JPH02130516A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
- Publication number
- JPH02130516A JPH02130516A JP28392688A JP28392688A JPH02130516A JP H02130516 A JPH02130516 A JP H02130516A JP 28392688 A JP28392688 A JP 28392688A JP 28392688 A JP28392688 A JP 28392688A JP H02130516 A JPH02130516 A JP H02130516A
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- JP
- Japan
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- deflector
- lens
- deflected
- spot
- light
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- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005549 size reduction Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は光走査装置に関し、特に光ビームプリンタ等に
おいて像形成のために用いられる光走査装置に関する。
おいて像形成のために用いられる光走査装置に関する。
（従来の技術）
従来この種の光走査装置は、例えば第２図に示すように
、半導体レーザ１から出射されたレーザ光をコリメータ
レンズ６で平行ビームに変換し。
、半導体レーザ１から出射されたレーザ光をコリメータ
レンズ６で平行ビームに変換し。
この平行ビームを回転多面鏡でなる光偏向器７によって
偏向させ、偏向ビームをｆθレンズ８にて像面湾曲、走
査直線性を補正した上で集光し、結像面５上に点像を結
像させるものが一般的であった。
偏向させ、偏向ビームをｆθレンズ８にて像面湾曲、走
査直線性を補正した上で集光し、結像面５上に点像を結
像させるものが一般的であった。
（発明が解決しようとする課題）
前記従来の光走査装置は、光偏向器７に入射する光ビー
ムが平行光であるという特徴があった。
ムが平行光であるという特徴があった。
近来このような光走査装置においては高解像度化、つま
り結像面上に生じる集光ビームスポットの径を小さくす
ることが求められるようになった。
り結像面上に生じる集光ビームスポットの径を小さくす
ることが求められるようになった。
一般にレンズ系に収差が無いと仮定した場合、その結像
面上の集光ビームスボッ、トの径は、集光ビームの広が
り角θが大きくなる程小さくなる、つまりｆθレンズ８
の集光レンズに入射する光が平行光の場合は、その集光
レンズのＦナンバーに比例して集光ビームスポット径が
大きくなる。
面上の集光ビームスボッ、トの径は、集光ビームの広が
り角θが大きくなる程小さくなる、つまりｆθレンズ８
の集光レンズに入射する光が平行光の場合は、その集光
レンズのＦナンバーに比例して集光ビームスポット径が
大きくなる。
そのため、前記従来例の光走査装置においては、ｆθレ
ンズ８に平行光が入射するため、集光ビームスポット径
をを小さくするためには、ｆθレンズ８のＦナンバーを
小さくしなければならないが、そのためにはＦナンバ＝
ｆ／Ｄの関係式より焦点比＠ｆを小さくするか、ｆθレ
ンズ８へ入射する光束りの径を大きくしなければならな
い、しかし焦点距離ｆを小さくすると、走査幅を大きく
とれないという問題がある。又、ｆθレンズ８へ入射す
る光束りの径を大きくすると、これが平行光であるため
、光偏向器７の偏向面を大きくしなければならず、結果
として光偏向器の大型化及び消費電力９機械振動、加工
費、材料費が増加する等の問題があった。
ンズ８に平行光が入射するため、集光ビームスポット径
をを小さくするためには、ｆθレンズ８のＦナンバーを
小さくしなければならないが、そのためにはＦナンバ＝
ｆ／Ｄの関係式より焦点比＠ｆを小さくするか、ｆθレ
ンズ８へ入射する光束りの径を大きくしなければならな
い、しかし焦点距離ｆを小さくすると、走査幅を大きく
とれないという問題がある。又、ｆθレンズ８へ入射す
る光束りの径を大きくすると、これが平行光であるため
、光偏向器７の偏向面を大きくしなければならず、結果
として光偏向器の大型化及び消費電力９機械振動、加工
費、材料費が増加する等の問題があった。
（課題を解決するための手段）
本発明は、前記課題を解決するためになされたもので１
本発明の一実施例に対応する第１図を用いて説明すると
、レーザ光を発生する光源としての半導体レーザ１と、
この半導体レーザから出射されたレーザ光Ｌ１を集光さ
せる集光レンズ２と、集光レンズ２からの集光ビームＬ
２が１度点状の焦点Ａを結像した後に得られるビーム光
Ｌａを走査する偏向器３と、偏向器３により偏向された
偏向ビームＬ３を結像面５上で走査速度が一定となるよ
うに結像させるＦθレンズ４とで構成したものである。
本発明の一実施例に対応する第１図を用いて説明すると
、レーザ光を発生する光源としての半導体レーザ１と、
この半導体レーザから出射されたレーザ光Ｌ１を集光さ
せる集光レンズ２と、集光レンズ２からの集光ビームＬ
２が１度点状の焦点Ａを結像した後に得られるビーム光
Ｌａを走査する偏向器３と、偏向器３により偏向された
偏向ビームＬ３を結像面５上で走査速度が一定となるよ
うに結像させるＦθレンズ４とで構成したものである。
（作用）
本発明によれば、最終偏向点の手前で一度点状の焦点Ａ
を作り、偏向面上のビーム形Ｄ１が小さくなるようにし
であるので、偏向面が小さくて済み、偏向器の小型化が
実現でき、る、又、ｆθレンズ４へ入射する際のビーム
広がり角が大きいため、結像面５上での集光ビームスポ
ット径を小さくできるので、高解像度化が実現できる。
を作り、偏向面上のビーム形Ｄ１が小さくなるようにし
であるので、偏向面が小さくて済み、偏向器の小型化が
実現でき、る、又、ｆθレンズ４へ入射する際のビーム
広がり角が大きいため、結像面５上での集光ビームスポ
ット径を小さくできるので、高解像度化が実現できる。
更に、ｆθレンズ４の屈折力はｆθレンズ４に入射する
ビームＬ３が平行光であった場合に比較して強くなるこ
とにより、ｆθレンズ４を偏向器３へ近づけてもｆθ特
性を確保することができるので走査幅を大きくとれ、か
つｆθレンズ４を小型化することができる。
ビームＬ３が平行光であった場合に比較して強くなるこ
とにより、ｆθレンズ４を偏向器３へ近づけてもｆθ特
性を確保することができるので走査幅を大きくとれ、か
つｆθレンズ４を小型化することができる。
（実施例）
第１図は本発明の一実施例を示す光走査装置を示す構成
図である０本実施例の光走査装置はレーザ光を発生する
光源としての半導体レーザ１と、この半導体レーザ１か
ら出射されたレーザ光Ｌ１を集光させる集光レンズ２と
、集光レンズ２からの集光ビームＬ２が一度点状の焦点
Ａを結像した後に得られるビーム光Ｌａを走査する例え
ば回転多面鏡、ガルバノミラ−等でなる偏向器３と、偏
向器３によって偏向された偏向ビームＬ３を結像面５上
で走査速度が一定となるように結像させるｆθレンズ４
とからその主要部が構成されている。
図である０本実施例の光走査装置はレーザ光を発生する
光源としての半導体レーザ１と、この半導体レーザ１か
ら出射されたレーザ光Ｌ１を集光させる集光レンズ２と
、集光レンズ２からの集光ビームＬ２が一度点状の焦点
Ａを結像した後に得られるビーム光Ｌａを走査する例え
ば回転多面鏡、ガルバノミラ−等でなる偏向器３と、偏
向器３によって偏向された偏向ビームＬ３を結像面５上
で走査速度が一定となるように結像させるｆθレンズ４
とからその主要部が構成されている。
尚、本実施例によれば半導体レーザ１から出射されたレ
ーザ光Ｌ１をすぐ集光レンズ２へ入射させているが、調
整を容易にするため半導体レーザ１と集光レンズ２との
間にコリメータレンズを介してもかまわない０次にこの
ように構成された本実施例の光走査装置の動作について
説明する。
ーザ光Ｌ１をすぐ集光レンズ２へ入射させているが、調
整を容易にするため半導体レーザ１と集光レンズ２との
間にコリメータレンズを介してもかまわない０次にこの
ように構成された本実施例の光走査装置の動作について
説明する。
半導体レーザ１で発生さ九たレーザ光はある開き角をも
って半導体レーザ１から出射され、集光レンズ２に入射
される。集光レンズ２からの集光ビームＬ２は偏向器３
の手前で一旦点状の焦点Ａを結像し、その後に得られる
ビーム光Ｌａは偏向器３の偏向面上のスポット径Ｄ１が
小さくなるように入射される。偏向器３によって偏向さ
れた開き角をもつ偏向ビームＬ３は、ｆθレンズ４に入
射し、結像面５上で走査速度が一定となるように結像さ
れる。この時ｆθレンズへ入射するビームの広がり角が
大きいので、ｆθレンズ４と偏向器３との距離を小さく
でき、かつ結像面５上のスポット径を小さくできる。
って半導体レーザ１から出射され、集光レンズ２に入射
される。集光レンズ２からの集光ビームＬ２は偏向器３
の手前で一旦点状の焦点Ａを結像し、その後に得られる
ビーム光Ｌａは偏向器３の偏向面上のスポット径Ｄ１が
小さくなるように入射される。偏向器３によって偏向さ
れた開き角をもつ偏向ビームＬ３は、ｆθレンズ４に入
射し、結像面５上で走査速度が一定となるように結像さ
れる。この時ｆθレンズへ入射するビームの広がり角が
大きいので、ｆθレンズ４と偏向器３との距離を小さく
でき、かつ結像面５上のスポット径を小さくできる。
（発明の効果）
以上、詳細に説明したように本発明によれば、偏向面上
のスポット径が小さくなるので偏向器の小型化が可能に
なる。又、ｆθレンズへ入射する際のビーム広がり角が
大きいので、結像面上での集光ビームスポット径が小さ
くでき、高解像度化が可能になる。更にｆθレンズを偏
向器に近づけれるので走査幅を広くとれ、かつｆθレン
ズの小型化が可能となり、光走査装置全体の小型化、低
コスト化が実現できる。
のスポット径が小さくなるので偏向器の小型化が可能に
なる。又、ｆθレンズへ入射する際のビーム広がり角が
大きいので、結像面上での集光ビームスポット径が小さ
くでき、高解像度化が可能になる。更にｆθレンズを偏
向器に近づけれるので走査幅を広くとれ、かつｆθレン
ズの小型化が可能となり、光走査装置全体の小型化、低
コスト化が実現できる。
第１図は本発明の一実施例の光走査装置に示す構成図、
第２図は従来の光走査装置の一例を示す構成図である。 １・・・・・・半導体レーザ ２・・・・・・集光レンズ ３・・・・・・偏向器 ４・・・・・・ｆθレンズ ５・・・・・・結像面 Ｌｌ・・・・・・レーザ光 Ｌ２・・・・・・集光ビーム Ｌ３・・・・・・偏向ビーム Ａ・・・・：・焦点 Ｄｌ・・・・・・スポット径 特許出願人 コバル電子株式会社 第１図
第２図は従来の光走査装置の一例を示す構成図である。 １・・・・・・半導体レーザ ２・・・・・・集光レンズ ３・・・・・・偏向器 ４・・・・・・ｆθレンズ ５・・・・・・結像面 Ｌｌ・・・・・・レーザ光 Ｌ２・・・・・・集光ビーム Ｌ３・・・・・・偏向ビーム Ａ・・・・：・焦点 Ｄｌ・・・・・・スポット径 特許出願人 コバル電子株式会社 第１図
Claims (1)
- レーザ光を発生する光源としての半導体レーザと、この
半導体レーザから出射されたレーザ光を集光させる集光
レンズと、この集光レンズからの集光ビームが一度点状
の焦点を結像した後に得られるビーム光を走査する偏向
器と、偏向された偏向ビームを結像面上で走査速度が一
定となるように結像させるｆθレンズとで構成したこと
を特徴とする光走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28392688A JPH02130516A (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28392688A JPH02130516A (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02130516A true JPH02130516A (ja) | 1990-05-18 |
Family
ID=17672000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28392688A Pending JPH02130516A (ja) | 1988-11-11 | 1988-11-11 | 光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02130516A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006059607A1 (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-08 | Nidec Sankyo Corporation | 光ビーム走査装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62278521A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光ビ−ム走査装置 |
| JPS63146015A (ja) * | 1986-02-06 | 1988-06-18 | Asahi Optical Co Ltd | レ−ザ−ビ−ムプリンタ等の走査光学系 |
-
1988
- 1988-11-11 JP JP28392688A patent/JPH02130516A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63146015A (ja) * | 1986-02-06 | 1988-06-18 | Asahi Optical Co Ltd | レ−ザ−ビ−ムプリンタ等の走査光学系 |
| JPS62278521A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光ビ−ム走査装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006059607A1 (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-08 | Nidec Sankyo Corporation | 光ビーム走査装置 |
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