JPH02129144A - 高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法 - Google Patents
高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法Info
- Publication number
- JPH02129144A JPH02129144A JP28239988A JP28239988A JPH02129144A JP H02129144 A JPH02129144 A JP H02129144A JP 28239988 A JP28239988 A JP 28239988A JP 28239988 A JP28239988 A JP 28239988A JP H02129144 A JPH02129144 A JP H02129144A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic solvent
- nonpolar organic
- filtrate
- filtered
- oxalate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- GEVPIWPYWJZSPR-UHFFFAOYSA-N tcpo Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC(Cl)=C1OC(=O)C(=O)OC1=C(Cl)C=C(Cl)C=C1Cl GEVPIWPYWJZSPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 12
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 claims abstract description 8
- -1 tertiary amine hydrochlorides Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- LINPIYWFGCPVIE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trichlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C=C(Cl)C=C1Cl LINPIYWFGCPVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims abstract 2
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 claims description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 claims 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 7
- 239000005081 chemiluminescent agent Substances 0.000 abstract description 2
- VFEXYZINKMLLAK-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)oxirane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1CO1 VFEXYZINKMLLAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HSQFVBWFPBKHEB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trichlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1Cl HSQFVBWFPBKHEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000012066 reaction slurry Substances 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000891 luminescent agent Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- KQPMFNHZHBLVRR-UHFFFAOYSA-N oxalic acid;hydrochloride Chemical compound Cl.OC(=O)C(O)=O KQPMFNHZHBLVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェ
ニル)オギザレート (以下、TCPOと称す)の簡易
な製造方法に関する。TCPOは、化学ルミネセンスに
於ける発光剤として有用な物質であり、蛍光剤および酸
化剤と反応させた時、化学ルミネセンス光(冷光)が得
られるものである。
ニル)オギザレート (以下、TCPOと称す)の簡易
な製造方法に関する。TCPOは、化学ルミネセンスに
於ける発光剤として有用な物質であり、蛍光剤および酸
化剤と反応させた時、化学ルミネセンス光(冷光)が得
られるものである。
従来の技術
TCPOの製造方法としては、 トリエチルアミンの存
在下、トリクロロフェノールとシュウ酸塩化物とをベン
ゼン中で反応後、該反応スラリー(反応液)をそのまま
蒸発乾固し、得られた固体をクロロホルムで抽出し、そ
の溶液を真空蒸発乾固し、更にベンゼンに溶解したのち
再結晶するといった煩雑な工程によって、目的の反応生
成物を取得する方法が特公昭46−7568号公報に開
示されている。
在下、トリクロロフェノールとシュウ酸塩化物とをベン
ゼン中で反応後、該反応スラリー(反応液)をそのまま
蒸発乾固し、得られた固体をクロロホルムで抽出し、そ
の溶液を真空蒸発乾固し、更にベンゼンに溶解したのち
再結晶するといった煩雑な工程によって、目的の反応生
成物を取得する方法が特公昭46−7568号公報に開
示されている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、この方法は、反応後の反応スラリー(反
応液)をそのまま蒸発乾固することによって、目的のT
CPOを取得する方法であるため、必然的に未反応原料
及び副生成物等の不純物の全てが、該目的物中に含有さ
れることになり、別途に洗浄工程、更には再結晶工程を
設ける必要があり、工程的に煩雑なものである。また、
この方法は、高純度品を得ることが出来ないものである
。
応液)をそのまま蒸発乾固することによって、目的のT
CPOを取得する方法であるため、必然的に未反応原料
及び副生成物等の不純物の全てが、該目的物中に含有さ
れることになり、別途に洗浄工程、更には再結晶工程を
設ける必要があり、工程的に煩雑なものである。また、
この方法は、高純度品を得ることが出来ないものである
。
TCPO中の不純物は、化学発光を阻害する原因となる
ものであり、蛍光剤および酸化剤と反応させた際、発光
が不十分であったり、場合によっては、全く発光しない
時もあるため、これら不純物は可及的に少なくすること
が要求される。
ものであり、蛍光剤および酸化剤と反応させた際、発光
が不十分であったり、場合によっては、全く発光しない
時もあるため、これら不純物は可及的に少なくすること
が要求される。
本発明者等は特に第1工程に濾過工程を設けることで、
不純物を簡単に、且つ、はぼ完全に取除くことが出来き
ることを見出し、本発明を完成した。
不純物を簡単に、且つ、はぼ完全に取除くことが出来き
ることを見出し、本発明を完成した。
課題を解決するための手段
即ち、本発明は、第三級アミンの存在下、2,4゜6−
トリクロロフェノールと塩化オギザリルとを無極性有機
溶媒中で反応させて、ビス(2,4,8−)リクロロフ
ェニル)オギザレートを製造する方法において、 ■該反応液を濾過して、不純物を濾液として取り除く第
1工程 ■第1工程で得られる濾過ケーキを無極性有機溶媒に加
熱溶解した後、濾過して第三級アミンの塩酸塩を取り除
く第2工程 および ■第2工程で得られる濾液を冷却して、反応生成物を晶
析させる第3工程 とを有することを特徴とする高純度なビス(2,4゜6
−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法
に間する。
トリクロロフェノールと塩化オギザリルとを無極性有機
溶媒中で反応させて、ビス(2,4,8−)リクロロフ
ェニル)オギザレートを製造する方法において、 ■該反応液を濾過して、不純物を濾液として取り除く第
1工程 ■第1工程で得られる濾過ケーキを無極性有機溶媒に加
熱溶解した後、濾過して第三級アミンの塩酸塩を取り除
く第2工程 および ■第2工程で得られる濾液を冷却して、反応生成物を晶
析させる第3工程 とを有することを特徴とする高純度なビス(2,4゜6
−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法
に間する。
本反応において、塩化オギザリルの添加量は反応系(反
応物質あるいは反応溶媒中)に存在する若干量の水の影
響を回遊するため、理論量よりも少量多めに添加するこ
とが好ましい、しかし、多すぎ春でも副反応を惹起する
ので、理論量の1.025〜1.05倍モル添加するこ
とが好ましい。
応物質あるいは反応溶媒中)に存在する若干量の水の影
響を回遊するため、理論量よりも少量多めに添加するこ
とが好ましい、しかし、多すぎ春でも副反応を惹起する
ので、理論量の1.025〜1.05倍モル添加するこ
とが好ましい。
反応中に相当量の不純物が含まれるものは、再結晶して
も高純度のものが得られにくく、発光性物質としては不
適当なものとなる。また、反応温度が高すぎる場合にも
副反応が多くなり、高純度のTCPOが得られにくくな
る0反応温度は10〜30℃に調節することが好ましい
、尚、塩化オギザリルは刺激性の強い液体であるため反
応系に添加するに際しては、トルエン等の溶剤に溶解し
て使用することが作業性あるいは危険性防止上好ましい
。
も高純度のものが得られにくく、発光性物質としては不
適当なものとなる。また、反応温度が高すぎる場合にも
副反応が多くなり、高純度のTCPOが得られにくくな
る0反応温度は10〜30℃に調節することが好ましい
、尚、塩化オギザリルは刺激性の強い液体であるため反
応系に添加するに際しては、トルエン等の溶剤に溶解し
て使用することが作業性あるいは危険性防止上好ましい
。
第2工程は、副生成物である第三級アミンの塩酸塩が、
トルエン等の無極性有機溶媒に不溶性であることを利用
して、該不純物を濾過によって除去する方法であるが、
その濾過温度が低すぎるとTCPOの結晶が析出してく
るので、濾過温度は60〜80℃に調節することが好ま
しい。
トルエン等の無極性有機溶媒に不溶性であることを利用
して、該不純物を濾過によって除去する方法であるが、
その濾過温度が低すぎるとTCPOの結晶が析出してく
るので、濾過温度は60〜80℃に調節することが好ま
しい。
第3工程における晶析は、室温まで放冷したのち、0℃
近くまで冷却するようにする。
近くまで冷却するようにする。
発明の効果
本発明方法により製造されたTCPOは、その純度が極
めて高いため、化学発光剤として使用した際、発光体の
発光が不十分だったり、発光しなかったりというトラブ
ルを全く起こさないものであり、且つ、本発明は、簡易
な方法であるために′r c p oの極めて有利な製
造方法となる。
めて高いため、化学発光剤として使用した際、発光体の
発光が不十分だったり、発光しなかったりというトラブ
ルを全く起こさないものであり、且つ、本発明は、簡易
な方法であるために′r c p oの極めて有利な製
造方法となる。
実施例
実施例1
51の三ツロフラスコにトリクロロフェノール395g
(2,0モル)、トリエチルアミン202g(2,0モ
ル)、 トルエン1520gを入れ、溶解するまで攪拌
する。一方、温度を約25℃に保ちつつ、塩化オギザリ
ル130gを含むトルエン溶液325gを約1時間かけ
て滴下、攪拌する0滴下終了後、2時間、約25℃に保
ちつつ攪拌を続ける。反応が進むにつれて、トリエチル
アミンの塩酸塩と共にTCPOが析出してくる。その後
、反応溶液を03のガラスフィルターにて濾過し、不純
物をnN1に移す、濾過ケーキはトルエンを加え約80
℃で加熱溶解する。添加するトルエンの量はTCPOの
濃度が約16%になるようにGPC(タールバーミッシ
ョンク0マトク゛ラフイー) で測定して加え る。
(2,0モル)、トリエチルアミン202g(2,0モ
ル)、 トルエン1520gを入れ、溶解するまで攪拌
する。一方、温度を約25℃に保ちつつ、塩化オギザリ
ル130gを含むトルエン溶液325gを約1時間かけ
て滴下、攪拌する0滴下終了後、2時間、約25℃に保
ちつつ攪拌を続ける。反応が進むにつれて、トリエチル
アミンの塩酸塩と共にTCPOが析出してくる。その後
、反応溶液を03のガラスフィルターにて濾過し、不純
物をnN1に移す、濾過ケーキはトルエンを加え約80
℃で加熱溶解する。添加するトルエンの量はTCPOの
濃度が約16%になるようにGPC(タールバーミッシ
ョンク0マトク゛ラフイー) で測定して加え る。
約70℃で加熱濾過した濾液を室温まで放置した後、0
℃近くまで冷却し、純度99.9%のTCPOを293
g得た。その収率は65.2%であった。尚、純度はG
PCで測定した。
℃近くまで冷却し、純度99.9%のTCPOを293
g得た。その収率は65.2%であった。尚、純度はG
PCで測定した。
日本パーオキサイド株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、第三級アミンの存在下、2,4,6−トリクロロフ
ェノールと塩化オギザリルとを無極性有機溶媒中で反応
させて、ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギ
ザレートを製造する方法において、 (1)該反応液を濾過して、不純物を濾液として取り除
く第1工程 (2)第1工程で得られる濾過ケーキを無極性有機溶媒
に加熱溶解した後、濾過して第三級 アミンの塩酸塩を取り除く第2工程 および (3)第2工程で得られる濾液を冷却して、反応生成物
を晶析させる第3工程 とを有することを特徴とする高純度なビス (2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡
易な製造方法。 2、無極性有機溶媒がベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素るいはヘキサン、ヘプタン、オクタン
等の鎖式飽和炭化水素である第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28239988A JPH02129144A (ja) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | 高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28239988A JPH02129144A (ja) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | 高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02129144A true JPH02129144A (ja) | 1990-05-17 |
Family
ID=17651903
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28239988A Pending JPH02129144A (ja) | 1988-11-10 | 1988-11-10 | 高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02129144A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008075468A1 (ja) * | 2006-12-19 | 2008-06-26 | Kuraray Co., Ltd. | 2-イソプロペニル-5-メチル-4-ヘキセン-1-イル 3-メチル-2-ブテノアートの製造方法 |
-
1988
- 1988-11-10 JP JP28239988A patent/JPH02129144A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008075468A1 (ja) * | 2006-12-19 | 2008-06-26 | Kuraray Co., Ltd. | 2-イソプロペニル-5-メチル-4-ヘキセン-1-イル 3-メチル-2-ブテノアートの製造方法 |
US8173832B2 (en) | 2006-12-19 | 2012-05-08 | Kuraray Co., Ltd. | Process for producing 2-isopropenyl-5-methyl-4-hexene-1-yl-3-methyl-2-butenoate |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS60126293A (ja) | 環状有機りん化合物及びその製造方法 | |
JPH02129144A (ja) | 高純度なビス(2,4,6−トリクロロフェニル)オギザレートの簡易な製造方法 | |
US5017721A (en) | Process for the preparation of oxalyl- and oxamyl-hydrazides | |
GB2220000A (en) | Preparation of iodoalkynyl carbamates | |
US5382689A (en) | Process for preparation of bevantolol hydrochloride | |
US5663402A (en) | Process for the preparation of phosphorodithioic compounds via thionation reaction | |
JPS6210510B2 (ja) | ||
JP3208971B2 (ja) | O,o’−ジアシル酒石酸の製造方法 | |
EP0853077B1 (en) | Process for producing alkyl 3-amino-4-substituted benzoates | |
JP2000290258A (ja) | 新規なイミダゾール誘導体及びその製造方法 | |
JPS5888372A (ja) | N−カルバモイル安息香酸スルフイミド誘導体の製法 | |
JPH11322725A (ja) | 1,3,4―三置換1,2,4―トリアゾリウム塩の製法及びこのような塩 | |
US3839394A (en) | Process for the preparation of substituted dinitrophenyl chloroformates | |
KR100717557B1 (ko) | 벤질아민 화합물의 제조 방법 | |
JPH10287650A (ja) | 1−クロロカルボニル−4−ピペリジノピペリジンまたはその塩酸塩の製造方法 | |
JPH07252278A (ja) | ホスフィニルカルボン酸の製造方法 | |
RU2152389C1 (ru) | Способ получения нитрата 3,5-диамино-1,2,4-триазола | |
JPH07188264A (ja) | ホスフィニルカルボン酸の製造方法 | |
JP2582889B2 (ja) | 高純度アミノスルフェニルクロリドの製法 | |
SU1694575A1 (ru) | Способ получени м-(2,4-ди-(трет-амилфенокси)-ацетиламинобензойной кислоты | |
JPH10218868A (ja) | 5ーメチルテトラゾールの製造方法 | |
JPH10291964A (ja) | フタル酸ジフェニルの製造方法 | |
JPS6097986A (ja) | 有機リン酸エステル誘導体の製造法 | |
JPS63185991A (ja) | ビス(ジフエニルホスフイノ)アミンの製造法 | |
JPH03240758A (ja) | 3―n―シクロヘキシルアミノフェノールの単離法 |