JPH02129146A - 1,3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル)4−フルオロベンゼンのジアクリレートまたはジメタクリレートおよびこれらを成分とする高分子材料および光硬化性歯科用レジン組成物 - Google Patents

1,3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル)4−フルオロベンゼンのジアクリレートまたはジメタクリレートおよびこれらを成分とする高分子材料および光硬化性歯科用レジン組成物

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JPH02129146A
JPH02129146A JP63281641A JP28164188A JPH02129146A JP H02129146 A JPH02129146 A JP H02129146A JP 63281641 A JP63281641 A JP 63281641A JP 28164188 A JP28164188 A JP 28164188A JP H02129146 A JPH02129146 A JP H02129146A
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dimethacrylate
diacrylate
bis
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fluorobenzene
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Tadashi Hirasawa
平澤 忠
Shigeru Hirabayashi
茂 平林
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Original Assignee
Central Glass Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は新規な1.3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフ
ルオロイソプ【Iビル)4−フルオロベンゼンのジアク
リレートまたはジメタクリレートおよびこれらを成分と
する高分子材料、さらにはこれらを成分とする歯牙硬組
織の人工代替材料としての歯科用コンポシフトレジン組
成物に関するものである。
本発明により提供される新規な1.3−ビス(2−ヒド
ロキシへキサフルオロインプロピル)4−フルオロベン
ゼンのジアクリレートまたはジメタクリレートは単独で
重合させるか、または、各種のオレフィン性二重結合を
有する化合物と共重合させることによって、種々の有用
な含フツ素ポリマーと成り、熱的−化学的安定性、耐水
性、潤滑性、耐汚染性等に優れた高分子材料として種々
の産業分野への応用が可能である。また、ジアクリレー
トまたはジメタクリレートであるので、はとんどの重合
触媒により硬化し要求の高い常温下でも硬化することが
でき、さらに低屈折率を有するために特殊な分野への応
用も可能である0例えば、低屈折率および常温硬化性の
要求される光通信ケーブル用の光学接着剤や、低屈折率
、耐水性および常温硬化性の要求されるm !4川樹脂
等として利用することができる。
[従来の技術] 従来、ジアクリレートまたはジメタクリレートは、光学
材ネ4、歯科材料、各種高分子の架橋剤等、機能性高分
子材料として広範な産業分野で用いられているが、近年
まずます高い機能が要求されるようになってきている。
例えば、より高い耐熱性、化学的安定性、潤滑性、耐水
性、低屈折率等があげられる。しかしながら、これらの
要求に対し、通常の芳香族系あるいは脂肪族系ジアクリ
レートまたはジメタクリレートを用いた場合必ずしも満
足のいくものではないのが実状である。
一般に、脂肪族系ジアクリレートは光硬化性に優れるも
のの、芳香族系に比較して耐水性に劣る。
芳香族系ジアクリレートまたはジメタクリレートは耐熱
性、化学的安定性、耐水性に優れるものの、脂M族系に
比較して屈折率が高い。
例tば、光学接着剤の場合、ガラス等の光学部材との屈
折率の整合性をはかる必要から低屈折率であること、接
着作業時に周辺部材に高温をり・えぬように低温で硬化
する材料が要求されている。
これまでに、屈折率を低下させるために、フッ素原子を
含有した下記化学式(■) で表されるエポキシ樹脂を用いる方法(特開昭60−1
10775号)や、硬化剤としてフッ素原子を多量に含
有する酸無水物を用いる方法(特開昭61−44969
号)が提案されてきた。しかし、これらの方法では硬化
時に高温に加熱しなければならないという欠点があった
。また、エポキシ基ζこエチレン性不飽和基を導入した
下記化学式(III)で表されるエポキシアクリレート
樹脂を用いる方法(特開昭82−221654号)や、
フッ素原子を含有した下記−船人(B’) F3 (式中には水素原子またはメチル基を示す。)で表され
る芳香族ジアクリレートまたはジメタクリレートを用い
る方法(特願昭63−60288号)が提案されている
。これらの材料は不飽和基を有するので常l!■硬化性
であるが、そのポリマーのm折率はそれぞれn 01.
525.1.504.1.505とまだ比較的ρ1い。
一方、フッ素を含有していないエポキシ樹脂にエチレン
性不飽和基を導入したエポキシアクリレート樹脂は接着
性や耐熱性に優れると同時に、不飽和基の存在により常
温硬化性を有するものの、そのポリマーの屈折率は一般
のフッ素を含まないエポキシ樹脂と同程度に高い。
また、例えば、歯科用コンポシフトレジンの場合、歯牙
硬&I]純の代替材料であるから高強度でな(すればな
らず、口腔内のl−潤環境下で使用されることから耐水
性に優れること、さらに光硬化性のものではガラスフィ
ラーとの屈折率の整合性を得るために低屈折率であるこ
となどが要求される。
これまでに、強度を高めるためにフッ素を含有しないビ
スフェノール基を骨格とするジメタクリレート、例えば
、2.2−ビス[4−(2’−ヒドロキシ−31−メタ
クリロキシプロポキシ)フェニル]プロパン(米国特許
第3179Ei23号、以下His−GMAと略記する
。)や2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキシフェ
ニル)プロパン(米国特許第3597389号、以FB
is−MEl’Pと略記する。)などがマトリックスモ
ノマーとして用いられている。前者は分子内に水酸基を
有するためやや154水性に劣り、両者とも機械的強度
は高いが、フィラーとして用いられるシリカガラスの1
11折率よりもかなり高い屈折率を有するため、コンポ
ジフトレジンの光透過性が低くなり光硬化深さが浅いと
いう欠点があった。そのため、これらの七ツマ−は単独
では用いられず、低屈折率を有する脂肪族系のジアクリ
レートやジメタクリレートのを多量に配合して用いられ
ている。しかし、それら脂肪族系のジアクリレートやジ
メタクリレートの重合体は相対的に吸水性であり、また
強度も低いという欠点があった。
一方、芳香族ジメタクリレートまたはジアクリレートの
屈折率を低下させるために、前記式(III)および(
IV)で示した含フツ素芳香族ジメタクリレートまたは
ジアクリレートを用いる方法も提案されてきた。しかし
、これらの材料は高強度、耐水性に優れるものの、重連
したようにまだ屈折率が高く、フィラーとの屈折率の整
合性を得るためには脂肪族系のジアクリレートやジメタ
クリレートを配合して使用する必要がある。また、フッ
素7を換ビスフI−ル基に直接アクリロキシ基またはメ
タクリロキシ基を導入した2、2〜ビス(4−アクリロ
キシフェニル)へキサフルオロプロパン、 2.2−ビ
ス(4−メタクリV」キシフェニル)へキサフルオロプ
ロパンについても開示されている(特開昭旧−2387
81)。しかし、これらはいずれも結晶性のモノマーで
あり、他のモノマーとの相溶性に乏しく、その使用範囲
が限定されるという欠点があった。
[発明が解決しようとするIiRg点]本発明の目的は
、光学材料、歯科材料、各種高分子架橋剤等の機能性高
分子材料として有用な常温硬化性で、耐熱性、化学的安
定性、耐水性、潤滑性、強度等に優れており、同時に低
屈折率を有する材料の提供にある。
[tin MJ点を解決するための手段]ノア素置換化
合物が厚化合物に比較して屈折率が低下すること、さら
にフッ素の発水性による耐水性の向上が期待されること
、また芳香族系ジアクリレートやジメタクリレートは脂
肪族系に比較して耐水性、強度に優れることに着目して
、これらを組合せた分子設計をすることにより所期の目
的が達成できることを見いだし本発明に到達した。
すなわち本発明の第一の発明は下記−船人(Z)(式中
、Rは水素原子またメチル基を表を表す、)でノアSさ
れる!、3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフル第11イ
ノプロピル)4−フルオロベンゼンのジアクリレートま
たはジメタクリレートであり、ベンゼン環の1.3−位
にヘキサフルオロイノゾロビル基を2;I置換し、ト位
にフルオロ基を 1コ置換した骨格を有していることを
特徴とする。
L記−船人(【)で示される新規含フツ素芳香族ジアク
リレートまたはジメタクリレートは対応するジオールと
アクリル酸クロライドまたはメタクリル酸りロシイドと
の脱塩酸反応により容易に合成できる。
本発明化合物は分子内に13個のフッ素原子を有するの
で、フッ素原子を含有しない芳香族ジアクリレートまた
はジメタクリレート1こ比較してがなり低い屈折率を有
する。ジメタクリレートは結晶性であるが、ジアクリレ
ートは室温で液状の七ツマ−であり、他のモノマーとの
相溶性にも優れており、他のA°レフイン性性用重結合
有するモノマーとの共重合も常温で行うことができる。
また、はとんどの、R合様式で硬化することができる。
例えば、過酸化ベンゾイル等の過酸化物を加え加熱重合
、過酸化物−芳香族第三級アミン等のレドックス系開始
剤を用いれば常温重合も可能であり、さらに、光重合開
始剤あるいは増感剤としてベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインブチルエーテル、ベンゾフェノン、d、l−
力ンファキノン等ヲ用いることにより、高感度な光硬化
性の樹脂となる。
従ってこれを歯科用光重合コンポジフトレジンのマトリ
ックスモノマーとして用いる場合、ガラスフィラーとの
屈折率の整合性が改善され、より均質な重合体が得られ
る。また、光学接着体として用いた場合も同様にガラス
部材との屈折率の整合性が改善され、常温で硬化させる
ことができる。
さらにフ1sの発水性により、耐水性の向上も期待でき
る。
本発明の第二の発明は本発明化合物を成分とする高分子
材料であり、これらの樹脂は低屈折率てあり、しかも耐
水性、高強度、耐熱性、化学的安定性に優れたポリマー
と成る。これら新規含フツ素芳香族ジアクリレートまた
はジメタクリレートは単独で用いることも可能であるが
、特に、架橋剤として、また、他のジアクリレートまた
はジメタクリレートの共重合用として有用である。屈折
率がかなり低いので、他の高屈折率樹脂の屈折率を低下
させるのに有効となる。
本発明の第三の発明は本発明化合物の光硬化性歯科用レ
ジンへの応用である。前述したように、これらはほとん
どの重合様式で硬化でき、もちろん常温硬化も可能であ
る。これらの屈折率はフィラーよりも低いので、フィラ
ーとの屈折率整合性を改善するため脂肪族系モノあるい
はジアクリレートまたは脂肪族系モノあるいはジメタク
リレートを混合して用いることもでき、具体的にはメチ
ル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート
、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ヘキサフ
ルオロプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート。
ジまたはトリまたはテトラエチレングリコールレジ(メ
タ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、ジー2−(メタ)アクリロキシエチル−2
,2,4−トリメチルへキサメチレンジカーバメイト等
、またかなり屈折率が低いのでBisGM^、Bis−
MEPP等高屈折率を有する芳香族ジメタクリレートも
用いることができるほか各種二重結合を有するモノマー
が挙げられる。これらの中では特にトリエチレングリコ
ールジメタクリレートとジー2−(メタ)アクリロキシ
エチル−2,2,4−トリメチルへキサメチレンジカー
バイトがコンポジ1トとした場合の複合効果に優れ、圧
縮強さ、曲げ強さ、耐水性等の物性の極めて良好な複合
体が得られるものである。
ここで、その最は、用いるモノマーの種類によるが、本
発明化合物100重量部に対して300重量部までの範
囲が好ましい、この範囲を越えると、含フツ素モノマー
の特性を十分に発揮させることができず、所期の目的を
達成することができないものである。
本発明においてはフィラーを用いることが好ましく、コ
ロイダルシリカ、石英粉末、シリカガラス等が最も一般
的に用いられ、用途により適宜選択される。その量はモ
ノマー 100ffl ff1部に対して、500重敬
部までの範囲が好ましく、これ以上では賦形性、操作性
が悪くなる。また、フィラーを若干でも添加することに
より硬さ、圧縮強さ、曲げ強さ等の機械的物性は向上し
、熱膨張係数や重合収縮量が改善されるため特に下限は
ないが、−船釣にはその添加効果が十分に発揮される3
0重量部以上で使用される。また、X線造影性を付与す
る目的でストロンチウム、バリウムまたは亜鉛ガラス粉
末を配合することもでき、さらに、粘度、ffi合収縮
収縮量調節のためポリメチルメタクリレート、ポリエチ
ルメタクリレートや前記の各種ジメタクリレート硬化物
を粉砕して調整した、いわゆる有機質フィラーを混合し
て用いることも勿論可能である。
本発明の組成物は光硬化させて使用するものであり、一
般に歯科用として使用される光硬化用光源である可視光
線により硬化させるためには光重合開始剤の使用がより
効率的である。ここでいう光重合開始剤とは、いわゆる
光重合開始剤のほかに増感剤と称されるものも含むもの
であり、具体的にはベンゾイルメチルエーテル、イソプ
ロポキシベンゾイン、p−ベンゾイルベンジルプロミド
ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル、d、!−カンフアキノン、アニシル。
α−ナフトイン、ベンゾイン、アセナフテンキノン等が
挙げられる。これら光重合開始剤の量は七ツマー100
重量部に対して1〜affi量部の範囲が一般的である
また、これらに還元剤としてジメチルエチルメタクリレ
ート、ジメチル−p−)ルイジン等のアミンを添加する
とさらに硬化時間が短縮でき、好ましいものである。ま
た、さらに必要に応じ、ノ1イドロキノンモノメチルエ
ーテル、2,6−シーterL−ブチル−p−クレゾー
ル等の重合禁止剤、あるいは酸化防止剤、g外線唆収剤
9着色剤等を用いることができる0本発明組成物は公知
の歯質接着性モノマーを混合することで、耐水、耐久性
に優れる歯質接着剤として使用することもできる。
本発明化合物は、嵩高なベンゼン環の1.3−位亥たは
1.4−位にヘキサフルオflイソプロピル基を2コ置
換した骨格を存した三次元網目構造を有するため強度も
高く、フッ素による発水性により耐水性、耐汚染性に優
れる。
[実施例] 以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されない。
実施例 [l、3−ビス(2−アクリロキシへキサフルオロイソ
プロピル)4−フルオロベンゼンの合成]温度計、攪拌
機、滴下ロート、還流冷却器を取り付けた 5001の
四つロフラスコに1.3−ビス(2−ヒドロキシへキサ
フルオロイソプロピル)4−フルオ(Iベンゼン49.
2g、アクリル酸クロライド25.0g、メトキノン5
05g5 無水ニーデル :150m1を人へ氷−水浴
で5℃になるまで冷却した。攪拌下、滴下ロートからト
リエチルアミン27.9gを 1時間かけて滴下した。
さらに、内温を5〜lO℃に保ちながら、約3時間攪拌
を続けた。析出したトリエチルアミン塩酸塩を吸引ろ過
によりろ別後、エーテル 1501で洗浄した。ろ液と
あわせて、100m+の2ト水酸化ナトリウム水溶液で
洗浄、続いて飽和食塩水で中性となるまで十分に洗浄し
た。無水硫酸ナトリウムで一晩乾燥後、エバポレータで
溶媒のエーテルを留去し、目的とする1、3−ビス(2
−アクリロキシへキサフルオロイソプロピル)4−フル
オロベンゼン(以下、I 、3−BAllFr’FBと
略記する。)42.3gを得た。これを減圧蒸留により
精製し、b。
p、124−127℃15mm)Igの留分37.9g
 ′4:Iた。
生成物は赤外線吸収スペクトルおよび核磁気共鳴スペク
トルにより目的物であることを確認した。
以下にその分析結果を示した。
本赤外線吸収スペクトル(液膜法) 1770cm−” (−Cステル結合のνc=0)1[
333cm−’ (オレフィンのシC二〇)1801.
1515cm −’ (芳香族νC=C)木”H−NM
Rスペクトル (溶媒:d6アセトン、内部標準二τMS )δ= 8
.O4ppm (quartet、211)δ= Ei
、32ppm  (quartet、2B)δ= 6.
59ppm  (quartet、2H)δ = 7.
21−7.58ppm  (multiplet、3H
)本”F−NMRスペクトル (溶媒:46アセトン、内部標準: R−11)δ= 
−75,85ppm (sultipleJIF)δ 
=−71,番I−(−70,37)ppm(+oult
iplet、12F)実施例2 [1,3−ビス(2−メタクリロキシへキサフルオロイ
ノプロピル)4−フルオロベンゼンの合成]温度計、攪
拌機、滴下ロート、還流冷却器を取り付番すた 500
1の四つ目フラスコに1.3−ビス(2−ヒドロキシへ
キサフルオロイソプロピル)4−フルオロベンゼン 4
2.8g、メタクリル酸クロライド31.4g1メトキ
ノン50ta g s無水エーテル3501を入れ、氷
−水浴で 5℃になる市で冷却した。PM坤下、滴下ロ
ートからトリエチルアミン32.4gを 1時間かけて
滴下した。さらに、内温を5〜lO℃に保ちながら、約
5時間攪拌をhA(すた、析出したトリエチルアミン塩
酸塩を吸引ろ過によりろ別後、工一チルl501で洗浄
した。ろ液とあわせて、100m1の2〜 水酸化ナト
リウノ・水溶液で洗浄、続いて蒸留水で中性となるまで
十分に洗浄した。無水硫酸ナトリウムで一晩乾燥後、エ
バポレータで溶媒のエーテルを留去し、目的とする1、
3−ビス(2−メタクリロキシへキサフルオロイソプロ
ピル)4−フルオリベンゼン(以下、1.3−BM)I
FPPBと略記する)35.8g 4:得た。これを減
圧蒸留により精製し、b。
p、+ao−+a6℃/4麟511gの留分32.8g
を得、さらにこのものをメタノールにより再結晶して精
製した。
生成物は赤外線吸収スペクトルおよび核磁気共鳴スペク
トルにより目的物であることを確認した。
以下にその分析結果を示した。
本融点 53−53.5℃ 木赤外線吸収スペクトル(KFlr錠剤法)1759c
s−’ (エステル結合のしC:0)Ifi38cm−
’ (オレフィンのνC=C)1002.1514cm
 −’ (芳香族pc=c)ネ’ H−NMRスペクト
ル (溶媒:d6アセトン、内部標準: TMS )δ =
 1.98ppm  (singlet、Eilりδ=
 5.82ppm  (doublet、211)δ 
= 6.32ppm  (doublet、2H)δ=
 7.17−7.82ppIl (mulLiplet
、311)本”F−NMRxペク)/l/ (溶媒:d6アセトン、内部標準: R−11)δ= 
−75,89ppm (+5ult+plet、IF)
δ=−71.4l−(−70,37ppm >(*ul
tiplet、12F>実施例3 実施例 1.2で得た新規含フツ素ジアクリレートまた
はジメタクリμ−1・を成分とする以下に示した組成を
有する七ツマー組成物およびそれら硬化体の各種物性を
測定した。比較のためフン素を含有していない芳香族ジ
メタクリレートHis−GMAおよび口15−M[iP
Pについても同様の測定を行った。
A I、3−BAIIFPFB:TEGDM^=50:
50 mo1%B  1,3−BMRFPFB:丁E[
;D111^=50:50 IIo1′ACI、3−B
A11Fr’F8:UDMA:TEGDMA=40:4
0:20  vIoHD 1,3−BMHFPFB:t
lDMA:TEにDM^=33:33:34molχE
 1,3−BAHFPFB:LIDMA=50:50 
mo1%X  Il+s−MEPP:TE[;DMA=
50:50  mo1%V  His−GMA:TEG
DMA=50:50  tao1%(ここでTEGDM
^はトリエチレングリコールジメタクリレートを、UD
MAはジー2−メタクリロキシエチル−2,2,4−)
ジメチルへキサメチレンジカーバメイトを表す、 X、
Vの組成物は比較例である。) なお、硬化体は上記各組成物にd、I−カンフアキノン
0.5重量%、ジメチルアミノエチルメタクリレート0
.5重量%を加え、可視光線照射器で常温硬化して調製
した。
これら七ツマー組成物およびそれらの硬化体の屈折率を
γソベ屈折計を用いて測定した。また、厚さ0.5mm
の硬化体を37℃蒸留水中に1o日間浸漬後の吸水量を
測定した。測定結果を表1に示す。
表 組成物 モノマー組成物および硬化体の物性 屈折率 七ツマ− 1,431 1,432 1,451 1,453 1,458 ポリマー 1.4Ei2 +、468 1 、478 1.484 1.491 吠水量 (μ g/m口3 ) 15.0 14.2 22.6 21.2 23.2 X     1.509    1.544     
 18.9Y     1.5+4    1.548
      09.3実施例4 実施例 1,2で得た新規含フツ素ジアクリレートまた
はジメタクリレートを成分とするコンポジプトレシン組
成物の各種物性を測定した。
実施例3で用いた光重合開始剤を含有するモノマー組成
物にシラン処理した平均粒径4.3μ園の溶融石英粉を
70重量%配合して光硬化型のコンポジットレジン組成
物を調製した。これらを可視光線照射器で重合し、以下
に述べる物性を測定した。
内径411111深さ 811m1の金型に光硬化型の
コンポジットレジン組成物を充填し、市販の可視光線照
射器を20秒間照射したときの硬化部分の長さ、すなわ
ち硬化深さをマイクロメータで測定した。直径20m+
i、厚さ0.5msの硬化体を30日間37℃蒸留水中
に浸漬したときの吸水量と溶解量を測定した。
さらに、硬化体の機械的性質として、圧縮強さ、曲げ強
さ、曲げ弾性係数および歯ブラシ摩耗量を測定した。崗
ブラシ摩耗試験は、30日間水中浸漬した試料を用い、
同時に試験した市販のアクリル板(ポリメチルメタクリ
レート、以下、PMMAと略記する。)の摩耗量に対す
る比で求めた。ll定結果を表2に示した。
なお、光硬化型のコンポジットレジン組成物の略号は実
施例5で示したアルファベットのコードに準する。
[発明の効果] 本発明の化合物は1.3−ビス(2−ヒドロキシへキサ
フルオロイソプロピル)4−フルオロベンゼンの7γク
リレートおよびジメタクリレートであり、他のモノマー
との相溶性も良いため、各種高分子架橋剤として広く使
用できるだけでな(、常温硬化性、特に光硬化性に優れ
、屈折率が低いので、シリカガラスとの屈折率の整合性
を必要とする光学材料、歯科材料としても有用である。
また、それらを重合して得られる硬化体は屈折率が低く
、耐水性に優れ、従来の芳香族ジメタクリレートの硬化
体に匹敵する機械的強度も有することから、光学材料、
歯科材料、機能性高分子材料などきわめて広範囲の分野
での応用が可能である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは水素原子またメチル基を表を表す。)で示
    される1,3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイ
    ソプロピル)4−フルオロベンゼンのジアクリレートま
    たはジメタクリレート。
  2. (2)一般式( I )で示される1,3−ビス(2−ヒ
    ドロキシヘキサフルオロイソプロピル)4−フルオロベ
    ンゼンのジアクリレートまたはジメタクリレートを成分
    とする高分子材料。
  3. (3)次の各成分、 (a)一般式( I )で示される1,3−ビス(2−ヒ
    ドロキシヘキサフルオロイソプロピル)4−フルオロベ
    ンゼンのジアクリレートまたはジメタクリレートを10
    0重量部、 (b)脂肪族系モノあるいはジメタアクリレート、また
    は脂肪族系モノあるいはジアクリレートを0〜300重
    量部、 (c)(a)と(b)の合計100重量部に対して、フ
    ィラー0〜500重量部、 (d)(a)と(b)の合計100重量部に対して、光
    重合開始剤0〜3重量部 から成り、(b)、(c)、(d)成分のうち1種以上
    の成分を包含せしめたことを特徴とする光硬化性歯科用
    レジン組成物。
JP63281641A 1988-11-08 1988-11-08 1,3−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル)4−フルオロベンゼンのジアクリレートまたはジメタクリレートおよびこれらを成分とする高分子材料および光硬化性歯科用レジン組成物 Pending JPH02129146A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010195859A (ja) * 2009-02-23 2010-09-09 Tosoh F-Tech Inc 低屈折率薄膜組成物及び低屈折率硬化薄膜

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