JPH0194236A - 光パルス試験器 - Google Patents

光パルス試験器

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JPH0194236A
JPH0194236A JP25154587A JP25154587A JPH0194236A JP H0194236 A JPH0194236 A JP H0194236A JP 25154587 A JP25154587 A JP 25154587A JP 25154587 A JP25154587 A JP 25154587A JP H0194236 A JPH0194236 A JP H0194236A
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JP
Japan
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apd
section
light
optical pulse
fiber
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Application number
JP25154587A
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English (en)
Inventor
Takashi Oshimi
孝志 押味
Katsupei Takahashi
高橋 活平
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Anritsu Corp
Original Assignee
Anritsu Corp
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/30Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides
    • G01M11/31Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter and a light receiver being disposed at the same side of a fibre or waveguide end-face, e.g. reflectometers
    • G01M11/3109Reflectometers detecting the back-scattered light in the time-domain, e.g. OTDR
    • G01M11/3145Details of the optoelectronics or data analysis

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、被測定ファイバに対して光パルスを供給する
ことによって被測定ファイバから反射してくる後方散乱
光およびフレネル反射光に基づいて被測定ファイバの損
失測定、破断点探索等の各種特性測定を行う光パルス試
験器に関するものである。
[従来の技術] 従来より被測定ファイバに対して光パルスを供給し、こ
れにより被測定ファイバから反射してくる後方散乱光お
よびフレネル反射光を検出することによって被測定ファ
イバの損失測定、破断点探索等の各種特性測定を行う装
置として光パルス試験器か知られている。
第5図はこうした光パルス試験器の概略構成を示してい
る。この光パルス試験器は、タイミンク発生部1、光パ
ルス発光部2、方向性結合器3、APD4、増幅部5、
A/Dコンバータ部6、波形処理部7、波形表示部8、
コントロール部9を備えて概略構成されるものである。
そして、測定時には、まずコントロール部9より出力さ
れる制御信号のもとに、タイミング発生部1からのタイ
ミング信号に基づいて光パルス発生部2より所定パルス
幅の光パルスを被測定ファイバ10に向けて出射する。
この結果被測定ファイバ10から反射してくる後方散乱
光およびフレネル反射光は、方向性結合器3で分離され
APD4によフて受光検出される。この受光検出された
光パルスは増幅部5にて増幅された後、A/Dコンバー
タ部6において所定のサンブリンク周期でサンプリング
される。さらに、サンプリングされたデータは波形処理
部7で波形処理され、この結果が波形表示部8に表示さ
れる。これにより被測定ファイバ10の測定ポイント毎
における損失測定、破断点探索等の各種特性測定が行わ
わる。
しかしながら、」二連した光パルス試験器によって長距
離の被測定ファイバ10における各種特性測定を行おう
とする場合、光パルス発生部2を介して被測定ファイバ
10に出射される光パルスを被測定ファイバ10の遠く
まで導かなければならないため、被測定ファイバ10の
長さに応じて光パルスのパルス幅を可変し、その平均出
力パワーを調整する必要があった。
そこで、従来の光パルス試験器ては、第6図に示すよう
に予めAPD4の増倍率MをS/N比か最大になる点M
oに固定設定し、さらに第7図に示すように増幅部5内
のアンプの増幅率(総合利得)Gvを可変制御したり、
アンプの前段にある電流・電圧変換器の負荷抵抗を調整
しその出力電圧レベルを可変したりして、受光検出され
る後方散乱光か飽和しないようにS/N比の改善を行い
、被測定ファイバ10に出射される光パルスのレベルを
調整していた。
「発明が解決しようとする問題点] ところて、−J−、述した従来の光パルス試験器ては、
被測定ファイバ10に出射される光パルスのパルス幅を
広げることによって、受光検出される後方散乱光の出力
レベルが高まると、これに伴って増幅部5の増幅率GV
をG V +からG V 2に可変する制御が行われる
ようになっている。
しかし、装置を構成するうえにおいて発生する装置全体
のシステムノイズが存在するため、増幅部5の増幅率G
vをG V 2にすると、このときの雑音信号Nはシス
テムノイズに支配されてしまい、S/N比が増幅率G 
v +のときよりも低下し、十分なS/N比の改善が行
えないという問題点があった。
そこて、本発明は」二連した問題点に鑑みてなされたも
のであって、その目的は、被測定ファイバに供給される
光パルスのパルス幅を広げ、後方散乱光の出力レベルを
高くしたときでも、S/Nを改善して十分なダイナミッ
クレンジ(出力される信号のレベルとノイズレベルとの
差)が得られ、被測定ファイバの長距離測定もを含む各
種特性測定を高粒度に行える光パルス試験器を提供する
ことにある。
[問題点を解決するための手段] 上記目的を達成するため本発明による光パルス試験器は
、被測定ファイバ21に光パルスを供給することによっ
て前記被測定ファイバ21から反射してくる後方散乱光
およびフレネル反射光に基づいて前記被測定ファイバ2
1の損失測定、破断点探索等の各種測定を行う光パルス
試験器において、 前記後方散乱光およびフレネル反射光を受光検出するA
PD14と、該APD14の出力を所定の増幅率で増幅
する増幅部15と、前記APD14により受光検出した
後方散乱光およびフレネル反射光の出力レベルを検出す
るレベル検出部19と、該レベル検出部19の検出信号
に基づいて前記光パルスのパルス幅、前記APD14の
増倍率および前記増幅部15の増幅率を可変制御するコ
ントロール部20とを備えたごとを特徴としている。
[作用] APD14は被測定ファイバ21に対し光パルスが出射
されることて、この被測定ファイバ21から反射してく
る後方散乱光およびフレネル反射光を所定の増倍率で受
光検出する。また、増幅部15はこの受光検出した信号
を所定の増幅率て増幅する。さらに、レベル検出部工9
はAPD14を介して増幅部15にて増幅された後方散
乱光およびフレネル反射光の出力レベルを検出する。そ
して、コントロール部20はこの検出結果に基づいて出
力信号のS/N比が最適な値となるように光パルスのパ
ルス幅の可変に伴い、APD14の増倍率および増幅部
15の増幅率を可変制御する。・ [実施例] 第1VAは本発明による光パルス試験器の一実施例を示
すブロック構成図である。
この実施例による光パルス試験器は、タイミング発生部
11、光パルス発光部12、方向性結合器13、APD
14、増幅部15、A/Dコンバータ部16、波形処理
部17、波形表示部18、レベル検出部19、コントロ
ール部20を備えて概略構成されており、タイミング発
生部11より出力されるタイミング信号に基ついて被測
定ファイバ21に対し光パルス発光部12より光パルス
を出射し、この結果被測定ファイバ21から反射してく
る後方散乱光およびフレネル反射光を方向性結合器13
で分離させてAPD14により所定の増倍率で受光検出
し、さらにこの受光検出した光パルスを増幅部15にて
所定の増幅率をもって増幅した後、A/Dコンバータ部
16にてサンプリングし、このサンプリングした各デー
タを波形処理部17にて波形処理して波形表示部18に
表示している。
そして、レベル検出部19はAPD14が受光検出した
後方散乱光およびフレネル反射光の出力レベルを検出す
る。ここで、コントロール部2゜がタイミング発生部1
1を介して光パルス発光部12より出力される光パルス
のパルス幅を可変する等によって受光検出レベルか変化
した場合、レベル検出部19にて検出したレベルに基づ
いて、APD14の増倍率Mおよび増幅部15の増幅率
Gvを可変制御している。
タイミング発生部11は後述するコントロール部20の
制御信号に基づいて光パルス発生部12、A/Dコンバ
ータ部16の各部にタイミング信号を出力している。
光パルス発生部12はタイミング発生部11より供給さ
れるタイミング信号(トリガ信号)に基づいて光パルス
を出力しており、この光パルスは方向性結合器13を介
して被測定ファイバ21に出射されるようになっている
方向性結合器J3は被測定ファイバ21に対して光パル
ス発光部12より光パルスが供給されると、この被測定
ファイバ21から反射してくる後方散乱光およびフレネ
ル反射光を受光素子であるAPD14側に分離している
APD 14は方向性結合器13により分離される被測
定ファイバ21からの後方散乱光およびフレネル反射光
を受光検出している。ここで、このAPD14の増倍率
−出力特性を第3図に示す。
この図からAPD14は信号Sの出力レベルの上昇に伴
い、そのノイズNのレベルかある所定の増倍率Mまて一
定の熱雑音によって支配され、それから後はショットノ
イズによって支配される特性を有している。そして、通
常使用される状態では、このAPD14の増倍率Mは熱
雑音によって支配される点の近傍Moに設定されており
、増幅率Mは検出される後方散乱光およびフレネル反射
光の出力レベルに応じて後述するコントロール部20か
らの制御信号によって最適な値に可変制御されるように
なっている。
増幅部15はAPD14か受光検出した後方散乱光およ
びフレネル反射光を所定の増幅率Gvをもって増幅しA
/Dコンバータ部16に出力している。さらに詳述する
と、この増幅部15は第2図に示すように電流・電圧変
換部15aと電圧増幅部15bを備えており、APD1
4のカソードより出力される電流信号は、まず電流・電
圧変換部15aにて電圧信号に変換された後、電圧増幅
部15bにて所定の増幅率Gvをもって増幅されるよう
になっている。また、電圧増幅部15bの増幅率Gvは
後述するコントロール部20からの制御信号によって可
変制御されるよう構成されている。ここで、この増幅部
15における増幅率−出力レベル特性を第4図に示す。
なお、図中一定のレベルを示す部分は装置全体のシステ
ムノイズレベルである。
ところで、増幅部15出力時における信号Sおよびノイ
ズNのそれぞわのレベルは下記のように表わされる。
5−Pin・η・(M−RL−Gv) N=に7璽−丁コtX(RL−Gv) なお、Pinは受光検出される光パワー、ηは変換効率
、Mは増倍率、RLは増幅部15における電流・電圧変
換部15bの負荷抵抗、Gvは増幅部15における電圧
増幅部15bの総合利得を示し、また、J内はAPD1
4自身が持つ係数でノイズNの傾きを示している。
A/Dコンバータ部1部上6幅部15にて増幅された後
方散乱光およびフレネル反射光を所定のサンプリング周
期でサンプリングし、このサンプリングした信号を波形
処理部17に出力してい1す る。波形処理部17はA/Dコンバータ部1部上6供給
されるサンプリンダ信号に対し所定の演算を行い波形処
理している。そして、この結果得られる各データはデイ
スプレィ等の波形表示部18に表示されるようになって
いる。
レベル検出部19はAPD 14により受光検出され増
幅部15を介して増幅された後方散乱光およびフレネル
反射光の出力レベルの検出を行い、この検出信号をコン
トロール部20に出力している。
率M、増幅部15の増幅率Gvの可変制御を行っている
。さらに詳述すると、このコントロール部。
20はタイミング発生部11に制御信号を出力して光パ
ルス発生部12に出力されるタイミング信号を可変制御
し、APD14が受光検出する後方散乱光およびフレネ
ル反射光の出力レベルを図に示すように例えばS3から
S4へと高くしたいときには光パルスのパルス幅を広く
し、逆に出力しベルを低く抑えたいときには光パルスの
パルス幅を狭くするように光パルス発光部12より出力
される光パルスのパルス幅の可変制御を行っている。ま
た、コントロール部20は光パルスのパルス幅の変化に
伴って増幅部15に制御信号を出力してその増幅率Gv
を可変制御する。さらにAPDバイアス部22に制御信
号を出力することで、このAPDバイアス部22を介し
てAPD14に印加される逆バイアス電圧を制御して増
倍率Mの可変を行う。すなわち、このコントロール部2
0ではAPD14により受光検出される後方散乱光およ
びフレネル反射光の出力レベルSの可変制御に伴い、こ
の受光検出信号に対するノイズレベルがシステムノイズ
よって支配される範囲内になったときに、その差分だけ
ノイズレベルが上がるようにAPD14の増倍率Mおよ
び増幅部15の増幅率Gvを可変制御することでS/N
比の改善を図っている。
次に、以上述べた構成における光パルス試験器の動作を
、被測定ファイバ21の長距離測定に際し、この被測定
ファイバ21に供給される光パルスのパルス幅を広く設
定した場合を例にとって説明する。
まず通常の測定状態では、コントロール部20の制御信
号により制御されるタイミング発生部11のタイミング
信号に基づいて、光パルス発生部12より被測定ファイ
バ21に対して所定パルス幅の光パルスが出射される。
次に、この結果被測定ファイバ21から反射してくる後
方散乱光およびフレネル反射光はAPD14により増倍
率MOで受光検出され′、この受光検出された信号は増
幅部15により増幅率G V 3で増幅される。この増
幅された信号はさらにA/Dコンバータ部1部上6サン
プリングされた後、波形処理部17で波形処理され、こ
の結果得られる各データは波形表示部18に表示される
。また、このときレベル検出部19は増幅された信号、
すなわち後方散乱光およびフレネル反射光のレベル検出
を行い、この結果を検出信号としてコントロール部20
に出力する。
次に、被測定ファイバ21の長距離測定を行うため被測
定ファイバ21に出射される光パルスのパルス幅を広げ
る際には、レベル検出部19の検出結果に基づいてコン
トロール部20が制御信号によってタイミング発生部1
1のタイミング信号を制御し、光パルス発生部12より
出力される光パルスを可変制御する。これによりAPD
14によって受光検出される後方散乱光およびフレネル
反射光の出力レベルS3が第4図に示すように34へ上
昇する。次に、コントロール部20より増幅部!5に対
し制御信号が出力され、増幅部15の増幅率GvがG 
V 3からG V 4へとレベルΔSを下げるように可
変制御される。さらに、コントロール部20からはAP
Dバイアス部22に対して制御信号が出力され、APD
バイアス部22によってAPD14に印加される逆バイ
アス電圧が変化し、APD 14の増倍率MがMoから
Mlへ上昇制御される。以上の動作により増幅部15に
よる増幅率Gvの下降に伴って上昇したノイズレベル分
ΔNをAPD14の増倍率Mを」二昇させることて補間
てき、受光検出される後方散乱光およびフレネル反射光
の出力レベルが高くなった場合でも十分なS/Nの改善
を行うことができる。
ところで、被測定ファイバ21に出射される光パルスを
狭くし、APD14により受光検出される後方散乱光お
よびフレネル反射光の出力レベルを低く抑えて制御する
場合には、上述した動作とは逆の動作を行う。つまり、
レベル検出部19の検出信号に基づいてコントロール部
20が光パルス発生部12より出力される光パルスのパ
ルス幅を狭く制御し、これに伴って増幅部15の増幅率
GVを上昇制御する。なお、この場合APD 14の増
倍率Mは可変制御することなく通常の測定状態のときと
同じ値に設定しておけば良い。
ところで、」−述した光パルス試験器において、ざらに
S/N比を上げたい場合には、増幅部15における電流
・電圧変換部15aの負荷抵抗RLを大きくして信号S
、ノイズNのレベルを上げてシステムノイズの影響を少
くしてやれば良い。
[発明の効果コ 以上説明したように本発明による光パルス試験器によれ
ば、特に被測定ファイバに供給される光パルスのパルス
幅を広げることで後方散乱光およびフレネル反射光の出
力レベルが高くなり、そのノイズレベルがシステムノイ
ズのみで支配される範囲内にある場合、この後方散乱光
およびフレネル反射光の検出結果に基づいて被測定ファ
イバに供給される光パルスのパルス幅、APDの増倍率
および増幅部の増幅率を最適な値に可変制御し、信号に
対するノイズをシステムノイズとの差分だけ上昇制御す
ることで、S/N比を改善して十分なダイナミックレン
ジが得られるので、被測定ファイバの長比測定を含む各
種特性測定を高粒度に行うことができるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による光パルス試験器の一実施例を示す
ブロック構成図、第2図は第1図における増幅部の構成
の一例を示す図、第3図は本発明の光パルス試験器にお
ける信号(後方散乱光)Sと雑音Nの関係を示すAPD
の増倍率−出力特性を示す図、第4図は本発明の光パル
ス試験器増幅部における増幅率−出力特性を示し、S/
N比の改善方法を説明するための図、第5図は、従来の
光パルス試験器の一例を示すブロック構成図、第6図は
信号(後方散乱光)Sと雑音Nの関係を示すAPDの増
倍率−出力特性を示す図であって、第5図の光パルス試
験器に連用される増幅率の設定点を示す図、第7図は増
幅部における増幅率−出力特性を示す図てあって、第5
図の光パルス試験器に適用されるS/N比の改善方法を
説明するための図である。 11・・・タイミング発生部、12・・・光パルス発生
部、14・−A P D、15・・・増幅部、19・・
・レベル検出部、20・・・コントロール部、21・・
・被測定ファイバ。 特許出願人   アンリツ株式会社 代理人・弁理士   西 村 教 光 :1−11Δ?→

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 被測定ファイバ(21)に光パルスを供給することによ
    って前記被測定ファイバ(21)から反射してくる後方
    散乱光およびフレネル反射光に基づいて前記被測定ファ
    イバ(21)の損失測定、破断点探索等の各種測定を行
    う光パルス試験器において、 前記後方散乱光およびフレネル反射光を受光検出するア
    バランシェフォトダイオード(以下、APDという)(
    14)と、該APD(14)の出力を所定の増幅率で増
    幅する増幅部(15)と、前記APD(14)により受
    光検出した後方散乱光およびフレネル反射光の出力レベ
    ルを検出するレベル検出部(19)と、該レベル検出部
    (19)の検出信号に基づいて前記光パルスのパルス幅
    、前記APD(14)の増倍率および前記増幅部(15
    )の増幅率を可変制御するコントロール部(20)とを
    備えたことを特徴とする光パルス試験器。
JP25154587A 1987-10-07 1987-10-07 光パルス試験器 Pending JPH0194236A (ja)

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