JPH0157759B2 - - Google Patents
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- JPH0157759B2 JPH0157759B2 JP57142647A JP14264782A JPH0157759B2 JP H0157759 B2 JPH0157759 B2 JP H0157759B2 JP 57142647 A JP57142647 A JP 57142647A JP 14264782 A JP14264782 A JP 14264782A JP H0157759 B2 JPH0157759 B2 JP H0157759B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/16—X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes
- G03C5/17—X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes using screens to intensify X-ray images
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Radiography Using Non-Light Waves (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蓄積性螢光体を用いた放射線像変換シ
ート（以下、「螢光シート」という）に関する。
更に詳しくは特定ヘイズ率（くもり価）の有機フ
イルムからなる保護膜を有する、放射線画像ノイ
ズを生じにくい螢光シートに関する。
ート（以下、「螢光シート」という）に関する。
更に詳しくは特定ヘイズ率（くもり価）の有機フ
イルムからなる保護膜を有する、放射線画像ノイ
ズを生じにくい螢光シートに関する。
ある種の螢光体はＸ線、γ線、α線、β線等の
放射線の照射を受けるとそのエネルギーを一旦内
部に蓄積し、後でこの螢光体に可視光線、赤外線
等の電磁波を照射したり、昇温加熱したりすると
螢光を発する。そこで、このような蓄積性螢光体
からなる螢光体層を紙、プラスチツクス、金属薄
板等からなる支持体上に形成してなる螢光シート
（形状としては板状、ドラム状等の形態をとりう
るが本明細書ではこれらを総称して「螢光シー
ト」と称することにする）に被写体を透過した放
射線を照射して被写体の放射線潜像を蓄積させ、
これを保存しておき、後にこの螢光シートの螢光
体層に可視光、赤外線等の電磁波を照射したり、
螢光体層を加熱したりすることによつてこれを発
光させ、その時発する螢光を検出することによ
り、螢光シート内に蓄積、記録されていた被写体
の放射線画像を読みとる放射線像変換方法が実用
化されつつある（例えば米国特許第3859527号、
特開昭55―12429号等参照）。
放射線の照射を受けるとそのエネルギーを一旦内
部に蓄積し、後でこの螢光体に可視光線、赤外線
等の電磁波を照射したり、昇温加熱したりすると
螢光を発する。そこで、このような蓄積性螢光体
からなる螢光体層を紙、プラスチツクス、金属薄
板等からなる支持体上に形成してなる螢光シート
（形状としては板状、ドラム状等の形態をとりう
るが本明細書ではこれらを総称して「螢光シー
ト」と称することにする）に被写体を透過した放
射線を照射して被写体の放射線潜像を蓄積させ、
これを保存しておき、後にこの螢光シートの螢光
体層に可視光、赤外線等の電磁波を照射したり、
螢光体層を加熱したりすることによつてこれを発
光させ、その時発する螢光を検出することによ
り、螢光シート内に蓄積、記録されていた被写体
の放射線画像を読みとる放射線像変換方法が実用
化されつつある（例えば米国特許第3859527号、
特開昭55―12429号等参照）。
ところで、螢光シートの螢光体層表面には螢光
体層の摩耗や欠落を防止したり、水分や薬品との
反応を防止する等、物理的、化学的耐久性を向上
させる目的で従来、有機フイルムからなる透明保
護膜が設けられている場合が多い。しかしなが
ら、これら有機フイルムを保護膜として用いた螢
光シートに対して例えばレーザー光のようなコヒ
ーレンシー（Coherency）の良好な光源を励起光
として使用した場合、その理由は定かではない
が、保護膜（即ち有機フイルム）の製造工程中に
生ずるわずか0.01〜0.1μm程度の微小な筋や部分
的な膜厚のムラがあると再生された放射線画像上
に線状のノイズ（以下、「放射線画像ノイズ」と
いう）が現われ、画像の読影に支障をきたすこと
となり、しかもこのような弊害を取除くために膜
厚の均一な有機フイルムを選別することは工業上
きわめて不経済である等の問題があり、その改良
が望まれていた。
体層の摩耗や欠落を防止したり、水分や薬品との
反応を防止する等、物理的、化学的耐久性を向上
させる目的で従来、有機フイルムからなる透明保
護膜が設けられている場合が多い。しかしなが
ら、これら有機フイルムを保護膜として用いた螢
光シートに対して例えばレーザー光のようなコヒ
ーレンシー（Coherency）の良好な光源を励起光
として使用した場合、その理由は定かではない
が、保護膜（即ち有機フイルム）の製造工程中に
生ずるわずか0.01〜0.1μm程度の微小な筋や部分
的な膜厚のムラがあると再生された放射線画像上
に線状のノイズ（以下、「放射線画像ノイズ」と
いう）が現われ、画像の読影に支障をきたすこと
となり、しかもこのような弊害を取除くために膜
厚の均一な有機フイルムを選別することは工業上
きわめて不経済である等の問題があり、その改良
が望まれていた。
本発明は上述のような状況に鑑みてなされたも
のであり、保護膜を有し、しかもレーザー光等の
コヒーレンシーの良好な励起光と組合わせて使用
した場合でも放射線画像ノイズが生じ難い螢光シ
ートを得ることを目的とするものである。本発明
者等は特に螢光シートの保護膜について種々研究
した結果、螢光シートの保護膜として用いられる
有機フイルムのヘイズ率と放射線画像ノイズの現
われ方との間に相関があり、特定のヘイズ率を有
する有機フイルムを保護膜として用いた時、放射
線画像ノイズの現われ難い螢光シートが得られる
ことを見いだした。
のであり、保護膜を有し、しかもレーザー光等の
コヒーレンシーの良好な励起光と組合わせて使用
した場合でも放射線画像ノイズが生じ難い螢光シ
ートを得ることを目的とするものである。本発明
者等は特に螢光シートの保護膜について種々研究
した結果、螢光シートの保護膜として用いられる
有機フイルムのヘイズ率と放射線画像ノイズの現
われ方との間に相関があり、特定のヘイズ率を有
する有機フイルムを保護膜として用いた時、放射
線画像ノイズの現われ難い螢光シートが得られる
ことを見いだした。
本発明の螢光シートは、結合剤とこの結合剤中
に分散された蓄積性螢光体粒子とからなる螢光体
層および保護膜がこの順に支持体上に積層されて
なる螢光シートにおいて、上記保護膜がヘイズ率
５〜40％の有機フイルムからなることを特徴とす
る。
に分散された蓄積性螢光体粒子とからなる螢光体
層および保護膜がこの順に支持体上に積層されて
なる螢光シートにおいて、上記保護膜がヘイズ率
５〜40％の有機フイルムからなることを特徴とす
る。
本発明の螢光シートを製造するには、蓄積性螢
光体と結合剤とを適当な溶媒中に混合した螢光体
塗布液を調製し、これを支持体上に直接塗布し乾
燥させて螢光体層を形成するか、またはこの螢光
体塗布液を平滑な基板上に塗布し乾燥させて予じ
め螢光膜を形成しておき、これを基板から剥離し
て支持体上に接着することによつて支持体上に螢
光体層を形成した後、この螢光体層表面に有機フ
イルムからなる保護膜を接着するか、乾燥後有機
フイルムとなりうる樹脂からなる塗布液を螢光体
層表面に塗布し乾燥させて螢光体層表面に有機フ
イルムからなる保護膜を形成する。
光体と結合剤とを適当な溶媒中に混合した螢光体
塗布液を調製し、これを支持体上に直接塗布し乾
燥させて螢光体層を形成するか、またはこの螢光
体塗布液を平滑な基板上に塗布し乾燥させて予じ
め螢光膜を形成しておき、これを基板から剥離し
て支持体上に接着することによつて支持体上に螢
光体層を形成した後、この螢光体層表面に有機フ
イルムからなる保護膜を接着するか、乾燥後有機
フイルムとなりうる樹脂からなる塗布液を螢光体
層表面に塗布し乾燥させて螢光体層表面に有機フ
イルムからなる保護膜を形成する。
本発明の螢光シートの保護膜には、ASTMD
―1003に記載の方法により測定した時のヘイズ率
が５〜40％であるポリエチレンテレフタレート等
のポリエステルフイルム、ポリメタアクリレート
フイルム、ニトロセルロースフイルム、セルロー
スアセテートフイルム等のやや不明瞭なくもり状
外観を呈する有機フイルムが用いられるが、伸縮
性が小さいことや、機械的強度および耐薬品性に
優れること等の点から特にポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステルフイルムを用いるのがよ
り好ましい。また、用いられる有機フイルムの膜
厚としては特に制限はないが、５〜25μmのもの
を用いるのが好ましい。保護膜のヘイズ率は用い
られる有機フイルムの種類、重合度の差、含有す
る不純物等によつて異なる外、同一の有機フイル
ムであつてもその厚みが異なれば変わり、また有
機フイルムの表面を均一にマツト加工等の表面処
理を施すことによつても変化させることが出来る
ため、有機フイルムの種類およびその膜厚等を変
えたり適当に表面処理を施すことによつて種々の
ヘイズ率を有する有機フイルムからなる保護膜を
設けることが出来るが、用いられる有機フイルム
のヘイズ率が５％未満の場合には得られた螢光シ
ートの放射線画像ノイズ除去効果がほとんど認め
られず、一方、用いられる有機フイルムのヘイズ
率が増加するに従つて得られる螢光シートの放射
線画像ノイズは少なくなるが感度が漸減し、ヘイ
ズ率が40％より高くなると感度が従来のものの約
10％以下となるため実用的観点からヘイズ率を40
％以下とするのが好ましく、特にヘイズ率８〜25
％の有機フイルムを用いるのがより好ましい。
―1003に記載の方法により測定した時のヘイズ率
が５〜40％であるポリエチレンテレフタレート等
のポリエステルフイルム、ポリメタアクリレート
フイルム、ニトロセルロースフイルム、セルロー
スアセテートフイルム等のやや不明瞭なくもり状
外観を呈する有機フイルムが用いられるが、伸縮
性が小さいことや、機械的強度および耐薬品性に
優れること等の点から特にポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステルフイルムを用いるのがよ
り好ましい。また、用いられる有機フイルムの膜
厚としては特に制限はないが、５〜25μmのもの
を用いるのが好ましい。保護膜のヘイズ率は用い
られる有機フイルムの種類、重合度の差、含有す
る不純物等によつて異なる外、同一の有機フイル
ムであつてもその厚みが異なれば変わり、また有
機フイルムの表面を均一にマツト加工等の表面処
理を施すことによつても変化させることが出来る
ため、有機フイルムの種類およびその膜厚等を変
えたり適当に表面処理を施すことによつて種々の
ヘイズ率を有する有機フイルムからなる保護膜を
設けることが出来るが、用いられる有機フイルム
のヘイズ率が５％未満の場合には得られた螢光シ
ートの放射線画像ノイズ除去効果がほとんど認め
られず、一方、用いられる有機フイルムのヘイズ
率が増加するに従つて得られる螢光シートの放射
線画像ノイズは少なくなるが感度が漸減し、ヘイ
ズ率が40％より高くなると感度が従来のものの約
10％以下となるため実用的観点からヘイズ率を40
％以下とするのが好ましく、特にヘイズ率８〜25
％の有機フイルムを用いるのがより好ましい。
また、本発明の螢光シートに使用される保護膜
以外の各種材料としては従来の螢光シートに用い
られていた材料と同様なものが使用される。すな
わち、蓄積性螢光体としてはSrS：Ce，Eu、
SrS：Eu，Sm、ZnS：Cu，Pb，（Zn，Cd）Ｓ：
Mn，Ｘ（但し、Ｘはハロゲン）、LnOX：Ａ（但し
LnはLa，Ｙ，Gd、およびLuの中の少なくとも
１つ、ＸはClおよびBrの中の少なくとも１つで
あり、ＡはCeおよびTbの中の少なくとも１つ）、
（Ba1―ｘ、M〓x）FX：Ln（但しM〓はMg，Ca，
Sr，ZnおよびCdの中の少なくとも１つ、Ｘは
C1，BrおよびのＩ中の少なくとも１つであり、
LnはEu，Tb，Ce，Tm，Dy，Pr，Ho，Nd，
Yb及びErの中の少なくとも１つ、ｘは０≦ｘ≦
0.6）など、放射線の照射を受けた後、可視光ま
たは赤外線等の電磁波により励起するか、または
加熱されることによつて螢光を発する螢光体が使
用される。結合剤樹脂としては硝化綿、塩化ビニ
ール―酢酸ビニール共重合体、ポリビニルブチラ
ール等が使用される。また支持体としてはセルロ
ースアセテートフイルム、ポリエステルフイル
ム、ポリイミドフイルム、ポリカーボネートフイ
ルム等のプラスチツクフイルムや紙、ガラス板、
アルミニウム等の金属薄板が使用され、必要に応
じてこれら支持体の表面には光吸収層や光反射層
が設けられる。
以外の各種材料としては従来の螢光シートに用い
られていた材料と同様なものが使用される。すな
わち、蓄積性螢光体としてはSrS：Ce，Eu、
SrS：Eu，Sm、ZnS：Cu，Pb，（Zn，Cd）Ｓ：
Mn，Ｘ（但し、Ｘはハロゲン）、LnOX：Ａ（但し
LnはLa，Ｙ，Gd、およびLuの中の少なくとも
１つ、ＸはClおよびBrの中の少なくとも１つで
あり、ＡはCeおよびTbの中の少なくとも１つ）、
（Ba1―ｘ、M〓x）FX：Ln（但しM〓はMg，Ca，
Sr，ZnおよびCdの中の少なくとも１つ、Ｘは
C1，BrおよびのＩ中の少なくとも１つであり、
LnはEu，Tb，Ce，Tm，Dy，Pr，Ho，Nd，
Yb及びErの中の少なくとも１つ、ｘは０≦ｘ≦
0.6）など、放射線の照射を受けた後、可視光ま
たは赤外線等の電磁波により励起するか、または
加熱されることによつて螢光を発する螢光体が使
用される。結合剤樹脂としては硝化綿、塩化ビニ
ール―酢酸ビニール共重合体、ポリビニルブチラ
ール等が使用される。また支持体としてはセルロ
ースアセテートフイルム、ポリエステルフイル
ム、ポリイミドフイルム、ポリカーボネートフイ
ルム等のプラスチツクフイルムや紙、ガラス板、
アルミニウム等の金属薄板が使用され、必要に応
じてこれら支持体の表面には光吸収層や光反射層
が設けられる。
上述のようにして製造された本発明の螢光シー
トは、これに被写体の放射線画像を蓄積記録した
後、レーザー光等のコヒーレンシーの良好な励起
光で励起して放射線画面を再生した場合、従来の
螢光シートを用いた場合に比べてその感度は低下
するものの、放射線画像ノイズを著しく減少させ
ることが出来る。
トは、これに被写体の放射線画像を蓄積記録した
後、レーザー光等のコヒーレンシーの良好な励起
光で励起して放射線画面を再生した場合、従来の
螢光シートを用いた場合に比べてその感度は低下
するものの、放射線画像ノイズを著しく減少させ
ることが出来る。
次に実施例により本発明を説明する。
実施例 １
BaFBr：Eu2+螢光体（蓄積性螢光体）８重量
部とニトロセルロース（結合剤）１重量部とを溶
剤を用いて混合し、螢光体塗布液を調製した。次
にこの塗布液を、水平に置いた厚さ250μの黒色
ポリエチレンテレフタレートフイルム（支持体）
上にナイフコーターで均一に塗布し乾燥させて約
300μmの厚の螢光体層を形成した。次にこの螢光
体層の表面に膜厚が12μmでヘイズ率が14.3％で
あるポリエチレンテレフタレートフイルム（東レ
社製、ルミラータイプＰ―30）からなる保護膜を
接着して螢光シートＡを作製した。
部とニトロセルロース（結合剤）１重量部とを溶
剤を用いて混合し、螢光体塗布液を調製した。次
にこの塗布液を、水平に置いた厚さ250μの黒色
ポリエチレンテレフタレートフイルム（支持体）
上にナイフコーターで均一に塗布し乾燥させて約
300μmの厚の螢光体層を形成した。次にこの螢光
体層の表面に膜厚が12μmでヘイズ率が14.3％で
あるポリエチレンテレフタレートフイルム（東レ
社製、ルミラータイプＰ―30）からなる保護膜を
接着して螢光シートＡを作製した。
これとは別に比較例として、保護膜として膜厚
が12μmでヘイズ率が2.5％であるポリエチレンテ
レフタレートフイルム（東レ社製、ルミラータイ
プＳ―10）を使用する以外は螢光シートＡと同様
にして螢光シートＲを作製した。
が12μmでヘイズ率が2.5％であるポリエチレンテ
レフタレートフイルム（東レ社製、ルミラータイ
プＳ―10）を使用する以外は螢光シートＡと同様
にして螢光シートＲを作製した。
螢光シートＡおよび螢光シートＲについて、
He―Neレーザー光を励起光として用いて得られ
た同一被写体の放射線画像（各螢光シートをHe
―Neレーザー光で励起した時得られる放射線画
像情報を写真フイルム上に再生したもの）を比較
したところ、螢光シートＡの感度は螢光シートＲ
のそれの約95％であつたが、写真フイルムへの画
像再生の際、夫々の螢光シートの感度差を補正
し、再生された両画像の対応する部分が同一黒化
度となるようにして比較した時、螢光シートＲに
よつて得られた放射線画像上には明らかに多数の
線状のノイズが肉眼により認められたのに対し、
螢光シートＡによつて得られた放射線画像上には
螢光シートＲによつて得られた画像上に現われて
いたような線状のノイズはほとんど認められなか
つた。
He―Neレーザー光を励起光として用いて得られ
た同一被写体の放射線画像（各螢光シートをHe
―Neレーザー光で励起した時得られる放射線画
像情報を写真フイルム上に再生したもの）を比較
したところ、螢光シートＡの感度は螢光シートＲ
のそれの約95％であつたが、写真フイルムへの画
像再生の際、夫々の螢光シートの感度差を補正
し、再生された両画像の対応する部分が同一黒化
度となるようにして比較した時、螢光シートＲに
よつて得られた放射線画像上には明らかに多数の
線状のノイズが肉眼により認められたのに対し、
螢光シートＡによつて得られた放射線画像上には
螢光シートＲによつて得られた画像上に現われて
いたような線状のノイズはほとんど認められなか
つた。
実施例 ２
保護膜として膜厚が12μmでヘイズ率が22％で
あるポリエチレンテレフタレートフイルム（東洋
紡社製、ポリエステルフイルムタイプE1512）を
保護膜として用いる以外は実施例１の螢光シート
Ａと同様にして螢光シートＢを作製した。
あるポリエチレンテレフタレートフイルム（東洋
紡社製、ポリエステルフイルムタイプE1512）を
保護膜として用いる以外は実施例１の螢光シート
Ａと同様にして螢光シートＢを作製した。
螢光シートＢおよび比較のために作製された前
記螢光シートＲについてHe―Neレーザー光を励
起光として用いて得られた同一被写体の放射線画
像（各螢光シートをHHe―Neレーザー光で励起
した時得られる放射線画像情報を写真フイルム上
に再生したもの）を比較したところ、螢光シート
Ｂの感度は螢光シートＲのそれの約90％であつた
が、写真フイルムへの画像再生の際、夫々の螢光
シートの感度差を補正し、再生された両画像の対
応する部分が同一の黒化度となるようにして比較
した時、螢光シートＲによつて得られた放射線画
像上には明らかに多数の線状のノイズが肉眼によ
り認められたのに対し、螢光シートＢによつて得
られた放射線画像上には螢光シートＲによつて得
られた画像上に現われていたような線状のノイズ
は全く認められなかつた。
記螢光シートＲについてHe―Neレーザー光を励
起光として用いて得られた同一被写体の放射線画
像（各螢光シートをHHe―Neレーザー光で励起
した時得られる放射線画像情報を写真フイルム上
に再生したもの）を比較したところ、螢光シート
Ｂの感度は螢光シートＲのそれの約90％であつた
が、写真フイルムへの画像再生の際、夫々の螢光
シートの感度差を補正し、再生された両画像の対
応する部分が同一の黒化度となるようにして比較
した時、螢光シートＲによつて得られた放射線画
像上には明らかに多数の線状のノイズが肉眼によ
り認められたのに対し、螢光シートＢによつて得
られた放射線画像上には螢光シートＲによつて得
られた画像上に現われていたような線状のノイズ
は全く認められなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 結合剤とこの結合剤中に分散された蓄積性螢
光体粒子とからなる螢光体層および保護膜がこの
順に支持体上に積層されてなる放射線像変換シー
トにおいて、上記保護膜がヘイズ率（くもり価）
５〜40％の有機フイルムからなることを特徴とす
る放射線像変換シート。 ２ 前記ヘイズ率（くもり価）が８〜25％である
ことを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載の
放射線像変換シート。 ３ 前記保護膜の膜厚が５〜25μmであることを
特徴とする、特許請求の範囲第１項または第２項
記載の放射線像変換シート。 ４ 前記保護膜がポリエチレンテレフタレートフ
イルムであることを特徴とする、特許請求の範囲
第１項、第２項または第３項記載の放射線変換シ
ート。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14264782A JPS5932900A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 放射線像変換シ−ト |
| DE8383107976T DE3371009D1 (en) | 1982-08-19 | 1983-08-11 | Radiation image conversion sheet |
| EP19830107976 EP0102010B1 (en) | 1982-08-19 | 1983-08-11 | Radiation image conversion sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14264782A JPS5932900A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 放射線像変換シ−ト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5932900A JPS5932900A (ja) | 1984-02-22 |
| JPH0157759B2 true JPH0157759B2 (ja) | 1989-12-07 |
Family
ID=15320213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14264782A Granted JPS5932900A (ja) | 1982-08-19 | 1982-08-19 | 放射線像変換シ−ト |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0102010B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5932900A (ja) |
| DE (1) | DE3371009D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010025780A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Fujifilm Corp | 放射線変換シートおよび放射線画像検出装置 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5942500A (ja) * | 1982-09-01 | 1984-03-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネル |
| JPS6195351A (ja) * | 1984-10-17 | 1986-05-14 | Kasei Optonix Co Ltd | 増感紙 |
| JPS6215498A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-23 | コニカ株式会社 | 放射線画像変換パネル |
| JP2843998B2 (ja) * | 1988-06-21 | 1999-01-06 | コニカ株式会社 | 放射線画像変換パネル |
| JPH09311200A (ja) * | 1996-05-23 | 1997-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線像変換パネル及び放射線像読取方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4059768A (en) * | 1975-04-15 | 1977-11-22 | Agfa-Gevaert N.V. | Radiographic intensifying screens |
| JPS5611393A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Radiation image conversion panel |
| JPS5655939A (en) * | 1979-10-15 | 1981-05-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic material |
| JPS56116777A (en) * | 1980-02-20 | 1981-09-12 | Kasei Optonix Co Ltd | Phosphor and radiation image transformation panel using the same |
| JPS5724900A (en) * | 1980-07-22 | 1982-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Radiation image converting panel |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4362944A (en) * | 1979-02-12 | 1982-12-07 | Kasei Optonix Ltd. | Radiographic intensifying screen |
| JPS6457759A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-06 | Sharp Kk | Field-effect-type semiconductor device |
-
1982
- 1982-08-19 JP JP14264782A patent/JPS5932900A/ja active Granted
-
1983
- 1983-08-11 EP EP19830107976 patent/EP0102010B1/en not_active Expired
- 1983-08-11 DE DE8383107976T patent/DE3371009D1/de not_active Expired
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4059768A (en) * | 1975-04-15 | 1977-11-22 | Agfa-Gevaert N.V. | Radiographic intensifying screens |
| JPS5611393A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Radiation image conversion panel |
| JPS5655939A (en) * | 1979-10-15 | 1981-05-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Silver halide photographic material |
| JPS56116777A (en) * | 1980-02-20 | 1981-09-12 | Kasei Optonix Co Ltd | Phosphor and radiation image transformation panel using the same |
| JPS5724900A (en) * | 1980-07-22 | 1982-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Radiation image converting panel |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010025780A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-04 | Fujifilm Corp | 放射線変換シートおよび放射線画像検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3371009D1 (en) | 1987-05-21 |
| EP0102010A2 (en) | 1984-03-07 |
| EP0102010B1 (en) | 1987-04-15 |
| EP0102010A3 (en) | 1984-07-25 |
| JPS5932900A (ja) | 1984-02-22 |
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