JPH02107561A - 半導体磁器物質 - Google Patents
半導体磁器物質Info
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- JPH02107561A JPH02107561A JP63259835A JP25983588A JPH02107561A JP H02107561 A JPH02107561 A JP H02107561A JP 63259835 A JP63259835 A JP 63259835A JP 25983588 A JP25983588 A JP 25983588A JP H02107561 A JPH02107561 A JP H02107561A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体磁器の粒界に絶縁層を設けてなる半導
体磁器物質に関する。
体磁器物質に関する。
一般に粒界絶縁型半導体磁器コンデンサは、結晶粒界に
偏析した化合物を誘電体層として用いるもので粒界層の
厚みを利用して非常に高い誘電率が得られる。
偏析した化合物を誘電体層として用いるもので粒界層の
厚みを利用して非常に高い誘電率が得られる。
近年、利用されている技術例を挙げると、まずチタン酸
ストロンチウム(SrTiO3)を主原料としてこれに
、原子価制御用助剤として酸化ニオブ(Nb2O2)、
酸化イツトリウム(Y、03)等を添加し、また焼結助
剤として酸化ケイ素(SiO□)、酸化アルミニウム(
Ah03)、酸化マンガン(MnO2) 、酸化銅(C
uO) 、酸化マンガン(MnO□)等を1種ずつ、又
は複数の組合わせで添加し、還元雰囲気中にて焼結して
半導体磁器を得、次にこの半導体磁器の粒界に絶縁層を
設けるべ(、酸化ビスマス(Big(h) 、酸化銅(
CuO)、酸化マンガン(MnO□)等の金属酸化物を
熱拡散させて得られていた。
ストロンチウム(SrTiO3)を主原料としてこれに
、原子価制御用助剤として酸化ニオブ(Nb2O2)、
酸化イツトリウム(Y、03)等を添加し、また焼結助
剤として酸化ケイ素(SiO□)、酸化アルミニウム(
Ah03)、酸化マンガン(MnO2) 、酸化銅(C
uO) 、酸化マンガン(MnO□)等を1種ずつ、又
は複数の組合わせで添加し、還元雰囲気中にて焼結して
半導体磁器を得、次にこの半導体磁器の粒界に絶縁層を
設けるべ(、酸化ビスマス(Big(h) 、酸化銅(
CuO)、酸化マンガン(MnO□)等の金属酸化物を
熱拡散させて得られていた。
また、特開昭52−98997号公報には、拡散物質と
して酸化ビスマス(Bi2Oi) 5〜95モル%及び
酸化マンガン(MnO2) 95〜5モル%からなる組
成物を利用することが提案されている。
して酸化ビスマス(Bi2Oi) 5〜95モル%及び
酸化マンガン(MnO2) 95〜5モル%からなる組
成物を利用することが提案されている。
コンデンサとしては、一般に誘電率(εapp)、絶縁
抵抗率(ρapp>が十分に高いこと、また誘電損失(
tan δ)、静電容量温度特性(TC値)が十分に小
さいことが必要であり、これを実現する為に焼結助剤又
は拡散物質として上記の化合物が用いられてきた。一方
、主原料としては、上記のチタン酸ストロンチウム(S
rTiO3)以外にチタン酸バリウム(BaTiOs)
、チタン酸マグネシウム(MgTiCh)、チタン酸カ
ルシウム(CaTiO3)、チタン酸鉛(PbTiOs
)等が用いられてきた。
抵抗率(ρapp>が十分に高いこと、また誘電損失(
tan δ)、静電容量温度特性(TC値)が十分に小
さいことが必要であり、これを実現する為に焼結助剤又
は拡散物質として上記の化合物が用いられてきた。一方
、主原料としては、上記のチタン酸ストロンチウム(S
rTiO3)以外にチタン酸バリウム(BaTiOs)
、チタン酸マグネシウム(MgTiCh)、チタン酸カ
ルシウム(CaTiO3)、チタン酸鉛(PbTiOs
)等が用いられてきた。
ところで、上述の主原料、焼結助剤及び拡散物質の組合
わせにおいて、誘電率、絶縁抵抗率、誘電損失及び静電
容量温度変化率の全てを良好なレベルに保つような組成
は未だ得られていない。例えば、拡散物質として酸化マ
ンガン(MnO□)又は酸化銅(CuO)を用いて得ら
れる半導体磁器組成物にあっては、絶縁抵抗率は高いも
のの、誘電率、誘電損失及び静電容量温度変化率が十分
ではなかった。また、酸化ビスマス(Bi20i)を用
いた場合には、誘電率、誘電損失は良好となるが、絶縁
抵抗率、静電容量温度変化率が不十分となる。
わせにおいて、誘電率、絶縁抵抗率、誘電損失及び静電
容量温度変化率の全てを良好なレベルに保つような組成
は未だ得られていない。例えば、拡散物質として酸化マ
ンガン(MnO□)又は酸化銅(CuO)を用いて得ら
れる半導体磁器組成物にあっては、絶縁抵抗率は高いも
のの、誘電率、誘電損失及び静電容量温度変化率が十分
ではなかった。また、酸化ビスマス(Bi20i)を用
いた場合には、誘電率、誘電損失は良好となるが、絶縁
抵抗率、静電容量温度変化率が不十分となる。
更に前述の特開昭52−98997号公報に開示された
拡散物質を用いる場合は、酸化ビスマス(Big(h)
、酸化銅(CuO) 、酸化マンガン(MnO□)を単
体で使用した場合と比較すると、各特性共、若干良好に
なるが、未だ十分ではなかった。そして主原料チタン酸
ストロンチウム(SrTiO3)の一部を、チタン酸カ
ルシウム(CaTiO2)に置き換えることにより、静
電容量温度変化率の改善を図ろうとする例もあるが、こ
の場合には誘電率が劣化し、静電容量温度変化率自体も
さほど改善されていなかった。
拡散物質を用いる場合は、酸化ビスマス(Big(h)
、酸化銅(CuO) 、酸化マンガン(MnO□)を単
体で使用した場合と比較すると、各特性共、若干良好に
なるが、未だ十分ではなかった。そして主原料チタン酸
ストロンチウム(SrTiO3)の一部を、チタン酸カ
ルシウム(CaTiO2)に置き換えることにより、静
電容量温度変化率の改善を図ろうとする例もあるが、こ
の場合には誘電率が劣化し、静電容量温度変化率自体も
さほど改善されていなかった。
このように従来例においては、特に誘電率と静電容量温
度変化率との両立が困難であり、これらを両立するもの
が磁器コンデンサにはなく、この為、複層構造により、
誘電容量を増加できるフィルムコンデンサ(マイラコン
デンサ)が多く使用されるようになってきた。しかしフ
ィルムコンデンサは、価格が高いという問題点がある為
、価格面で有利な磁器コンデンサにおいてフィルムコン
デンサと同等の電気的特性が得られる半導体磁器物質を
開発できれば、産業上において非常に大きな利用価値を
生むことになる。
度変化率との両立が困難であり、これらを両立するもの
が磁器コンデンサにはなく、この為、複層構造により、
誘電容量を増加できるフィルムコンデンサ(マイラコン
デンサ)が多く使用されるようになってきた。しかしフ
ィルムコンデンサは、価格が高いという問題点がある為
、価格面で有利な磁器コンデンサにおいてフィルムコン
デンサと同等の電気的特性が得られる半導体磁器物質を
開発できれば、産業上において非常に大きな利用価値を
生むことになる。
そこで本発明者は、原子価制御用助剤、焼結用助剤又は
拡散物質として種々の材料を用いてなる半導体磁器物質
について、その電気的特性を調査した結果、主成分とし
てチタン酸ストロンチウム(SrTiCh)とチタン酸
カルシウム(CaTiOs)とを組合わせ、原子価制御
用助剤として酸化ニオブ(Nb2Os)及び酸化イツト
リウム(yzoi)の1種又は2種を添加し、焼結用助
剤として酸化銅(CuO)及び酸化マンガン(MnO2
)の1種又は2種を添加し、更に拡散物質として酸化ビ
スマス(81203) 、酸化銅(CuO)並びに炭酸
ナトリウム(NazCO*)及び酸化ナトリウム(Na
2O)の1種又は2種を含む混合物を添加した場合には
、すべての電気的特性が良好である半導体磁器物質が得
られることを知見した。
拡散物質として種々の材料を用いてなる半導体磁器物質
について、その電気的特性を調査した結果、主成分とし
てチタン酸ストロンチウム(SrTiCh)とチタン酸
カルシウム(CaTiOs)とを組合わせ、原子価制御
用助剤として酸化ニオブ(Nb2Os)及び酸化イツト
リウム(yzoi)の1種又は2種を添加し、焼結用助
剤として酸化銅(CuO)及び酸化マンガン(MnO2
)の1種又は2種を添加し、更に拡散物質として酸化ビ
スマス(81203) 、酸化銅(CuO)並びに炭酸
ナトリウム(NazCO*)及び酸化ナトリウム(Na
2O)の1種又は2種を含む混合物を添加した場合には
、すべての電気的特性が良好である半導体磁器物質が得
られることを知見した。
本発明はかかる知見に基づいてなされたものであり、前
述のすべての電気的特性について良好な結果が得られる
半導体磁器物質を提供することを目的とする。
述のすべての電気的特性について良好な結果が得られる
半導体磁器物質を提供することを目的とする。
本発明に係る半導体磁器物質は、チタン酸ストロンチウ
ム(SrTiOs)97〜80モル、チタン酸カルシウ
ム(CaTiOi) 3〜20モルよりなる主成分10
0モルに対し、酸化ニオブ(Nb2Os)及び酸化イツ
トリウム(Y2O:+)の1種又は2種が0.05〜0
.4モル、酸化1m(CuO)及び酸化マンガン(Mn
O2)の1種又は2種が0.1〜0.4モル並びに残部
不可避の不純物からなる磁器の結晶粒界に、絶縁化のた
め、酸化ビスマス(Bi203) 20〜98モル、酸
化銅(CuO) 1〜30モル並びに炭酸ナトリウム
(NazCO3)及び酸化ナトリウム(Na2O)の1
種又は2種が1〜70モルを含む組成物を拡散してなる
ことを特徴とする。
ム(SrTiOs)97〜80モル、チタン酸カルシウ
ム(CaTiOi) 3〜20モルよりなる主成分10
0モルに対し、酸化ニオブ(Nb2Os)及び酸化イツ
トリウム(Y2O:+)の1種又は2種が0.05〜0
.4モル、酸化1m(CuO)及び酸化マンガン(Mn
O2)の1種又は2種が0.1〜0.4モル並びに残部
不可避の不純物からなる磁器の結晶粒界に、絶縁化のた
め、酸化ビスマス(Bi203) 20〜98モル、酸
化銅(CuO) 1〜30モル並びに炭酸ナトリウム
(NazCO3)及び酸化ナトリウム(Na2O)の1
種又は2種が1〜70モルを含む組成物を拡散してなる
ことを特徴とする。
半導体磁器の電気的特性を改善すべく上述した如き組成
物を採用した場合、得られる半導体磁器物質は誘電率及
び静電容量温度特性が損ない合うことなく、全ての電気
的特性が向上する。
物を採用した場合、得られる半導体磁器物質は誘電率及
び静電容量温度特性が損ない合うことなく、全ての電気
的特性が向上する。
以下、本発明を例えばコンデンサの製造に適用した場合
の実施例について具体的に説明する。
の実施例について具体的に説明する。
まず、本発明の半導体磁器物質の製造方法について説明
する。例えばチタン酸ストロンチウム(SrTiO+)
97〜80モル%、チタン酸カルシウム(CaTiO
3) a〜2oモル%からなる主原料100モル%に
、原子価制御用助剤として酸化ニオブ(Nb2Os)及
び酸化イツトリウム(yzos)の1種又は2種を0.
05〜0.4モル%、焼結用助剤として酸化銅(CuO
)及び酸化マンガン(MnO2)の1種又は2種を0.
1〜0.4モル%の各範囲で添加し、これを原料粉末と
して十分混合した後、直径10fl、厚さ0.80の円
板状の素体に加圧成形する。その後、水素1〜15%。
する。例えばチタン酸ストロンチウム(SrTiO+)
97〜80モル%、チタン酸カルシウム(CaTiO
3) a〜2oモル%からなる主原料100モル%に
、原子価制御用助剤として酸化ニオブ(Nb2Os)及
び酸化イツトリウム(yzos)の1種又は2種を0.
05〜0.4モル%、焼結用助剤として酸化銅(CuO
)及び酸化マンガン(MnO2)の1種又は2種を0.
1〜0.4モル%の各範囲で添加し、これを原料粉末と
して十分混合した後、直径10fl、厚さ0.80の円
板状の素体に加圧成形する。その後、水素1〜15%。
窒素99〜85%からなる雰囲気中で1400〜154
0℃の範囲で4〜10時間焼成して半導体磁器を製造す
る。
0℃の範囲で4〜10時間焼成して半導体磁器を製造す
る。
次にこの半導体磁器の片面に、拡散物質として酸化ビス
マス(Big(h) 20〜98モル%、酸化銅(Cu
O)1〜30モル%並びに炭酸ナトリウム(Na2CO
3)及び酸化ナトリウム(Na2O)の1種又は2種が
1〜70モル%を含む混合化合物を塗布し、大気中で1
050〜1350℃の範囲で1〜2時間加熱して熱拡散
させる。
マス(Big(h) 20〜98モル%、酸化銅(Cu
O)1〜30モル%並びに炭酸ナトリウム(Na2CO
3)及び酸化ナトリウム(Na2O)の1種又は2種が
1〜70モル%を含む混合化合物を塗布し、大気中で1
050〜1350℃の範囲で1〜2時間加熱して熱拡散
させる。
最後にこのようにして得られた半導体磁器物質の両面に
銀ペーストを印刷し、800℃程度で焼付けて銀電極と
し、コンデンサを得る。
銀ペーストを印刷し、800℃程度で焼付けて銀電極と
し、コンデンサを得る。
主成分としてチタン酸ストロンチウム(SrTiO2)
及びチタン酸カルシウム(CaTiO2)、原子化制御
剤として酸化ニオブ(Nb2Os)及び酸化イツトリウ
ム(h(h)の1種又は2種、焼結助剤として酸化銅(
CuO)及び酸化マンガン(MnO□)の1種又は2種
、拡散物質として酸化ビスマス(Bi2O3)、酸化銅
(CuO)及び炭酸ナトリウム(Na、CO,)の1種
又は3種を用いて種々の組成比にて混合して製造した半
導体磁器物質の電気的特性を下記第1表に示す。なお、
表中の最右欄に※印を付したものは、前記混合物の組成
が本発明の条件に一致するものを示し、*印は従来例を
示している。また、表中の誘電率(εapp )及び誘
電損失(tanδ)は、周波数1 kHz、電圧1■に
て測定した値であり、静電容量温度特性(TC値)は、
20℃で測定した静電容量を基準値とし、−25℃〜+
85℃の温度範囲で測定した静電容量の前記基準値に対
する変化率のうち、代表として一25℃での変化率を示
している。絶縁抵抗率(ρapp )は、DC25V1
分値によって求めた値である。
及びチタン酸カルシウム(CaTiO2)、原子化制御
剤として酸化ニオブ(Nb2Os)及び酸化イツトリウ
ム(h(h)の1種又は2種、焼結助剤として酸化銅(
CuO)及び酸化マンガン(MnO□)の1種又は2種
、拡散物質として酸化ビスマス(Bi2O3)、酸化銅
(CuO)及び炭酸ナトリウム(Na、CO,)の1種
又は3種を用いて種々の組成比にて混合して製造した半
導体磁器物質の電気的特性を下記第1表に示す。なお、
表中の最右欄に※印を付したものは、前記混合物の組成
が本発明の条件に一致するものを示し、*印は従来例を
示している。また、表中の誘電率(εapp )及び誘
電損失(tanδ)は、周波数1 kHz、電圧1■に
て測定した値であり、静電容量温度特性(TC値)は、
20℃で測定した静電容量を基準値とし、−25℃〜+
85℃の温度範囲で測定した静電容量の前記基準値に対
する変化率のうち、代表として一25℃での変化率を示
している。絶縁抵抗率(ρapp )は、DC25V1
分値によって求めた値である。
(以下余白)
第1表から、前記混合物の組成が本発明の条件を満足し
ているもの(図中※印)、即ちチタン酸ストロンチウム
(SrTiO:+)97〜80モル%、チタン酸カルシ
ウム(CaTiO2) 3〜20モル%からなる主原料
100モル%に、酸化ニオブ(Nb2Os)及び酸化イ
ツトリウム(Y2O2)の1種又は2種が0.05〜0
.4モル%、酸化銅(CuO)及び酸化マンガン(Mn
O□)の1種又は2種が0.1〜0.4モル%、更に拡
散物質として酸化ビスマス(Bi2Oi) 20〜98
モル%、酸化銅(CuO)1〜30モル%及び炭酸ナト
リウム(NazCOt) 1〜70モル%の条件を満足
しているものは、良好な電気的特性が得られていること
が分かる。
ているもの(図中※印)、即ちチタン酸ストロンチウム
(SrTiO:+)97〜80モル%、チタン酸カルシ
ウム(CaTiO2) 3〜20モル%からなる主原料
100モル%に、酸化ニオブ(Nb2Os)及び酸化イ
ツトリウム(Y2O2)の1種又は2種が0.05〜0
.4モル%、酸化銅(CuO)及び酸化マンガン(Mn
O□)の1種又は2種が0.1〜0.4モル%、更に拡
散物質として酸化ビスマス(Bi2Oi) 20〜98
モル%、酸化銅(CuO)1〜30モル%及び炭酸ナト
リウム(NazCOt) 1〜70モル%の条件を満足
しているものは、良好な電気的特性が得られていること
が分かる。
特にTC値及び誘電率の両方が均等に向上しているのが
大きな特徴であり、TC値は誘電率23万クラスで5%
を達成した。また、誘電損失についても1%以下で安定
しており、絶縁抵抗率も10I0〜10目桁の値で安定
している。
大きな特徴であり、TC値は誘電率23万クラスで5%
を達成した。また、誘電損失についても1%以下で安定
しており、絶縁抵抗率も10I0〜10目桁の値で安定
している。
一方、本発明の条件を満足しないものについては、例え
ばチタン酸カルシウム(CaTiO:+)が3モル%未
満では静電容量温度特性(TC値)が高くなり、25モ
ル%以上では誘電率が低下し、誘電損失、静電容量温度
特性も劣化する。
ばチタン酸カルシウム(CaTiO:+)が3モル%未
満では静電容量温度特性(TC値)が高くなり、25モ
ル%以上では誘電率が低下し、誘電損失、静電容量温度
特性も劣化する。
助剤系、拡散物質についても、同様であり、本発明条件
以外のものは、電気的特性のうちいずれかが劣化してい
る。
以外のものは、電気的特性のうちいずれかが劣化してい
る。
なお、本実施例においては、前記半導体磁器物質の両面
に銀ペーストを印刷してこれを焼付け、銀電極としたが
、その他の公知の電極材料を用いてもよいことはいうま
でもない。また、半導体磁器製造時の焼成雰囲気は、上
述の如く水素1〜15%、窒素99〜85%からなる雰
囲気に限定されるものではなく、試料が十分に半導体化
され得る雰囲気であれば、他の雰囲気であっても差支え
ないのはいうまでもない。
に銀ペーストを印刷してこれを焼付け、銀電極としたが
、その他の公知の電極材料を用いてもよいことはいうま
でもない。また、半導体磁器製造時の焼成雰囲気は、上
述の如く水素1〜15%、窒素99〜85%からなる雰
囲気に限定されるものではなく、試料が十分に半導体化
され得る雰囲気であれば、他の雰囲気であっても差支え
ないのはいうまでもない。
以上の如く、本発明に係る半導体磁器物質では、チタン
酸ストロンチウム(SrTiO3)97〜80モル%、
チタン酸カルシウム(CaTiOs) 3〜20モル%
からなる主成分100モル%に対して、酸化ニオブ(N
b2Os)及び酸化イツトリウム(Y2O2)の1種又
は2種を0.05〜0.4モル%原子価制御用助剤とし
て、また、酸化銅(CuO)及び酸化マンガン(MnO
2)の1種又は2種を0.1〜0.4モル%焼結用助剤
として夫々添加し、更に酸化ビスマス(Bit’3)
20〜98モル%、酸化銅(CuO) 1〜30モル
%並びに炭酸ナトリウム(Na2COs)及び酸化ナト
リウム(Na2O)の1種又は2種が1〜70モル%を
含む組成物を拡散物質として添加するので、その半導体
磁器物質は、誘電率。
酸ストロンチウム(SrTiO3)97〜80モル%、
チタン酸カルシウム(CaTiOs) 3〜20モル%
からなる主成分100モル%に対して、酸化ニオブ(N
b2Os)及び酸化イツトリウム(Y2O2)の1種又
は2種を0.05〜0.4モル%原子価制御用助剤とし
て、また、酸化銅(CuO)及び酸化マンガン(MnO
2)の1種又は2種を0.1〜0.4モル%焼結用助剤
として夫々添加し、更に酸化ビスマス(Bit’3)
20〜98モル%、酸化銅(CuO) 1〜30モル
%並びに炭酸ナトリウム(Na2COs)及び酸化ナト
リウム(Na2O)の1種又は2種が1〜70モル%を
含む組成物を拡散物質として添加するので、その半導体
磁器物質は、誘電率。
誘電損失、絶縁抵抗率、静電容量温度特性等の各電気的
特性において、特に誘電率と、静電容量温度特性とが損
ない合うことなく、全ての電気的特性に良好な結果が得
られる。
特性において、特に誘電率と、静電容量温度特性とが損
ない合うことなく、全ての電気的特性に良好な結果が得
られる。
これにより、従来の製造プロセスを変更することがなく
、例えば本発明に係る半導体磁器物質を使用して製造し
た磁器コンデンサは、フィルムコンデンサと比較して大
幅に安価でありながら、同等の性能を有するものが得ら
れ、またコンデンサ以外にもバリスタ、サーミスタ等へ
の応用範囲も広い等、本発明は優れた効果を奏する。
、例えば本発明に係る半導体磁器物質を使用して製造し
た磁器コンデンサは、フィルムコンデンサと比較して大
幅に安価でありながら、同等の性能を有するものが得ら
れ、またコンデンサ以外にもバリスタ、サーミスタ等へ
の応用範囲も広い等、本発明は優れた効果を奏する。
Claims (1)
- 1.チタン酸ストロンチウム(SrTiO_3)97〜
80モル、チタン酸カルシウム(CaTiO_3)3〜
20モルよりなる主成分100モルに対し、酸化ニオブ
(Nb_2O_5)及び酸化イットリウム(Y_2O_
3)の1又は2種が0.05〜0.4モル、酸化銅(C
uO)及び酸化マンガン(MnO_2)の1種又は2種
が0.1〜0.4モル並びに残部不可避の不純物からな
る磁器の結晶粒界に、絶縁化のため、酸化ビスマス(B
i_2O_3)20〜98モル、酸化銅(CuO)1〜
30モル並びに炭酸ナトリウム(Na_2CO_3)及
び酸化ナトリウム(Na_2O)の1種又は2種が1〜
70モルを含む組成物を拡散してなることを特徴とする
半導体磁器物質。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63259835A JPH02107561A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 半導体磁器物質 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63259835A JPH02107561A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 半導体磁器物質 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02107561A true JPH02107561A (ja) | 1990-04-19 |
Family
ID=17339650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63259835A Pending JPH02107561A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 半導体磁器物質 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02107561A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6261480B1 (en) | 1997-03-19 | 2001-07-17 | Denso Corporation | Wide-range type thermistor element and method of producing the same |
US6740261B1 (en) | 1997-03-19 | 2004-05-25 | Denso Corporation | Wide-range type thermistor element and method of producing the same |
-
1988
- 1988-10-14 JP JP63259835A patent/JPH02107561A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6261480B1 (en) | 1997-03-19 | 2001-07-17 | Denso Corporation | Wide-range type thermistor element and method of producing the same |
US6740261B1 (en) | 1997-03-19 | 2004-05-25 | Denso Corporation | Wide-range type thermistor element and method of producing the same |
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