JPH02101071A - ジヒドロ‐2h‐ピラン‐2,4(3h)‐ジオンの製造法 - Google Patents
ジヒドロ‐2h‐ピラン‐2,4(3h)‐ジオンの製造法Info
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- JPH02101071A JPH02101071A JP25383288A JP25383288A JPH02101071A JP H02101071 A JPH02101071 A JP H02101071A JP 25383288 A JP25383288 A JP 25383288A JP 25383288 A JP25383288 A JP 25383288A JP H02101071 A JPH02101071 A JP H02101071A
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Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
医薬、農薬、工業用殺菌剤等の中間体として有用なジヒ
ドロ−2H−ピラン−2,4(3H)−ジオンの製造法
に関する。
ドロ−2H−ピラン−2,4(3H)−ジオンの製造法
に関する。
ジヒドロ−2H−ピラン−2,4(3旧−ジオン(以下
(V)とかく。)には、次の互変異性体が存在し、(V
) (Vl) (■
〕5.6−シヒドロー4−ヒドロキシ−2H−ピラン−
2−オン〔■〕は、植物由来のキシランを加熱すること
により、極めて低収率で得られることが報告されている
にすぎない(例えば、木材学会屹2H20(1975)
、同誌21305(1975)など)。
(V)とかく。)には、次の互変異性体が存在し、(V
) (Vl) (■
〕5.6−シヒドロー4−ヒドロキシ−2H−ピラン−
2−オン〔■〕は、植物由来のキシランを加熱すること
により、極めて低収率で得られることが報告されている
にすぎない(例えば、木材学会屹2H20(1975)
、同誌21305(1975)など)。
〔発明が解決しようとする課題]
本発明は、容易に入手し得る一般式(1)(式中、Rは
低級アルキル基又はフェニル基を示す。)で表わされる
化合物(以下単にCI)ともかく。)、6−クロロ−4
−ヒドロキシ2−オキソ−2H−ピラン−3−カルボン
酸(以下単に[Nともかく。)4−ヒドロキシ−2−オ
キソ−2H−ピラン−3−カルボン酸(以下単に(II
I)ともかく。)又は4−ヒドロキシ2H−ピラン−2
−オン(以下単に(IV)ともかく。)から良好な収率
で(V)を製造する方法を確立することである。
低級アルキル基又はフェニル基を示す。)で表わされる
化合物(以下単にCI)ともかく。)、6−クロロ−4
−ヒドロキシ2−オキソ−2H−ピラン−3−カルボン
酸(以下単に[Nともかく。)4−ヒドロキシ−2−オ
キソ−2H−ピラン−3−カルボン酸(以下単に(II
I)ともかく。)又は4−ヒドロキシ2H−ピラン−2
−オン(以下単に(IV)ともかく。)から良好な収率
で(V)を製造する方法を確立することである。
(1)は、例えばJ、Chem、Soc、724109
(1952)に従ってマロン酸ジクロライドとケトン類
から容易に合成することができる。
(1952)に従ってマロン酸ジクロライドとケトン類
から容易に合成することができる。
(II)〜[IV)は、例えば同一出願人による特願昭
63−210443号の方法で合成することが出来る。
63−210443号の方法で合成することが出来る。
本発明は、
(1) 4−ヒドロキシ−2H−ピラン−2−オンを還
元することを特徴とするジヒドロ−2H−ピラン−2,
4(3H)ジオンの製造法、 (2)4−ヒドロキシ−2−オキソ−2H−ピラン−3
−カルボン酸を還元、脱炭酸することを特徴とするジヒ
ドロ−2H−ピラン−2,4(3H)−ジオンの製造法
、(3)6−り0ロー4−とドロキシ−2−オキソ−2
H−ピラン−3−カルボン酸を脱クロル化、還元、脱炭
酸することを特徴とするジヒドロ−2H−ピラン−2,
4(3H)ジオンの製造法、 (4) 一般式(1) 本発明の製造法を反応式で示すと次の通りである。
元することを特徴とするジヒドロ−2H−ピラン−2,
4(3H)ジオンの製造法、 (2)4−ヒドロキシ−2−オキソ−2H−ピラン−3
−カルボン酸を還元、脱炭酸することを特徴とするジヒ
ドロ−2H−ピラン−2,4(3H)−ジオンの製造法
、(3)6−り0ロー4−とドロキシ−2−オキソ−2
H−ピラン−3−カルボン酸を脱クロル化、還元、脱炭
酸することを特徴とするジヒドロ−2H−ピラン−2,
4(3H)ジオンの製造法、 (4) 一般式(1) 本発明の製造法を反応式で示すと次の通りである。
(式中、Rは低級アルキル基又はフェニル基を示す。)
で表わされる化合物を脱ケトン化、脱クロル化、還元、
脱炭酸することを特徴とするジヒドロ−2H−ピラン−
2,4(3H)−ジオンの製造法である。
で表わされる化合物を脱ケトン化、脱クロル化、還元、
脱炭酸することを特徴とするジヒドロ−2H−ピラン−
2,4(3H)−ジオンの製造法である。
なお、〔団〕より(V)の製造する場合、還元及び脱炭
酸反応をワンポットで行うものである。
酸反応をワンポットで行うものである。
同様に(n)より〔V〕、あるいは(1)より〔V〕を
製造する場合も一連の反応をワンポットで行うものであ
る。
製造する場合も一連の反応をワンポットで行うものであ
る。
従って、これら一連の反応は、反応条件により、同時に
進行、あるいは順番が変ることがある。
進行、あるいは順番が変ることがある。
本発明における脱ケ1〜ン化とは
(r?’ −H又はCZ 、−単結合又は二重結合を示
す。)なる反応を意味する。
す。)なる反応を意味する。
また、本発明では、(I[)〜(V)について次の互変
異性体が存在する。
異性体が存在する。
反応は、酸化白金、白金カーボン、パラジウムカーボン
、ロジウムカーボン、ラネーニッケル等の接触水素添加
反応用触媒と水素並びに溶媒の存在下、反応温度は室温
以上、圧力は常圧以上で、必要に応じ酸受容体の共存下
に行なわれる。
、ロジウムカーボン、ラネーニッケル等の接触水素添加
反応用触媒と水素並びに溶媒の存在下、反応温度は室温
以上、圧力は常圧以上で、必要に応じ酸受容体の共存下
に行なわれる。
溶媒としては、TIIF、ジオキサン等のエーテル類、
ギ酸、酢酸等の有機酸類、酢酸メチル、酢酸エチル等の
エステル類、メタノール、エタノール等のアルコール類
、水などがあげられ、単独ないしは、これら溶媒を混合
して用いることも出来る。
ギ酸、酢酸等の有機酸類、酢酸メチル、酢酸エチル等の
エステル類、メタノール、エタノール等のアルコール類
、水などがあげられ、単独ないしは、これら溶媒を混合
して用いることも出来る。
反応温度、圧力に関しては、〔■]から(V)を製造す
る場合には、常温、常圧で良好な結果を与える。(1)
〜(I[[)から(V)を製造する場合には、加熱、加
圧下に反応を行うことが望ましい。
る場合には、常温、常圧で良好な結果を与える。(1)
〜(I[[)から(V)を製造する場合には、加熱、加
圧下に反応を行うことが望ましい。
又、CI)及び(II)から(V)を製造する場合には
、酢酸ナトリウム(又はカリウム)、炭酸水素ナトリウ
ム(又はカリウム)、炭酸ナトリウム(又はカリウム)
等の酸受容体の存在下に反応を行うことが望ましい。
、酢酸ナトリウム(又はカリウム)、炭酸水素ナトリウ
ム(又はカリウム)、炭酸ナトリウム(又はカリウム)
等の酸受容体の存在下に反応を行うことが望ましい。
次に実施例を挙げ本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
実施例2
(]V) (V)常圧水素添加装
置を用い、27°Cにて、4−ヒドロキシ−2H−ピラ
ン−2−オン 2.24 g、エタノール40mQ、1
0%パラジウムカーボン0.6gからなる懸濁液に、1
.03当量の水素を吸収させた(約25分間を要した。
置を用い、27°Cにて、4−ヒドロキシ−2H−ピラ
ン−2−オン 2.24 g、エタノール40mQ、1
0%パラジウムカーボン0.6gからなる懸濁液に、1
.03当量の水素を吸収させた(約25分間を要した。
)。反応系を窒素ガスで置換したのち、触媒を濾別した
。
。
濾液は減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル)で精製し、1.
68gのジヒドロ−2H−ピラン−2,4(3H)ジオ
ンを得た。
トグラフィー(溶出溶媒:酢酸エチル)で精製し、1.
68gのジヒドロ−2H−ピラン−2,4(3H)ジオ
ンを得た。
融点 74°−77°C
NMR(CDCP、3) δ(ppm) = 2.7
30.2H)、3.57(S、2+1)、4.59(t
2+1) この測定条件下では、ジオン構造(ケト型互変異性体)
が優勢であった。
30.2H)、3.57(S、2+1)、4.59(t
2+1) この測定条件下では、ジオン構造(ケト型互変異性体)
が優勢であった。
MASS M’=114 1R(K[lr)
3450.1720cm−’(II)
(V)50mlガラス製オートクレーブ
に4−ヒドロキシ−2オキソ−2H−ピラン−3−カル
ボン酸1.0 g 、酢酸10m!、10%パラジウム
カーボン0.15gを仕込み、水素ガスで5 、5 k
g / cJに加圧した。50°Cで3時間撹拌した。
3450.1720cm−’(II)
(V)50mlガラス製オートクレーブ
に4−ヒドロキシ−2オキソ−2H−ピラン−3−カル
ボン酸1.0 g 、酢酸10m!、10%パラジウム
カーボン0.15gを仕込み、水素ガスで5 、5 k
g / cJに加圧した。50°Cで3時間撹拌した。
反応液は冷却後セライトを用いて濾過、濾液を減圧下に
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶媒:酢酸エチル)で精製し、0.43 gのジ
ヒドロ−2H−ピラン−2,4(3H)ジオンを得た。
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶媒:酢酸エチル)で精製し、0.43 gのジ
ヒドロ−2H−ピラン−2,4(3H)ジオンを得た。
実施例3
(II) (V〕50dガラス
製オートクレーブに、6−クロロ−4ヒドロキシ−2−
オキソ−2H−ピラン−3−カルボン酸0.97 g
、酢酸エチル10m1、酢酸ナトリウム0.41 g、
10%パラジウムカーボン0.15gを入れ、次いで水
素ガスで4 、8 kg / ctKに加圧した。室温
にて7時間、さらに50°Cにて10時間攪拌した。反
応液は、冷却後セライトを用いて濾過、濾液を減圧下に
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶媒:クロロホルム:メタノール:酢酸−11:
1)で精製、得られた結晶をクロロホルムに溶解し、活
性炭を加えて濾過した。濾液を濃縮乾固して0.34の
ジヒドロ−2H−ピラン−2,4(3H)ジオンを得た
。
製オートクレーブに、6−クロロ−4ヒドロキシ−2−
オキソ−2H−ピラン−3−カルボン酸0.97 g
、酢酸エチル10m1、酢酸ナトリウム0.41 g、
10%パラジウムカーボン0.15gを入れ、次いで水
素ガスで4 、8 kg / ctKに加圧した。室温
にて7時間、さらに50°Cにて10時間攪拌した。反
応液は、冷却後セライトを用いて濾過、濾液を減圧下に
濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出溶媒:クロロホルム:メタノール:酢酸−11:
1)で精製、得られた結晶をクロロホルムに溶解し、活
性炭を加えて濾過した。濾液を濃縮乾固して0.34の
ジヒドロ−2H−ピラン−2,4(3H)ジオンを得た
。
(1) (V)5
0mlガラス製オートクレーブに、7−クロロ−2,2
ジメチル−41+ 、 5 I+−ピラノ[4,3−d
l−1,3−ジオキシン4.5−ジオン1.15 g、
酢酸10m1l、酢酸ナトリウム0゜41g、10%パ
ラジウムカーボン0.15gを仕込み次いで水素ガスを
導入し、4 、8 kg / c+Ilに加圧した。
0mlガラス製オートクレーブに、7−クロロ−2,2
ジメチル−41+ 、 5 I+−ピラノ[4,3−d
l−1,3−ジオキシン4.5−ジオン1.15 g、
酢酸10m1l、酢酸ナトリウム0゜41g、10%パ
ラジウムカーボン0.15gを仕込み次いで水素ガスを
導入し、4 、8 kg / c+Ilに加圧した。
室温にて4時間、さらに50°Cにて7.5時間攪拌し
た。反応液は冷却後セライトを用いて濾過、濾液を減圧
下に濃縮した。
た。反応液は冷却後セライトを用いて濾過、濾液を減圧
下に濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(?容出?
容媒;クロロホルム;メタノール;酢酸−9:I:1)
で精製、得られた結晶をクロロホルムに溶解し、活性炭
を加えて濾過した。濾液を濃縮乾固後、結晶をエーテル
で洗浄して、0.26 gのジヒドロ−2H−ピラン−
2,4(3H)−ジオンを得た。
容媒;クロロホルム;メタノール;酢酸−9:I:1)
で精製、得られた結晶をクロロホルムに溶解し、活性炭
を加えて濾過した。濾液を濃縮乾固後、結晶をエーテル
で洗浄して、0.26 gのジヒドロ−2H−ピラン−
2,4(3H)−ジオンを得た。
[発明の効果]
本発明では医薬、農薬、工業用殺菌剤等の中間体として
有用な〔V〕が入手容易な原料からワンポットで良好な
収率で得られる製造法が確立された。
有用な〔V〕が入手容易な原料からワンポットで良好な
収率で得られる製造法が確立された。
Claims (4)
- (1)4−ヒドロキシ−2H−ピラン−2−オンを還元
することを特徴とする式▲数式、化学式、表等がありま
す▼で表わされジヒドロ−2H−ピラン−2,4(3H
)−ジオンの製造法。 - (2)4−ヒドロキシ−2−オキソ−2H−ピラン−3
−カルボン酸を還元、脱炭酸することを特徴とするジヒ
ドロ−2H−ピラン−2,4(3H)−ジオンの製造法
。 - (3)6−クロロ−4−ヒドロキシ−2−オキソ−2H
−ピラン−3−カルボン酸を脱クロル化、還元、脱炭酸
することを特徴とするジヒドロ−2H−ピラン−2,4
(3H)−ジオンの製造法。 - (4)一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、Rは低級アルキル基又はフェニル基を示す。)
で表わされる化合物を脱ケトン化、脱クロル化、還元、
脱炭酸することを特徴とするジヒドロ−2H−ピラン−
2,4(3H)−ジオンの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25383288A JPH02101071A (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | ジヒドロ‐2h‐ピラン‐2,4(3h)‐ジオンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25383288A JPH02101071A (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | ジヒドロ‐2h‐ピラン‐2,4(3h)‐ジオンの製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02101071A true JPH02101071A (ja) | 1990-04-12 |
Family
ID=17256755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25383288A Pending JPH02101071A (ja) | 1988-10-11 | 1988-10-11 | ジヒドロ‐2h‐ピラン‐2,4(3h)‐ジオンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02101071A (ja) |
-
1988
- 1988-10-11 JP JP25383288A patent/JPH02101071A/ja active Pending
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