JPH02102918A - 磁気軸受装置 - Google Patents

磁気軸受装置

Info

Publication number
JPH02102918A
JPH02102918A JP63254620A JP25462088A JPH02102918A JP H02102918 A JPH02102918 A JP H02102918A JP 63254620 A JP63254620 A JP 63254620A JP 25462088 A JP25462088 A JP 25462088A JP H02102918 A JPH02102918 A JP H02102918A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
permanent magnet
magnetic pole
coil
control
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63254620A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3041342B2 (ja
Inventor
Akira Yamamura
章 山村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON FERROFLUIDICS KK
Original Assignee
NIPPON FERROFLUIDICS KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON FERROFLUIDICS KK filed Critical NIPPON FERROFLUIDICS KK
Priority to JP63254620A priority Critical patent/JP3041342B2/ja
Priority to EP89118608A priority patent/EP0362882B1/en
Priority to DE68912491T priority patent/DE68912491T2/de
Priority to KR1019890014498A priority patent/KR0157967B1/ko
Publication of JPH02102918A publication Critical patent/JPH02102918A/ja
Priority to US07/560,456 priority patent/US5068558A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3041342B2 publication Critical patent/JP3041342B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C33/00Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
    • F16C33/02Parts of sliding-contact bearings
    • F16C33/04Brasses; Bushes; Linings
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C32/00Bearings not otherwise provided for
    • F16C32/04Bearings not otherwise provided for using magnetic or electric supporting means
    • F16C32/0406Magnetic bearings
    • F16C32/044Active magnetic bearings
    • F16C32/0459Details of the magnetic circuit
    • F16C32/0461Details of the magnetic circuit of stationary parts of the magnetic circuit
    • F16C32/0465Details of the magnetic circuit of stationary parts of the magnetic circuit with permanent magnets provided in the magnetic circuit of the electromagnets
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D19/00Axial-flow pumps
    • F04D19/02Multi-stage pumps
    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
    • F04D19/048Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps comprising magnetic bearings
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04DNON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04D29/00Details, component parts, or accessories
    • F04D29/05Shafts or bearings, or assemblies thereof, specially adapted for elastic fluid pumps
    • F04D29/051Axial thrust balancing
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C32/00Bearings not otherwise provided for
    • F16C32/04Bearings not otherwise provided for using magnetic or electric supporting means
    • F16C32/0406Magnetic bearings
    • F16C32/044Active magnetic bearings
    • F16C32/0444Details of devices to control the actuation of the electromagnets
    • F16C32/0446Determination of the actual position of the moving member, e.g. details of sensors
    • F16C32/0448Determination of the actual position of the moving member, e.g. details of sensors by using the electromagnet itself as sensor, e.g. sensorless magnetic bearings
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C32/00Bearings not otherwise provided for
    • F16C32/04Bearings not otherwise provided for using magnetic or electric supporting means
    • F16C32/0406Magnetic bearings
    • F16C32/044Active magnetic bearings
    • F16C32/0474Active magnetic bearings for rotary movement
    • F16C32/0476Active magnetic bearings for rotary movement with active support of one degree of freedom, e.g. axial magnetic bearings
    • F16C32/0478Active magnetic bearings for rotary movement with active support of one degree of freedom, e.g. axial magnetic bearings with permanent magnets to support radial load

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は磁気軸受装置に関するものであって、この発
明の目的は、制御電流による制御特性を向上し得ると共
に、アーマチャーディスクの変位による不平衡バネ定数
を小さくでき、しかも構造簡素な磁気軸受装置を提供す
ることにある。
以下にこの発明の磁気軸受装置の具体的な実施例につい
て、図面を参照しつつ詳細に説明する。
第1図において、lは回転主軸であって、この回転主軸
lにはアーマチャーディスク2が、一体回転可能に取着
されている。このアーマチャーディスク2を挟んで、軸
方向の両側の位置には、対の軸受要素3.3が配置され
ている。各軸受要素3は、永久磁石4の両磁極面に一対
の磁極片5.6を取着した構造のもので、各磁極片5.
6はアーマチャーディスク2と平行に延びる部分と、こ
の部分からアーマチャーディスク2に近接する位置まで
延びる先端部分とを有している。そして上記一対の磁極
片5.6間の位置において、上記永久磁石4よりも先端
側に制御コイル7が配置され、この制御itコイル7よ
りもさらに先端側にセンサーコイル8が配置されている
。なおこのセンサーコイル8は、上記制御コイル7と同
方向に巻かれているものとする。
上記磁気軸受装置においては、磁極片5.6の先端側に
第1及び第2空隙11,12が、また磁極片5.6の基
端側に漏れ磁路13がそれぞれ形成されることになるが
、その等価回路を第2図に示す。同図において、EOは
永久磁石4の起磁力、ROは永久磁石4の内部磁気抵抗
、RLは漏れ磁束用磁気抵抗、R1は第1空隙11用磁
気抵抗、R2は第2空隙用磁気抵抗をそれぞれ示してい
る。
上記においてアーマチャーディスク2の変位による不平
衡バネ定数は、 1 / E 1 + (RO/(1+RO/R1)(R
1+R2)  ) 1に比例する。
また制御力は、 EO・Nl/R R= (R1+R2)”(1+RO/RL) +2RQ
(R1+R2)十RO”/(1+R2/RL) に比例する。したがって RL=RO(R1+R2)/ (RO−(R1+R2)
 )= RO/ (a −1) 〔ただし、RO=a (R1+ R2) )の時に最大
となる。
以上のように、永久磁石4のNS極面間隔を長くしl、
内部磁気抵抗ROを大きくシ(例えば、上記磁極片5.
6を軟磁性体にて構成する)、制御コイル7の磁路の磁
気抵抗を、永久磁石4の漏れ磁路を作ることによって最
適化し、また永久磁石4よりも先端側に制御コイル7を
配置することによって、制御電流による制御特性を向上
し得ると共に、アーマチャーディスクの変位による不平
衡バネ定数を小さくでき、しかもその構成を簡素化する
ことが可能となる。
第3図には変位検出センサーの変位検出原理図を示す。
この場合の変位検出センサーは、センサーコイル8とア
ーマチャーディスク2(磁性体)とで構成されており、
コイル8には高周波(略50KHz )電流を流しであ
る。コイル8とアーマチャーディスク2との距離が変化
すると、コイル8のインダクタンスが変化し、コイル8
に印加しである高周波が振幅変調されることになるため
、この変調骨を変位として検出するのである。検出回路
は2個のインピーダンスzo、zoと、2個のセンサー
コイルL1、L2でブリッジを構成して変化分を差動検
出した後、検波回路で変位信号を取り出すようにしてい
る。
制御コイル7とセンサーコイル8とを複合させたときの
ノイズに関しては、吸引力を強める方の制御コイル7は
強い磁界を発生させるが、センサーコイル8とアーマチ
ャーディスク2との距離が離れているため、サンサーコ
イル8のインダクタンスの変化分はある値とはなるもの
の、極端には大きくならない。一方、吸引力を弱める側
の制御コイル7は、発生する磁界は弱いが、センサーコ
イル8とアーマチャーディスク2との距離が短(、サン
サーコイル8のインダクタンスの変化分は上記の「ある
値」と略同じ値になる。したがって、このように差動検
出方式を採用すれば、上記変化分は互いにキャンセルさ
れ、変位成分としては検出されず、精度の良い変位検出
をなし得ることになる。
いまここで、 Ll、L2:センサコイルのインダクタンスzOニブリ
ッジの基準インピーダンス μ:空隙の透磁率 S:磁心の断面積 N:コイルの巻数 xO:平衡点でのセンサターゲットの距離x:xOから
の変位 −:コイル印加電圧ν0の角周波数 とそれぞれすると、ブリッジの出力電圧■は、■=ν0
(j匈L2−j軸Ll) / 2 (jwL1+j賀L
2)=VO(L2−Ll) /2 (L1+L2)とな
る。
そこで L1=μSN”/2 (に0−X) =a/(xo−x) L2= u SN”/ 2 (xO+ x )= a 
/ (xO+ x ) と仮定すると、 V=−VO・x / 2 XO となり、したがって変位に比例した電気信号を得ること
が可能となる。なお■は、数10KHzの高周波電圧で
あり、その振幅が変位に比例することから、検波によっ
て高周波成分を除去することにより変位信号の出力が可
能となる。
以上のように上記した軸方向変位検出機構によれば、セ
ンサーコイル8の磁路を、制御コイル7の磁路と共通に
しであることから、省スペースを図ることが可能となる
。また上記のような差動検出機構を採用すれば、アーマ
チャーディスク2が両軸受要素3.3の中央に位置する
ときにセンサー出力が零となるため、個々の構造体によ
るバラツキを低減し得るし、また変位に対してリニアニ
なセンサー出力を得ることが可能となる。
この発明の磁気軸受装置は上記のように構成されたもの
であり、そのためこの発明の磁気軸受装置においては、
制御電流による制御特性を向上し得ると共に、アーマチ
ャーディスクの変位による不平衡バネ定数を小さくでき
、しかもその構成を簡素化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の磁気軸受装置の一実施例を示す縦断
面図、第2図は上記装置の等価回路図、第3図は変位検
出センサーの作動原理図である。 1・・・回転主軸、2・・・アーマチャーディスク、3
・・・軸受要素、4・・・永久磁石、5.6・・・磁極
片、7・・・制御コイル、8・・・センサーコイル。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、回転主軸に取着されたアーマチャーディスクの軸方
    向両側に一対の軸受要素を配置して成り、上記各軸受要
    素は、永久磁石の両磁極面に一対の磁極片を取着すると
    共に、この磁極片の先端側を上記アーマチャーディスク
    に近接して配置し、さらに上記永久磁石よりも先端側の
    位置において、上記磁極片間に制御用コイルを配置して
    成る磁気軸受装置。
JP63254620A 1988-10-07 1988-10-07 磁気軸受装置 Expired - Fee Related JP3041342B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63254620A JP3041342B2 (ja) 1988-10-07 1988-10-07 磁気軸受装置
EP89118608A EP0362882B1 (en) 1988-10-07 1989-10-06 Magnetic bearing device
DE68912491T DE68912491T2 (de) 1988-10-07 1989-10-06 Magnetlager.
KR1019890014498A KR0157967B1 (ko) 1988-10-07 1989-10-07 마그네틱 베어링 장치
US07/560,456 US5068558A (en) 1988-10-07 1990-07-27 Magnetic bearing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63254620A JP3041342B2 (ja) 1988-10-07 1988-10-07 磁気軸受装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02102918A true JPH02102918A (ja) 1990-04-16
JP3041342B2 JP3041342B2 (ja) 2000-05-15

Family

ID=17267563

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63254620A Expired - Fee Related JP3041342B2 (ja) 1988-10-07 1988-10-07 磁気軸受装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5068558A (ja)
EP (1) EP0362882B1 (ja)
JP (1) JP3041342B2 (ja)
KR (1) KR0157967B1 (ja)
DE (1) DE68912491T2 (ja)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2269862B (en) * 1992-08-22 1996-05-08 Glacier Metal Co Ltd Electromagnetic bearing arrangement
US5660397A (en) * 1994-09-23 1997-08-26 Holtkamp; William H. Devices employing a liquid-free medium
FR2729722B1 (fr) * 1995-01-20 1997-04-18 Aerospatiale Palier magnetique a actionneur incorporant son capteur
GB9603966D0 (en) * 1996-02-24 1996-04-24 Glacier Metal Co Ltd Rotor arrangement including axial displacement rate transducer
US6008558A (en) * 1998-09-17 1999-12-28 Sundstrand Corporation L-shaped magnetic thrust bearing
FR2785734A1 (fr) 1998-11-05 2000-05-12 Aerospatiale Dispositif magnetique pour corps tournant et ensemble mecanique le comportant
DE19860814A1 (de) 1998-12-30 2000-07-20 Teldix Gmbh Verfahren und Einrichtung zur Verbesserung des dynamischen Verhaltens eines Magnetlagers
US6392428B1 (en) * 1999-11-16 2002-05-21 Eaglestone Partners I, Llc Wafer level interposer
KR100666317B1 (ko) * 1999-12-15 2007-01-09 삼성전자주식회사 구동 신호 인가시점 결정모듈, 이를 포함한 액정표시패널어셈블리 및 액정표시패널 어셈블리의 구동 방법
JP2001352114A (ja) * 2000-06-08 2001-12-21 Ebara Corp エキシマレーザ装置用磁気軸受装置
US6537831B1 (en) * 2000-07-31 2003-03-25 Eaglestone Partners I, Llc Method for selecting components for a matched set using a multi wafer interposer
US6686657B1 (en) 2000-11-07 2004-02-03 Eaglestone Partners I, Llc Interposer for improved handling of semiconductor wafers and method of use of same
US6524885B2 (en) * 2000-12-15 2003-02-25 Eaglestone Partners I, Llc Method, apparatus and system for building an interposer onto a semiconductor wafer using laser techniques
US20020078401A1 (en) * 2000-12-15 2002-06-20 Fry Michael Andrew Test coverage analysis system
US20020076854A1 (en) * 2000-12-15 2002-06-20 Pierce John L. System, method and apparatus for constructing a semiconductor wafer-interposer using B-Stage laminates
US6673653B2 (en) * 2001-02-23 2004-01-06 Eaglestone Partners I, Llc Wafer-interposer using a ceramic substrate
DE102005025588B4 (de) * 2005-06-03 2017-12-07 Lust Antriebstechnik Gmbh Anordnung zur Positionsmessung bei einer magnetisch gelagerten Welle
US9853525B2 (en) 2012-06-12 2017-12-26 Abb Research Ltd. Magnetic bearing assembly and arrangement of position sensors for a magnetic bearing assembly

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6220408A (ja) * 1985-07-19 1987-01-29 Fujitsu Ltd 自動利得制御装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2213470C3 (de) * 1972-03-20 1988-12-01 Padana AG, Zug Magnetisches Lager
US3909082A (en) * 1972-08-30 1975-09-30 Hitachi Ltd Magnetic bearing devices
DE2355104A1 (de) * 1973-11-03 1975-05-15 Bbc Brown Boveri & Cie Elektromagnetisches axiallager
DE2451972C3 (de) * 1974-10-31 1979-09-13 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Aktives magnetisches Radiallager
FR2377549A1 (fr) * 1977-01-12 1978-08-11 Europ Propulsion Montage de rotor court de grand diametre
US4167296A (en) * 1977-12-30 1979-09-11 Sperry Rand Corporation Protective control system for magnetic suspension and magnetically suspended devices
JPS5881217A (ja) * 1981-11-11 1983-05-16 Seiko Instr & Electronics Ltd 5自由度制御形磁気軸受装置
JPS5919714A (ja) * 1982-07-26 1984-02-01 Toshiba Corp 磁気軸受装置
JPS5983828A (ja) * 1982-11-02 1984-05-15 Seiko Instr & Electronics Ltd 磁気軸受
EP0192836A3 (de) * 1985-03-01 1988-07-20 Maschinenfabrik Rieter Ag Verwendung einer magnetischen Lageranordnung
US4642501A (en) * 1985-10-15 1987-02-10 Sperry Corporation Magnetic suspension and pointing system with flux feedback linearization
JPH0198708A (ja) * 1987-10-07 1989-04-17 Ebara Res Co Ltd ラジアル磁気軸受装置
US4920291A (en) * 1989-01-19 1990-04-24 Contraves Goerz Corporation Magnetic thrust bearing with high force modulation capability

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6220408A (ja) * 1985-07-19 1987-01-29 Fujitsu Ltd 自動利得制御装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0362882A2 (en) 1990-04-11
DE68912491T2 (de) 1994-06-16
DE68912491D1 (de) 1994-03-03
KR900006699A (ko) 1990-05-08
EP0362882B1 (en) 1994-01-19
KR0157967B1 (ko) 1999-05-01
JP3041342B2 (ja) 2000-05-15
US5068558A (en) 1991-11-26
EP0362882A3 (en) 1990-06-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02102918A (ja) 磁気軸受装置
EP0121007B1 (en) A combined position sensor and magnetic actuator
US4825904A (en) Two position flow control valve assembly with position sensing
US20050127905A1 (en) Eddy current sensors
JPH1073570A (ja) 渦電流センサー及びその使用方法
JPH04229069A (ja) 電磁駆動システム
JPS6139839A (ja) トルクモ−タ
JPS58184319A (ja) 磁気軸受
JP4768712B2 (ja) 位置を自動検出する能動型磁気ベアリング
JPH02102919A (ja) 磁気軸受装置
JPS6243429B2 (ja)
JPH01318901A (ja) 磁気誘導式センサ
JPS6185054A (ja) 二磁路型ボイスコイルモ−タ
JP3814041B2 (ja) ロータ位置検出機構付きステッピングモータ
JPH03202703A (ja) インダクタンス形変位センサ
JPH05126654A (ja) 磁歪式トルクセンサ
JPH0246707A (ja) 電磁石
JPH0545538U (ja) 磁歪式トルクセンサ
JP2709606B2 (ja) リニヤモータ
JPS5855624Y2 (ja) 無接点可変抵抗器
JP2673479B2 (ja) 磁気軸受装置
JPS59160767A (ja) 速度検出装置
JP3534484B2 (ja) 磁気式位置センサ
JPH0566102A (ja) 位置検出装置
JPS6028761A (ja) ホ−ルモ−タ

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees