JPS6156825A - 放電加工方法および装置 - Google Patents
放電加工方法および装置Info
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- JPS6156825A JPS6156825A JP60098920A JP9892085A JPS6156825A JP S6156825 A JPS6156825 A JP S6156825A JP 60098920 A JP60098920 A JP 60098920A JP 9892085 A JP9892085 A JP 9892085A JP S6156825 A JPS6156825 A JP S6156825A
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- pulses
- electrode
- switch
- workpiece
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/14—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply
- B23H7/20—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply for programme-control, e.g. adaptive
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/02—Wire-cutting
- B23H7/04—Apparatus for supplying current to working gap; Electric circuits specially adapted therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S204/00—Chemistry: electrical and wave energy
- Y10S204/09—Wave forms
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- Electrochemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は特許請求の範囲第１項および第７項の前提項に
従った、加工物の放電加工方法および装置に関する。
従った、加工物の放電加工方法および装置に関する。
放電加工方法、特に放電切断方法は、従来は加工クリア
ランスにおける放電プロセスについて決定的な物理的説
明がなされていないので、主として経験的知識や仮説に
基づいている。したがって、ワイヤ電極あるいは帯状電
極を用いての切断プロセスの場合、質量による力のほか
に、電磁作用、静電作用そしてまた機械的あるいは流体
力学的作用によって生じつる振動によって問題が起って
いる。そのような振動があること、および、通常必要と
される円滑な加工条件が極めて短時間、すなわちマイク
ロ秒のオーダーの周期、約１００〜約５００ｋＨｚの範
囲の周波数での放電を要求することから、用いられる発
生器には特に高度の要求が課せられている。放電時間が
短いにもかかわらず、これら発生器は約２０ＯＡの電流
を供給しなければならない。放電プロセスの時間的制御
は従来は本質的には発生器におけるスイッチングのオン
オフ制御で行われて来た。
ランスにおける放電プロセスについて決定的な物理的説
明がなされていないので、主として経験的知識や仮説に
基づいている。したがって、ワイヤ電極あるいは帯状電
極を用いての切断プロセスの場合、質量による力のほか
に、電磁作用、静電作用そしてまた機械的あるいは流体
力学的作用によって生じつる振動によって問題が起って
いる。そのような振動があること、および、通常必要と
される円滑な加工条件が極めて短時間、すなわちマイク
ロ秒のオーダーの周期、約１００〜約５００ｋＨｚの範
囲の周波数での放電を要求することから、用いられる発
生器には特に高度の要求が課せられている。放電時間が
短いにもかかわらず、これら発生器は約２０ＯＡの電流
を供給しなければならない。放電プロセスの時間的制御
は従来は本質的には発生器におけるスイッチングのオン
オフ制御で行われて来た。
放電加工プロセスを可能な限り安定に維持するために、
例えばドイツ特許２，９０８，６９６あるいは２．９０
９，０７３ ＋−あるような公知の発生器では、プロセ
スの異常が起るや否や、あるいは電極の損耗が限界を超
えたとき、放電を中断させるようになっている。放電の
エネルギ分布を制御するために、例えばスイス特許４９
５，８１２で公知であるように、個々の作動回路からの
パルスを時間をずらせて重畳させることによっである種
の形に形成されたパルスを得るということができる。し
かし、そのような発生器は比較的にパルス幅が大きい場
合にのみ適当なものである。
例えばドイツ特許２，９０８，６９６あるいは２．９０
９，０７３ ＋−あるような公知の発生器では、プロセ
スの異常が起るや否や、あるいは電極の損耗が限界を超
えたとき、放電を中断させるようになっている。放電の
エネルギ分布を制御するために、例えばスイス特許４９
５，８１２で公知であるように、個々の作動回路からの
パルスを時間をずらせて重畳させることによっである種
の形に形成されたパルスを得るということができる。し
かし、そのような発生器は比較的にパルス幅が大きい場
合にのみ適当なものである。
本発明の目的は、パルス形状を選択してそれを放電電流
にあてはめ得るようにすることにより、上に述べた方式
の方法と装置を改善することにある。
にあてはめ得るようにすることにより、上に述べた方式
の方法と装置を改善することにある。
本発明によれば上記目的は、特許請求の範囲第１項およ
び第７項（一記載の技術内容によって解決される。
び第７項（一記載の技術内容によって解決される。
本発明によればなお、短時間のパルスであっても同様に
それに所望の形状を与えることができる。
それに所望の形状を与えることができる。
さらに、個々の放電に消費されるエネルギの分布の状態
がしからしめることとして、加工比率すなわち加工能力
が増大し、切断速度は、密接に前後して続くすべての放
電の合併効果としてかなり増大するという利点がある。
がしからしめることとして、加工比率すなわち加工能力
が増大し、切断速度は、密接に前後して続くすべての放
電の合併効果としてかなり増大するという利点がある。
さらに、電極（：対するカッ作用が、プロセスの制御が
より効果的に行われるように改善される。さらには加工
能力が大き′＜、したがって切断速度が大きいにもかか
わらず、加工片の表面品質が極めて一様；二保たれる一
方、加工プロセスの制御は良好に制御される。
より効果的に行われるように改善される。さらには加工
能力が大き′＜、したがって切断速度が大きいにもかか
わらず、加工片の表面品質が極めて一様；二保たれる一
方、加工プロセスの制御は良好に制御される。
以下において、制限的意味はもたない実施例を取上げ、
添付の図面を参照しつつ本発明をより詳しく説明する。
添付の図面を参照しつつ本発明をより詳しく説明する。
第１図Ｃ二おいて、ワイヤ電極１０２が用いられること
により加工片１０１における加工クリアランス１０３が
切断されている。ワイヤ電極１０２は下側ワイヤ案内メ
ンバ１０４ａと上側ワイヤ案内メンバ１０４ｂの間を案
内されている。切断曲線のパターンは、図（ユ示された
ＸＹ座標の制御あるいは他の制御手段、望ましくはＮＣ
制御によって制御される。
により加工片１０１における加工クリアランス１０３が
切断されている。ワイヤ電極１０２は下側ワイヤ案内メ
ンバ１０４ａと上側ワイヤ案内メンバ１０４ｂの間を案
内されている。切断曲線のパターンは、図（ユ示された
ＸＹ座標の制御あるいは他の制御手段、望ましくはＮＣ
制御によって制御される。
パルス発生器のプラス極は加工物１０１の接続点１ｏｓ
ｔ＝接続され、一方上側および下側のワイヤガイドメン
バ１０４ａ 、１０４ｂの近傍においてマイナス極がワ
イヤ電極１０２に通じている。
ｔ＝接続され、一方上側および下側のワイヤガイドメン
バ１０４ａ 、１０４ｂの近傍においてマイナス極がワ
イヤ電極１０２に通じている。
パルス発生器は主電流源１、電圧源２、およびパルスト
ランス１１を含んでいる。パルストラン ′ス１１
の１次側１１ａには制御信号３が与えられ、２次側１１
ｂ、１１ｃは、電子スイッチ、′例えばスイッチングト
ランジスタ１２，１５、そしてまたダイオード１６と接
続されている。パルス発生器は電流制限抵抗１４を経て
ワイヤ電極１０２と接続されている。
ランス１１を含んでいる。パルストラン ′ス１１
の１次側１１ａには制御信号３が与えられ、２次側１１
ｂ、１１ｃは、電子スイッチ、′例えばスイッチングト
ランジスタ１２，１５、そしてまたダイオード１６と接
続されている。パルス発生器は電流制限抵抗１４を経て
ワイヤ電極１０２と接続されている。
電圧源２によって明確に設定された直流電圧、例えば５
ｖが、スイッチングトランジスタ１２が非導通となるよ
う（：、そのベース−エミッタ間に加えられている。パ
ルストランス１１の１次側１１ａを、この場合パルス列
でなっている制御信号６で駆動することにより、それに
対応した２次の制御電圧がパルストランス１１の２つの
２次側捲線１１ｂ、１１ｃに生ずる。２次側捲線１１ｂ
に制御電圧が発生することにより、スイッチングトラ、
ンジスタ１２は導通し、一方第２の２次側捲線１１
Ｃに発生した制御電圧はダイオード１３を通してスイッ
チングトランジスタ１２が急速に導通・状態になるよう
に働く。
ｖが、スイッチングトランジスタ１２が非導通となるよ
う（：、そのベース−エミッタ間に加えられている。パ
ルストランス１１の１次側１１ａを、この場合パルス列
でなっている制御信号６で駆動することにより、それに
対応した２次の制御電圧がパルストランス１１の２つの
２次側捲線１１ｂ、１１ｃに生ずる。２次側捲線１１ｂ
に制御電圧が発生することにより、スイッチングトラ、
ンジスタ１２は導通し、一方第２の２次側捲線１１
Ｃに発生した制御電圧はダイオード１３を通してスイッ
チングトランジスタ１２が急速に導通・状態になるよう
に働く。
パルストランス１１は、上記のプロセスが進行する間、
それが常に不飽和の領域の中で働くように大きさがきめ
られ、接続されている。したがって、制御信号６が断と
なった時点においては、スイッチングトランジスタ１２
は、電圧源２の働き；二よって極めて急速に非導通状態
に復帰せしめられる。スイッチングトランジスタ１２の
以降のスイッチング動作を阻止するために、第２のスイ
ッチングトランジスタ１５が、パルストランス１１の２
つの２次側捲線１１ｂ、１１ｃを短絡させるように用い
られている。
それが常に不飽和の領域の中で働くように大きさがきめ
られ、接続されている。したがって、制御信号６が断と
なった時点においては、スイッチングトランジスタ１２
は、電圧源２の働き；二よって極めて急速に非導通状態
に復帰せしめられる。スイッチングトランジスタ１２の
以降のスイッチング動作を阻止するために、第２のスイ
ッチングトランジスタ１５が、パルストランス１１の２
つの２次側捲線１１ｂ、１１ｃを短絡させるように用い
られている。
実用的実施例（：おいては、パルストランス１１、制御
されるスイッチ、この場合スイッチングトランジスタ１
２，１５、主電流源１、電圧源２、およびダイオード１
３で成るこのようなスイッチング回路が複数個（ａ・・
・ｎ）並列に接続されていて、これらのすべてが以下の
説明のように、しかるべき制御信号乙によって制御され
る。
されるスイッチ、この場合スイッチングトランジスタ１
２，１５、主電流源１、電圧源２、およびダイオード１
３で成るこのようなスイッチング回路が複数個（ａ・・
・ｎ）並列に接続されていて、これらのすべてが以下の
説明のように、しかるべき制御信号乙によって制御され
る。
上述の出力スイッチング回路を制御する目的で、高周波
クロック発生器２０が、パルス繰返し周波数が例えば５
ＭＨ２のパルスの形の基本クロックサイクルを、クロッ
クラインｆｏを通じてパルス処理手段２１に供給する。
クロック発生器２０が、パルス繰返し周波数が例えば５
ＭＨ２のパルスの形の基本クロックサイクルを、クロッ
クラインｆｏを通じてパルス処理手段２１に供給する。
このようなパルス列は例えば第２ａ図で示されているよ
うなものである。パルス処理手段２１は基本的には計数
回路として構成されうるちのであるが、これが制御信号
ラインｆ１およびｆ２の上の制御信号の影響の下で、明
確に設定された数のクロックパルスをして、以降におけ
るパルス形状形成のペースとしての１つのパターン、特
には例えば第２ｂ図に示されているような時間パターン
を形成せしめる。この例１′−従うならば、制御信号ラ
インｆｌ上の制御信号で定まるオンの期間Ｔ 、ＯＮの
間においては、タロツクラインｆｏに乗って第２ａ図の
ような基本周波数をもって到来するパルスは時間パター
ンを形成するためにパスさせられる。次に時間間隔Ｔ
、 ＯＦＦが来るが、それの持続時間はラインｆ２上の
制御信号で定まる。期間Ｔ、ＯＮの始めにおいて、パル
ス処理手段２１は同期用制御信号Ｓｏをパルス形状゛の
メモリ、例えば１つのＥＰＲＯＭ ２４ ｆ二供給する
。こ、１ の同期用信号はメモリをリセットせしめ、
時間パターンを形成するために、そこにストアされてい
る時間に関するパルス形状形成のグログラムの特定のも
のを呼出させる。パルス形状のメモリ２４にはそのよう
なフ′ログラムがいくつかストアされている。プログラ
ムは装置に結合された制御システムつまりサーボシステ
ム（図には示されていない）によって供給される選択用
制御信号ｍによって選択される。
うなものである。パルス処理手段２１は基本的には計数
回路として構成されうるちのであるが、これが制御信号
ラインｆ１およびｆ２の上の制御信号の影響の下で、明
確に設定された数のクロックパルスをして、以降におけ
るパルス形状形成のペースとしての１つのパターン、特
には例えば第２ｂ図に示されているような時間パターン
を形成せしめる。この例１′−従うならば、制御信号ラ
インｆｌ上の制御信号で定まるオンの期間Ｔ 、ＯＮの
間においては、タロツクラインｆｏに乗って第２ａ図の
ような基本周波数をもって到来するパルスは時間パター
ンを形成するためにパスさせられる。次に時間間隔Ｔ
、 ＯＦＦが来るが、それの持続時間はラインｆ２上の
制御信号で定まる。期間Ｔ、ＯＮの始めにおいて、パル
ス処理手段２１は同期用制御信号Ｓｏをパルス形状゛の
メモリ、例えば１つのＥＰＲＯＭ ２４ ｆ二供給する
。こ、１ の同期用信号はメモリをリセットせしめ、
時間パターンを形成するために、そこにストアされてい
る時間に関するパルス形状形成のグログラムの特定のも
のを呼出させる。パルス形状のメモリ２４にはそのよう
なフ′ログラムがいくつかストアされている。プログラ
ムは装置に結合された制御システムつまりサーボシステ
ム（図には示されていない）によって供給される選択用
制御信号ｍによって選択される。
コントロールライ／ｓ、、Ｓ２によってパルス処理手段
２１が、選定されたパルス形状に応するよう開閉される
。第２Ｃ図はそのようなパルス形成用時間パターンの例
を示す。この場合では、個々のパルスを形成するため５
Ｉ＝３Ｘタイミング間隔が用いられ、パルス間隔を形成
するためＳ２ ＝ Ｉ Ｘタイミング間隔が用いられて
いる。その結果生ずる時間に関して形状形成されたパル
ス信号はパルス処理手段２１の出力ライン２２を通じて
増幅器２３へ供給される。
２１が、選定されたパルス形状に応するよう開閉される
。第２Ｃ図はそのようなパルス形成用時間パターンの例
を示す。この場合では、個々のパルスを形成するため５
Ｉ＝３Ｘタイミング間隔が用いられ、パルス間隔を形成
するためＳ２ ＝ Ｉ Ｘタイミング間隔が用いられて
いる。その結果生ずる時間に関して形状形成されたパル
ス信号はパルス処理手段２１の出力ライン２２を通じて
増幅器２３へ供給される。
その′後のパルスレベルに関してのパルス形状形成のた
めに、パルス形状メモリ２４にはパルスグループの中で
のパルスレベルの変化のし方の種々のパターンがストア
されている。望ましくは、こレラパルスレベルのパター
ンはパルス形状のメモリ２４の中で時間パターンと結ば
れていて、それらが同じ制御信号ｍによって呼出される
ようになっている。それはつまり、リセットされた後に
パルス形状のメモリ２４は制御信号Ｓｏが入った結果と
して電流値のためのパルスレベルのパターンを出力ライ
ン２５に供給するが、そのパルスレベルパターンはライ
ンＳ、およびＳ２上の時間に関するパルス形状形成用の
信号の関数として現れる、とイウこトラ意味する。この
パルスレベルパターンは増幅器２６で増幅され、並列に
並んだ出力スイッチング回路の第２の電子スイッチ１５
に供給される。制御される出力スイッチング回路の数（
ａ・・・ｎ）は、結果として生ずるパルス電流の合併さ
れたものが、そのパルスレベルについて所望のパルスレ
ベルパターンに対応することとなるような数となってい
る。第２ｄ図はそのような電流°パルスレベルのパター
ンの例であって、この例では第２のパルスは第１のパル
スの２倍のレベル、第３のパルスは第１のパルスの４倍
のレベルを有している。
めに、パルス形状メモリ２４にはパルスグループの中で
のパルスレベルの変化のし方の種々のパターンがストア
されている。望ましくは、こレラパルスレベルのパター
ンはパルス形状のメモリ２４の中で時間パターンと結ば
れていて、それらが同じ制御信号ｍによって呼出される
ようになっている。それはつまり、リセットされた後に
パルス形状のメモリ２４は制御信号Ｓｏが入った結果と
して電流値のためのパルスレベルのパターンを出力ライ
ン２５に供給するが、そのパルスレベルパターンはライ
ンＳ、およびＳ２上の時間に関するパルス形状形成用の
信号の関数として現れる、とイウこトラ意味する。この
パルスレベルパターンは増幅器２６で増幅され、並列に
並んだ出力スイッチング回路の第２の電子スイッチ１５
に供給される。制御される出力スイッチング回路の数（
ａ・・・ｎ）は、結果として生ずるパルス電流の合併さ
れたものが、そのパルスレベルについて所望のパルスレ
ベルパターンに対応することとなるような数となってい
る。第２ｄ図はそのような電流°パルスレベルのパター
ンの例であって、この例では第２のパルスは第１のパル
スの２倍のレベル、第３のパルスは第１のパルスの４倍
のレベルを有している。
望ましくは、パルス形状形成に関与すべき並列になった
出力スイッチング回路の選択は、ライン２５を通じての
しかるべき制御によって、存在するすべてのそれら出力
スイッチング回路（：ＯＮの相が可能な限り均等に分布
するよう、順序をもって行われるようにされる。このよ
うにすれば、関与する出力スイッチング回路の熱的な負
荷が均一になる。それ故に、このような回路の数は、望
ましくはそれが、パルスのパターンを作り出すために必
要な最大の数よりも多くなるよう選定される。
出力スイッチング回路の選択は、ライン２５を通じての
しかるべき制御によって、存在するすべてのそれら出力
スイッチング回路（：ＯＮの相が可能な限り均等に分布
するよう、順序をもって行われるようにされる。このよ
うにすれば、関与する出力スイッチング回路の熱的な負
荷が均一になる。それ故に、このような回路の数は、望
ましくはそれが、パルスのパターンを作り出すために必
要な最大の数よりも多くなるよう選定される。
パルス列に属する個々のパルスは、第２ｃ図の例のよう
ではなしに、第３図に示されているように相異るパルス
幅を有してもよい。また、パルス列に属する個々のパル
スの間の間隔も相異ってよい。
ではなしに、第３図に示されているように相異るパルス
幅を有してもよい。また、パルス列に属する個々のパル
スの間の間隔も相異ってよい。
最後にまた、個々のパルスグループの間の間隔Ｔ 、
ＯＦＦも、もし要求された使用目的によって。
ＯＦＦも、もし要求された使用目的によって。
所望の切断の挙動が得られるためにそれが有利となるな
らば、相異ってよい。
らば、相異ってよい。
第４ａ図および第４ｂ図は、第１図のような加工クリア
ランス１０６における放電の、いずれにおいても４つの
個別のパルスを包含している電圧オンログラムおよび電
流オンログラムをそれぞれ示している。この望ましい例
（鋼の切断に用いられた例）においては、電流パルス列
は、大体において形が三角形でレベルが逐次増大し、大
体；二おいて同じ長さのパルス間隔を間に有するような
個々のパルスで成っている。第４ａ図で見られる電圧の
推移は数個の電圧カーブが重ね書きされたもの、すなわ
ち続いて行われる何回かの放電プロセスに対するもので
ある。第１のパルスにおいてはある頻度で無負荷状態が
現れており、第２、第３のパルスではそのようなことが
起っていない。このことは引続き行われる放電の初回の
パルスはそのすべてが必ず放電開始に結びつくものでな
いことを示している。実際上、それに続くパルスではも
はや無負荷ということはない故に、放電が極めて効果的
であることが見てとれる。すべての放電Ｓ、 は単一
の放電経路δ中で起る。それ故、高い電圧で新たに絶縁
破壊して放電をスタートさせる必要はない。
ランス１０６における放電の、いずれにおいても４つの
個別のパルスを包含している電圧オンログラムおよび電
流オンログラムをそれぞれ示している。この望ましい例
（鋼の切断に用いられた例）においては、電流パルス列
は、大体において形が三角形でレベルが逐次増大し、大
体；二おいて同じ長さのパルス間隔を間に有するような
個々のパルスで成っている。第４ａ図で見られる電圧の
推移は数個の電圧カーブが重ね書きされたもの、すなわ
ち続いて行われる何回かの放電プロセスに対するもので
ある。第１のパルスにおいてはある頻度で無負荷状態が
現れており、第２、第３のパルスではそのようなことが
起っていない。このことは引続き行われる放電の初回の
パルスはそのすべてが必ず放電開始に結びつくものでな
いことを示している。実際上、それに続くパルスではも
はや無負荷ということはない故に、放電が極めて効果的
であることが見てとれる。すべての放電Ｓ、 は単一
の放電経路δ中で起る。それ故、高い電圧で新たに絶縁
破壊して放電をスタートさせる必要はない。
実際の試験において、このようなパルス列：二よって加
工比率がかなり上昇することが証明されている。このこ
とは、初回スタートのパルスが、たといそれが放電（−
至らないとしても、そこから発生する電磁力の効果とし
て、加工クリアランスの中でワイヤ電極を好都合な位置
（−位置ぎめするという事実によって説明がつけられる
。これにより次に起る放電が特に効果的に形成される。
工比率がかなり上昇することが証明されている。このこ
とは、初回スタートのパルスが、たといそれが放電（−
至らないとしても、そこから発生する電磁力の効果とし
て、加工クリアランスの中でワイヤ電極を好都合な位置
（−位置ぎめするという事実によって説明がつけられる
。これにより次に起る放電が特に効果的に形成される。
放電における個々のパルスにより極めて局部に集中した
加工が行われることとなるが、パルスの電流値が逐次増
大することによって、排斥力もまた増大し、その排斥力
はワイヤの質量による慣性力と逆の働きをする。パルス
の間の期間においては、電流は必ずしもゼロまで落ちる
とは限らないが、この排斥力は短時間内で低下し、この
期間ではワイヤの案内がより正確に行われることになる
。パルスの間の期間においてはなお、電流の低下が放電
経路内における出力低下を生せしめ、この出力低下は加
工で生じた屑材料の排除を助ける。次に来るパルスはそ
れ故、清浄で電気的条件に関して均一な材料表面に当る
ことになる。究極的には条件が改善され、また電流値が
増大する故に、表面間距離がより大きくとも、全く満足
すべき加工が行われることとなる。
加工が行われることとなるが、パルスの電流値が逐次増
大することによって、排斥力もまた増大し、その排斥力
はワイヤの質量による慣性力と逆の働きをする。パルス
の間の期間においては、電流は必ずしもゼロまで落ちる
とは限らないが、この排斥力は短時間内で低下し、この
期間ではワイヤの案内がより正確に行われることになる
。パルスの間の期間においてはなお、電流の低下が放電
経路内における出力低下を生せしめ、この出力低下は加
工で生じた屑材料の排除を助ける。次に来るパルスはそ
れ故、清浄で電気的条件に関して均一な材料表面に当る
ことになる。究極的には条件が改善され、また電流値が
増大する故に、表面間距離がより大きくとも、全く満足
すべき加工が行われることとなる。
第１図は発生器の１例の概略ブロック図、第２ａ〜２０
図は第１図の発生器におけるパルス列の略図式のタイミ
ングチャート、第６図は第２ｃ図のパルス列に相光する
他の実施例でのパルス列の略図式タイミングチャート、
第４図は望ましい実施例におけるオンログラムである。 １・・・主電流源、２・・・電圧源、６・・・時間に関
し形成されたパルス、１１・・・パルストランス、１２
・・・スイッチングトランジスタ、１３・・・ダイオー
ド、１４・・・電流制限抵抗、１５・・・スイッチング
トランジスタ、２０・・・クロック発生器、２１・・・
パルス処理手段、２３・・・増幅器、２４・・・パルス
形状メモリ、２６・・・増ψ昌器、１０１・・・加工片
、１０２・・・電極ワイヤ、１０６・・・加工６クリア
ランス。
図は第１図の発生器におけるパルス列の略図式のタイミ
ングチャート、第６図は第２ｃ図のパルス列に相光する
他の実施例でのパルス列の略図式タイミングチャート、
第４図は望ましい実施例におけるオンログラムである。 １・・・主電流源、２・・・電圧源、６・・・時間に関
し形成されたパルス、１１・・・パルストランス、１２
・・・スイッチングトランジスタ、１３・・・ダイオー
ド、１４・・・電流制限抵抗、１５・・・スイッチング
トランジスタ、２０・・・クロック発生器、２１・・・
パルス処理手段、２３・・・増幅器、２４・・・パルス
形状メモリ、２６・・・増ψ昌器、１０１・・・加工片
、１０２・・・電極ワイヤ、１０６・・・加工６クリア
ランス。
Claims (12)
- （１）工具電極を用い、加工片と電極の間にパルス状の
直流電圧を印加し、所望の切断曲線に応じて加工片と電
極の間で連続的な経路制御を行い、印加される電圧が、
個々のパルスが加工片と電極の間の加工クリアランスに
おいて放電を起させるようなパルスグループの形をなし
ている、加工片を放電加工する方法において、 パルスグループが相異る大きさの電流レベルを有する個
々のパルスからなつていることを特徴とする放電加工方
法。 - （２）クロックパルス列から、時間に関して形成された
パルスグループのパターンが作られ、これが数個の出力
スイッチング回路の並列接続の制御によって互に重畳さ
れ、所望のレベルのパターンが作られる特許請求の範囲
第１項に記載の方法。 - （３）パルスの形状形成に関与する並列の出力スイッチ
ング回路が、存在するすべてのそれら回路にＯＮの相が
可能な限り均等に分布するように、順序をもつて選択さ
れる特許請求の範囲第２項に記載の方法。 - （４）出力スイッチング回路の数が、１つのパルスパタ
ーンを作るために必要な最大の数よりも多い特許請求の
範囲第３項に記載の方法。 - （５）パルスグループがレベルが逐次増加する個々の電
流パルスでなつている特許請求の範囲第１項ないし第４
項のいずれか１項に記載の方法。 - （６）パルスグループがパルス幅が相異る個々のパルス
でなつている特許請求の範囲第１項ないし第５項のいず
れか１項に記載の方法。 - （７）工具電極を用いて加工片と電極の間にパルス状の
直流電圧を印加し、所望の切断曲線に応じて加工片と電
極の間で連続的な経路制御を行い、印加される電圧が、
個々のパルスが加工片と電極の間の加工クリアランスに
おいて放電を起させるようなパルスグループの形をなし
ている、放電加工装置において、 加工片および／または工具電極に並列の状態で接続され
た複数の個々に制御可能な出力スイッチング回路が設け
られており、各々の出力スイッチング回路に属するパル
ストランスの１次側はパルスグループを時間に関して形
成する第１の手段に接続されており、各々の出力スイッ
チング回路に属する制御される少なくとも１つのスイッ
チは電流のパルスレベルを形成するための第２の手段に
接続されており、前記第１および第２の手段はパルス形
状のメモリを有していることを特徴とする放電加工装置
。 - （８）パルストランスがその不飽和のレンジの中で作動
するように設計されており、前記スイッチはパルストラ
ンスの２つの２次捲線の短絡回路用スイッチとして接続
されている、特許請求の範囲第７項に記載の装置。 - （９）パルストランスの２つの２次捲線は捲き方向が同
一で直列に接続されており、第２のスイッチが前記第１
のスイッチと並列に、制御電圧源および１つのダイオー
ドを通じて接続されており、この第２のスイッチの制御
入力側はパルストランスの２次捲線の中央タップに接続
されている、特許請求の範囲第８項に記載の装置。 - （１０）前記第２のスイッチが、パルストランスの１次
捲線に供給される時間に関して形成されたパルス信号が
断となつたとき、直ちに非導通状態に移行するように接
続されている、特許請求の範囲第９項に記載の装置。 - （１１）パルス状のメモリが、いくつかの相異る電流パ
ルスレベルのパターンが得られるよう設計されており、
それらパターンを出力し、１つの制御ラインを通じて出
力スイッチング回路をそのパターンに応じて制御するべ
く、制御されるようになつている、特許請求の範囲第７
項ないし第１０項のいずれか１項に記載の装置。 - （１２）パルスパターンのメモリが、電流レベルのパタ
ーンと関係づけられた時間的形状のパターンがパルスグ
ループを作るために得られるように、そしてその出力側
においてそれら時間的形状パターンをパルストランスの
１次側に接続されたパルス処理手段に供給するように設
計されている、特許請求の範囲第１１項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH2351/84-6 | 1984-05-11 | ||
| CH235184 | 1984-05-11 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6156825A true JPS6156825A (ja) | 1986-03-22 |
Family
ID=4231753
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60098920A Pending JPS6156825A (ja) | 1984-05-11 | 1985-05-11 | 放電加工方法および装置 |
| JP029438U Pending JPH0585520U (ja) | 1984-05-11 | 1992-05-06 | 放電加工装置 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP029438U Pending JPH0585520U (ja) | 1984-05-11 | 1992-05-06 | 放電加工装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4655888A (ja) |
| EP (1) | EP0160987B1 (ja) |
| JP (2) | JPS6156825A (ja) |
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- 1985-05-09 EP EP85105665A patent/EP0160987B1/de not_active Expired
- 1985-05-10 US US06/733,296 patent/US4655888A/en not_active Expired - Fee Related
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| US4655888A (en) | 1987-04-07 |
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| EP0160987B1 (de) | 1988-10-12 |
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