JPH02129144A - 高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法 - Google Patents

高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法

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JPH02129144A
JPH02129144A JP28239988A JP28239988A JPH02129144A JP H02129144 A JPH02129144 A JP H02129144A JP 28239988 A JP28239988 A JP 28239988A JP 28239988 A JP28239988 A JP 28239988A JP H02129144 A JPH02129144 A JP H02129144A
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JP
Japan
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organic solvent
nonpolar organic
filtrate
filtered
oxalate
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Pending
Application number
JP28239988A
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English (en)
Inventor
Tetsuo Kobayashi
小林 徹夫
Kenichi Saito
斉藤 憲一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Peroxide Co Ltd
Original Assignee
Nippon Peroxide Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェ
ニル)オギザレート (以下、TCPOと称す)の簡易
な製造方法に関する。TCPOは、化学ルミネセンスに
於ける発光剤として有用な物質であり、蛍光剤および酸
化剤と反応させた時、化学ルミネセンス光(冷光)が得
られるものである。
従来の技術 TCPOの製造方法としては、 トリエチルアミンの存
在下、トリクロロフェノールとシュウ酸塩化物とをベン
ゼン中で反応後、該反応スラリー(反応液)をそのまま
蒸発乾固し、得られた固体をクロロホルムで抽出し、そ
の溶液を真空蒸発乾固し、更にベンゼンに溶解したのち
再結晶するといった煩雑な工程によって、目的の反応生
成物を取得する方法が特公昭46−7568号公報に開
示されている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、この方法は、反応後の反応スラリー(反
応液)をそのまま蒸発乾固することによって、目的のT
CPOを取得する方法であるため、必然的に未反応原料
及び副生成物等の不純物の全てが、該目的物中に含有さ
れることになり、別途に洗浄工程、更には再結晶工程を
設ける必要があり、工程的に煩雑なものである。また、
この方法は、高純度品を得ることが出来ないものである
TCPO中の不純物は、化学発光を阻害する原因となる
ものであり、蛍光剤および酸化剤と反応させた際、発光
が不十分であったり、場合によっては、全く発光しない
時もあるため、これら不純物は可及的に少なくすること
が要求される。
本発明者等は特に第1工程に濾過工程を設けることで、
不純物を簡単に、且つ、はぼ完全に取除くことが出来き
ることを見出し、本発明を完成した。
課題を解決するための手段 即ち、本発明は、第三級アミンの存在下、2,4゜6−
トリクロロフェノールと塩化オギザリルとを無極性有機
溶媒中で反応させて、ビス(2,4,8−)リクロロフ
ェニル)オギザレートを製造する方法において、 ■該反応液を濾過して、不純物を濾液として取り除く第
1工程 ■第1工程で得られる濾過ケーキを無極性有機溶媒に加
熱溶解した後、濾過して第三級アミンの塩酸塩を取り除
く第2工程 および ■第2工程で得られる濾液を冷却して、反応生成物を晶
析させる第3工程 とを有することを特徴とする高純度なビス(2,4゜6
−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法
に間する。
本反応において、塩化オギザリルの添加量は反応系(反
応物質あるいは反応溶媒中)に存在する若干量の水の影
響を回遊するため、理論量よりも少量多めに添加するこ
とが好ましい、しかし、多すぎ春でも副反応を惹起する
ので、理論量の1.025〜1.05倍モル添加するこ
とが好ましい。
反応中に相当量の不純物が含まれるものは、再結晶して
も高純度のものが得られにくく、発光性物質としては不
適当なものとなる。また、反応温度が高すぎる場合にも
副反応が多くなり、高純度のTCPOが得られにくくな
る0反応温度は10〜30℃に調節することが好ましい
、尚、塩化オギザリルは刺激性の強い液体であるため反
応系に添加するに際しては、トルエン等の溶剤に溶解し
て使用することが作業性あるいは危険性防止上好ましい
第2工程は、副生成物である第三級アミンの塩酸塩が、
トルエン等の無極性有機溶媒に不溶性であることを利用
して、該不純物を濾過によって除去する方法であるが、
その濾過温度が低すぎるとTCPOの結晶が析出してく
るので、濾過温度は60〜80℃に調節することが好ま
しい。
第3工程における晶析は、室温まで放冷したのち、0℃
近くまで冷却するようにする。
発明の効果 本発明方法により製造されたTCPOは、その純度が極
めて高いため、化学発光剤として使用した際、発光体の
発光が不十分だったり、発光しなかったりというトラブ
ルを全く起こさないものであり、且つ、本発明は、簡易
な方法であるために′r c p oの極めて有利な製
造方法となる。
実施例 実施例1 51の三ツロフラスコにトリクロロフェノール395g
(2,0モル)、トリエチルアミン202g(2,0モ
ル)、 トルエン1520gを入れ、溶解するまで攪拌
する。一方、温度を約25℃に保ちつつ、塩化オギザリ
ル130gを含むトルエン溶液325gを約1時間かけ
て滴下、攪拌する0滴下終了後、2時間、約25℃に保
ちつつ攪拌を続ける。反応が進むにつれて、トリエチル
アミンの塩酸塩と共にTCPOが析出してくる。その後
、反応溶液を03のガラスフィルターにて濾過し、不純
物をnN1に移す、濾過ケーキはトルエンを加え約80
℃で加熱溶解する。添加するトルエンの量はTCPOの
濃度が約16%になるようにGPC(タールバーミッシ
ョンク0マトク゛ラフイー) で測定して加え る。
約70℃で加熱濾過した濾液を室温まで放置した後、0
℃近くまで冷却し、純度99.9%のTCPOを293
g得た。その収率は65.2%であった。尚、純度はG
PCで測定した。
日本パーオキサイド株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第三級アミンの存在下、2,4,6−トリクロロフ
    ェノールと塩化オギザリルとを無極性有機溶媒中で反応
    させて、ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギ
    ザレートを製造する方法において、 (1)該反応液を濾過して、不純物を濾液として取り除
    く第1工程 (2)第1工程で得られる濾過ケーキを無極性有機溶媒
    に加熱溶解した後、濾過して第三級 アミンの塩酸塩を取り除く第2工程 および (3)第2工程で得られる濾液を冷却して、反応生成物
    を晶析させる第3工程 とを有することを特徴とする高純度なビス (2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡
    易な製造方法。 2、無極性有機溶媒がベンゼン、トルエン、キシレン等
    の芳香族炭化水素るいはヘキサン、ヘプタン、オクタン
    等の鎖式飽和炭化水素である第1項記載の方法。
JP28239988A 1988-11-10 1988-11-10 高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法 Pending JPH02129144A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008075468A1 (ja) * 2006-12-19 2008-06-26 Kuraray Co., Ltd. 2-イソプロペニル-5-メチル-4-ヘキセン-1-イル 3-メチル-2-ブテノアートの製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008075468A1 (ja) * 2006-12-19 2008-06-26 Kuraray Co., Ltd. 2-イソプロペニル-5-メチル-4-ヘキセン-1-イル 3-メチル-2-ブテノアートの製造方法
US8173832B2 (en) 2006-12-19 2012-05-08 Kuraray Co., Ltd. Process for producing 2-isopropenyl-5-methyl-4-hexene-1-yl-3-methyl-2-butenoate

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