTはCHOH。
2の整数であり、RはC1−4アルキル、C1−4アル
コキシ、ハロゲン、ヒドロキシ及び水素を表わし、Xは
水素又はC00R2(ここでR2はC1−4アルキル)
又は式 のアルキレンフェニル基であり、ここてTはCHOH。
C010、又は直接結合を表わし、R1は自−4アルキ
ル、C1〜4アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、2゜
2−ジメチルエタン酸及び水素を表わし、nは1〜5の
整数である。また製薬上受は入れられるその酸付加塩も
含まれる。
ル、C1〜4アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、2゜
2−ジメチルエタン酸及び水素を表わし、nは1〜5の
整数である。また製薬上受は入れられるその酸付加塩も
含まれる。
式■の化合物はヒスタミン(■、)拮抗剤である。
式■に包含される化合物の幾つかはまた末梢セロトニン
5HT2拮抗剤である。式■の化合物はアレルギー病の
処置に有効である。本明細書で使用するa)ハロゲンと
いう用語はフッ素、塩素、又は臭素原子を指す。
5HT2拮抗剤である。式■の化合物はアレルギー病の
処置に有効である。本明細書で使用するa)ハロゲンと
いう用語はフッ素、塩素、又は臭素原子を指す。
b)Ct−4アルキルという用語は分枝鎖又は直鎖アル
キル基であって、1〜4個の炭素原子を含有するもの、
例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
ローブチル、イソブチル及びt−ブチルを指す。
キル基であって、1〜4個の炭素原子を含有するもの、
例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
ローブチル、イソブチル及びt−ブチルを指す。
c ) CI−、アルコキシという用語は1〜4個の炭
素原子を含有する直鎖又は分枝鎖アルコキシ基、例えば
メトキシ、エトキシ、ロープロポキシ、イソプロポキシ
、n−ブトキシ、イソブトキシ及びt−ブトキシを指す
。
素原子を含有する直鎖又は分枝鎖アルコキシ基、例えば
メトキシ、エトキシ、ロープロポキシ、イソプロポキシ
、n−ブトキシ、イソブトキシ及びt−ブトキシを指す
。
d)Coという用語は次の構造
C−
を有するカルボニル構造を指す。
e )CIIO++という用語はヒドロキシメチレン基
を指す。
を指す。
f)ヒドロキシという用語は次の置換基−011を指す
。
。
g)−C8+1.という用語はフェニル基を指す。
h)2.2−ジメチルエタン酸という用語は次の置換基
H3
を指す。
l)へロホルメートという用語はAがハロゲン原子でR
2が自−4アルキルである次の化合物を指す、即ち A−C−0−R2 を指す。
2が自−4アルキルである次の化合物を指す、即ち A−C−0−R2 を指す。
「製薬上受は入れられる酸付加塩」という表現は、式■
によって表わされる塩基化合物又は任意のその中間体の
任意の無毒の有機又は無機酸付加塩に適用する意図があ
る。適当な塩を形成する無機酸の例には塩酸、臭化水素
酸、硫酸及び燐酸及び酸金属塩、例えばオルト燐酸−水
素ナトリウム及び硫酸水素カリウムが含まれる。適当な
塩を形成する有機酸の例にはモノ、ジ及びトリカルボン
酸が含まれる。そのような酸の例は、例えば酢酸、グリ
コール酸、乳酸、ピルビン酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、
アスコルビン酸、マレイン酸、ヒドロキシマレイン酸、
安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、フェニル酢酸、桂皮酸
、サリチル酸、2−フェノキシ安息香酸、p−)ルエン
スルホン酸及びJ)ケタールという用語は次の置換基 スルホン酸、例えばメタンスルホン酸及び2−ヒドロキ
シェタンスルホン酸が含まれる。モノ又はジ酸塩のいず
れかが形成出来、そのような塩は水和又は実質的に無水
の形態で存在し得る。一般にこれらの化合物の酸付加塩
は水及び種々の親水性有機溶媒中で増加した溶解度を示
し、それらの遊離塩基形と比較して一般により高い融点
を示す。
によって表わされる塩基化合物又は任意のその中間体の
任意の無毒の有機又は無機酸付加塩に適用する意図があ
る。適当な塩を形成する無機酸の例には塩酸、臭化水素
酸、硫酸及び燐酸及び酸金属塩、例えばオルト燐酸−水
素ナトリウム及び硫酸水素カリウムが含まれる。適当な
塩を形成する有機酸の例にはモノ、ジ及びトリカルボン
酸が含まれる。そのような酸の例は、例えば酢酸、グリ
コール酸、乳酸、ピルビン酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、
アスコルビン酸、マレイン酸、ヒドロキシマレイン酸、
安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、フェニル酢酸、桂皮酸
、サリチル酸、2−フェノキシ安息香酸、p−)ルエン
スルホン酸及びJ)ケタールという用語は次の置換基 スルホン酸、例えばメタンスルホン酸及び2−ヒドロキ
シェタンスルホン酸が含まれる。モノ又はジ酸塩のいず
れかが形成出来、そのような塩は水和又は実質的に無水
の形態で存在し得る。一般にこれらの化合物の酸付加塩
は水及び種々の親水性有機溶媒中で増加した溶解度を示
し、それらの遊離塩基形と比較して一般により高い融点
を示す。
式■の化合物の幾つかは不斉中心を含有する。
本明細書で式Iによって表わされる化合物の一つを言及
しているときは、特定の光学異性体又はエナンシオマー
又はジアステレオマーの混合物を包含することを意味す
る。特定の光学異性体は分離することが出来、不斉固定
相上でのクロマトグラフィー又は不斉塩形成による分割
とその後の選択的結晶化による分離なとのこの技術で知
られた方法によって分離回収できる。
しているときは、特定の光学異性体又はエナンシオマー
又はジアステレオマーの混合物を包含することを意味す
る。特定の光学異性体は分離することが出来、不斉固定
相上でのクロマトグラフィー又は不斉塩形成による分割
とその後の選択的結晶化による分離なとのこの技術で知
られた方法によって分離回収できる。
Rが水素以外の式Iの化合物に於いて3つまでのそのよ
うな置換基が同じフェニル環状で起、こり得る。これら
の置換基は同じか又は異なるものであり得る。これらの
置換基はオルソ、メタ、又はバラ位置の任意の場所で(
α置できる。R1が水素又はt−ブチル基以外の化合物
に於いて同じフェニル環状に3つまでの置換基が生じ得
る。これらの置換基は同じか異なるものであり得、オル
ソ、メタ、又はバラ位置の任意の場所にあり得る。もし
R1がt−ブチル基又はその誘導体であるならば、示さ
れたフェニル環状に一つのみのそのような置換基が表わ
されるべきであり、バラ位置に位置すべきである。
うな置換基が同じフェニル環状で起、こり得る。これら
の置換基は同じか又は異なるものであり得る。これらの
置換基はオルソ、メタ、又はバラ位置の任意の場所で(
α置できる。R1が水素又はt−ブチル基以外の化合物
に於いて同じフェニル環状に3つまでの置換基が生じ得
る。これらの置換基は同じか異なるものであり得、オル
ソ、メタ、又はバラ位置の任意の場所にあり得る。もし
R1がt−ブチル基又はその誘導体であるならば、示さ
れたフェニル環状に一つのみのそのような置換基が表わ
されるべきであり、バラ位置に位置すべきである。
好ましい化合物はYがC01mが1及びRがバラハロゲ
ン、より好ましくは)・ン素であるものが含まれる。Y
がアルキレンフェニル誘導体より表わされる化合物に於
いて、Tが直接結合で、nがIてR1がパラアルコキシ
基であるのが好ましい。
ン、より好ましくは)・ン素であるものが含まれる。Y
がアルキレンフェニル誘導体より表わされる化合物に於
いて、Tが直接結合で、nがIてR1がパラアルコキシ
基であるのが好ましい。
式lによって包含される化合物の代表例にはa)I−[
(4−フルオロフェニル)メチル]−1N−ベンズイミ
ダゾール−2−イル][+−[2−(4−メトキシフェ
ニル)エチルツー4−ピペリジニル]メタノン、b )
I−[(4−フルオロフェニル)メチルコーα−[1
−[2−(4−メトキシフェニル)エチルコー4−ピペ
リジニル]−1■−ベンズイミダゾール−2−メタノー
ル、c ) a−[1−[4−[411,1−ジメチル
エチル)フェニル]−4−ヒドロキシブチル]−4−ピ
ペリジニル]−1[(4−フルオロフェニル)メチル]
−1■−ヘンズイミダゾール−2−メタノール、 d ) I−[4−(1,1−ジメチルエチル)フェニ
ル]−4−[4−[[+−[(4−フルオロフェニル)
メチル]−111−ベンズイミダゾール−2−イル]カ
ルボニル]−1−ピペリジニル]−1−ブタノン、及び e ) [+−[(4−フルオロフェニル)メチル]−
1日−ペンズイミダゾール−2−イル]−4−ピペリジ
ニルメタノン が含まれる。
(4−フルオロフェニル)メチル]−1N−ベンズイミ
ダゾール−2−イル][+−[2−(4−メトキシフェ
ニル)エチルツー4−ピペリジニル]メタノン、b )
I−[(4−フルオロフェニル)メチルコーα−[1
−[2−(4−メトキシフェニル)エチルコー4−ピペ
リジニル]−1■−ベンズイミダゾール−2−メタノー
ル、c ) a−[1−[4−[411,1−ジメチル
エチル)フェニル]−4−ヒドロキシブチル]−4−ピ
ペリジニル]−1[(4−フルオロフェニル)メチル]
−1■−ヘンズイミダゾール−2−メタノール、 d ) I−[4−(1,1−ジメチルエチル)フェニ
ル]−4−[4−[[+−[(4−フルオロフェニル)
メチル]−111−ベンズイミダゾール−2−イル]カ
ルボニル]−1−ピペリジニル]−1−ブタノン、及び e ) [+−[(4−フルオロフェニル)メチル]−
1日−ペンズイミダゾール−2−イル]−4−ピペリジ
ニルメタノン が含まれる。
Yがカルボニル基(CO)より表わされ、XがCOOR
2又はTが0か又は直接結合を表わす式■によって記載
されろアルキレンフェニル誘導体を表わす式■の化合物
は、弐mによって記載されるピペリジニル誘導体と式■
によって記載されるベンズイミダゾール誘導体の間のア
シル化反応を実施することによって造ることが出来る。
2又はTが0か又は直接結合を表わす式■によって記載
されろアルキレンフェニル誘導体を表わす式■の化合物
は、弐mによって記載されるピペリジニル誘導体と式■
によって記載されるベンズイミダゾール誘導体の間のア
シル化反応を実施することによって造ることが出来る。
弐■
弐■
弐■に於いてEはC1−4アルキルを表わし、XはCO
OR2か又はTが0又は直接結合である式■によって記
載されるアルキレン誘導体である。弐■に於いてR及び
mは式Iに定義の通りである。
OR2か又はTが0又は直接結合である式■によって記
載されるアルキレン誘導体である。弐■に於いてR及び
mは式Iに定義の通りである。
当業者に明らかなように弐■のピペリジニル誘導体中の
非反応性置換基及び弐■のベンズイミダゾール誘導体が
最終生成物に表わされるものと対応するのが好ましい。
非反応性置換基及び弐■のベンズイミダゾール誘導体が
最終生成物に表わされるものと対応するのが好ましい。
例えば所望のピペリジニルベンズイミダゾールが[+−
[(4−フルオロフェニル)メチル]−01−ベンズイ
ミダゾール−2−イルコ[i(:2−(4−メトキシフ
ェニル)エチル]−4−ピペリジニル]メタノンである
ときは、l−[(4−フルオロフェニル)メチル]−1
H−ベンズイミダゾールが1−[2−(4−メトキシフ
ェニル)エチル]−4−ピペリジンカルボン酸、メチル
エステルと反応されるべきである。
[(4−フルオロフェニル)メチル]−01−ベンズイ
ミダゾール−2−イルコ[i(:2−(4−メトキシフ
ェニル)エチル]−4−ピペリジニル]メタノンである
ときは、l−[(4−フルオロフェニル)メチル]−1
H−ベンズイミダゾールが1−[2−(4−メトキシフ
ェニル)エチル]−4−ピペリジンカルボン酸、メチル
エステルと反応されるべきである。
弐■のベンズイミダゾール誘導体と弐■のピペリジニル
誘導体の間のアシル化反応は、次の方法で実施される。
誘導体の間のアシル化反応は、次の方法で実施される。
典型的に式■のベンズイミダゾール誘導体の溶液を有機
リチウム化合物、例えばローブチルリチウムと約5分〜
約30分、より好ましくは約15分の範囲の期間、約−
90℃から約−50℃の範囲の温度、より好ましくは約
−78℃で接触する。有機リチウム化合物は、使用され
るベンズイミダゾール誘導体の各モルに対し約1.0〜
約1.1当量の量で存在し、より好ましくはベンズイミ
ダゾール誘導体とおよそ等モル量で存在する。反応は典
型的には有1a溶媒、例えばテトラヒドロフラン中で実
施される。
リチウム化合物、例えばローブチルリチウムと約5分〜
約30分、より好ましくは約15分の範囲の期間、約−
90℃から約−50℃の範囲の温度、より好ましくは約
−78℃で接触する。有機リチウム化合物は、使用され
るベンズイミダゾール誘導体の各モルに対し約1.0〜
約1.1当量の量で存在し、より好ましくはベンズイミ
ダゾール誘導体とおよそ等モル量で存在する。反応は典
型的には有1a溶媒、例えばテトラヒドロフラン中で実
施される。
弐■のピペリジニル誘導体は、次に反応媒体に加えられ
、反応媒体は約−78℃から約θ℃に温められる。ピペ
リジニル誘導体及びベンズイミダゾール誘導体は好まし
くは反応帯域中におよそ等モル量で存在する。いずれか
の反応体のわずかな過剰は反応に対し悪影響を与えない
。反応は約20分〜約5時間の範囲の期間、より好まし
くは約30分間道行させられる。反応を次にプロトン源
、例えば飽和塩化アンモニウム水溶液又はメタノールで
停止させる。
、反応媒体は約−78℃から約θ℃に温められる。ピペ
リジニル誘導体及びベンズイミダゾール誘導体は好まし
くは反応帯域中におよそ等モル量で存在する。いずれか
の反応体のわずかな過剰は反応に対し悪影響を与えない
。反応は約20分〜約5時間の範囲の期間、より好まし
くは約30分間道行させられる。反応を次にプロトン源
、例えば飽和塩化アンモニウム水溶液又はメタノールで
停止させる。
式■のピペリジニルベンズイミダゾール誘導体はこの技
術で知られた方法に従って例えば水の添加の後酢酸エチ
ルでの抽出によって反応帯域から回収できる。所望のピ
ペリジニルベンズイミダゾールは有機相に位置する。有
機相は典型的には乾燥され慣用の技術を用いて更に精製
する前に乾燥され濃縮される。
術で知られた方法に従って例えば水の添加の後酢酸エチ
ルでの抽出によって反応帯域から回収できる。所望のピ
ペリジニルベンズイミダゾールは有機相に位置する。有
機相は典型的には乾燥され慣用の技術を用いて更に精製
する前に乾燥され濃縮される。
ピペリジニルベンズイミダゾールはこの技術で知られた
方法により精製できる。例えば、適した技術の一つは上
で得られた凛縮物を酢酸エチルなどの有機溶媒な溶離剤
として用いるフラッシュクロマトグラフィーにかけるこ
とである。溶出物は蒸発され、生じる生成物は適当な溶
媒、例えばシクロヘキサンから再結晶することが出来る
。他の適当な溶媒系は当業者に明らかである。
方法により精製できる。例えば、適した技術の一つは上
で得られた凛縮物を酢酸エチルなどの有機溶媒な溶離剤
として用いるフラッシュクロマトグラフィーにかけるこ
とである。溶出物は蒸発され、生じる生成物は適当な溶
媒、例えばシクロヘキサンから再結晶することが出来る
。他の適当な溶媒系は当業者に明らかである。
XがTが0又は直接結合であるアルキレンフェニル誘導
体を表わす式mのピペリジニル誘導体は、次の方法で製
造されろ。式Vによって記載されるピペリジニル誘導体
は、式■によって記載されるアルキレンフェニル誘導体
てN−アルキル化される。
体を表わす式mのピペリジニル誘導体は、次の方法で製
造されろ。式Vによって記載されるピペリジニル誘導体
は、式■によって記載されるアルキレンフェニル誘導体
てN−アルキル化される。
式■
式中EはC7−4アルキルを表わし、Aはハロゲン原子
を表わし、Tは0又は直接結合を表わし、R1及びnは
式■で定義した通りである。
を表わし、Tは0又は直接結合を表わし、R1及びnは
式■で定義した通りである。
当業者に明らかなように式Vのピペリジニル誘導体及び
式■のアルキレンフェニル誘導体中に現われる非反応性
の置換基が最終生成物に現われるものと対応するのが好
ましい。例えば弐■の所望のピペリジニル中間体が1−
[2−(4−メトキシフェニル)エチル]−4−ピペリ
ジンカルボン酸、メチルエステルであるときは適当な反
応体はイソニペコチン酸メチルエステル及び1−(2−
へロエチル)−4−メトキシベンゼンである。
式■のアルキレンフェニル誘導体中に現われる非反応性
の置換基が最終生成物に現われるものと対応するのが好
ましい。例えば弐■の所望のピペリジニル中間体が1−
[2−(4−メトキシフェニル)エチル]−4−ピペリ
ジンカルボン酸、メチルエステルであるときは適当な反
応体はイソニペコチン酸メチルエステル及び1−(2−
へロエチル)−4−メトキシベンゼンである。
N−アルキル化反応はこの技術で知られた方法に従って
達成できる。このN−アルキル化反応は典型的には塩基
、例えばに2C03、Na2CO3、Na2CO3、又
はKHCO3などの塩基の存在下で実施される。典型的
には塩基は使用されるピペリジニル誘導体の各モルに対
し約1当量〜約3当量の量で反応帯域中に存在する。
達成できる。このN−アルキル化反応は典型的には塩基
、例えばに2C03、Na2CO3、Na2CO3、又
はKHCO3などの塩基の存在下で実施される。典型的
には塩基は使用されるピペリジニル誘導体の各モルに対
し約1当量〜約3当量の量で反応帯域中に存在する。
式■のピペリジニル誘導体及び式■のアルキレンフェニ
ル誘導体が反応帯域中におよそ等モル量で存在するのが
好ましい。いずれかの反応体の中程度の過剰は反応に悪
影響しない。また、反応が高温で実施されるのが好まし
い。典型的には反応体は約り0℃〜約100℃の範囲の
温度で約30分〜約48時間の範囲の期間−緒に攪拌さ
れる。反応はまた典型的には有機溶媒、例えばジメチル
ホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド
、ベンゼン及びトルエン中で実施される。
ル誘導体が反応帯域中におよそ等モル量で存在するのが
好ましい。いずれかの反応体の中程度の過剰は反応に悪
影響しない。また、反応が高温で実施されるのが好まし
い。典型的には反応体は約り0℃〜約100℃の範囲の
温度で約30分〜約48時間の範囲の期間−緒に攪拌さ
れる。反応はまた典型的には有機溶媒、例えばジメチル
ホルムアミド、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド
、ベンゼン及びトルエン中で実施される。
式■のピペリジニル誘導体はこの技術で知られた方法に
従って回収、精製できる。例えば水の添加の後、ピペリ
ジニル誘導体は有機溶媒での抽出によって回収できる。
従って回収、精製できる。例えば水の添加の後、ピペリ
ジニル誘導体は有機溶媒での抽出によって回収できる。
所望のピペリジニル化合物は有機相に位置する。ピペリ
ジニル化合物は有機溶媒、例えば酢酸エチル又はアセト
ンを溶離剤として用いるフラッシュクロマトグラフィー
によって精製出来、続いて溶媒系、例えばシクロヘキサ
ンから再結晶される。他の適当な精製技術は当業者に明
らかである。
ジニル化合物は有機溶媒、例えば酢酸エチル又はアセト
ンを溶離剤として用いるフラッシュクロマトグラフィー
によって精製出来、続いて溶媒系、例えばシクロヘキサ
ンから再結晶される。他の適当な精製技術は当業者に明
らかである。
XがCOOR2である式■のピペリジニル誘導体の幾つ
かは、この技術で知られている。これらの化合物、並び
にこの技術で知られていないものはこの技術で良く知ら
れた方法を用いて製造できる。
かは、この技術で知られている。これらの化合物、並び
にこの技術で知られていないものはこの技術で良く知ら
れた方法を用いて製造できる。
例えば、式■のピペリジニル誘導体はに2C03、K1
1C03、Na2CO3、Na2CO3、又はトリエチ
ルアミンなどの塩基の存在下でフルキルハロホルメート
と反応させる。典型的には反応体は約30から約48時
間の範囲の期間、約0℃から約100℃の範囲の温度で
一緒に撹拌される。アルキルハロホルメート中に現われ
る非反応性置喚基が生成物に現われるものと対応するの
が好ましい。ピペリジニル誘導体は水で処理し、そして
この技術で知られているような有機溶媒で抽出すること
によって反応帯域から回収できる。これは適当な溶媒系
からの再結晶又は蒸留なとのこの技術で知られた方法に
よって精製できる。
1C03、Na2CO3、Na2CO3、又はトリエチ
ルアミンなどの塩基の存在下でフルキルハロホルメート
と反応させる。典型的には反応体は約30から約48時
間の範囲の期間、約0℃から約100℃の範囲の温度で
一緒に撹拌される。アルキルハロホルメート中に現われ
る非反応性置喚基が生成物に現われるものと対応するの
が好ましい。ピペリジニル誘導体は水で処理し、そして
この技術で知られているような有機溶媒で抽出すること
によって反応帯域から回収できる。これは適当な溶媒系
からの再結晶又は蒸留なとのこの技術で知られた方法に
よって精製できる。
式■のベンズイミダゾール誘導体は、この技術で知られ
た方法に従って造ることが出来る。出発物質は式■で記
載されるベンズイミダゾール及び式■で記載されるアル
キレンフェニル誘導体である。
た方法に従って造ることが出来る。出発物質は式■で記
載されるベンズイミダゾール及び式■で記載されるアル
キレンフェニル誘導体である。
口
式■ 式■
式中用及びRは式lに定義の通りであり、Aはハロゲン
原子である。
原子である。
式■のベンズイミダゾール誘導体は式■のベンズイミダ
ゾールを式■のフェニル誘導体でN−アルキル化するこ
とによって造られる。このN−アルキル化はこの技術で
知られた方法及び反応条件を用いて実施できる。
ゾールを式■のフェニル誘導体でN−アルキル化するこ
とによって造られる。このN−アルキル化はこの技術で
知られた方法及び反応条件を用いて実施できる。
典型的にはベンズイミダゾール誘導体は水素化アルカリ
金属、例えば水素化ナトリウムと室温で接触される。こ
れらは約10分〜約1時間の範囲の期間攪拌される。こ
の時点でフェニル誘導体が加えられ、反応体は約30分
〜約48時間の範囲の期間室温で攪拌される。典型的に
はジメチルホルムアミドなどの溶媒が用いられる。ベン
ズイミダゾール誘導体及びフェニル誘導体は典型的には
およそ等モル量で存在するが、いずれかの反応体のわず
かな過剰は許され得る。水素化アルカリ金属は一般にお
よそlOモル%過刺で存在する。
金属、例えば水素化ナトリウムと室温で接触される。こ
れらは約10分〜約1時間の範囲の期間攪拌される。こ
の時点でフェニル誘導体が加えられ、反応体は約30分
〜約48時間の範囲の期間室温で攪拌される。典型的に
はジメチルホルムアミドなどの溶媒が用いられる。ベン
ズイミダゾール誘導体及びフェニル誘導体は典型的には
およそ等モル量で存在するが、いずれかの反応体のわず
かな過剰は許され得る。水素化アルカリ金属は一般にお
よそlOモル%過刺で存在する。
式■のベンズイミダゾール誘導体は前のN−アルキル化
反応中の式■のピペリジニル誘導体について記載された
のと類似の方法によって回収できる。
反応中の式■のピペリジニル誘導体について記載された
のと類似の方法によって回収できる。
生じる凛縮物は蒸留又は再結晶なとの通常の精製技術に
よって精製できる。
よって精製できる。
YがCOを表わし、Xが水素か、又はTがカルボニル基
(CO) 、O又は直接結合である式■のアルキレンフ
ェニル誘導体かのいずれかを表わす式■のピペリジニル
ベンズイミダゾール誘導体は次の多段階技術に従って製
造できる。
(CO) 、O又は直接結合である式■のアルキレンフ
ェニル誘導体かのいずれかを表わす式■のピペリジニル
ベンズイミダゾール誘導体は次の多段階技術に従って製
造できる。
第一の段階は式■の前に記載したベンズイミダゾール誘
導体を下の式■によって記載されるピペリジニル誘導体
でアルキル化することである。
導体を下の式■によって記載されるピペリジニル誘導体
でアルキル化することである。
式中2はアミノ保護基、例えばt−ブトキイカルボニル
基(t−Boc)であり、kは自−4アルキルである。
基(t−Boc)であり、kは自−4アルキルである。
このことによって式Xによって記載されるピペリジニル
ベンズイミダゾール生成物が生じる。
ベンズイミダゾール生成物が生じる。
式X
式中Yはカルボニル基により表わされ、2はアミノ保護
基であり、m及びRは式■で定義した通りである。
基であり、m及びRは式■で定義した通りである。
このアルキル化は弐■のピペリジニル誘導体と前に記載
した式■のベンズイミダゾール誘導体の間のアルキル化
反応と類似的に実施される。式Xの中間体も回収出来、
上に記載した式■のピペリジニルベンズイミダゾール誘
導体の回収及び精製に於いて使用したのと類似の技術を
用いて回収及び精製される。
した式■のベンズイミダゾール誘導体の間のアルキル化
反応と類似的に実施される。式Xの中間体も回収出来、
上に記載した式■のピペリジニルベンズイミダゾール誘
導体の回収及び精製に於いて使用したのと類似の技術を
用いて回収及び精製される。
Xが水素を表わす式Iのピペリジニルベンズイミダゾー
ル誘導体は、次に式Xのピペリジニルベンズイミダゾー
ル中間体から7ミノ保護基Zを単に除去することによっ
て造られる。これはこの技術で知られた方法を用いて達
成できる。例えば、アミノ保護基がt−Boc置換基で
あるときはトリフルオロ酢酸などの酸で加水分解するこ
とによって除去できる。
ル誘導体は、次に式Xのピペリジニルベンズイミダゾー
ル中間体から7ミノ保護基Zを単に除去することによっ
て造られる。これはこの技術で知られた方法を用いて達
成できる。例えば、アミノ保護基がt−Boc置換基で
あるときはトリフルオロ酢酸などの酸で加水分解するこ
とによって除去できる。
Xが、TがC010、又は直接結合であるアルキレンフ
ェニル誘導体である式■のピペリジニルベンズイミダゾ
ール誘導体は、次の方法で造られ得る。最初にアミノ(
呆謹基Zが上に述べられた方法で除去される。式Xの脱
保護中間体であって、Zが水素を表わすものが、次にT
がCOl並びにO又は直接結合を表わし得ることを除い
て式■により前に記載されたようなアルキレンフェニル
誘導体でN−アルキル化される。
ェニル誘導体である式■のピペリジニルベンズイミダゾ
ール誘導体は、次の方法で造られ得る。最初にアミノ(
呆謹基Zが上に述べられた方法で除去される。式Xの脱
保護中間体であって、Zが水素を表わすものが、次にT
がCOl並びにO又は直接結合を表わし得ることを除い
て式■により前に記載されたようなアルキレンフェニル
誘導体でN−アルキル化される。
このN−アルキル化は式■のピペリジニル誘導体と上に
記載した式■のアルキレンフェニル誘導体の間のN−ア
ルキル化と類似の方法で実施される。
記載した式■のアルキレンフェニル誘導体の間のN−ア
ルキル化と類似の方法で実施される。
ピペリジニルベンズイミダゾール生成物は、式■の化合
物の回収及び精製について前に記載した同じ手順を用い
て回収及び精製できる。
物の回収及び精製について前に記載した同じ手順を用い
て回収及び精製できる。
弐■及び■の化合物を用いて議論した合成方法の場合の
様に、出発物質中に現われる非反応性の置換基は最終生
成物に現われるものと相同であるのが好ましい。
様に、出発物質中に現われる非反応性の置換基は最終生
成物に現われるものと相同であるのが好ましい。
例えば[1−[(4−フルオロフェニル)メチル]−1
卜ベンズイミダゾール−2−イル]CI−[2−(4−
メトキシフェニル)エチルツー4−ピペリジニル]メタ
ノンをこの方法を用いて造るためにi[:(4−フルオ
ロフェニル)メチル]−II−ベンズイミダゾールを1
−(1,1−ジメチルエチル)−1,4−ピペリジンジ
カルボン酸、4−エチルエステルと反応させて、それに
よって式Xのピペリジニルベンズイミダゾール中間体、
即ち4−[[1−[(4−フルオロフェニル)メチル]
−1日・ベンズイミダゾール−2−イル]カルボニル]
−1−ピペリジンカルボン酸、1.l−ジメチルエチル
エステルを生じる。アミノ保護基を除去した後、この中
間体を次に1−(2−ブロモエチル)−4−メトキシベ
ンゼンと反応させ、それによって[i[(4−フルオロ
フェニル)メチル]−18−ベンズイミダゾール−2−
イル][1−[2−(4−メトキシフェニル)エチル]
−4−ピベリジニルコメタノンを生しる。
卜ベンズイミダゾール−2−イル]CI−[2−(4−
メトキシフェニル)エチルツー4−ピペリジニル]メタ
ノンをこの方法を用いて造るためにi[:(4−フルオ
ロフェニル)メチル]−II−ベンズイミダゾールを1
−(1,1−ジメチルエチル)−1,4−ピペリジンジ
カルボン酸、4−エチルエステルと反応させて、それに
よって式Xのピペリジニルベンズイミダゾール中間体、
即ち4−[[1−[(4−フルオロフェニル)メチル]
−1日・ベンズイミダゾール−2−イル]カルボニル]
−1−ピペリジンカルボン酸、1.l−ジメチルエチル
エステルを生じる。アミノ保護基を除去した後、この中
間体を次に1−(2−ブロモエチル)−4−メトキシベ
ンゼンと反応させ、それによって[i[(4−フルオロ
フェニル)メチル]−18−ベンズイミダゾール−2−
イル][1−[2−(4−メトキシフェニル)エチル]
−4−ピベリジニルコメタノンを生しる。
式■のピペリジニル誘導体を製造する方法は、この技術
で知られている。アミン保護基を式■の前に記載したピ
ペリジニル誘導体に加える。例えばもし2がt−ブトキ
シカルボニル置換基(t−Boc)であるときは、これ
はイソニペコチン酸アルキルエステルをジ−t−ブチル
ジカーボネートと塩基の存在下で接触させることによっ
て製造できる。典型的には塩基と反応体はおよそ等モル
量で存在する。式■のピペリジニル誘導体はこの技術で
知られた方法、例えば抽出及び蒸留又は再結晶によって
回収、精製できる。弐■のベンズイミダゾール誘導体を
製造する方法は前に記載した。式■のアルキレンフェニ
ル誘導体並びにその製造方法はこの技術で知られている
。
で知られている。アミン保護基を式■の前に記載したピ
ペリジニル誘導体に加える。例えばもし2がt−ブトキ
シカルボニル置換基(t−Boc)であるときは、これ
はイソニペコチン酸アルキルエステルをジ−t−ブチル
ジカーボネートと塩基の存在下で接触させることによっ
て製造できる。典型的には塩基と反応体はおよそ等モル
量で存在する。式■のピペリジニル誘導体はこの技術で
知られた方法、例えば抽出及び蒸留又は再結晶によって
回収、精製できる。弐■のベンズイミダゾール誘導体を
製造する方法は前に記載した。式■のアルキレンフェニ
ル誘導体並びにその製造方法はこの技術で知られている
。
Yがヒドロキシメチレン基を表わし、Xが水素、COO
R2、又はTが0、又は直接結合であるアルキレンフェ
ニル誘導体を表わす式■のピペリジニル誘導体は次の方
法で製造される。
R2、又はTが0、又は直接結合であるアルキレンフェ
ニル誘導体を表わす式■のピペリジニル誘導体は次の方
法で製造される。
最初に式Iによって記載されるピペリジニルベンズイミ
ダゾール誘導体は、所望化合物に依存してYがカルボニ
ル基モしてXが上に定義されたものであるように造られ
るべきである。これは上に記載した方法を用いて達成で
きる。
ダゾール誘導体は、所望化合物に依存してYがカルボニ
ル基モしてXが上に定義されたものであるように造られ
るべきである。これは上に記載した方法を用いて達成で
きる。
このピペリジニルベンズイミダゾール誘導体を次に還元
反応にかけ、これによってカルボニル基はヒドロキシメ
チレン基に変えられる。当業者に明らかなようにこのピ
ペリジニルベンズイミダゾール誘導体中に現われる非反
応性置換基が所望の最終生成物に現われるものと対応す
るのが好ましい。例えば、もし所望の化合物が1−[(
4−フルオロフェニル)メチル]−α−[+−[2−(
4−メトキシフェニル)エチル]−4−ピペリジニル・
1日−ペンズイミダゾール−2−メタノールであるとき
はEl−1(4−フルオロフェニル)メチル]−+n−
ベンズイミダゾール−2−イル][:1−[2−(4−
メトキシフェニル)エチル]〜4−ピペリジニル]−メ
タノンが上に記載した方法を用いて造られる。この化合
物を次に還元し、それによって所望のヒドロキシメチレ
ン化合物を生じる。
反応にかけ、これによってカルボニル基はヒドロキシメ
チレン基に変えられる。当業者に明らかなようにこのピ
ペリジニルベンズイミダゾール誘導体中に現われる非反
応性置換基が所望の最終生成物に現われるものと対応す
るのが好ましい。例えば、もし所望の化合物が1−[(
4−フルオロフェニル)メチル]−α−[+−[2−(
4−メトキシフェニル)エチル]−4−ピペリジニル・
1日−ペンズイミダゾール−2−メタノールであるとき
はEl−1(4−フルオロフェニル)メチル]−+n−
ベンズイミダゾール−2−イル][:1−[2−(4−
メトキシフェニル)エチル]〜4−ピペリジニル]−メ
タノンが上に記載した方法を用いて造られる。この化合
物を次に還元し、それによって所望のヒドロキシメチレ
ン化合物を生じる。
この還元反応はこの技術で知られた方法を用いて達成で
きる。典型的にはカルボニル含有ベンズイミダゾールを
アルコールの存在下で水素化ホウ素ナトリウム又はカリ
ウムと接触させる。還元剤は一般に存在するピペリジニ
ルベンズイミダゾールの量に基づいて約1〜約4当量の
量で、そしてより好ましくは1〜2当酸で存在する。還
元は室温から溶媒の還流温度、より好ましくは室温で実
施される。
きる。典型的にはカルボニル含有ベンズイミダゾールを
アルコールの存在下で水素化ホウ素ナトリウム又はカリ
ウムと接触させる。還元剤は一般に存在するピペリジニ
ルベンズイミダゾールの量に基づいて約1〜約4当量の
量で、そしてより好ましくは1〜2当酸で存在する。還
元は室温から溶媒の還流温度、より好ましくは室温で実
施される。
この還元されたピペリジニルベンズイミダゾールは、式
Iの化合物に前に記載したのと類似の技術を用いて回収
及びv#製できる。
Iの化合物に前に記載したのと類似の技術を用いて回収
及びv#製できる。
別の方法として還元はこの技術で知られた技術に従って
プラチナ、ルテニウムなとの触媒を用いて水素添加によ
って実施できる。
プラチナ、ルテニウムなとの触媒を用いて水素添加によ
って実施できる。
Yがヒドロキシメチレン基で、XがTがカルボニル基、
並びに0又は直接結合であるアルキレンフェニル基であ
る式Iのピペリジニルベンズイミダゾール誘導体は、次
の方法で造られ得る。
並びに0又は直接結合であるアルキレンフェニル基であ
る式Iのピペリジニルベンズイミダゾール誘導体は、次
の方法で造られ得る。
最初に式Iのピペリジニルベンズイミダゾール誘導体が
、Yがカルボニル基、Xが水素、そして非反応性の置換
基が最終生成物に現われるものと類似のものであるよう
に造られるべきである。これは上に記載した方法で達成
できる。
、Yがカルボニル基、Xが水素、そして非反応性の置換
基が最終生成物に現われるものと類似のものであるよう
に造られるべきである。これは上に記載した方法で達成
できる。
この誘導体を次に上に述べた方法で還元反応にかける。
式Xの中間体について上に記載した方法によって回収及
び精製した後、還元されたピペリジニルベンズイミダゾ
ール誘導体を次にTがC01q又は直接結合によって表
わされ、そして非反応性の置換基が最終生成物に現われ
るものと類似のものである式■に定義されたアルキレン
フェニル誘導体とのN−アルキル化反応にかけられる。
び精製した後、還元されたピペリジニルベンズイミダゾ
ール誘導体を次にTがC01q又は直接結合によって表
わされ、そして非反応性の置換基が最終生成物に現われ
るものと類似のものである式■に定義されたアルキレン
フェニル誘導体とのN−アルキル化反応にかけられる。
このN−アルキル化反応は式Vのピペリジニル誘導体と
前に記載した式■のアルキレンフェニル誘導体の間のN
−アルキル化反応と類似の方法で達成出来る。
前に記載した式■のアルキレンフェニル誘導体の間のN
−アルキル化反応と類似の方法で達成出来る。
Xがアルキレンフェニル誘導体でYとTがヒドロキシメ
チレン基を表わす式Iのピペリジニルベンズイミダゾー
ル誘導体は次の方法で製造できる。
チレン基を表わす式Iのピペリジニルベンズイミダゾー
ル誘導体は次の方法で製造できる。
最初に式Iのピペリジニルベンズイミダゾール誘導体を
Y及びTが両方ともカルボニル基であるように、そして
分子の残りが構造的に所望化合物と類似するように造ら
れる。この化合物を次に上に記載したように還元し、そ
れによって所望のピペリジニルベンズイミダゾールを生
じる。還元されたピペリジニルベンズイミダソール生成
物を次に式■の他の化合物について上に述べた方法によ
って回収及び精製できる。
Y及びTが両方ともカルボニル基であるように、そして
分子の残りが構造的に所望化合物と類似するように造ら
れる。この化合物を次に上に記載したように還元し、そ
れによって所望のピペリジニルベンズイミダゾールを生
じる。還元されたピペリジニルベンズイミダソール生成
物を次に式■の他の化合物について上に述べた方法によ
って回収及び精製できる。
Yがカルボニル基でXがTがヒドロキシメチレン基であ
るアルキレンフェニル誘導体である式Iの化合物は次の
方法で造られる。
るアルキレンフェニル誘導体である式Iの化合物は次の
方法で造られる。
最初に式■によって記載されるアルキレンフェニル誘導
体をTがヒドロキシメチレン基であるように形成すべき
である。分子に現われる他の非反応性置換基は最終生成
物に現われるものと類似させるへきである。これはこの
技術で知られた方法を用いてなされ得る。
体をTがヒドロキシメチレン基であるように形成すべき
である。分子に現われる他の非反応性置換基は最終生成
物に現われるものと類似させるへきである。これはこの
技術で知られた方法を用いてなされ得る。
反応経路の次の段階は、アルキレンフェニル誘導体のヒ
ドロキシル基土に適当な保護基を置くことである。これ
はアルキレンフェニル誘導体を中程度モル過剰のシリル
化剤、例えばヘキサメチル、ジシラザン、トリメチルシ
リルクロライド、又はビス−トリメチルシリルトリフル
オロアセトアミドと接触させることによって達成できる
。反応は室温でこの技術で知られた方法を用いて実施さ
れる。この保護されたアルキレンフェニル誘導体は、こ
の技術で知られた方法によって回収及び精製できる。
ドロキシル基土に適当な保護基を置くことである。これ
はアルキレンフェニル誘導体を中程度モル過剰のシリル
化剤、例えばヘキサメチル、ジシラザン、トリメチルシ
リルクロライド、又はビス−トリメチルシリルトリフル
オロアセトアミドと接触させることによって達成できる
。反応は室温でこの技術で知られた方法を用いて実施さ
れる。この保護されたアルキレンフェニル誘導体は、こ
の技術で知られた方法によって回収及び精製できる。
N−アルキル化反応を次に保護されたアルキレンフェニ
ル誘導体とYがカルボニル基でXが水素そしてピペリジ
ニルベンズイミダゾール誘導体中に現われる非反応性置
換基が最終生成物に現われるものと類似のものである式
Iのピペリジニルベンズイミダゾール誘導体の間で実施
される。このN−アルキル化は式■のピペリジニル誘導
体と前に記載した式■のアルキレンフェニル誘導体の間
のN−アルキル化反応と類似の方法で達成できる。
ル誘導体とYがカルボニル基でXが水素そしてピペリジ
ニルベンズイミダゾール誘導体中に現われる非反応性置
換基が最終生成物に現われるものと類似のものである式
Iのピペリジニルベンズイミダゾール誘導体の間で実施
される。このN−アルキル化は式■のピペリジニル誘導
体と前に記載した式■のアルキレンフェニル誘導体の間
のN−アルキル化反応と類似の方法で達成できる。
式Iの所望化合物を次に示されたヒドロキシル官能基か
らシラン保護基を除去することによって造ることが出来
る。これはこの技術で知られた方法を用いて、例えば保
護されたピペリジニルベンズイミダゾール誘導体をフル
オライドイオンの源と接触させることによって達成でき
る。
らシラン保護基を除去することによって造ることが出来
る。これはこの技術で知られた方法を用いて、例えば保
護されたピペリジニルベンズイミダゾール誘導体をフル
オライドイオンの源と接触させることによって達成でき
る。
典型的には保護されたピペリジニルベンズイミダゾール
誘導体は、フルオライドイオンの有機源、例えばテトラ
ブチルアンモニウムフルオライド(Bu4N+F−)と
有機溶媒、例えばメタノールの存在下に0.5時間〜6
時間の範囲の期間、室温で接触される。所望のピペリジ
ニルベンズイミダゾール誘導体は、反応帯域に水を加え
た後、抽出し、そしてシクロヘキサンなどの溶媒系から
再結晶により精製して回収できる。
誘導体は、フルオライドイオンの有機源、例えばテトラ
ブチルアンモニウムフルオライド(Bu4N+F−)と
有機溶媒、例えばメタノールの存在下に0.5時間〜6
時間の範囲の期間、室温で接触される。所望のピペリジ
ニルベンズイミダゾール誘導体は、反応帯域に水を加え
た後、抽出し、そしてシクロヘキサンなどの溶媒系から
再結晶により精製して回収できる。
R1が2,2−ジメチルエタン酸である式Iの化合物を
製造するためには次の合成方法に従うべきである。
製造するためには次の合成方法に従うべきである。
まず式■によって記載されるピペリジニルベンズイミダ
ゾールはXが水素、YがCO又はCHOH(所望生成物
に依存)及び他の非反応性置換基が最終生成物に現われ
るものと類似のものであるように造られるべきである。
ゾールはXが水素、YがCO又はCHOH(所望生成物
に依存)及び他の非反応性置換基が最終生成物に現われ
るものと類似のものであるように造られるべきである。
ピペリジニルベンズイミダソールを次に以下の式XIに
よって記載されるアルキレンフェニル誘導体でN−アル
キル化する。
よって記載されるアルキレンフェニル誘導体でN−アル
キル化する。
式xr
式中Aはハロゲン原子を表わし、EはC1−4アルキル
を表わし、Tは式iに定義した通りか又はシラン保護さ
れたヒドロキシメチレン基であり、nは式■の通りであ
り、非反応性の置換基は最終生成物に現われるものと同
様である。このN−アルキル化反応は式■のピペリジニ
ル誘導体と式■のアルキレンフェニル誘導体について前
に記載したのと類似の方法で実施できる。
を表わし、Tは式iに定義した通りか又はシラン保護さ
れたヒドロキシメチレン基であり、nは式■の通りであ
り、非反応性の置換基は最終生成物に現われるものと同
様である。このN−アルキル化反応は式■のピペリジニ
ル誘導体と式■のアルキレンフェニル誘導体について前
に記載したのと類似の方法で実施できる。
このN−アルキル化反応は次の生成物を生じる。
バ
式中Y、n、m、及びRは式Iに定義の通りてあり、E
及びTは上に定義の通りである。この式によって包含さ
れる化合物を、次にY及びTが適当な置換基である生成
物を生じるために要求されるように上に概略を示した種
々の還元及び脱保護反応にかけることが出来る。これは
上に概略を示した方法によって行うことが出来る。これ
らの種々の反応体はC02Eによって表わされるアルキ
ルエステルの加水分解である合成の最終段階の前に完了
すべきである。
及びTは上に定義の通りである。この式によって包含さ
れる化合物を、次にY及びTが適当な置換基である生成
物を生じるために要求されるように上に概略を示した種
々の還元及び脱保護反応にかけることが出来る。これは
上に概略を示した方法によって行うことが出来る。これ
らの種々の反応体はC02Eによって表わされるアルキ
ルエステルの加水分解である合成の最終段階の前に完了
すべきである。
YとTが所望の基である化合物が得られたならば、求め
る生成物はこの化合物をエステル基を対応するカルボン
酸に加水分解する役目をするアルカリ加水分解反応にか
けることによって得ることが出来る。この加水分解はこ
の技術で知られた方法を用いて実施できる。典型的には
化合物は大過剰の塩基、例えば水酸化ナトリウムと水性
アルコール性溶媒の存在下で約20.℃〜約100℃の
範囲の温度で接触される。
る生成物はこの化合物をエステル基を対応するカルボン
酸に加水分解する役目をするアルカリ加水分解反応にか
けることによって得ることが出来る。この加水分解はこ
の技術で知られた方法を用いて実施できる。典型的には
化合物は大過剰の塩基、例えば水酸化ナトリウムと水性
アルコール性溶媒の存在下で約20.℃〜約100℃の
範囲の温度で接触される。
中性化の後、所望生成物は式■の化合物について上に述
べた方法によって回収及び精製できる。
べた方法によって回収及び精製できる。
YがCOであり、XがTがCOを表わすアルキレンフェ
ニル誘導体である式Iの化合物は、次の別の合成を経て
造ることも出来る。まずアルキル化反応を弐XIIIに
よって記載されるN−保護ベンズイミダソールと弐XI
Vによって記載されるピペリジニル誘導体の間で実施す
る。
ニル誘導体である式Iの化合物は、次の別の合成を経て
造ることも出来る。まずアルキル化反応を弐XIIIに
よって記載されるN−保護ベンズイミダソールと弐XI
Vによって記載されるピペリジニル誘導体の間で実施す
る。
式x■の保護されたベンズイミダソールに於いて、Pは
シラン保護基、例えば−CH2−0−(CH2)2−5
i−(CH3)3 (SEM基)を表わす。式XIVの
ピペリジニル誘導体に於いて、EはCl−4アルキルを
表わし、Bはケタール保護基を表わし、n及びR1は式
■に定義した通りである。
シラン保護基、例えば−CH2−0−(CH2)2−5
i−(CH3)3 (SEM基)を表わす。式XIVの
ピペリジニル誘導体に於いて、EはCl−4アルキルを
表わし、Bはケタール保護基を表わし、n及びR1は式
■に定義した通りである。
弐XIV
このアシル化反応は以下の式x■によって記載される中
間体を生じる。
間体を生じる。
P 式xv
式中P、n、B及びR1はすぐ上に定義した通りである
。
。
式x■の保護されたベンズイミダソール及び弐XIVの
ピペリジニル誘導体の間のアシル化は、式■のピペリジ
ニル誘導体と式■のベンズイミダゾール誘導体の間の上
に記載した反応と類似の方法で実施できる。式XVの生
成物は水を反応帯域に添加し、有機溶媒で抽出すること
によって回収できる。生成物は任意付加的にクロマトグ
ラフィー分離又は適当な溶媒系からの再結晶なとの技術
によって精製することが出来る。この技術で知られた他
の方法も使用できる。
ピペリジニル誘導体の間のアシル化は、式■のピペリジ
ニル誘導体と式■のベンズイミダゾール誘導体の間の上
に記載した反応と類似の方法で実施できる。式XVの生
成物は水を反応帯域に添加し、有機溶媒で抽出すること
によって回収できる。生成物は任意付加的にクロマトグ
ラフィー分離又は適当な溶媒系からの再結晶なとの技術
によって精製することが出来る。この技術で知られた他
の方法も使用できる。
反応の次の段階は式X■のベンズイミダゾールを加水分
解反応にかけ、それによってPがHてあり、BがCOで
ある化合物を生じることである。これは式XVの中間体
を塩酸なとの酸とO℃〜+00°Cの範囲の温度で0.
5時間〜6時間の範囲の期間接触させることによって達
成できる。
解反応にかけ、それによってPがHてあり、BがCOで
ある化合物を生じることである。これは式XVの中間体
を塩酸なとの酸とO℃〜+00°Cの範囲の温度で0.
5時間〜6時間の範囲の期間接触させることによって達
成できる。
式■の所望化合物を次に脱保護した式XVの中間体であ
って、Pが水素原子を表わすものを以下の式■で記載さ
れるフェニル誘導体とN−アルキル化することによって
形成することが出来る。
って、Pが水素原子を表わすものを以下の式■で記載さ
れるフェニル誘導体とN−アルキル化することによって
形成することが出来る。
!
式1佃
式中Aは水素原子を表わし、m及びRは式■に定義の通
りである。
りである。
このN−アルキル化は式■のベンズイミダゾールと式■
のフェニル誘導体の間の前に記載したN−アルキル化と
類似の方法で実施できる。式Iの所望化合物を次に式I
の化合物を回収及び精製するについて池の合成手順に於
いて上に記載した方法を用いて回収及び精製することが
出来る。
のフェニル誘導体の間の前に記載したN−アルキル化と
類似の方法で実施できる。式Iの所望化合物を次に式I
の化合物を回収及び精製するについて池の合成手順に於
いて上に記載した方法を用いて回収及び精製することが
出来る。
式x■の保護されたベンズイミダゾール出発物質はこの
技術で知られた方法を用いて製造できる。
技術で知られた方法を用いて製造できる。
典型的には式■のベンズイミダゾールは10%モル過剰
のNaHと接触され、次にモル過剰のシラン保護剤、例
えばCl−CH2−0−(C1h)2−5i−(CH3
)3と30分〜1時間の範囲の期間接触される。反応は
典型的には中性溶媒例えばジメチルホルムアミド中てO
℃〜50℃の範囲の温度で実施される。保護された式X
■のベンズイミダゾールはこの技術で知られた方法を用
いて例えばクーゲルロワー蒸留によって回収及び生成で
きる。
のNaHと接触され、次にモル過剰のシラン保護剤、例
えばCl−CH2−0−(C1h)2−5i−(CH3
)3と30分〜1時間の範囲の期間接触される。反応は
典型的には中性溶媒例えばジメチルホルムアミド中てO
℃〜50℃の範囲の温度で実施される。保護された式X
■のベンズイミダゾールはこの技術で知られた方法を用
いて例えばクーゲルロワー蒸留によって回収及び生成で
きる。
式XIVのピペリジニル出発物質を製造する方法もこの
技術で知られている。弐XIVのピペリジニル誘導体を
以下の式X■て記載されるピペリジニル誘導体をバラト
エンスルホン酸等の酸触媒の存在下でエチレングリコー
ル等のモル大過剰のジオールと接触させることによって
製造する。
技術で知られている。弐XIVのピペリジニル誘導体を
以下の式X■て記載されるピペリジニル誘導体をバラト
エンスルホン酸等の酸触媒の存在下でエチレングリコー
ル等のモル大過剰のジオールと接触させることによって
製造する。
式XVI
式中EはC0−4アルキルを表し、Roは式■で定義し
た通りである。反応は典型的には50℃〜120℃の範
囲の温度で1〜48時間の曲間有!s溶媒例えばトルエ
ン又はベンゼン中で実施される。式XIVのピペリジニ
ルはこの技術で知られた方法を用いて回収及び生成でき
る。
た通りである。反応は典型的には50℃〜120℃の範
囲の温度で1〜48時間の曲間有!s溶媒例えばトルエ
ン又はベンゼン中で実施される。式XIVのピペリジニ
ルはこの技術で知られた方法を用いて回収及び生成でき
る。
上に述べたようにこの化合物は抗ヒスタミン剤であり、
従ってアレルギー病の治療に有用である。
従ってアレルギー病の治療に有用である。
いくつかはまた末梢セロトニン5HT2拮抗剤である。
抗ヒスタミン剤としての化合物の有用性を実証する一つ
の方法は次の試験プロトコルに従うものである。10匹
のモルモットの一群に経口的に約O1Img/ kg
〜100mg/ kgの試験化合物を経口投与する。
の方法は次の試験プロトコルに従うものである。10匹
のモルモットの一群に経口的に約O1Img/ kg
〜100mg/ kgの試験化合物を経口投与する。
10匹のモルモットの対照群に経口的に同様の容量の賦
形薬(0,5%メチルセルロース及び1%エタノールの
溶液)を投与する。両方の群を麻酔にかけ、これらの背
中側の区域を剃る。1時間後両方の群に顎静脈を経由し
て1%エバンスブルー染料(1ml)の静脈内注射を与
える。染料注射に続いてすぐ両方の群を背中側の区域に
於いてヒスタミンジホスフェート注射(1μg10.1
m1)で皮下注射し、ヒスタミンの膨疹を生じる。ヒス
タミン注射後20分して動物を殺し、膨疹の寸法を露出
した膨疹の直径から計算する。薬物処理群の膨疹の面積
が対象群のものよりも満足により小さいならば、化合物
は抗ヒスタミン活性を有するとみなす。
形薬(0,5%メチルセルロース及び1%エタノールの
溶液)を投与する。両方の群を麻酔にかけ、これらの背
中側の区域を剃る。1時間後両方の群に顎静脈を経由し
て1%エバンスブルー染料(1ml)の静脈内注射を与
える。染料注射に続いてすぐ両方の群を背中側の区域に
於いてヒスタミンジホスフェート注射(1μg10.1
m1)で皮下注射し、ヒスタミンの膨疹を生じる。ヒス
タミン注射後20分して動物を殺し、膨疹の寸法を露出
した膨疹の直径から計算する。薬物処理群の膨疹の面積
が対象群のものよりも満足により小さいならば、化合物
は抗ヒスタミン活性を有するとみなす。
化合物は種々のアレルギー病に於いて有用である。式■
の化合物で処置され得るアレルギー病の例はアレルギー
性鼻炎、季節的鼻炎、アレルギー性の皮膚炎例えば急性
のしん麻疹、アトピー性皮膚炎、及び接触性皮膚炎が含
まれる。池の例には胃腸のアレルギーであって、食物又
は医薬のいずれかをとることによって生じ得るものが含
まれる。
の化合物で処置され得るアレルギー病の例はアレルギー
性鼻炎、季節的鼻炎、アレルギー性の皮膚炎例えば急性
のしん麻疹、アトピー性皮膚炎、及び接触性皮膚炎が含
まれる。池の例には胃腸のアレルギーであって、食物又
は医薬のいずれかをとることによって生じ得るものが含
まれる。
化合物は又、アレルギー性の肺病例えばアレルギー喘息
の処置に使用できる。オブサルミック(Opt−hal
mic)アレルギーも弐Iの化合物に応答する。
の処置に使用できる。オブサルミック(Opt−hal
mic)アレルギーも弐Iの化合物に応答する。
これらの化合物が抗ヒスタミン効果を示す投与範囲(抗
ヒスタミン量)は処置される特定のアレルギー病、患者
の病気のひどさ、患者、投与される特定の化合物、投与
経路、及び患者内の根底になる他の病気の存在等に依存
して広く変化し得る。
ヒスタミン量)は処置される特定のアレルギー病、患者
の病気のひどさ、患者、投与される特定の化合物、投与
経路、及び患者内の根底になる他の病気の存在等に依存
して広く変化し得る。
典型的には化合物はそれらの抗ヒスタミン効果を0、O
Img/ kg/日〜120mg/ kg/日の投与範
囲で示す。繰返しの毎日の投与は望ましく、上に記載し
た条件に従って変化する。
Img/ kg/日〜120mg/ kg/日の投与範
囲で示す。繰返しの毎日の投与は望ましく、上に記載し
た条件に従って変化する。
本発明の化合物は種々の経路で投与され得る。
これらは経口的に投与された時有効である。化合物は又
非経口的(即ち皮下、・静脈内、筋肉内又は腹腔内)投
与され得る。化合物は吸引療法、鼻スプレィ、実用点滴
剤等の方法によって呼吸管に直接導入出来る。化合物の
局所製剤は皮膚に直接適用できる。
非経口的(即ち皮下、・静脈内、筋肉内又は腹腔内)投
与され得る。化合物は吸引療法、鼻スプレィ、実用点滴
剤等の方法によって呼吸管に直接導入出来る。化合物の
局所製剤は皮膚に直接適用できる。
製薬組成物はこの技術で知られた方法を用いて製造でき
る。典型的には化合物の抗ヒスタミン量が製薬上受入れ
られる担体とともに混合される。
る。典型的には化合物の抗ヒスタミン量が製薬上受入れ
られる担体とともに混合される。
経口投与の為には化合物は固体又は液体製剤例えばカプ
セル、丸薬、錠剤、ロゼンジ、溶融物、粉末、懸iB
RW又はエマルジョンに処方できる。固体単位投与形は
慣用のゼラチン型の例えは表面活性剤、潤滑剤及び不活
性充填剤例えは乳糖、蔗糖及びコーンスターチを含有す
るカプセルであり得るか、又はこれらは持続放出製剤で
あり得る。別の具体例に於いて式Iの化合物は乳糖、蔗
糖及びコーンスターチ等の慣用の錠剤基剤を結合剤例え
ばアラビアゴム、コーンスターチ又はゼラチン崩壊剤例
えば馬鈴薯澱粉又はアルギン酸及び潤滑剤例えばステア
リン酸又はステアリン酸マグネシウムと組合せたものと
ともに錠剤化できる。液体製剤は活性成分を水性又は非
水性の製薬上受入れられる溶媒であって、懸濁剤、甘味
剤、香味剤及び防腐剤をこの技術で知られる様に含有し
ているものの中に溶解することによって製造される。
セル、丸薬、錠剤、ロゼンジ、溶融物、粉末、懸iB
RW又はエマルジョンに処方できる。固体単位投与形は
慣用のゼラチン型の例えは表面活性剤、潤滑剤及び不活
性充填剤例えは乳糖、蔗糖及びコーンスターチを含有す
るカプセルであり得るか、又はこれらは持続放出製剤で
あり得る。別の具体例に於いて式Iの化合物は乳糖、蔗
糖及びコーンスターチ等の慣用の錠剤基剤を結合剤例え
ばアラビアゴム、コーンスターチ又はゼラチン崩壊剤例
えば馬鈴薯澱粉又はアルギン酸及び潤滑剤例えばステア
リン酸又はステアリン酸マグネシウムと組合せたものと
ともに錠剤化できる。液体製剤は活性成分を水性又は非
水性の製薬上受入れられる溶媒であって、懸濁剤、甘味
剤、香味剤及び防腐剤をこの技術で知られる様に含有し
ているものの中に溶解することによって製造される。
非経口投与の為には、化合物は生理的に受入れられる製
薬担体中に溶解でき、溶液又は!!!濁液として投与さ
れる。適当な製薬担体の例は、水、塩水、デキストロ水
溶液、フラクトース水溶液、エタノール又は動物、植物
又は合成起源の油である。
薬担体中に溶解でき、溶液又は!!!濁液として投与さ
れる。適当な製薬担体の例は、水、塩水、デキストロ水
溶液、フラクトース水溶液、エタノール又は動物、植物
又は合成起源の油である。
製薬担体は又防腐剤、W!衝液等をこの技術で知られる
様に含有し得る。
様に含有し得る。
鼻内投与の為には化合物は生理的に受入れられる製薬担
体中に溶解され、溶液として投与される。
体中に溶解され、溶液として投与される。
適当な製薬担体の例は、水、塩水及び水性アルコール性
溶tαである。製薬担体は又防腐剤、緩衝液等をこの技
術で知られる様に含有し得る。
溶tαである。製薬担体は又防腐剤、緩衝液等をこの技
術で知られる様に含有し得る。
局所投与の為には化合物はこの技術でよく知られた方法
を用いて適当な局所担体に入れることができる。適当な
局所用担体の例には、白色ワセリン等の油質の基剤、親
水性ワセリン等の吸収基剤、ラノリン等のエマルジョン
基剤及びポリエチレングリコール軟膏等の水溶性基剤が
含まれる。局所担体は又防腐剤、緩衝液等をこの技術で
知られる用に含有できる。
を用いて適当な局所担体に入れることができる。適当な
局所用担体の例には、白色ワセリン等の油質の基剤、親
水性ワセリン等の吸収基剤、ラノリン等のエマルジョン
基剤及びポリエチレングリコール軟膏等の水溶性基剤が
含まれる。局所担体は又防腐剤、緩衝液等をこの技術で
知られる用に含有できる。
吸入療法の為には化合物はフッ素化炭化水素噴射剤を含
有する水性アルコール性溶液に入れることができ、この
技術で知られる適当な投与装置に入れられる。
有する水性アルコール性溶液に入れることができ、この
技術で知られる適当な投与装置に入れられる。
本明細書で使用する
a)患者という用語は温血動物例えばモルモット、マウ
ス、ラット、猫、兎、犬、猿、チンパンジー及び人をさ
し、 b)アレルギー病という用語は、H1受容器に対するヒ
スタミンの効果が患者に対し、悪影響を有している症状
をさし、 C)処置という用語は、患者の病気を軽減又は、よくす
る化合物の能力をさす。
ス、ラット、猫、兎、犬、猿、チンパンジー及び人をさ
し、 b)アレルギー病という用語は、H1受容器に対するヒ
スタミンの効果が患者に対し、悪影響を有している症状
をさし、 C)処置という用語は、患者の病気を軽減又は、よくす
る化合物の能力をさす。
次の実施例は更に本発明を説明する為に与えられる。こ
れらはいかなることがあっても本発明を限定するものと
は解釈されるべきではない。
れらはいかなることがあっても本発明を限定するものと
は解釈されるべきではない。
この実施例の目的は、式■のベンズイミダゾール誘導体
を製造する一つの方法を例示することである。
を製造する一つの方法を例示することである。
攪拌された室温のベンズイミダゾール(11,88゜1
、OOX 10−’モル〉及び乾燥DMF (100m
1 )の溶液に水素化ナトリウムを一部ずつ加えた(4
.4g、1.1X10 ’モル、 60%油状分散液)
。約30分後、4−フルオロヘンシルクロライド (1
4,63,1,OIX 10−’モル)を加えた。反応
を室温でおよそ17時間攪拌し、次に水及び2:lの酢
酸エチル:トルエン混合物を含有している分液漏斗に注
いだ。2相を混合し、水相を分離した。有機相をH2O
で2回洗浄し、飽和NaC1水溶液で一度洗浄してから
無水Na2SO4上で乾燥した。乾燥剤を濾過て除き、
濾液を減圧で蒸発して、油を残し、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製した(20tアセトン−酢酸エ
チル)。
、OOX 10−’モル〉及び乾燥DMF (100m
1 )の溶液に水素化ナトリウムを一部ずつ加えた(4
.4g、1.1X10 ’モル、 60%油状分散液)
。約30分後、4−フルオロヘンシルクロライド (1
4,63,1,OIX 10−’モル)を加えた。反応
を室温でおよそ17時間攪拌し、次に水及び2:lの酢
酸エチル:トルエン混合物を含有している分液漏斗に注
いだ。2相を混合し、水相を分離した。有機相をH2O
で2回洗浄し、飽和NaC1水溶液で一度洗浄してから
無水Na2SO4上で乾燥した。乾燥剤を濾過て除き、
濾液を減圧で蒸発して、油を残し、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製した(20tアセトン−酢酸エ
チル)。
生じる油をクーゲルロア蒸留(230−245℃10.
3mm)して、油としてI−[(4−フルオロフェニル
)メチル]−1)1−ベンズイミダゾールを生じ、これ
を固化して無色の固体を与えた。17.4g(77り、
8点60−62°C0分析C14811FN2に対す
る計算値二C,74,32、■、4゜90、 N、+2
.38、実測値: C,?4.25、H,4,94、N
、12.2〔実施例■〕 この実施例の目的は、式■のピペリジニル中間体を製造
する一つの方法を例示することである。
3mm)して、油としてI−[(4−フルオロフェニル
)メチル]−1)1−ベンズイミダゾールを生じ、これ
を固化して無色の固体を与えた。17.4g(77り、
8点60−62°C0分析C14811FN2に対す
る計算値二C,74,32、■、4゜90、 N、+2
.38、実測値: C,?4.25、H,4,94、N
、12.2〔実施例■〕 この実施例の目的は、式■のピペリジニル中間体を製造
する一つの方法を例示することである。
室温の撹拌されたイソニペコチン酸メチルエステル塩酸
塩(5,OOg、2.78X 10−”モル)、炭酸カ
リウム(7,70g、5.57X 10−2モル)及び
DMF (100m1)の混合物に1−(2−ブロモエ
チル)−4−メトキシベンゼン(5,99g、2.78
X 10−2モル)を加えた。反応物を次に油浴中に浸
したが、油浴は約90℃に予熱しておいた。反応物を約
90℃で17時間加熱し、次に水及び2:1の酢酸エチ
ル対トルエン混合物を含有する分液漏斗中に注いだ。2
つの相が混合され水素を分離した。有機相を11゜0で
2回洗浄し、飽和NacI水溶液で一度洗浄し、無水N
a2SO4上で乾燥した。乾燥剤を濾過で除去し、濾液
を減圧で蒸発させて、油を残した。フラッシュクロマト
グラフィーによる精製(酢酸エチル)そして、シクロヘ
キサンからの結晶化によって無色の固体としてI −[
2−(4−メトキシフェニル)エチル]−4−ピペリジ
ンカルボン酸メチルエステルが得られた。3.98g
(52$)融点66−68°C0 分析Cl8H23NO3に対する計算111i : C
,69,29、H2S。
塩(5,OOg、2.78X 10−”モル)、炭酸カ
リウム(7,70g、5.57X 10−2モル)及び
DMF (100m1)の混合物に1−(2−ブロモエ
チル)−4−メトキシベンゼン(5,99g、2.78
X 10−2モル)を加えた。反応物を次に油浴中に浸
したが、油浴は約90℃に予熱しておいた。反応物を約
90℃で17時間加熱し、次に水及び2:1の酢酸エチ
ル対トルエン混合物を含有する分液漏斗中に注いだ。2
つの相が混合され水素を分離した。有機相を11゜0で
2回洗浄し、飽和NacI水溶液で一度洗浄し、無水N
a2SO4上で乾燥した。乾燥剤を濾過で除去し、濾液
を減圧で蒸発させて、油を残した。フラッシュクロマト
グラフィーによる精製(酢酸エチル)そして、シクロヘ
キサンからの結晶化によって無色の固体としてI −[
2−(4−メトキシフェニル)エチル]−4−ピペリジ
ンカルボン酸メチルエステルが得られた。3.98g
(52$)融点66−68°C0 分析Cl8H23NO3に対する計算111i : C
,69,29、H2S。
36、N、5.05、実測値: C,69,50、)1
,8.40、N、4.94〔実施例■〕 この実施例の目的は、式■のピペリジニルベンズイミダ
ゾール誘導体を製造する一つの方法を例示することであ
る。
,8.40、N、4.94〔実施例■〕 この実施例の目的は、式■のピペリジニルベンズイミダ
ゾール誘導体を製造する一つの方法を例示することであ
る。
アルゴン下の一78℃の1−[(4−フルオロフェニル
)−メチル]−1H−ベンズイミダゾール(+、13g
、5.0OXlO−3モル)及び乾燥THF (12m
1)の攪拌溶液にn−ブチルリチウム(2,1ml、5
.25X 10−3モル)のヘキサン中の2.5モル溶
液を加えた。−78℃で15〜20分後20分後−(4
−メトキシフェニル)エチル]−4−ピペリジンカルボ
ン酸メチルエステル(1,39g、5.01X 10−
3モル)及び乾燥THF (aml)の溶液を注射器か
ら滴下した。5〜10分後冷却浴を除去し、反応物を温
めた。約30分後反応を飽和NH4Cl水溶液の添加に
よって停止させた。反応物を分液漏斗に移し、そこで水
性混合物を2回酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出
物を一緒にし、飽和水性NaClで洗浄し、無水Na2
SO4上で乾燥した。乾燥剤を濾過て除去し、濾液を減
圧下で蒸発させて、粘性の油を得た。これをフラッシュ
クロマトグラフィ(酢酸エチル)と結晶化(シクロヘキ
サン)の組合せて精製し、灰白色のマット状の針秋物と
して、l−[(4−フルオロフェニル)メチル] −1
8−ベンズイミダゾール−2−イル][I−[2−(4
−メトキシフェニル)エチル]−4−ピペリジニルコメ
タノンを生じた。0.90g (38X)融点+09−
111℃。
)−メチル]−1H−ベンズイミダゾール(+、13g
、5.0OXlO−3モル)及び乾燥THF (12m
1)の攪拌溶液にn−ブチルリチウム(2,1ml、5
.25X 10−3モル)のヘキサン中の2.5モル溶
液を加えた。−78℃で15〜20分後20分後−(4
−メトキシフェニル)エチル]−4−ピペリジンカルボ
ン酸メチルエステル(1,39g、5.01X 10−
3モル)及び乾燥THF (aml)の溶液を注射器か
ら滴下した。5〜10分後冷却浴を除去し、反応物を温
めた。約30分後反応を飽和NH4Cl水溶液の添加に
よって停止させた。反応物を分液漏斗に移し、そこで水
性混合物を2回酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル抽出
物を一緒にし、飽和水性NaClで洗浄し、無水Na2
SO4上で乾燥した。乾燥剤を濾過て除去し、濾液を減
圧下で蒸発させて、粘性の油を得た。これをフラッシュ
クロマトグラフィ(酢酸エチル)と結晶化(シクロヘキ
サン)の組合せて精製し、灰白色のマット状の針秋物と
して、l−[(4−フルオロフェニル)メチル] −1
8−ベンズイミダゾール−2−イル][I−[2−(4
−メトキシフェニル)エチル]−4−ピペリジニルコメ
タノンを生じた。0.90g (38X)融点+09−
111℃。
分析C29H30FN302に対する
計算値 C,73,86; H,6,41; It、
8.9+。
8.9+。
実測値 C,?3.98; H,6,48; L 8.
90゜〔実施例■〕 この実施例の目的は、式■によって記載されるピペリジ
ニル中間体の製造の一つの方法を例示することである。
90゜〔実施例■〕 この実施例の目的は、式■によって記載されるピペリジ
ニル中間体の製造の一つの方法を例示することである。
イソニペコチン酸メチルエステル塩酸塩(5,00g、
2.78X 10−2モル)及びt−ブタノール(56
ml)の攪拌懸Jii液にN a OH(29ml、2
.9X 10−2モル)1M水溶液を加えた。すべての
出発エステルが溶解された後、ジ−t−ブチルジカーボ
ネート(6,68g、3゜06X 10−2モル)を加
えた。三日間攪拌した後、過剰のt−ブタノールを減圧
下に蒸発させた。a細物な820で希釈し、分液漏斗に
移し、そして酢酸エチルで3回抽出した。酢酸エチル抽
出物を一緒にし、飽和水性NaClで洗浄し、無水Na
25Oa上で乾燥した。乾燥剤を濾過て除去し、濾液を
減圧下で蒸発させて、油を得た。クーゲルロア蒸留によ
って明るい無色の液体としてI−(1,1−ジメチルエ
チル)−1,4−ピペリジンジカルボン酸4−メチルエ
ステルヲ得た。6.21g (92K) 、沸点+60
−170℃(0,2〜0.3mm)。
2.78X 10−2モル)及びt−ブタノール(56
ml)の攪拌懸Jii液にN a OH(29ml、2
.9X 10−2モル)1M水溶液を加えた。すべての
出発エステルが溶解された後、ジ−t−ブチルジカーボ
ネート(6,68g、3゜06X 10−2モル)を加
えた。三日間攪拌した後、過剰のt−ブタノールを減圧
下に蒸発させた。a細物な820で希釈し、分液漏斗に
移し、そして酢酸エチルで3回抽出した。酢酸エチル抽
出物を一緒にし、飽和水性NaClで洗浄し、無水Na
25Oa上で乾燥した。乾燥剤を濾過て除去し、濾液を
減圧下で蒸発させて、油を得た。クーゲルロア蒸留によ
って明るい無色の液体としてI−(1,1−ジメチルエ
チル)−1,4−ピペリジンジカルボン酸4−メチルエ
ステルヲ得た。6.21g (92K) 、沸点+60
−170℃(0,2〜0.3mm)。
分析C52tI2tNQ+
計算11i C,59,24; H,8,70;N、
5.76゜実測値 C,58,92; H,8,76
;N、 5.45゜〔実施例V〕 この実施例の目的は、式Xのピペリジニルベンズイミダ
ゾール中間体を製造する一つの方法を例示することであ
る。
5.76゜実測値 C,58,92; H,8,76
;N、 5.45゜〔実施例V〕 この実施例の目的は、式Xのピペリジニルベンズイミダ
ゾール中間体を製造する一つの方法を例示することであ
る。
アルゴン化の一78℃の1−[(4−フルオロフェニル
)−メチル]−18−ベンズイミダゾール(9,80g
、4.62X 1O−2モル)及び乾燥TIIF (8
0m1)の攪拌溶液にn−ブチルリチウム(20,0m
l、5.OOX 10−2モル)のヘキサン中の2.5
モル溶液を注射器から滴下した。−78℃で約5分後、
i(1,1−ジメチルエチル)−1,4−ピペリジンジ
カルボン酸4−メチルエステル(+1.248゜4.6
2X 10−2モル)及び乾燥THF (30ml)
(7)0℃の溶液を注射器から滴下した。更に15分後
、反応をメタノール(10ml)の添加によって停止さ
せた。更に5分後、反応物を飽和N H4CI水溶液を
含有している分液漏斗に注いだ。水相を3回エーテルで
抽出した。分離した有機抽出物を一緒にし、飽和水性N
aClで洗浄し、無水Na2SO4上で乾燥した。乾燥
剤を濾過で除去し、濾液を減圧下で蒸発させて、薄黄色
のフオームを残した。これをフラッシュクロマトグラフ
ィ(20χ酢酸エチル/ヘキサン)及び結晶化(シクロ
ヘキサン)で精製し、無色の固体として、4−[1−[
(4−フルオロフェニル)メチルツー111−ベンズイ
ミダゾール−2−イル]カルボニル−1−ビペリジンカ
ルボン酸 1,1−ジメチルエチルエステルを得た。6
.8g (34%)。融点114−115℃。
)−メチル]−18−ベンズイミダゾール(9,80g
、4.62X 1O−2モル)及び乾燥TIIF (8
0m1)の攪拌溶液にn−ブチルリチウム(20,0m
l、5.OOX 10−2モル)のヘキサン中の2.5
モル溶液を注射器から滴下した。−78℃で約5分後、
i(1,1−ジメチルエチル)−1,4−ピペリジンジ
カルボン酸4−メチルエステル(+1.248゜4.6
2X 10−2モル)及び乾燥THF (30ml)
(7)0℃の溶液を注射器から滴下した。更に15分後
、反応をメタノール(10ml)の添加によって停止さ
せた。更に5分後、反応物を飽和N H4CI水溶液を
含有している分液漏斗に注いだ。水相を3回エーテルで
抽出した。分離した有機抽出物を一緒にし、飽和水性N
aClで洗浄し、無水Na2SO4上で乾燥した。乾燥
剤を濾過で除去し、濾液を減圧下で蒸発させて、薄黄色
のフオームを残した。これをフラッシュクロマトグラフ
ィ(20χ酢酸エチル/ヘキサン)及び結晶化(シクロ
ヘキサン)で精製し、無色の固体として、4−[1−[
(4−フルオロフェニル)メチルツー111−ベンズイ
ミダゾール−2−イル]カルボニル−1−ビペリジンカ
ルボン酸 1,1−ジメチルエチルエステルを得た。6
.8g (34%)。融点114−115℃。
分析 C26828FN303
計算値 C,68,63; H,6,45; N、 9
.60実測値 C,68,81; H,6,51; N
、 9.56゜〔実施例■〕 この実施例の目的は実施例Vで製造された式Xのピペリ
ジニルベンズイミダゾール中間体からアミノ保護基を除
去する一つの方法を例示することである。
.60実測値 C,68,81; H,6,51; N
、 9.56゜〔実施例■〕 この実施例の目的は実施例Vで製造された式Xのピペリ
ジニルベンズイミダゾール中間体からアミノ保護基を除
去する一つの方法を例示することである。
攪拌しながらトリフルオロ酢酸(loml)を4− [
1−[(4−フルオロフェニル)メチル]−11−ベン
ズイミダゾール−2−イル]カルボニルー1−ピペリジ
ンカルボン酸 1,1−ジメチルエチルエステル(1,
65g、 3.77XIO−3モル)に加えた。30分
後、反応物を水浴中で冷却し、エーテル(150ml)
を加えた。フラスコに栓をし、冷蔵庫の中に入れた。数
時間後固体を濾過て集め、E t20で洗浄し、吸引に
よって乾燥した。エタノール/エーテルから結晶化する
と、無色の針秋物として[+−[(4−フルオロフェニ
ル)メチル]−11−ベンズイミダゾール−2−イル]
−4−ピペリジニルメタノン モノ(トリフルオロアセ
テート)を生じた。1.45g(84χ)。融点213
−215℃・(分解)。
1−[(4−フルオロフェニル)メチル]−11−ベン
ズイミダゾール−2−イル]カルボニルー1−ピペリジ
ンカルボン酸 1,1−ジメチルエチルエステル(1,
65g、 3.77XIO−3モル)に加えた。30分
後、反応物を水浴中で冷却し、エーテル(150ml)
を加えた。フラスコに栓をし、冷蔵庫の中に入れた。数
時間後固体を濾過て集め、E t20で洗浄し、吸引に
よって乾燥した。エタノール/エーテルから結晶化する
と、無色の針秋物として[+−[(4−フルオロフェニ
ル)メチル]−11−ベンズイミダゾール−2−イル]
−4−ピペリジニルメタノン モノ(トリフルオロアセ
テート)を生じた。1.45g(84χ)。融点213
−215℃・(分解)。
分析 C2゜)I2oFN30−CF3CO2+1に対
する計算値 C,58,54; H,4,69; N、
9.31実測値 C,58,55; 11.4.77
; N、 9.29゜〔実施例■〕 この実施例の目的は、式Iのピペリジニルベンズイミダ
ゾール誘導体を製造する別の方法を例示することである
。
する計算値 C,58,54; H,4,69; N、
9.31実測値 C,58,55; 11.4.77
; N、 9.29゜〔実施例■〕 この実施例の目的は、式Iのピペリジニルベンズイミダ
ゾール誘導体を製造する別の方法を例示することである
。
[1−[(4−フルオロフェニル)−メチル] −11
+−ベンズイミダゾール−2−イル]−4−ピペリジン
メタノン モノ(トリフルオロ7セテート) (1,8
2g、4.03X 10−3モル)、炭酸カリウム(1
,39g、 1.00X 10”−2モル)及び篩乾燥
したD M A (151111)の攪拌した室温の混
合物に1−(2−ブロモエチル)−トメトキシベンゼン
(0,87g、 4.04X 10−3モル)を加えた
。反応物を次に約90℃に予熱しておいた油浴中に浸し
た。
+−ベンズイミダゾール−2−イル]−4−ピペリジン
メタノン モノ(トリフルオロ7セテート) (1,8
2g、4.03X 10−3モル)、炭酸カリウム(1
,39g、 1.00X 10”−2モル)及び篩乾燥
したD M A (151111)の攪拌した室温の混
合物に1−(2−ブロモエチル)−トメトキシベンゼン
(0,87g、 4.04X 10−3モル)を加えた
。反応物を次に約90℃に予熱しておいた油浴中に浸し
た。
80〜90℃の間で22時間攪拌した後、反応物を室温
に冷却した。反応物をH2Oと2;1酢酸エチル:トル
エン混合物を含有する分液漏斗に注いだ。二層を混合し
、水層を分離した。有機層をH2Oで2回洗浄し、飽和
水性NaClで1回洗浄してから、無水Na25o4上
で乾燥した。乾燥剤を濾過で除去し、濾液を減圧下で蒸
発させて油を残し、油をフラッシュクロマトグラフィ(
酢酸エチル)で精製した。
に冷却した。反応物をH2Oと2;1酢酸エチル:トル
エン混合物を含有する分液漏斗に注いだ。二層を混合し
、水層を分離した。有機層をH2Oで2回洗浄し、飽和
水性NaClで1回洗浄してから、無水Na25o4上
で乾燥した。乾燥剤を濾過で除去し、濾液を減圧下で蒸
発させて油を残し、油をフラッシュクロマトグラフィ(
酢酸エチル)で精製した。
シクロヘキサンからの結晶化によって、灰白色のマット
状の針秋物として、[1−[(4−フルオロフェニル)
メチル]−1■−ベンズイミダゾール−2−イル][1
−[2−(4−メトキシフェニル)エチル]−4−ビベ
リジニルコメタノン(1,08g、 57χ)を生じた
。この物質は前に実施例■に記載した生成物と、スペク
トル分析で同一であった。
状の針秋物として、[1−[(4−フルオロフェニル)
メチル]−1■−ベンズイミダゾール−2−イル][1
−[2−(4−メトキシフェニル)エチル]−4−ビベ
リジニルコメタノン(1,08g、 57χ)を生じた
。この物質は前に実施例■に記載した生成物と、スペク
トル分析で同一であった。
この生成物は多形体として存在し、一つの融点は109
〜111℃であり、別の融点は125〜126℃であっ
たゆ 〔実施例■〕 この実施例の目的は、式1の別のピペリジニルベンズイ
ミダゾール誘導体を製造する方法を例示することである
。
〜111℃であり、別の融点は125〜126℃であっ
たゆ 〔実施例■〕 この実施例の目的は、式1の別のピペリジニルベンズイ
ミダゾール誘導体を製造する方法を例示することである
。
[1−[(4−フルオロフェニル)−メチル]−1■−
ベンズイミダゾール−2−イル]−4−ピペリジンメタ
ノン モノ(トリフルオロアセテート) (5,0g、
11ミリモル)、4−クロロ−41−第三ブチロフェノ
ン(6,2g、26ミリモル)、重炭酸カリウム(2,
5g、25ミリモル)及びヨウ化カリウム(触媒量)を
−緒にし、トルエン(50ml)及び水(5ml)中で
3日間還流した。
ベンズイミダゾール−2−イル]−4−ピペリジンメタ
ノン モノ(トリフルオロアセテート) (5,0g、
11ミリモル)、4−クロロ−41−第三ブチロフェノ
ン(6,2g、26ミリモル)、重炭酸カリウム(2,
5g、25ミリモル)及びヨウ化カリウム(触媒量)を
−緒にし、トルエン(50ml)及び水(5ml)中で
3日間還流した。
冷却した層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。−
緒にした有機層を水、塩水で洗浄し、乾燥しく Mg5
O4) 、そして濃縮した。生じる油をシリカゲル(7
5X 160nv)上でクロマトグラフィにかけ、酢酸
エチルで溶離した。適当なフラクションを一緒にし、濃
縮し、生じる油をシクロヘキサンから結晶化して、l−
[4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル]−4−[
4−[[+−[(4−フルオロフェニル)メチル]−I
H−ベンズイミダゾール−2−イル]カルボニル]−1
−ピペリジニル]−1−ブタノン(3,4g、 5’H
;)を生じた。融点は105〜to6℃であった。
緒にした有機層を水、塩水で洗浄し、乾燥しく Mg5
O4) 、そして濃縮した。生じる油をシリカゲル(7
5X 160nv)上でクロマトグラフィにかけ、酢酸
エチルで溶離した。適当なフラクションを一緒にし、濃
縮し、生じる油をシクロヘキサンから結晶化して、l−
[4−(1,1−ジメチルエチル)フェニル]−4−[
4−[[+−[(4−フルオロフェニル)メチル]−I
H−ベンズイミダゾール−2−イル]カルボニル]−1
−ピペリジニル]−1−ブタノン(3,4g、 5’H
;)を生じた。融点は105〜to6℃であった。
分析 C34H311FN302
計算111 C,75,67; I+、 7、10;
N、 7.79実測値 C,?5.65; H,7,
16; N、 7.78゜〔実施例■〕 この実施例の目的は、Yが−CHOHを表す式■のピペ
リジニルベンズイミダゾールの製造を例示することであ
る。
N、 7.79実測値 C,?5.65; H,7,
16; N、 7.78゜〔実施例■〕 この実施例の目的は、Yが−CHOHを表す式■のピペ
リジニルベンズイミダゾールの製造を例示することであ
る。
[+−[(4−フルオロフェニル)−メチル]−1日−
ペンズイミダゾール−2−イル](: I−[2−(4
−メトキシフェニル)エチル−4−ピペリジニル]メタ
ノン(1,28g、2.71X 10−3モル)、及び
メタノール(20ml)の攪拌された0℃の溶液に、N
aBHa (0,10g、2.6X 10−3モル〉を
加えた。2時間後、別の当量(D NaB)I4(0,
10g、2.6X 10−3モル)を加えた。更に2時
間後、メタノールを減圧で蒸発させた。濃縮物をEtO
AcとI20の二層混合物中に溶解した。層を分離し、
水層をEtOAcで2回再抽出した。EtOAc層を一
緒にし、飽和NaCl水溶液で洗浄し、無水Na25O
,上で乾燥した。
ペンズイミダゾール−2−イル](: I−[2−(4
−メトキシフェニル)エチル−4−ピペリジニル]メタ
ノン(1,28g、2.71X 10−3モル)、及び
メタノール(20ml)の攪拌された0℃の溶液に、N
aBHa (0,10g、2.6X 10−3モル〉を
加えた。2時間後、別の当量(D NaB)I4(0,
10g、2.6X 10−3モル)を加えた。更に2時
間後、メタノールを減圧で蒸発させた。濃縮物をEtO
AcとI20の二層混合物中に溶解した。層を分離し、
水層をEtOAcで2回再抽出した。EtOAc層を一
緒にし、飽和NaCl水溶液で洗浄し、無水Na25O
,上で乾燥した。
乾燥剤を濾過で除去し、濾液を減圧で蒸発させてフオー
ムを残した。フラッシュクロマトグラフィ(25$CH
30H/ E tOAc)によって1−[(4−フルオ
ロフェニル)メチル]−α−[+−[2−(4−メトキ
シフェニル)エチル]−4−ピペリジニル]−01−ベ
ンズイミダゾール−2−メタノールを得た。
ムを残した。フラッシュクロマトグラフィ(25$CH
30H/ E tOAc)によって1−[(4−フルオ
ロフェニル)メチル]−α−[+−[2−(4−メトキ
シフェニル)エチル]−4−ピペリジニル]−01−ベ
ンズイミダゾール−2−メタノールを得た。
この実施例の目的は、YとTの両方が−CHOHを表す
式Iのピペリジニルベンズイミダゾールの製造を例示す
ることである。
式Iのピペリジニルベンズイミダゾールの製造を例示す
ることである。
1−[4−(1,1−ジメチルエチル)フェニルコ−4
−[4−[[1−[(4−フルオロフェニル)−メチル
] −111−ベンズイミダゾール−2−イル]カルボ
ニルトl−ピペリジニルコ−1−ブタノン(2,1g、
3.9X 10−3モル)、及びメタノール(80m
l)の攪拌した室温の溶液に、NaBH4(0,42g
、 1.IX 10 ”モル)を加えた。−夜攪拌後、
メタノールを減圧で蒸発した。濃縮物をEtOAc/H
20の二層混合物に溶解した。層を分離し、水層をEt
OAcで再抽出した。EtOAc抽出物を一緒にし、飽
和NaCl水溶液で洗浄し、無水MgSO4上で乾燥し
た。
−[4−[[1−[(4−フルオロフェニル)−メチル
] −111−ベンズイミダゾール−2−イル]カルボ
ニルトl−ピペリジニルコ−1−ブタノン(2,1g、
3.9X 10−3モル)、及びメタノール(80m
l)の攪拌した室温の溶液に、NaBH4(0,42g
、 1.IX 10 ”モル)を加えた。−夜攪拌後、
メタノールを減圧で蒸発した。濃縮物をEtOAc/H
20の二層混合物に溶解した。層を分離し、水層をEt
OAcで再抽出した。EtOAc抽出物を一緒にし、飽
和NaCl水溶液で洗浄し、無水MgSO4上で乾燥し
た。
乾燥剤を濾過で除去し、濾液を減圧で蒸発させて固体を
残した。シクロヘキサン/ヘキサンからの結晶化により
無色の固体としてα−[1−[4−[4−(+ 、I−
ジメチルエチル)フェニル]−4−ヒドロキシブチル]
−4−ピペリジニル]−1−[(4−フルオロフェニル
)メチル]−1H−ベンズイミダゾール−2−メタノー
ルを生じた。1.6g(75χ)。融点87−90’C
。
残した。シクロヘキサン/ヘキサンからの結晶化により
無色の固体としてα−[1−[4−[4−(+ 、I−
ジメチルエチル)フェニル]−4−ヒドロキシブチル]
−4−ピペリジニル]−1−[(4−フルオロフェニル
)メチル]−1H−ベンズイミダゾール−2−メタノー
ルを生じた。1.6g(75χ)。融点87−90’C
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中YはCO又はCHOHであり、mは1〜2の整数
であり、RはC_1_−_4アルキル、C_1_−_4
アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ及び水素を表わし、
Xは水素又はCOOR_2(式中R_2はC_1_−_
4アルキルを表わす)であるか、又はXは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のアルキレンフェニル基を表わし、ここでTはCHOH
、CO、O、又は直接結合を表わし、R_1はC_1_
−_4アルキル、C_1_−_4アルコキシ、ハロゲン
、ヒドロキシ、2,2−ジメチルエタン酸及び水素を表
わし、nは1〜5の整数を表わす〕の化合物又は製薬上
受け入れられるその塩。 2、Xが式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中TはCHOH、CO、O、又は直接結合を表わし
、R_1はC_1_−_4アルキル、C_1_−_4ア
ルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、2,2−ジメチルエ
タン酸及び水素を表わし、nは1〜5の整数を表わす)
のアルキレンフェニル基を表わす特許請求の範囲第1項
に記載の化合物。 3、TがCOを表わす特許請求の範囲第2項に記載の化
合物。 4、YがCOを表わす特許請求の範囲第3項に記載の化
合物。 5、YがCHOHを表わす特許請求の範囲第3項に記載
の化合物。 6、TがCHOHを表わす特許請求の範囲第2項に記載
の化合物。 7、YがCOを表わす特許請求の範囲第6項に記載の化
合物。 8、YがCHOHを表わす特許請求の範囲第6項に記載
の化合物。 9、特許請求の範囲第1項の化合物の抗ヒスタミン量を
含んでいる、必要とする患者に投与するためのアレルギ
ー病を処置する薬剤。 10、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中YはCO又はCHOHを表わし、mは1〜2の整
数であり、RはC_1_−_4アルキル、C_1_−_
4アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ及び水素からなる
群から選ばれ、Zはアミノ保護基を表わす〕の化合物。 11、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔m及びRは特許請求の範囲第1項に記載の通りである
〕のベンズイミダゾールを式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Xは特許請求の範囲第1項に定義の通りであるか
、又はアミノ保護基であり、EはC_1_−_4アルキ
ルである〕のピペリジニル化合物と反応させることから
なる特許請求の範囲第1項に記載のピペリジニルベンズ
イミダゾールを製造する方法。 12、製薬上受け入れられる担体との混合物として抗ヒ
スタミン量で存在する特許請求の範囲第1抗の化合物を
含んでいる製剤組成物。 13、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中YはCO又はCHOHであり、mは1〜2の整数
であり、RはC_1_−_4アルキル、C_1_−_4
アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ及び水素を表わし、
Xは水素、COOR_2(式中R_2はC_1_−_4
アルキルを表わす)であるか、又はXは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ のアルキレンフェニル基を表わし、ここでTはCHOH
、CO、O、又は直接結合を表わし、R_1はC_1_
−_4アルキル、C_1_−_4アルコキシ、ハロゲン
、ヒドロキシ、2,2−ジメチルエタン酸又は水素を表
わし、nは1〜5の整数を表わす〕の化合物及び製薬上
受け入れられるその酸付加塩を製造する方法に於いて、
I )YがCO又はCHOHを表わし、XがCOOR_
2、H又はアルキレンフェニル基であって、Tが0又は
直接結合を表わす化合物については 1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中EはC_1_−_4アルキルを表わし、Xはすぐ
上に定義の通りであるか、Xが最終生成物で水素となる
べきと基は適当な保護基である〕のピペリジニル誘導体
、及び式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中m及びRは上に定義の通りである〕のベンズイミ
ダゾール誘導体の間でアシル化反応を実施し、 2)生じる生成物をYがCHOHで表わされるべきとき
は還元反応にかけ、そして 3)生じる生成物を必要な場合適宜脱保護反応にかけ、 II)YがCO又はCHOHでXがアルキレンフェニル基
であって、ここでTがCO、O、CHOH、又は直接結
合である化合物については 1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Yは所望の最終生成物でCO又はCHOHであり
、m及びRは上に定義の通りである〕のピペリジニルベ
ンズイミダゾール及び式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Aはハロゲン原子を表わし、TはCO、O、直接
結合、又は最終生成物でTがCHOHとなるべきときは
シラン保護ヒドロキシメチレン基であり、そしてR_1
は上に定義の通りであるか、又は適当な保護基を表わす
〕のアルキレンフェニル誘導体でN−アルキル化反応を
実施し、そして 2)生じる生成物を必要なら適宜、適当な保護反応にか
け、 III)YがCHOHを表わし、Xがアルキレンフェニル
基を表わし、ここでTがCHOH、O又は直接結合であ
り、R、R_1、m及びnが上に定義の通りである化合
物については 1)上で製造した化合物をYがCOである反応経路IIを
経て適当な還元反応にかけ、続いて適宜、脱保護反応に
かけ、又は IV)本明細書に記載された他のこの技術で均等な合成の
任意のものを用いることからなる方法。
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