JPH0210383B2 - - Google Patents

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JPH0210383B2
JPH0210383B2 JP56118257A JP11825781A JPH0210383B2 JP H0210383 B2 JPH0210383 B2 JP H0210383B2 JP 56118257 A JP56118257 A JP 56118257A JP 11825781 A JP11825781 A JP 11825781A JP H0210383 B2 JPH0210383 B2 JP H0210383B2
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bso
electric field
voltage
field sensor
bgo
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Koji Tada
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    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/0305Constructional arrangements
    • G02F1/0322Arrangements comprising two or more independently controlled crystals
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R15/00Details of measuring arrangements of the types provided for in groups G01R17/00 - G01R29/00, G01R33/00 - G01R33/26 or G01R35/00
    • G01R15/14Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks
    • G01R15/24Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using light-modulating devices
    • G01R15/241Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using light-modulating devices using electro-optical modulators, e.g. electro-absorption
    • G01R15/242Adaptations providing voltage or current isolation, e.g. for high-voltage or high-current networks using light-modulating devices using electro-optical modulators, e.g. electro-absorption based on the Pockels effect, i.e. linear electro-optic effect

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Description

【発明の詳細な説明】
本発明はビスマスシリコンオキサイド
Bi12SiO20(以下BSOという)あるいはビスマスゲ
ルマニウムオキサイドBi12GeO20(以下BGOとい
う)素子を用いた、広帯域化した光応用電圧電界
センサに関する。 第1図は光の進行方向と電圧もしくは電界の印
加方向が共に〈100〉方向である縦型光応用電圧
電界センサの基本的な構成を示す図である。1は
光フアイバ、2はロツドレンズ、3は偏光子、4
は1/4波長板、5はBSO素子あるいはBGO素子、
6は検光子、7は入力電圧源である。BSO素子
及びBGO素子共に同じ説明が適用できるので、
以下にはBSO素子を用いて説明する。光フアイ
バ1に入射されロツドレンズ2、偏光子3及び1/
4波長板4を通つて透明電極を表裏面に形成した
BSO素子5に入射した光は、入力電圧源7から
電極を介してBSO素子5に印加される電圧の大
きさに応じて偏光の状態が変わる。光応用電圧セ
ンサはこの偏光の状態を知ることにより被検出入
力電圧もしくは電界の大きさを検出するものであ
る。 第2図は光の進行方向が〈110〉方向であり電
圧もしくは電界の印加方向が〈110〉方向で互に
直交する横型光応用電圧電界センサのBSO素子
8と入力電圧源7とを示すものである。他の構成
部分は第1図と同様である。 第3図は第1図の光応用電圧センサの変調感度
の従来の周波数特性を示す図である。従来の
BSO素子を用いた光応用電圧電界センサにおい
ては、入力電圧もしくは電界の周波数を変えてゆ
くとある特定周波数で圧電現象によりBSO素子
に機械的共振現象が発生する。この共振による機
械的な応力が更にBSO素子の屈折率に影響を及
ぼす。このため、従来のBSO素子を用いた光応
用電圧電界センサの変調感度の周波数特性は第3
図に示す様に特定周波数で非常に大きなピーク
a,b,c等を発生する欠点がある。従つて、高
電圧のサージ現象等の高い周波数成分まで一定の
変調感度を必要とする解折には、従来の光応用電
圧センサは使用できない欠点があつた。 本発明の目的は、共振現象の影響をなくし広帯
域化できるBSO素子もしくはBGO素子を用いた
光応用電圧センサを提供することである。 以下に図面を参照して本発明について詳細に説
明する。 〔A〕 第4図イは縦型光応用電圧電界センサの
BSO素子の形状(長さ1×幅w×厚さb)と
方位との関係を示す図である。1×w面内
(100)面にx軸、y軸を図のようにとり、1×
w面と垂直につまり厚さbと平行にz軸をとる
ものとする。圧電現象によりBSO素子に前記
共振現象が生ずる理由について発明者が行なつ
た解析によると、振動モードは第4図ロに実線
及び点線で示すいわゆる面すべり振動(face
shear mode)である。すなわち第3図イの座
標系でBSOを使用した場合、結晶に発生する
圧電現象はx軸−y軸平面において生ずる面す
べり振動であり、z軸方向の厚みbにはほとん
ど依存しないことがわかつた。 面すべり振動における共振周波数fRは近似的
に次式で与えられることが知られている。 この共振周波数は基本モード(m=n=1)に
おいては で示される。ここで、ρ:比重、C44:圧電ス
テイツフネス、1及びw:BSO素子の長さ及
び幅。BSOの場合、圧電ステイツフネスC44
0.25×1011(N/m2)、比重ρ=9.2×103(Kg/
m3)程度である。BSO素子の大きさに対する
共振周波数についての発明者の行なつた実験結
果と計算結果とを表1に示す。
【表】 この表1から分かる様に、実験値は計算値の
0.85倍程度になつており比較的良く一致してい
る。また、BSO素子の1とwとが同じでbの
みが異なる(1)の7×5×2のBSO素子と(4)の
7×5×1のBSO素子では共振周波数が殆ん
ど変化しないことがわかる。 従つて共振周波数を高くするためには1及び
wを極力小さくすることが望ましい。 一方、高電圧応用分野では立ち上がり時間
1μsec立ち下がり時間40μsecのいわゆる標準イ
ンパルス波形が多用されるが、本センサで標準
インパルス波形を測定するためには共振周波数
が少なくとも500KHz以上望ましくは1MHz以上
である必要がある。 表1より共振周波数を1MHz以上にすること
は1=1mm、w=1mm以下にすることにより達
成されるが、このような小さいBSO素子を用
いることは他の光学部品との組み合せ、及び調
整が困難となるとともに、光束の直径が1.5〜
2.0mm程度であることより透過光量が減少して
S/N比を低下させることとなる。 本発明はこのような欠点の無いBSO素子も
しくはBGO素子を提供するものである。 従来は(2)式において1とwの両方を小さくす
る方式が行われてきたが、発明者は1とwのい
ずれは一辺のみを極端に小さくすることによ
り、他の一辺を組立て調整等の取扱いに支障の
無い長さにとどめたままで共振周波数を高める
ことができることに着目した。ところがこのよ
うに極端に一辺を小さくすることは光の透過面
積を非常に狭くするため光束の極く一部しか利
用できずS/Nが低下し測定感度が低下するこ
とになる。そこで発明者はさらに種々の方式を
検討した結果、上記の極端に一辺を小さくした
BSOを光の進行方向と直角な方向に積層する
方法を発明した。 第5図は本発明によるBSO素子9の基本的
な構成を示すものであり、幅w×長さ1×奥行
きbのBSO板をn枚積層した構成を示す。こ
のような構成により各々のBSO片はほぼwで
決まる高い共振周波数を示し高周波化できると
ともに、光の入射面積を従来と全く同程度に広
くとることができるためS/Nの劣化による感
度の低下は生じない。また全体としての寸法は
1×(w×n)×bであり、組立て調整も従来と
同様に容易にできる。 実施例として表裏面に透明電極を形成したw
=0.6mm、1=7mm、b=2mmのBSO板を8枚
積層したところ、光の入射面の面積は(0.6×
8mm)×7mm=4.8mm×7mmとなり従来の5×7
mmの素子と全く同様の組立て調整が可能であつ
た。8枚を積層するためには酢酸ビニル系の接
着材を用いたがこれによる各BSO板間の振動
の干渉はほとんど発生せず、共振周波数fpはw
=0.6mm、1=7mmの時の計算値fp=1.5MHzに
対して測定値fp1.3MHzとなりfp=1MHz以上
の縦型光応用電圧電界センサが容易に構成でき
た。また接着層の厚みは数10μm以下であり光
束の透過損失はほとんどみとめられなかつた。 また接着層を透過してくる光は電圧による変
調をうけないのでノイズとなるが、このような
透過光によるS/Nの低下はほとんどみい出さ
れなかつた。より完全には、光吸収性の(不透
明性の)接着材を用いると良い。 ここで、さらに各BSO板間の振動の干渉を
極力少なくするためには接着層は緩やかな接着
状態であることが好ましく、上記の酢酸ビニル
系の接着材に何ら限定されるものではない。 またこの結果よりfp1MHzとなるためには
w0.8mmであればよいことが判る。 〔B〕 次に横型光応用電圧電界センサの場合につ
いて縦型の場合と同じ解析と実験を行つたとこ
ろ横型では第6図の実線と破線で示すように振
動モードは厚みすべり振動であり、この時の基
本モードでの共振周波数fpで表わされ、そしてここでCKはこの方位に特
有の圧電ステイクネスであるが、測定結果より
BSOの場合C44とほとんど一致することが判つ
た。 すなわち直径1.5〜2mmの光束を損失無く透
過させるために1=2mmとしたときfp=400K
Hzであつた。この場合もfpを1MHz以上にする
ためには1をさらに小さくする必要があり、望
ましくは0.8mm以下にする必要がある。すると
縦型の場合と同じ問題が生じることとなる。 かかる欠陥を改善するべく発明者は第7図に
示すように1を極端に小さくして積層する
BSO素子10を発明した。この場合相隣接し
たBSO板の電極が接触するため電圧の極性は
(+−)(−+)(+−)……(+−)(−+)と
いうように接触した電極を同じ極性にする必要
がある。 実施例として、1=0.6mm、w=7mm、b=
10mmのBSO板の(110)面にAu電極を形成し
たものを9枚積層してfpを測定したところfp
1.3MHzで縦型と同様の良好な結果を得ること
ができた。 以上の結果は電圧、電界いずれの場合にも確
認された。またBGOを用いた場合にも全く同
様の結果を得た。 以上のように本発明によれば、特定の辺の長
さのみを短かくした結晶板を光の進行方向と直
角の方向に積層することにより共振周波数を高
めて光応用電圧電界センサの測定周波数範囲を
広げることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は縦型光応用電圧電界センサの基本的な
構成を示す図、第2図は横型光応用電圧電界セン
サのBSO素子部分を示す図、第3図は第1図の
センサの変調感度の従来の周波数特性を示す図、
第4図イは縦型BSO素子の形状と方位との関係
を示す図、ロは面すべり振動を示す図、第5図は
本発明による縦型光応用電圧電界センサのBSO
素子もしくはBGO素子基本的な構成を示す図、
第6図は横型BSO素子もしくはBGO素子の形状
と方位とその厚みすべり振動を示す図、第7図は
本発明による横型光応用電圧電界センサのBSO
素子もしくはBGO素子の基本的な構成を示す図
である。 1:光フアイバ、2:ロツドレンズ、3:偏光
子、4:1/4波長板、5:BSO素子あるいはBGO
素子、6:検光子、7:入力電圧源、8:横型
BSO素子もしくはBGO素子、9:積層された縦
型BSO素子もしくはBGO素子、10:積層され
た横型BSO素子もしくはBGO素子、a,b,
c:ピーク値、1×w×b:素子の長さ×幅×厚
さ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ビスマスシリコンオキサイド(Bi12SiO20
    あるいはビスマスゲルマニウムオキサイド
    (Bi12GeO20)単結晶に印加される電圧もしくは
    電界を検出する光応用電圧電界センサにおいて、
    光の進行方向に直交する方向に結晶板を積層して
    成ることを特徴とする光応用電圧電界センサ 2 積層方向の結晶板の厚みが0.8mm以下である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光
    応用電圧電界センサ。
JP56118257A 1981-07-27 1981-07-27 光応用電圧電界センサ Granted JPS5832171A (ja)

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JP56118257A JPS5832171A (ja) 1981-07-27 1981-07-27 光応用電圧電界センサ
US06/397,009 US4595876A (en) 1981-07-27 1982-07-12 Optical voltage and electric field sensor
EP82106372A EP0071106B1 (en) 1981-07-27 1982-07-15 Optical voltage and electric field sensor
DE8282106372T DE3275128D1 (en) 1981-07-27 1982-07-15 Optical voltage and electric field sensor
CA000407984A CA1212148A (en) 1981-07-27 1982-07-23 Optical voltage and electric field sensor
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