JPH0196040A - 光ファイバプリフォームの表面処理法 - Google Patents
光ファイバプリフォームの表面処理法Info
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- JPH0196040A JPH0196040A JP25386187A JP25386187A JPH0196040A JP H0196040 A JPH0196040 A JP H0196040A JP 25386187 A JP25386187 A JP 25386187A JP 25386187 A JP25386187 A JP 25386187A JP H0196040 A JPH0196040 A JP H0196040A
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- optical fiber
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01225—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
- C03B37/01228—Removal of preform material
- C03B37/01237—Removal of preform material to modify the diameter by heat-polishing, e.g. fire-polishing
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
くこの発明の技術分野〉
この発明は、光フアイバ用のプリフォームの表面処理法
特にコア用のプリフォームの表面処理に好適な方法を提
供する。
特にコア用のプリフォームの表面処理に好適な方法を提
供する。
〈従来の技術〉
光フアイバ用のプリフォームの外周面を研摩し、て清浄
化することにより、得られる光ファイバの伝送損失の悪
化或は強度低下を防止することが一般的に行われている
。
化することにより、得られる光ファイバの伝送損失の悪
化或は強度低下を防止することが一般的に行われている
。
この種の方法としてレーザ光、プラズマ火炎な用いる方
法がある。この方法は、酸水素炎を用いた場合のＯＨの
混入や酸化セリウムｌ 研摩剤、エチルアルコール等の
有機溶剤あるいはアセチレンガスバーナを用いた場合の
不純物例えば有機物の混入が無く優れた方法である。
法がある。この方法は、酸水素炎を用いた場合のＯＨの
混入や酸化セリウムｌ 研摩剤、エチルアルコール等の
有機溶剤あるいはアセチレンガスバーナを用いた場合の
不純物例えば有機物の混入が無く優れた方法である。
〈この発明が解決しようとする問題点〉しかしながらレ
ーザ光、プラズマ火炎を用いて光ファイバプリフォーム
の表面を清浄にしてもそれが常温に戻るまで（−雰囲気
中に含まれる不純物が表面に吸着し、損失低下、強度劣
化を招くという問題があった。
ーザ光、プラズマ火炎を用いて光ファイバプリフォーム
の表面を清浄にしてもそれが常温に戻るまで（−雰囲気
中に含まれる不純物が表面に吸着し、損失低下、強度劣
化を招くという問題があった。
く問題点を解決するための手段〉
この発明は、以上の観点からレーザ光、プラズマ火炎に
よるプリフォーム表面の清浄化な陽圧下で行い、その表
面が常温になるまでプリフォームを陽圧下に維持するよ
う毫ニジたものである。
よるプリフォーム表面の清浄化な陽圧下で行い、その表
面が常温になるまでプリフォームを陽圧下に維持するよ
う毫ニジたものである。
なお陽圧の程度としては５ａ＋Ａｑ 程度で十分であ
る。また陽圧になす部分はレーザ光、プラズマ火炎で処
理された高温になった局部だけでよく、この部分が常温
になるまで陽圧に保たれればよい。
る。また陽圧になす部分はレーザ光、プラズマ火炎で処
理された高温になった局部だけでよく、この部分が常温
になるまで陽圧に保たれればよい。
くこの発明の詳細な説明〉
以下、この発明を図面を用いて説明する。
１は、その表面を研摩すべき光ファイバプリフォームで
、例えば透明なシリカロッドからなシ、その軸のまわり
に回転自在に、がっ長手方向にトラバース可能になされ
ている。２は、この発明の陽圧容器で、両端が開放され
た直径５００φの円筒部３の対向する周壁に形成された
孔（二前記ンリカロツド１を挿通させる挿通パイプ４が
取付けられてなるもので、この挿通パイプの内径はシリ
カロッド１のそれよシも直径で３ｆｆ程度大になされて
いる。また上部開口５は上方に向って次第に減径されて
いる。
、例えば透明なシリカロッドからなシ、その軸のまわり
に回転自在に、がっ長手方向にトラバース可能になされ
ている。２は、この発明の陽圧容器で、両端が開放され
た直径５００φの円筒部３の対向する周壁に形成された
孔（二前記ンリカロツド１を挿通させる挿通パイプ４が
取付けられてなるもので、この挿通パイプの内径はシリ
カロッド１のそれよシも直径で３ｆｆ程度大になされて
いる。また上部開口５は上方に向って次第に減径されて
いる。
５は、石英製のプラズマトーチで、直径５ Ｑｌｌｌｌ
ｌφの円筒部６と、この円筒部６の外周に位置される直
径６５ｍφ、ピッチ１０ｍ、５回巻きの誘導コイル７と
から構成されている。なおコイル自身の線径は１０萌φ
である。
ｌφの円筒部６と、この円筒部６の外周に位置される直
径６５ｍφ、ピッチ１０ｍ、５回巻きの誘導コイル７と
から構成されている。なおコイル自身の線径は１０萌φ
である。
また円筒部６の上部は、陽圧容器２の下部開口部と連通
しておシ、その底部は中心にエツチング用ガス（例えば
ＳＦ、 、 ＣＦ４． ＣＣＶ□’２ｍＦ等）供給パイ
プ８が連結され、その外周部にプラズマ発生用のガス（
例えばＡｒ 、 Ｏ，、Ｎ、等）供給パイプ９が連結さ
れている。なお１０は、陽圧容器２の上部開口に対向し
て配置された排気パイプで外気およびプラズマ排気ガス
を吸入する。
しておシ、その底部は中心にエツチング用ガス（例えば
ＳＦ、 、 ＣＦ４． ＣＣＶ□’２ｍＦ等）供給パイ
プ８が連結され、その外周部にプラズマ発生用のガス（
例えばＡｒ 、 Ｏ，、Ｎ、等）供給パイプ９が連結さ
れている。なお１０は、陽圧容器２の上部開口に対向し
て配置された排気パイプで外気およびプラズマ排気ガス
を吸入する。
〈実施例１〉
直径１５１ｉφの光フアイバコア用シリカロッド１を６
ＯＲｐｍで回転させつつ矢印方向に２００ｍ１／分の
速度で移動させる。一方ガヌ供給パイプ８゜９からそれ
ぞれＳＦ、が５ｊ／分、Ａｒが１２０１７分供給される
。また誘導コイル７には周波数４．３ＭＨｚ、 １０
ＫＶ、プレート回路電流７Ａが印加され、発生したプラ
ズマ火炎によりロラド１が研摩される。このとき容器２
内は５ｍＡｑ以上（：維持されている。
ＯＲｐｍで回転させつつ矢印方向に２００ｍ１／分の
速度で移動させる。一方ガヌ供給パイプ８゜９からそれ
ぞれＳＦ、が５ｊ／分、Ａｒが１２０１７分供給される
。また誘導コイル７には周波数４．３ＭＨｚ、 １０
ＫＶ、プレート回路電流７Ａが印加され、発生したプラ
ズマ火炎によりロラド１が研摩される。このとき容器２
内は５ｍＡｑ以上（：維持されている。
かくしてえられた石英ロッド１をとシだし、その外周に
Ｆがドープされたシリカ層を形成しファイバ化したとこ
ろその伝送特性は０．１８ ｄＢ ／、ｔａであシ、従
来のｏ、ｓ ｏ ｄＢ／ムに比較して改善されたもので
あった。
Ｆがドープされたシリカ層を形成しファイバ化したとこ
ろその伝送特性は０．１８ ｄＢ ／、ｔａであシ、従
来のｏ、ｓ ｏ ｄＢ／ムに比較して改善されたもので
あった。
なお、陽圧下にプリフォームを維持する時間は研摩時に
昇温（石英ロッド表面温度１６００℃程度）したプリフ
ォームが再び常温に戻るまでであればよく上記実施例で
は移動速度が２０ＣＩＩＩ／分であるので２分程度、長
さにして４０ｃｍの間、陽圧下であればよい。
昇温（石英ロッド表面温度１６００℃程度）したプリフ
ォームが再び常温に戻るまでであればよく上記実施例で
は移動速度が２０ＣＩＩＩ／分であるので２分程度、長
さにして４０ｃｍの間、陽圧下であればよい。
〈実施例２〉
実施例１と同じプリフォームを毎分４０Ｍ でトラバー
スさせつつビームスポット径１ｕφ、５００ＷのＣＯ，
レーザを用いて研摩した。 この時陽圧容器内に３０１
／分のＡｒガスを流して５ ｍＡｑ の陽圧に保った
。なおその際レーザ光の周囲から５１／分のＡｒを流し
てレーザ光（二よって蒸発した蒸発物が再びプリフォー
ムに付着しないようにした。
スさせつつビームスポット径１ｕφ、５００ＷのＣＯ，
レーザを用いて研摩した。 この時陽圧容器内に３０１
／分のＡｒガスを流して５ ｍＡｑ の陽圧に保った
。なおその際レーザ光の周囲から５１／分のＡｒを流し
てレーザ光（二よって蒸発した蒸発物が再びプリフォー
ムに付着しないようにした。
かくしてえられたプリフォームに実施例１と同様にＦが
ドープされたシリカ層を形成してファイバ化したところ
その伝送特性は０．１９６Ｅｌ／ｂであった。
ドープされたシリカ層を形成してファイバ化したところ
その伝送特性は０．１９６Ｅｌ／ｂであった。
以上の実施例は、コア用のロッドを研摩することにより
光ファイバの伝送損失特性が改善された例であるが、紡
糸直前のプリフォームを同様の手段によって研摩するこ
とにより表面に傷のない平滑なプリフォームとなすこと
もでき、これによって引張り強度の改善されたファイバ
を得ることもできる。
光ファイバの伝送損失特性が改善された例であるが、紡
糸直前のプリフォームを同様の手段によって研摩するこ
とにより表面に傷のない平滑なプリフォームとなすこと
もでき、これによって引張り強度の改善されたファイバ
を得ることもできる。
〈発明の効果〉
この発明は、以上のように光フアイバ用のプリフォーム
を陽圧下においてレーザ光、プラズマ火炎を用いて研摩
する方法であるのでその研摩部に再び不純物が吸着する
ことが無く、伝送損失及び機械的強度の改善された光フ
ァイバをえることができるという利点がある。
を陽圧下においてレーザ光、プラズマ火炎を用いて研摩
する方法であるのでその研摩部に再び不純物が吸着する
ことが無く、伝送損失及び機械的強度の改善された光フ
ァイバをえることができるという利点がある。
図面は、この発明の実施例を示す概略図図において、１
：光ファイバ用コアロッド２：陽圧容器 代理人 弁理士 竹 内 守
：光ファイバ用コアロッド２：陽圧容器 代理人 弁理士 竹 内 守
Claims (1)
- 光ファイバプリフオームの外周面を、レーザ光もしく
はプラズマ火炎により研摩してその表面を清浄化する光
ファイバプリフオームの表面処理法において、その雰囲
気を陽圧とすることを特徴とする光ファイバプリフオー
ムの表面処理法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253861A JPH0615415B2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 光ファイバプリフォームの表面処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253861A JPH0615415B2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 光ファイバプリフォームの表面処理法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0196040A true JPH0196040A (ja) | 1989-04-14 |
| JPH0615415B2 JPH0615415B2 (ja) | 1994-03-02 |
Family
ID=17257149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62253861A Expired - Lifetime JPH0615415B2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 光ファイバプリフォームの表面処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0615415B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03187944A (ja) * | 1989-12-15 | 1991-08-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス体の加熱処理方法 |
| JPH04132630A (ja) * | 1989-12-29 | 1992-05-06 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 耐火性誘電体の表面処理方法 |
| EP0519479A2 (en) * | 1991-06-20 | 1992-12-23 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Method for flame abrasion of glass preform |
| JP2004518526A (ja) * | 2001-01-30 | 2004-06-24 | ラプト インダストリーズ インコーポレイテッド | 損傷の無い表面の造形のための大気圧反応性原子プラズマ加工装置及び方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58176138A (ja) * | 1982-04-12 | 1983-10-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバ母材の表面処理方法 |
-
1987
- 1987-10-09 JP JP62253861A patent/JPH0615415B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58176138A (ja) * | 1982-04-12 | 1983-10-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバ母材の表面処理方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03187944A (ja) * | 1989-12-15 | 1991-08-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス体の加熱処理方法 |
| JPH04132630A (ja) * | 1989-12-29 | 1992-05-06 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 耐火性誘電体の表面処理方法 |
| EP0519479A2 (en) * | 1991-06-20 | 1992-12-23 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Method for flame abrasion of glass preform |
| US5685889A (en) * | 1991-06-20 | 1997-11-11 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for flame abrasion of glass preform |
| JP2004518526A (ja) * | 2001-01-30 | 2004-06-24 | ラプト インダストリーズ インコーポレイテッド | 損傷の無い表面の造形のための大気圧反応性原子プラズマ加工装置及び方法 |
| JP2010147028A (ja) * | 2001-01-30 | 2010-07-01 | Rapt Industries Inc | 損傷の無い表面の造形のための大気圧反応性原子プラズマ加工装置及び方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0615415B2 (ja) | 1994-03-02 |
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