JPH0212953B2 - - Google Patents

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JPH0212953B2
JPH0212953B2 JP55007702A JP770280A JPH0212953B2 JP H0212953 B2 JPH0212953 B2 JP H0212953B2 JP 55007702 A JP55007702 A JP 55007702A JP 770280 A JP770280 A JP 770280A JP H0212953 B2 JPH0212953 B2 JP H0212953B2
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JP
Japan
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formula
cephalosporin
mixture
hydrogen
solution
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JP55007702A
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Atsushaa Gerudo
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Sandoz GmbH
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Biochemie GmbH
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Publication date
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Publication of JPH0212953B2 publication Critical patent/JPH0212953B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/187-Aminocephalosporanic or substituted 7-aminocephalosporanic acids
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/26Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group
    • C07D501/28Methylene radicals, substituted by oxygen atoms; Lactones thereof with the 2-carboxyl group with the 7-amino radical acylated by an aliphatic carboxylic acid, which is substituted by hetero atoms

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
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  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、式 〔式中、R1は同一または異なつていてよく、
各々水素またはエステル基の残基である。R2
よびR3は同一または異なつていてよく、各々水
素、ニトロ、シアノまたは低級アルコキシカルボ
ニルである。〕 の化合物を提供することにある。
また、本発明は、 a 式 〔式中、R1は前記と同意義。〕 の化合物を式 〔式中、R2およびR3は前記と同意義。R4は低
級アルキルである。〕 の化合物と反応させること、 b 式b 〔式中、R2およびR3は前記と同意義。R″1
各々水素またはエステル基の残基であるが、少な
くとも1つは水素である。〕 の化合物をエステル化することによつて式a 〔式中、R2およびR3は前記と同意義。R′1の1
つはエステル基の残基であり、残りは水素または
エステル基の残基である。〕 の化合物を製造すること、 により特徴付けられる式の化合物の製法を提供
することにある。
方法a)は、不活性溶媒または溶媒混合物中
で、例えば水性媒体または水と水混和性溶媒(例
えばエタノールまたはアセトン)の混合物中で実
施することが好適であるが、水中で行うのが好ま
しい。反応は、室温〜60℃、好ましくは30〜40
℃、特に約35℃の温度で行うのが好適である。
R1が水素である式の化合物は、塩、例えばア
ルカリ金属塩、例えばモノまたはジナトリウム塩
の形態で使用してよい。かかる化合物は水和物の
形態であつてもよい。
方法b)は、例えば後記実施例に例示されてい
るのと同様に、セフアロスポリンC(各R1が水素
である式の化合物)の相当するエステルを製造
するための公知方法で実施されてよい。エステル
化は、ジクロロメタンのような不活性溶媒中、誘
導すべきエステル残基の適当な反応性誘導体を使
用して実施することが好適である。例えば、ベン
ズヒドリルエステル体は、例えば二酸化マンガン
の存在下、ベンゾフエノンヒドラゾンと反応させ
ることによつて製造してよい。他方、トリアルキ
ルシリルエステル体は、例えば塩基(例えばピリ
ジン、トリエチルアミンまたはN,N―ジメチル
アニリンもしくはこれらの混合物)の存在下、ト
リアルキルハロシランと反応させることによつて
製造してよい。
得られる式の化合物は、通常の技術を使用し
て単離および精製してよい。R1の1つまたは両
者が水素である化合物を必要とする場合は、通常
の方法で塩形態、例えばアルカリ金属塩形態に変
換してよく、またその逆も可能である。
式の化合物は、中間体として有用である。特
に、これを周知の脱アシル化操作によつて、式 〔式中、R1は前記と同意義。〕 の7―ACAおよびそのエステルに変換してよい。
式の化合物は、勿論、半合成セフアロスポリ
ン類を製造するための基本中間体である。
式の化合物を形成するための式の化合物の
脱アシル化は、例えばセフアロスポリンCを脱ア
シル化して7―ACAを製造するためによく知ら
れた方法で達成してよい。好ましい方法は、例え
ばPCI5と反応させて例えばイミノクロライドを
形成し、例えば低級エタノールで処理してイミノ
エーテルに変換しおよび例えば酸水溶液中で加水
分解することを包含する、いわゆるイミノハライ
ド/イミノエーテル脱アシル化行程である。この
方法は、英国特許第1041985号および対応特許に
セフアロスポリンCの脱アシル化のために最初に
説明されたが、この方法の変形が数多く更に公表
されている(例えば英国特許第1119806号、同第
1239814号、同第1241655号、同第1270448号)。
R1がエステル基の残基である式の化合物は、
そのままその後の反応に使用されてよく、あるい
は公知方法で、例えば加水分解によつて7―
ACA自体(R1=H)に変換してよい(これはあ
る種のエステルの場合には反応混合物中で自然に
起こる)。
周知の如く、セフアロスポリンCのような強親
水性抗生物質の取得および単離は困難である。該
抗生物質は、一連の労力を要する吸着またはクロ
マトグラフ法工程によつて精製されなければなら
ないが、あるいは側鎖の遊離アミノ基の化学誘導
体化によつて酸性PH条件下で抽出可能な誘導体に
変換されなければならない。
化学誘導体化は酸塩化物によるアシル化によつ
て一般に達成されるが、該塩化物は水性環境の存
在によつて非常に過剰に使用されねばならないの
が通常である。従つて、副反応が起こり、抗生物
質は労力を要して単離および精製されねばならな
い。
本発明化合物の形成は、セフアロスポリンC培
養液中で容易に且つ好収率で達成されることが
判明した。特に有利なことは、式のオレフイン
が水性加水分解に対して大いに安定であるので、
公知方法とは異なり、大過剰使用する必要がない
ことである。副反応も大いに避けられる。
従つて、本発明は、式の誘導体の形態で好収
率でセフアロスポリンCを単離し、続いて7―
ACAまたはそのエステルに公知方法で好収率で
変換するための便利な手段を提供する。
式の化合物において、R1によつて形成され
るエステル基は、セフアロスポリン化学、特に7
―ACA取得のための脱アシル化方法において使
用される通常のエステル保護基であればいずれで
あつてもよい。しかし、好ましいエステル基は、
トリアルキルシリル基およびベンズヒドリル基で
ある。R1の基とR2およびR3の基は、両者が水素
以外である場合には、同じであることが好まし
い。アルコキシ基またはアルキル基について使用
する場合、「低級」という言葉は、好ましくは炭
素原子1〜4、例えば1〜2を意味する。
式およびの出発物質は、公知であるか、ま
たは入手可能な物質から通常の方法で製造してよ
い。
次に実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例 1 N―(2―ニトロ―2―カルベトキシ)―ビニ
ル―(1)―セフアロスポリンC:― 14.2gのセフアロスポリンCモノニトリウム塩
二水和物を30mlの水に溶解する。2.52gの炭酸水
素ナトリウムを撹拌しながら少量ずつ加える。ガ
ス発生が終了した後、残留二酸化炭素を約35℃に
加温することによつて溶液から除去する。10mlの
水を加え、次いで15mlのアセトンに溶解した5.7
gの(エトキシメチレン)(ニトロ)酢酸エチル
エステルを加える。1時間室温で撹拌後、アセト
ンを蒸発除去し、水相を酢酸エチルで抽出する。
水相のPHを2に調整し、混合物を新しい酢酸エチ
ルで抽出する。酢酸エチル相で水で洗い、乾燥す
る。溶媒除去後、残渣をジイソプロエーテルを入
れてこすり、乾燥して、標記化合物を得る。融点
95〜100℃(分解)。
実施例 2 N―(2―ニトロ―2―カルベトキシ)―ビニ
ル―(1)―セフアロスポリンC:― 14.2gのセフアロスポリンCモノナトリウム塩
二水和物を300mlの水に溶解し、この溶液を1Nの
NaOHでPH8に調整する以外は、実施例1と同
様の方法で標記化合物を得る。(エトキシメチレ
ン)(ニトロ)酢酸エチルエステルは、150mlのア
セトンに溶解する。
実施例 3 N―(2―ニトロ―2―カルベトキシ)―ビニ
ル―(1)―セフアロスポリンC:― 1当り12gの活性剤を含む1000mlのセフアロ
スポリンC発酵の精製培養液(これから抗生物
質的に不活性な不純物は通常の方法で除去されて
いる)を減圧下ブタノールによる共沸蒸溜によつ
て約300mlに濃縮する。水相をフイルターセル上
で過し、液を1NのNaOHでPH8に調整する。
この溶液に150mlのアセトンに溶解した5.7gの
(エトキシメチレン)(ニトロ)酢酸エチルエステ
ルを加える。2時間室温で撹拌後、実施例1と同
様にして標記化合物を形成する。
実施例 4 N―(2,2―ジカルベトキシ)―ビニル―(1)
―セフアロスポリンC:― 14.2gのセフアロスポリンCモノナトリウム塩
二水和物を30mlの水に溶解し、ジナトリウム塩の
溶液を実施例1と同様に調製する。この溶液に15
mlのアセトンに溶解した6mlの(エトキシメチレ
ン)マロン酸ジエチルエステルを加え、混合物を
室温で6時間撹拌する。標記化合物を実施例1と
同様に形成し、ジイソプロピルエーテルを入れて
こすり、五酸化リン上で減圧乾燥する。融点>80
℃(分解)。
実施例 5 N―(2,2―ジカルベトキシ)―ビニル―(1)
―セフアロスポリンC:― 14.2gのセフアロスポリンCジナトリウム塩を
150mlの水に溶解し、PHを1NのNaOHで8.2に調
整する。この溶液に50mlのアセトンに溶解した6
gの(エトキシメチレン)マロン酸ジエチルエス
テルを加え、混合物を30℃で5時間撹拌する。標
記化合物を実施例1と同様に形成する。
実施例 6 N―(2,2―ジカルベトキシ)―ビニル―(1)
―セフアロスポリンC:― 培養液をまず150mlに濃縮し、150mlのアセト
ンに溶解した6mlの(エトキシメチレン)マロン
酸ジエチルエステルの溶液を加え、混合物を35℃
で8時間撹拌する以外は、実施例3と同様の方法
で標記化合物を得る。
実施例 7 N―(2―カルベトキシ―2―シアノ)―ビニ
ル―(1)―セフアロスポリンC:― 14.2gのセフアロスポリンCモノナトリウム塩
二水和物を30mlの水に溶解し、同量の1Nの
NaOHを加える。この溶液に15mlのアセトンに
溶解した4.84gの(エトキシメチレン)(シアノ)
酢酸エチルエステルを加え、混合物を室温で4時
間撹拌する。アルカリ性溶液を酢酸エチルで抽出
し、有機相を捨てる。水相をPH2に酸性化し、酢
酸エチルで抽出する。酢酸エチル抽出物を水で洗
い、乾燥する。溶媒を除去し、ジイソプロピルエ
チルエーテルを入れこすつて、標記化合物を得
る。融点100〜113℃(分解)。
実施例 8 N―(2,2―ジシアノ)―ビニル―(1)―セフ
アロスポリンC:― 15mlのアセトンに溶解した3.66gのエトキシメ
チレンマロン酸ジニトリルの溶液を使用し、実施
例1と同様の方法で標記化合物を得る。融点98〜
110℃(分解)。
実施例 9 N―(2―ニトロ―2―カルベトキシ)―ビニ
ル―(1)―セフアロスポリンCビス―ベンズヒド
リルエステル:― 8.62gのベンゾフエノンヒドラゾンを86mlのジ
クロロメタンに溶解し、13gの二酸化マンガンと
1時間撹拌する。二酸化マンガンを去し、
11.16gのN―(2―ニトロ―2―カルベトキシ)
―ビニル―(1)―セフアロスポリンCの溶液を加え
る。ガス発生が終わるまで混合物を室温で撹拌す
る。溶媒を蒸発除去し、残渣を酢酸エチル中に取
り上げる。酢酸エチル相をまず炭酸水素ナトリウ
ム溶液で次いで水で抽出し、硫酸ナトリウムで乾
燥する。溶媒除去後、標記化合物がはちみつ着色
残渣として残り、これをジイソプロピルエーテル
を入れてこすることによつて結晶化させる。融点
80〜83℃。
実施例 10 N―(2,2―ジカルベトキシ)―ビニル―(1)
―セフアロスポリンCビス―ベンズヒドリルエ
ステル:― 11.72gのN―(2,2―ジカルベトキシ)―
ビニル―(1)―セフアロスポリンCと8.62gのベン
ゾフエノンヒドラゾンから実施例9と同様にして
標記化合物を製造する。融点65〜68℃。
実施例 11 7―アミノセフアロスポラン酸(7―ACA):
― 2.85gのN―(2―ニトロ―2―カルベトキ
シ)―ビニル―(1)―セフアロスポリンCを150ml
の乾燥ジクロロメタンに懸濁し、3.02mlのピリジ
ンを加えて、溶液を作る。5.02mlのトリメチルク
ロロシランを加え、混合物を+30℃で2時間撹拌
する。混合物を−12℃に冷却し、更に6.34mlのピ
リジンを加える。50mlの乾燥ジクロロメタンに溶
解した4.15gの五塩化リンの溶液を温度が−10℃
以上に上昇しないように加える。混合物を−10℃
で更に40分間撹拌する。−20℃に予冷した78mlの
メタノールを温度が−10℃以上に上昇しないよう
に溶液に滴下する。混合物を−10℃で30分間そし
て室温で30分間撹拌する。混合物をロータリーエ
バポレータで蒸発させ、残渣を(トリエチルアミ
ンの添加によつてPHを2に調整した)10mlの50%
ギ酸中に取り上げる。混合物を室温で更に45分間
撹拌し、次いでトリエチルアミンの添加によつて
PH3.3に調整する。混合物に少量の7―ACAの種
をまき、冷蔵庫に夜通し放置して標記化合物を結
晶化させ、これを別し、ジクロロメタンとエー
テルで洗い、乾燥させる。
実施例 12 7―アミノセフアロスポラン酸(7―ACA):
― 実施例11と同様にして、2.93gのN―(2,2
―ジカルベトキシ)―ビニル―(1)―セフアロスポ
リンCから標記化合物を得る。
実施例 13 7―アミノセフアロスポラン酸ベンズヒドリル
エステル:― 4.46gのN―(2―ニトロ―2―カルベトキ
シ)―ビニル―(1)―セフアロスポリンCビス―ベ
ンズヒドリルエステルを35mlの乾燥ジクロロメタ
ンに溶解し、4.03mlのピリジンを加える。溶液を
−20℃に冷却し、50mlの乾燥ジクロロメタンに溶
解した2.4gの五塩化リンの溶液を温度が−10℃
以上に上昇しないように撹拌しながら滴下する。
混合物を−10℃で45分間撹拌する。−10℃に予冷
した28mlのメタノールを温度が0℃に上昇するよ
うに一度に加える。混合物を−10℃で更に30分間
そして室温で1時間撹拌する。100mlの氷冷した
1Nの塩酸を加え、混合物を0℃で更に45分間撹
拌する。2NのNaOHを添加してPHを8に調整し、
水相を分離する。有機相を乾燥し、蒸発させる。
ジイソプロピルエーテルを入れこすつて標記化合
物を得る。
実施例 14 7―アミノセフアロスポラン酸ベンズヒドリル
エステル:― 4.59gのN―(2,2―ジカルベトキシ)―ビ
ニル―(1)―セフアロスポリンCビス―ベンズヒド
リルエステルから実施例13と同様の方法で標記化
合物を得る。
実施例 15 7―アミノセフアロスポラン酸(7―ACA):
― 2.79gのN―(2―ニトロ―2―カルベトキ
シ)―ビニル―(1)―セフアロスポリンCを30mlの
乾燥塩化メチレンに懸濁し、0.7mlのトリエチル
アミンを加えて溶液を形成する。この溶液に1.5
mlのN,N―ジメチルアニリンと1.27mlのトリメ
チルクロロシランを加え、混合物を室温で更に1
時間撹拌する。混合物を−15℃に冷却し、1.25g
の五塩化リンを少量ずつ加える。混合物を−15℃
で更に2時間撹拌し、15mlのブタノールを温度が
−10℃を越えないように滴下する。−10℃で2時
間撹拌後、30mlの水を加え、相分離し、水相をPH
3.5に調整し、10mlのメチルイソブチルケトンの
層でカバーする。得られる沈殿物を夜通し冷却
し、別し、プロパノールで洗う。
実施例 16 7―アミノセフアロスポラン酸(7―ACA):
― 1.61gの五塩化リンを20mlの乾燥ジクロロメタ
ンに懸濁し、撹拌しながら0.63mlのピリジンと混
合する。混合物を30℃で半時間撹拌し、0℃に冷
却する。4.46gのN―(2―ニトロ―2―カルベ
トキシ)―ビニル―(1)―セフアロスポリンCビス
―ベンズヒドリルエステルを数回に分けて加え、
混合物を5℃で半時間撹拌する。混合物を−15℃
に冷却し、撹拌しながら9mlのブタノールと混合
する。混合物を−10℃で更に30分間そして室温で
30分間撹拌し、10mlの氷水と混合する。ジクロロ
メタン相を水で洗い、蒸発させて乾燥する。残渣
を4mlのギ酸中に取り上げ、50℃で1時間撹拌す
る。ギ酸を減圧除去し、残渣を25mlの0.2Nの
HClと酢酸エチルの間に分配させる。水相をPH
3.5に調整して標記化合物を結晶させる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中、R1は同一または異なつていてよく、
    各々水素またはエステル基の残基である。R2
    よびR3は同一または異なつていてよく、各々水
    素、ニトロ、シアノまたは低級アルコキシカルボ
    ニルである。〕 の化合物、およびR1の一方または両方が水素で
    ある該化合物の塩。 2 式 〔式中、R1は同一または異なつていてよく、
    各々水素またはエステル基の残基である。〕 で示される化合物を、式 〔式中、R2およびR3は同一または異なつてい
    てよく、各々水素、ニトロ、シアノまたは低級ア
    ルコキシカルボニル、R4は低級アルキルであ
    る。〕 で示される化合物と反応させることからなる、 式 〔式中、R1,R2およびR3は前記と同意義。〕 で示される化合物の製法。 3 式b 〔式中、R2およびR3は同一または異なつてい
    てよく、各々水素、ニトロ、シアノまたは低級ア
    ルコキシカルボニル、R″1は各々水素またはエス
    テル基の残基であるが、少なくとも1つは水素で
    ある。] で示される化合物をエステル化することにより、 式a 〔式中、R2およびR3は前記と同意義。R′1の1
    つはエステル基の残基であり、残りは水素または
    エステル基の残基である。] で示される化合物を製造することから成る、上記
    式aの化合物の製法。
JP770280A 1979-01-25 1980-01-24 Novel cephalosporin derivative* its manufacture and use Granted JPS55100392A (en)

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FR (1) FR2447381A1 (ja)
GB (1) GB2040942B (ja)
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IL (1) IL59202A (ja)
IT (1) IT1127336B (ja)
NL (1) NL8000337A (ja)
NZ (1) NZ192689A (ja)
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