JPH0197525A - ワイヤカット放電加工装置 - Google Patents

ワイヤカット放電加工装置

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JPH0197525A
JPH0197525A JP25182887A JP25182887A JPH0197525A JP H0197525 A JPH0197525 A JP H0197525A JP 25182887 A JP25182887 A JP 25182887A JP 25182887 A JP25182887 A JP 25182887A JP H0197525 A JPH0197525 A JP H0197525A
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JP
Japan
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machining
pulse
workpiece
wire
discharge
Prior art date
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Pending
Application number
JP25182887A
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English (en)
Inventor
Kiyoshi Inoue
潔 井上
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Inoue Japax Research Inc
Original Assignee
Inoue Japax Research Inc
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Publication date
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分界〕 本発明はワイヤカット放電加工装置の改良に関する。
〔従来技術〕
ワイヤカット放電加工は、第1図に示すようにリール2
から供給されるワイヤ電極1を上下のガイド3間を所定
の張力と速度をもって走行移動させ、これに被加工体4
を対向させた間隙に放電を繰返して加工する。加工液は
被加工体の上側及び下側にワイヤ軸に同軸等の軸方向に
対向した両ノズル5からほぼ等しい圧力で噴射供給し、
又加工パルスは被加工体の上側及び下側のワイヤ電極に
接触する通電子6と被加工体との間にまたがって接続し
た単独の加工電源7からスイッチ8のオン・オフスイッ
チング制御によって同期パルスを分流供給する。
(@照点〕 前記第1図に示すように、上下の通電子6からワイヤ電
極1に通電されるパルス電流は同期した分流電流であり
、被加工体4の一点(111電点)に集中して流れる大
電流になり、このためそこの介在液を加熱してガス化に
することに供給電力の大半を消費し、加工速度は増加し
ないと同時にワイヤ電極を*sb、加工効率、即ら単位
電流当りの加工向を増加することができず、集中する大
電流によって加工面を傷付はワイヤ電極の断線を促進し
、加工速度、加工能率を益々低下させることになる欠点
があった。
〔問題点の解決手段〕
本発明はこのような点に鑑みて提案されたもので、加工
パルスの供給を被加工体の上側及び下側のワイヤ電極に
接触して設けた通電子から各々互いに独立した加工電源
によって非同期に供給するようにしたことを特徴とする
ものである。
〔作用〕
上下通電子から各々別電源により非同期にパルス電流を
流すことによって電流の一点集中を防止し、ガスの発生
を防止するから、ガス中アーク放電の発生、加熱による
ワイヤ電極の断線を起すことなく、供給する放電エネル
ギは充分有効に加工作用に利用することができ、単位加
工電流当りの加工m、加工速度を向上した高能率の放電
加工を行なうことができる。
〔実施例〕 以下図面の一実施例により本発明を説明する。
第2図に於て、51.52は被加工体4の上下よりワイ
ヤ電極1とのなす加工間隙に向けて対向する加工液ノズ
ルで、何れも供給する加工液圧力を制御できるポンプ装
置に接続されている。61.62は被加工体の上側及び
下側のワイヤ電極通電子、71は通電子61と被加工体
4間に、72は通電子62と被加工体4間にパルス電流
を供給する電源で、各々放電加工に挿入したスイッチ8
1.82のオン・オフ制御によってオンパルス幅及びオ
フパルス幅を制御された互いに独立したパルス電流を供
給する。91.92は回路抵抗で、パルス電流波高値の
制御をする。通常抵抗値はトランジスタスイッチ81.
82の並列数によってその内部抵抗により制御する。1
0及び11は各スイッチのスイッチング用ゲートパルス
発生回路で、互いに独立したパルス発生回路により構成
される。
上下ノズル51.52により加工液を供給するとき、例
えば下ノズル52から高圧流速を強めた噴流を行ない加
工間隙を下方から上方に流れる一方向液流を形成し、上
ノズル51からは被加工体4の上面から噴出する液流を
打消し間隙に周囲から空気が入り込まない程度に低圧噴
流する。これによって加工液の一方向液流を形成し加工
間隙を下から上まで一様に加工液を流通介在させること
ができ、ガスを含まない密度の高い加工液を流すことが
できる。
尚、加工液の噴流は上ノズル51から高圧噴流をし、又
上ノズルと下ノズルから時間的に切換えて交互に供給す
るようにしても一方向の供給を行なうことができる。
そして、このように加工液の一方向流の供給された加工
間隙に上下の通電子61.62から非同期のパルスが供
給され、ワイヤ電極1と被加工体4間にパルス放電を発
生して加工が行なわれる。ゲートパルス発生回路10に
よってスイッチ81がオン・オフて電11i71から抵
抗91を通して通電子61から電極1及び被加工体4間
に放電パルス電流を流す。
パルス幅τOn及び休止幅τoHはスイッチ81のオン
・オフによって、波高値IDは電源電圧71と抵抗値9
1の調整によって制御され、所定のパルスを供給する。
次にパルス発生回路11が作動し、ゲートパルスをスイ
ッチ82に加えてオン・オフスイッチングし、今度は電
源12から抵抗92を経て通電子62から電極1被加工
体4間にパルス電流を供給する。このパルス電流もスイ
ッチ82のオン・オフによってパルス幅τOn及び休止
幅τoffが、又電源電圧72と抵抗値92によって波
高値rpを制御したパルスを供給することができる。
下通電子61から供給するパルスP1と1通電子62か
ら供給するパルスP2とは同一でも、又第3図(イ)の
ように■p、τOnに差異を有せしめてもよい。
何れの場合も供給パルスの繰返周波数は同一である。こ
の場合パルス電源は互いに独立であるから、通常P1と
P2は重なることが少なく大力は時間がずれて、通電子
61からP+が通電され、ワイヤ電極1と被加工体4間
に放電し、通電子62からP2がワイヤ電極1と被加工
体4間に放電するから、同期通電のときのように上下通
電子から放電電流が一点の放電点に集中することがなく
、放電点を移動して分散させることができる。このため
−点に集中した過大電流を防止でき、ガスの発生を防止
し、放電点を分散した液中、正常放電を発生させること
ができるから、加工速度は増大し、ガス中放電により加
工面を傷付けたりワイヤ電極1を断線したりすることな
く安定した高能率のワイヤカットを行なうことがでるき
る。
第3図(ロ)は、P2をPlの2倍以上の繰返数で発生
し、供給するようにしたもので、パルス発生回路11を
パルス発生回路10より高周波発振させたものである。
PlとP2とは中には同期するものがあるが、大半は一
方のみが放電し、交互放電するから放電電流の集中は避
けられる。
例えば、5KD11の厚さ501m1の被加工体を0.
2mmφのBSワイヤM極でワイヤカットするとき、下
ノズルから圧力5kt/cm2、上ノズルから0.5k
s / cm 2の加工液(水)の噴流を行ない、通電
パルス条件を下表の通りとしたとき、加工速度は約78
m1l12 /sinが得られた。
電源電圧  Ip    ran    τoff  
  1mcan上通電PI    130V    1
4A   3.5μs   1μs    4.5A下
通電P2   100V    14A   4  μ
s   20μs   1 Aこの結束平均加工電流の
和は5.5八であり、単位加工電流当りの加工速度は約
14.14 +u2 /min・Aとなる。
これは第1図のように電源電圧100Vで同期電流を流
し、通電条件が下表のとき、 l p     l mean 正通電   14A4゜5A 正通電   14A      IA 単位加工電流当りの加工速度が約8.18mm 2 /
5in−Aであり、本発明により加工速度が増大できた
。尚、加工液の噴流を上ノズル5kG / cm 2、
下ノズル0.5ks / cm 2としたときも変化な
かった。
又コーナ部の加工のとき、下側の電源電圧を80■して
加工して加工速度1218+12 /1ain −Aが
得られた。
第4図は他の実施例で、コンデンサ121及び122を
各々スイッチ81.82により放電して上下通電子61
.62にパルスの供給を行なったもので、コンデンサ1
21,122放電により高周波の波高値の高いパルスを
容易に供給することができる。123,124は平滑コ
ンデンサで、各々スイッチ83.84の制御により前記
コンデンサ121,122の充電を行なう。
尚、上下のパルス列P+とP2はτon、τ0「「、I
pが通常は異なる電源を用いるが、同じ場合、一方をプ
ログラム、コンピュータにより板厚変化、コーナ加工等
に対応して変更制御する場合、両方を変更制御する場合
、例えば、パルス列のIp。
τOn、τoffの1つ若しくは2以上を段階的に変化
させる等、加工間隙の放電状態によって制御する場合、
通電子を交互に切換える場合、加工液の供給に合せて切
換える場合、ワイヤ電極の振動に合せてパルス列の変更
をする場合、板厚変化、コーナ部の加工に合せてパルス
の変更制御、切換制御する等の任意の変更ができる。
又勿論加工液の供給は一方向にする場合が好ましいが、
上下ノズルから等圧着しくは差圧をもって噴流すること
ができる。特に板厚の厚い被加工体の加工をするときは
一方のノズルのみから供給すると反対側の流電が不足す
るから両方のノズルから噴流するようにする。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、ワイヤカット放電加工に
於て、加工パルスの供給を被加工体の上側及び下側のワ
イヤ電極に接触して設けた通電子から互いに独立した別
々の加工電源によって非同期に供給するようにしたもの
であるから、加工間隙に上下通電子から各々別電源によ
りパルス幅、休止幅、波高値の1つ若しくは2以上に差
を持たせたパルス列又は差を有しないパルス列を無関係
に通電して非同期パルス電流を流すことによって、従来
のように上下通電子から同期分流電流を流して一点集中
放電が発生することを防止し、過大電流によるガスの発
生を防止でき、これによりガス中放電の発生、加熱によ
るワイヤ電極の断線を起すことなく、供給放電エネルギ
は充分有効に加工作用に利用され、加工速度を向上し能
率の高い放電加工を行なうことができる。単位加工電流
当りの加工速度は従来の2倍程瓜に増大する効果がある
【図面の簡単な説明】
第1図は従来装置の実施例図、第2図は本発明の一実施
例装置の構成図、第3図(イ) (ロ)はその供給パル
スの波形説明図、第4図は本発明の他の実施例図である
。 1・・・・・・・・・ワイヤ電極 2・・・・・・・・・リール 3・・・・・・・・・ガイド 4・・・・・・・・・被加工体 10.11・・・・・・・・・ゲートパルス発生回路5
1.52・・・・・・・・・ノズル 61.62・・・・・・・・・通電子 71.72・・・・・・・・・電源 81.82・・・・・・・・・スイッチ91.92・・
・・・・・・・抵抗 特  許  出  願  人 株式会社井上ジャパックス研究所 代表者 井 上   潔

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)リールから供給されるワイヤ電極をガイド間を所
    定の張力と速度をもって移動させ、前記ガイド間のワイ
    ヤ電極と被加工体の対向間隙にノズルから加工液を噴射
    供給すると共に加工電源からパルスを供給して放電加工
    するワイヤ放電加工装置に於て、前記加工パルスを供給
    する通電子を被加工体の上側及び下側のワイヤ電極に接
    触して設け、前記上側通電子と被加工体間及び下側通電
    子と被加工体間に各々互いに独立した加工用パルス電源
    を設けたことを特徴とするワイヤカット放電加工装置。
JP25182887A 1987-10-06 1987-10-06 ワイヤカット放電加工装置 Pending JPH0197525A (ja)

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