JPH0615415B2 - 光ファイバプリフォームの表面処理法 - Google Patents
光ファイバプリフォームの表面処理法Info
- Publication number
- JPH0615415B2 JPH0615415B2 JP62253861A JP25386187A JPH0615415B2 JP H0615415 B2 JPH0615415 B2 JP H0615415B2 JP 62253861 A JP62253861 A JP 62253861A JP 25386187 A JP25386187 A JP 25386187A JP H0615415 B2 JPH0615415 B2 JP H0615415B2
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- JP
- Japan
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- optical fiber
- preform
- surface treatment
- positive pressure
- treatment method
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01225—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
- C03B37/01228—Removal of preform material
- C03B37/01237—Removal of preform material to modify the diameter by heat-polishing, e.g. fire-polishing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01225—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
- C03B37/01257—Heating devices therefor
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ＜この発明の技術分野＞ この発明は、光フアイバ用のプリフオームの表面処理法
特にコア用のプリフオームの表面処理に好適な方法を提
供する。
特にコア用のプリフオームの表面処理に好適な方法を提
供する。
＜従来の技術＞ 光フアイバ用のプリフオームの外周面を研摩して清浄化
することにより、得られる光フアイバの伝送損失の悪化
或は強度低下を防止することが一般的に行われている。
することにより、得られる光フアイバの伝送損失の悪化
或は強度低下を防止することが一般的に行われている。
この種の方法としてレーザ光、プラズマ火炎を用いる方
法がある。この方法は、酸水素炎を用いた場合のOHの混
入や酸化セリウム研摩剤、エチルアルコール等の有機溶
剤あるいはアセチレンガスバーナを用いた場合の不純物
例えば有機物の混入が無く優れた方法である。
法がある。この方法は、酸水素炎を用いた場合のOHの混
入や酸化セリウム研摩剤、エチルアルコール等の有機溶
剤あるいはアセチレンガスバーナを用いた場合の不純物
例えば有機物の混入が無く優れた方法である。
＜この発明が解決しようとする問題点＞ しかしながらレーザ光、プラズマ火炎を用いて光フアイ
バプリフオームの表面を清浄にしてもそれが常温に戻る
までに雰囲気中に含まれる不純物が表面に吸着し、損失
低下、強度劣化を招くという問題があつた。
バプリフオームの表面を清浄にしてもそれが常温に戻る
までに雰囲気中に含まれる不純物が表面に吸着し、損失
低下、強度劣化を招くという問題があつた。
＜問題点を解決するための手段＞ この発明は、以上の観点からレーザ光、プラズマ火炎に
よるプリフオーム表面の清浄化を陽圧下で行い、その表
面が常温になるまでプリフオームを陽圧下に維持するよ
うにしたものである。
よるプリフオーム表面の清浄化を陽圧下で行い、その表
面が常温になるまでプリフオームを陽圧下に維持するよ
うにしたものである。
なお本発明において陽圧とは、大気圧より高い圧力を言
い、実際の陽圧の程度としては５mmAq 程度で十分であ
る。また陽圧になす部分はレーザ光、プラズマ火炎で処
理された高温になつた局部だけでよく、この部分が常温
になるまで陽圧に保たれればよい。
い、実際の陽圧の程度としては５mmAq 程度で十分であ
る。また陽圧になす部分はレーザ光、プラズマ火炎で処
理された高温になつた局部だけでよく、この部分が常温
になるまで陽圧に保たれればよい。
＜この発明の具体的説明＞ 以下、この発明を図面を用いて説明する。
１は、その表面を研摩すべき光フアイバプリフオーム
で、例えば透明なシリカロツドからなり、その軸のまわ
りに回転自在に、かつ長手方向にトラバース可能になさ
れている。２は、この発明の陽圧容器で、両端が開放さ
れた直径５０mmφの円筒部３の対向する周壁に形成され
た孔に前記シリカロツド１を挿通させる挿通パイプ４が
取付けられてなるもので、この挿通パイプの内径はシリ
カロツド１のそれよりも直径で３mm程度大になされてい
る。また上部開口５は上方に向つて次第に減径されてい
る。
で、例えば透明なシリカロツドからなり、その軸のまわ
りに回転自在に、かつ長手方向にトラバース可能になさ
れている。２は、この発明の陽圧容器で、両端が開放さ
れた直径５０mmφの円筒部３の対向する周壁に形成され
た孔に前記シリカロツド１を挿通させる挿通パイプ４が
取付けられてなるもので、この挿通パイプの内径はシリ
カロツド１のそれよりも直径で３mm程度大になされてい
る。また上部開口５は上方に向つて次第に減径されてい
る。
５は、石英製のプラズマトーチで、直径５０mmφの円筒
部６と、この円筒部６の外周に位置される直径６５mm
φ、ピツチ１０mm、５回巻きの誘導コイル７とから構成
されている。なおコイル自身の線径は１０mmφである。
部６と、この円筒部６の外周に位置される直径６５mm
φ、ピツチ１０mm、５回巻きの誘導コイル７とから構成
されている。なおコイル自身の線径は１０mmφである。
また円筒部６の上部は、陽圧容器２の下部開口部と連通
しており、その底部は中心にエツチング用ガス（例えば
SF6，CF4，CCl2F2，Ｆ等）供給パイプ８が連結され、そ
の外周部にプラズマ発生用のガス（例えばAr，O2，N
2等）供給パイプ９が連結されている。なお１０は、陽
圧容器２の上部開口に対向して配置された排気パイプで
外気およびプラズマ排気ガスを吸入する。
しており、その底部は中心にエツチング用ガス（例えば
SF6，CF4，CCl2F2，Ｆ等）供給パイプ８が連結され、そ
の外周部にプラズマ発生用のガス（例えばAr，O2，N
2等）供給パイプ９が連結されている。なお１０は、陽
圧容器２の上部開口に対向して配置された排気パイプで
外気およびプラズマ排気ガスを吸入する。
＜実施例１＞ 直径１５mmφの光フアイバコア用シリカロツド１を６０
Rpmで回転させつつ矢印方向に２００mm／分の速度で移
動させる。一方ガス供給パイプ８，９からそれぞれSF6
が５／分、Arが１２０／分供給される。また誘導コ
イル７には周波数４．３MHz、１０KV、プレート回路電
流７Ａが印加され、発生したプラズマ火炎によりロツド
１が研摩される。このとき容器２内は５mmAq以上に維持
されている。
Rpmで回転させつつ矢印方向に２００mm／分の速度で移
動させる。一方ガス供給パイプ８，９からそれぞれSF6
が５／分、Arが１２０／分供給される。また誘導コ
イル７には周波数４．３MHz、１０KV、プレート回路電
流７Ａが印加され、発生したプラズマ火炎によりロツド
１が研摩される。このとき容器２内は５mmAq以上に維持
されている。
かくしてえられた石英ロツド１をとりだし、その外周に
Ｆがドープされたシリカ層を形成しフアイバ化したとこ
ろその伝送特性は０．１８dB／kmであり、従来の０．３
０dB／kmに比較して改善されたものであつた。
Ｆがドープされたシリカ層を形成しフアイバ化したとこ
ろその伝送特性は０．１８dB／kmであり、従来の０．３
０dB／kmに比較して改善されたものであつた。
なお、陽圧下にプリフオームを維持する時間は研摩時に
昇温（石英ロツド表面温度１６００℃程度）したプリフ
オームが再び常温に戻るまでであればよく上記実施例で
は移動速度が２００mm／分であるので２分程度、長さに
して４０cmの間、陽圧下であればよい。
昇温（石英ロツド表面温度１６００℃程度）したプリフ
オームが再び常温に戻るまでであればよく上記実施例で
は移動速度が２００mm／分であるので２分程度、長さに
して４０cmの間、陽圧下であればよい。
＜実施例２＞ 実施例１と同じプリフオームを毎分４０mm でトラバー
スさせつつビームスポツト径１mmφ、500W のCO2レーザ
を用いて研摩した。この時陽圧容器内に３０／分のAr
ガスを流して５mmAq の陽圧に保つた。なおその際レー
ザ光の周囲から５／分のArを流してレーザ光によつて
蒸発した蒸発物が再びプリフオームに付着しないように
した。かくしてえられたプリフオームに実施例１と同様
にＦがドープされたシリカ層を形成してフアイバ化した
ところその伝送特性は０．１９dB／kmであつた。
スさせつつビームスポツト径１mmφ、500W のCO2レーザ
を用いて研摩した。この時陽圧容器内に３０／分のAr
ガスを流して５mmAq の陽圧に保つた。なおその際レー
ザ光の周囲から５／分のArを流してレーザ光によつて
蒸発した蒸発物が再びプリフオームに付着しないように
した。かくしてえられたプリフオームに実施例１と同様
にＦがドープされたシリカ層を形成してフアイバ化した
ところその伝送特性は０．１９dB／kmであつた。
以上の実施例は、コア用のロツドを研摩することにより
光フアイバの伝送損失特性が改善された例であるが、紡
糸直前のプリフオームを同様の手段によつて研摩するこ
とにより表面に傷のない平滑なプリフオームとなすこと
もでき、これによつて引張り強度の改善されたフアイバ
を得ることもできる。
光フアイバの伝送損失特性が改善された例であるが、紡
糸直前のプリフオームを同様の手段によつて研摩するこ
とにより表面に傷のない平滑なプリフオームとなすこと
もでき、これによつて引張り強度の改善されたフアイバ
を得ることもできる。
＜発明の効果＞ この発明は、以上のように光フアイバ用のプリフオーム
を陽圧下においてレーザ光、プラズマ火炎を用いて研摩
する方法であるのでその研摩部に再び不純物が吸着する
ことが無く、伝送損失及び機械的強度の改善された光フ
アイバをえることができるという利点がある。
を陽圧下においてレーザ光、プラズマ火炎を用いて研摩
する方法であるのでその研摩部に再び不純物が吸着する
ことが無く、伝送損失及び機械的強度の改善された光フ
アイバをえることができるという利点がある。
図面は、この発明の実施例を示す概略図 図において、１：光フアイバ用コアロツド ２：陽圧容器
Claims (1)
- 【請求項１】光ファイバプリフォームの外周面を、レー
ザ光もしくはプラズマ火炎により研摩してその表面を清
浄化する光ファイバプリフォームの表面処理法におい
て、前記プリフォームの当該処理部をその表面処理中な
らびに表面処理後常温になるまでガス流により陽圧下に
置くことを特徴とする光ファイバプリフォームの表面処
理法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253861A JPH0615415B2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 光ファイバプリフォームの表面処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62253861A JPH0615415B2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 光ファイバプリフォームの表面処理法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0196040A JPH0196040A (ja) | 1989-04-14 |
| JPH0615415B2 true JPH0615415B2 (ja) | 1994-03-02 |
Family
ID=17257149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62253861A Expired - Lifetime JPH0615415B2 (ja) | 1987-10-09 | 1987-10-09 | 光ファイバプリフォームの表面処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0615415B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03187944A (ja) * | 1989-12-15 | 1991-08-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス体の加熱処理方法 |
| US5000771A (en) * | 1989-12-29 | 1991-03-19 | At&T Bell Laboratories | Method for manufacturing an article comprising a refractory dielectric body |
| JPH06157058A (ja) * | 1991-06-20 | 1994-06-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス母材の火炎研磨方法 |
| US7510664B2 (en) * | 2001-01-30 | 2009-03-31 | Rapt Industries, Inc. | Apparatus and method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for shaping of damage free surfaces |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58176138A (ja) * | 1982-04-12 | 1983-10-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバ母材の表面処理方法 |
-
1987
- 1987-10-09 JP JP62253861A patent/JPH0615415B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0196040A (ja) | 1989-04-14 |
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