JPH02116117A - 電子ビーム描画方法 - Google Patents
電子ビーム描画方法Info
- Publication number
- JPH02116117A JPH02116117A JP26808788A JP26808788A JPH02116117A JP H02116117 A JPH02116117 A JP H02116117A JP 26808788 A JP26808788 A JP 26808788A JP 26808788 A JP26808788 A JP 26808788A JP H02116117 A JPH02116117 A JP H02116117A
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- Japan
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- 238000001459 lithography Methods 0.000 title description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、電子ビーム描画に関するものである。
（従来の技術）
近年、電子ビーム描画装置は、高スループツト高精度と
いう特長を生かし、マスク製作はもちろん、ウェハへの
直接描画に利用されている。
いう特長を生かし、マスク製作はもちろん、ウェハへの
直接描画に利用されている。
以下に従来の電子ビーム描画方法について説明する。
第３図、第４図、第５図は、従来の可変矩形電子ビーム
描画装置の斜め図形の描画方法を示すものである。
描画装置の斜め図形の描画方法を示すものである。
可変矩形電子ビーム描画装置で斜め図形Ａを描画する時
は、１１のように細かな矩形ビーム形状（例えば０．５
μ鳳幅）を用い、細かなステップ（例えば０．０５ｐ■
）で矢印イで示す方向に移動させ、滑らかな描画を行な
う、この時１図形の必要とする露光量を［相］とすると
、０．５μ層幅、 Ｏ，ＯＳμｍステップで描画する時
■の露光量で重ねて描画することになり。
は、１１のように細かな矩形ビーム形状（例えば０．５
μ鳳幅）を用い、細かなステップ（例えば０．０５ｐ■
）で矢印イで示す方向に移動させ、滑らかな描画を行な
う、この時１図形の必要とする露光量を［相］とすると
、０．５μ層幅、 Ｏ，ＯＳμｍステップで描画する時
■の露光量で重ねて描画することになり。
図形近辺の露光量は口に示す数字となる。描画後、適当
な現像液を用いて描画すると、細かなビームで余分に描
画された部分が現像され、２５のようなパターン形状と
なり１本来の図形形状２１と異なってくる。パターンの
微細化に伴い、パターン精度要求が厳しくなるにつれ、
設計図形と現像図形が異なるということが大きな問題と
なってきた。
な現像液を用いて描画すると、細かなビームで余分に描
画された部分が現像され、２５のようなパターン形状と
なり１本来の図形形状２１と異なってくる。パターンの
微細化に伴い、パターン精度要求が厳しくなるにつれ、
設計図形と現像図形が異なるということが大きな問題と
なってきた。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので。
描画図形精度を向上させることを目的とする。
（課題を解決するための手段）
この目的を達成するため、本発明の描画方法は、斜めパ
ターン描画時のビーム形状を変えながら、図形近辺に余
分な露光を行なわないようにしている。
ターン描画時のビーム形状を変えながら、図形近辺に余
分な露光を行なわないようにしている。
、（作 用）
この構成によって、図形近辺の余分な露光が軽減でき、
設計図形に近い描画が実現できる。
設計図形に近い描画が実現できる。
（実施例）
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。第１図、第２図は、本発明の実施例における可
変矩形電子ビーム描画装置における斜めパターン描画方
法を示すものである。第１図において、Ａは描画すべき
斜めの図形、１は最初に描画する矩形ビーム形状、２，
３，４．５はそれぞれ２番目、３番目、４番目、５番目
に描画する矩形ビーム形状で、まず、１のように斜めパ
ターンの内側へ向けて矩形ビーム形状をつくり描画する
０次に、−辺を固定し、２のように矩形ビーム形状を大
きくし描画する０次は、さらに３のようにやはり一辺を
固定して大きくする。以下、５までビームを大きくする
。ある大きさまでになると、矢印イのようにビームを移
動させてゆく。
明する。第１図、第２図は、本発明の実施例における可
変矩形電子ビーム描画装置における斜めパターン描画方
法を示すものである。第１図において、Ａは描画すべき
斜めの図形、１は最初に描画する矩形ビーム形状、２，
３，４．５はそれぞれ２番目、３番目、４番目、５番目
に描画する矩形ビーム形状で、まず、１のように斜めパ
ターンの内側へ向けて矩形ビーム形状をつくり描画する
０次に、−辺を固定し、２のように矩形ビーム形状を大
きくし描画する０次は、さらに３のようにやはり一辺を
固定して大きくする。以下、５までビームを大きくする
。ある大きさまでになると、矢印イのようにビームを移
動させてゆく。
このように、斜めパターン描画を行なった後現像を行な
うと、第２図のＢのような形状でパターンが形成される
。設計パターン外に出る部分が下辺の部分でなくなり、
パターン精度は改善される。
うと、第２図のＢのような形状でパターンが形成される
。設計パターン外に出る部分が下辺の部分でなくなり、
パターン精度は改善される。
なお、斜めパターン描画終了時は上記の逆で、−辺を固
定し、ビーム形状を順次小さくしてゆき。
定し、ビーム形状を順次小さくしてゆき。
パターン外に出る部分を減らすことができる。
（発明の効果）
以上のように、本発明は、斜め図形を描画する時もビー
ム形状を変えながら描画することにより、高精度な描画
パターンを実現できる。
ム形状を変えながら描画することにより、高精度な描画
パターンを実現できる。
第１図、第２図は本発明の実施例における斜めパターン
描画方法を示す図、第３図、第４図、第５図は従来の斜
めパターン描画方法を示す回である。 Ａ・・・描画すべき斜めの図形、 Ｂ・・・現像パター
ン形状、 １，２，３，４．５・・・斜め図形を描画
する際の矩形ビーム形状。 特許出願人 松下電子工業株式会社 第３図 第１図
描画方法を示す図、第３図、第４図、第５図は従来の斜
めパターン描画方法を示す回である。 Ａ・・・描画すべき斜めの図形、 Ｂ・・・現像パター
ン形状、 １，２，３，４．５・・・斜め図形を描画
する際の矩形ビーム形状。 特許出願人 松下電子工業株式会社 第３図 第１図
Claims (1)
- 可変矩形電子ビーム描画装置において、斜め図形を描画
する時も矩形ビーム形状を変えながら描画することを特
徴とする電子ビーム描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26808788A JPH02116117A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 電子ビーム描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26808788A JPH02116117A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 電子ビーム描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02116117A true JPH02116117A (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=17453705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26808788A Pending JPH02116117A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 電子ビーム描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02116117A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6369467B1 (en) | 1998-12-15 | 2002-04-09 | Nec Corporation | Hot stand-by switching apparatus |
-
1988
- 1988-10-26 JP JP26808788A patent/JPH02116117A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6369467B1 (en) | 1998-12-15 | 2002-04-09 | Nec Corporation | Hot stand-by switching apparatus |
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