JPH0153782B2 - - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 42
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 33
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 18
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229920006249 styrenic copolymer Polymers 0.000 claims description 11
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 5
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000002775 capsule Substances 0.000 claims description 4
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 17
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 15
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- -1 BaSO 4 Chemical class 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2,2'-azo-bis-isobutyronitrile Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 6
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-phenylpyridine-3-carboxamide Chemical compound ClC1=NC=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(octoxy)phosphoryl] octyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OP(O)(=O)OCCCCCCCC UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZGHFDIIVVIFNPS-UHFFFAOYSA-N 3-Methyl-3-buten-2-one Chemical compound CC(=C)C(C)=O ZGHFDIIVVIFNPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical class CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLLUAUADIMPKIH-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(C=C)C(C=C)=CC=C21 QLLUAUADIMPKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C(C)=C1 OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylindole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C=CC2=C1 RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrole Chemical compound C=CN1C=CC=C1 CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical class C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O KKOHCQAVIJDYAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLMGJTAJUDSUKA-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1h-imidazole Chemical compound C=CC1=NC=CN1 MLMGJTAJUDSUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUTIWQFRVFJKMB-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[benzyl(ethenyl)amino]propoxy-dimethoxysilyl]propan-1-amine hydrochloride Chemical compound Cl.C(C1=CC=CC=C1)N(C=C)CCCO[Si](OC)(OC)CCCN NUTIWQFRVFJKMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDZYGYFHTPFREM-UHFFFAOYSA-N 3-[3-aminopropyl(dimethoxy)silyl]oxypropan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](OC)(OC)OCCCN ZDZYGYFHTPFREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIGOJJYDFLNSGB-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanopropyl(trimethoxy)silane Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCC[N+]#[C-] BIGOJJYDFLNSGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002018 Aerosil® 300 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical class CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-ISLYRVAYSA-N V-65 Substances CC(C)CC(C)(C#N)\N=N\C(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-ISLYRVAYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- XMQYIPNJVLNWOE-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCOP(O)OCCCCCCCC XMQYIPNJVLNWOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- XHWQYYPUYFYELO-UHFFFAOYSA-N ditridecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOP([O-])OCCCCCCCCCCCCC XHWQYYPUYFYELO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000744 eyelid Anatomy 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-dien-4-one Chemical compound C=CCC(=O)CC=C PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(Cl)=C AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005673 monoalkenes Chemical class 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALIFPGGMJDWMJH-UHFFFAOYSA-N n-phenyldiazenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1NN=NC1=CC=CC=C1 ALIFPGGMJDWMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HILCQVNWWOARMT-UHFFFAOYSA-N non-1-en-3-one Chemical compound CCCCCCC(=O)C=C HILCQVNWWOARMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N p-Vinylbiphenyl Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical compound [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- ZPKUAUXTKVANIS-UHFFFAOYSA-N tetradec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 ZPKUAUXTKVANIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N vinyl methyl ketone Natural products CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は静電荷像現像用トナーに関し、更に詳
細には染顔料や他の添加剤を重合性単量体に含有
させ、該単量体の系を分散媒中にて懸濁重合し得
られた重合体をシランカツプリング剤もしくはチ
タネートカツプリング剤にて処理することを特徴
とする静電荷像現像用トナーの製造方法に関す
る。
細には染顔料や他の添加剤を重合性単量体に含有
させ、該単量体の系を分散媒中にて懸濁重合し得
られた重合体をシランカツプリング剤もしくはチ
タネートカツプリング剤にて処理することを特徴
とする静電荷像現像用トナーの製造方法に関す
る。
従来トナーは一般に熱可塑性樹脂中に着色剤、
その他添加剤を溶融混合し、均一に分散した後、
微粉砕装置、分級機により、所望の粒径を有する
トナーを製造してきた。この製造法は、かなり優
れたトナーを製造し得るが、ある種の制限があ
る。すなわち粉砕方法を用いて得られるトナー
は、その材料がある程度粉砕されやすくするため
脆性をもつていなくてはならない。しかし、あま
りにも脆性の高いものは、微粉化され過ぎて、後
に適切な粒度分布のトナーを得るため割に合わな
い微粉カツトをしなくてはならず、そのためコス
トアツプになつてしまう。さらに複写機の現像器
の中で時としてさらに微粉化されてしまう場合が
ある。また、熱定着性を改善するために低融点の
材料を用いたり圧定着性の材料を用いた場合、粉
砕装置、あるいは分級装置の中で融着現象を生
じ、連続生産できない場合が生ずる。
その他添加剤を溶融混合し、均一に分散した後、
微粉砕装置、分級機により、所望の粒径を有する
トナーを製造してきた。この製造法は、かなり優
れたトナーを製造し得るが、ある種の制限があ
る。すなわち粉砕方法を用いて得られるトナー
は、その材料がある程度粉砕されやすくするため
脆性をもつていなくてはならない。しかし、あま
りにも脆性の高いものは、微粉化され過ぎて、後
に適切な粒度分布のトナーを得るため割に合わな
い微粉カツトをしなくてはならず、そのためコス
トアツプになつてしまう。さらに複写機の現像器
の中で時としてさらに微粉化されてしまう場合が
ある。また、熱定着性を改善するために低融点の
材料を用いたり圧定着性の材料を用いた場合、粉
砕装置、あるいは分級装置の中で融着現象を生
じ、連続生産できない場合が生ずる。
トナーの他の必要条件は、現像に適した摩擦帯
電特性を有すること、優れた像を形成すること、
放置して性能の変化がなく、凝固(ブロツキング
など)しないこと、適当な熱あるいは圧定着特性
を有すること、感光体表面などを汚染しないこと
などがあげられる。
電特性を有すること、優れた像を形成すること、
放置して性能の変化がなく、凝固(ブロツキング
など)しないこと、適当な熱あるいは圧定着特性
を有すること、感光体表面などを汚染しないこと
などがあげられる。
そこで、上記の懸濁重合によつて得られる静電
荷像現像用トナーは粉砕法の欠点を克服したもの
である。すなわち粉砕工程を全く含まないため脆
性は必要でなく得られたトナーは球形であるため
流動性に優れ、そのため摩擦帯電が均一である。
さらに重合を適当にコントロールすること、ある
いは架橋剤などを使うことあるいは何らかの添加
剤を含有せしめることによつて熱あるいは圧定着
特性の優れたトナーを得ることができる。
荷像現像用トナーは粉砕法の欠点を克服したもの
である。すなわち粉砕工程を全く含まないため脆
性は必要でなく得られたトナーは球形であるため
流動性に優れ、そのため摩擦帯電が均一である。
さらに重合を適当にコントロールすること、ある
いは架橋剤などを使うことあるいは何らかの添加
剤を含有せしめることによつて熱あるいは圧定着
特性の優れたトナーを得ることができる。
しかしながら、合一のない安定に懸濁した系で
重合を行うこと、また、重合によつて均一な粒径
分布を有する微細な重合体粒子を得ることは技術
的にむずかしい。そこで重合性単量体系を水中で
懸濁重合するに際し重合の進行にともない重合体
粒子の合一を防ぐために懸濁安定剤を使用する。
一般に懸濁安定剤には、難溶性の微粉末状の無機
化合物、例えばBaSO4,CaSO4,MgCO3,
BaCO3,CaCO3Ca3(PO4)2、のような難溶性塩
類、珪藻土、タルク、珪酸、粘土、タルクのよう
な無機高分子、金属酸化物の粉末、水溶性高分
子、例えばポリビニルアルコール、ゼラチン、澱
粉などがある。
重合を行うこと、また、重合によつて均一な粒径
分布を有する微細な重合体粒子を得ることは技術
的にむずかしい。そこで重合性単量体系を水中で
懸濁重合するに際し重合の進行にともない重合体
粒子の合一を防ぐために懸濁安定剤を使用する。
一般に懸濁安定剤には、難溶性の微粉末状の無機
化合物、例えばBaSO4,CaSO4,MgCO3,
BaCO3,CaCO3Ca3(PO4)2、のような難溶性塩
類、珪藻土、タルク、珪酸、粘土、タルクのよう
な無機高分子、金属酸化物の粉末、水溶性高分
子、例えばポリビニルアルコール、ゼラチン、澱
粉などがある。
又さらに撹拌も重合の安定性、粒子の大きさに
影響を与える。高速撹拌では重合は安定するが粒
子が必要以上に小さくなつてしまう。また逆に低
速撹拌ではゲル化して、粒子が得られない場合が
ある。よつて適切な条件を選ぶ必要がある。
影響を与える。高速撹拌では重合は安定するが粒
子が必要以上に小さくなつてしまう。また逆に低
速撹拌ではゲル化して、粒子が得られない場合が
ある。よつて適切な条件を選ぶ必要がある。
しかしながらこれらの方法においても、トナー
として満足する粒径、すなわち個数平均径10μ〜
20μ位の微細な粒子を得ることはむずかしい。そ
れは、結局合一をふせぐ方法がじゆうぶんではな
いからである。そこで、重合性単量体と無機質分
散剤との組み合わせにおいて、カチオン性重合性
単量体又は難水溶性有機アミン化合物の添加によ
り重合性単量体粒子の界面がカチオンに帯電して
おり、一方無機質分散剤は重合性単量体粒子と反
対のアニオンに帯電し、このため、重合性単量体
粒子の表面を無機質分散剤がイオン的な強固な結
合により完全に均一に被覆し合一を防ぎ、個数平
均径が10〜20μ位の微粒子を得る方法が、提案さ
れている。しかしながらやはりこの方法において
も未だトナーとして充分満足する粒径とは言えな
いのである。なぜならトナー粒度分布はより狭い
方がより好ましい。すなわち、粒径が均一になつ
てくれば一つ一つの粒子の帯電量がほとんど同じ
になりそのため安定した画像を得ることができる
のである。粒度分布を狭くすればするほど、画像
は安定し、細線の再現性が良く、かぶりがなくな
つてくる。
として満足する粒径、すなわち個数平均径10μ〜
20μ位の微細な粒子を得ることはむずかしい。そ
れは、結局合一をふせぐ方法がじゆうぶんではな
いからである。そこで、重合性単量体と無機質分
散剤との組み合わせにおいて、カチオン性重合性
単量体又は難水溶性有機アミン化合物の添加によ
り重合性単量体粒子の界面がカチオンに帯電して
おり、一方無機質分散剤は重合性単量体粒子と反
対のアニオンに帯電し、このため、重合性単量体
粒子の表面を無機質分散剤がイオン的な強固な結
合により完全に均一に被覆し合一を防ぎ、個数平
均径が10〜20μ位の微粒子を得る方法が、提案さ
れている。しかしながらやはりこの方法において
も未だトナーとして充分満足する粒径とは言えな
いのである。なぜならトナー粒度分布はより狭い
方がより好ましい。すなわち、粒径が均一になつ
てくれば一つ一つの粒子の帯電量がほとんど同じ
になりそのため安定した画像を得ることができる
のである。粒度分布を狭くすればするほど、画像
は安定し、細線の再現性が良く、かぶりがなくな
つてくる。
またさらにこの方法によるトナーは熱定着性と
ブロツキング性及び現像性という相反する性質を
満足させることがひじようにむずかしい。熱定着
性を良くするには重合された樹脂の融解温度を低
くすることが必要である。たとえばTg(ガラス転
移温度)を低くすることが必要である。しかしそ
れはブロツキング性には不利である。ブロツキン
グ性を向上させるためには少くともTgを必要な
ブロツキング温度以上にしなければならないし、
高ければ高いほど有利である。しかし、この方法
によるトナーは粒子表面にカチオン性基が、集ま
つているが全体がほとんど均質な重合体であるた
め、熱定着性改善のため、分子量を小さくし、
Tgを低くするとブロツキング性が、悪くなり又
それは現像にも反映し、画質を悪くすることにも
なる。その逆にブロツキング性を改善するため、
高分子量化あるいは架橋などを行うと今度は、熱
定着性が悪くなるという悪循環におちいる。
ブロツキング性及び現像性という相反する性質を
満足させることがひじようにむずかしい。熱定着
性を良くするには重合された樹脂の融解温度を低
くすることが必要である。たとえばTg(ガラス転
移温度)を低くすることが必要である。しかしそ
れはブロツキング性には不利である。ブロツキン
グ性を向上させるためには少くともTgを必要な
ブロツキング温度以上にしなければならないし、
高ければ高いほど有利である。しかし、この方法
によるトナーは粒子表面にカチオン性基が、集ま
つているが全体がほとんど均質な重合体であるた
め、熱定着性改善のため、分子量を小さくし、
Tgを低くするとブロツキング性が、悪くなり又
それは現像にも反映し、画質を悪くすることにも
なる。その逆にブロツキング性を改善するため、
高分子量化あるいは架橋などを行うと今度は、熱
定着性が悪くなるという悪循環におちいる。
そこで本発明者らは一種類あるいは二種類以上
の重合性単量体に、必要ならば染顔料および重合
体および他の添加剤を含有せしめた系を、アニオ
ン性分散剤を分散した分散媒中に懸濁し、重合す
る系において、該重合性単量体にカチオン性スチ
レン系共重合体を含有させ重合することにより、
上記の問題を解決することに成功したものであ
る。
の重合性単量体に、必要ならば染顔料および重合
体および他の添加剤を含有せしめた系を、アニオ
ン性分散剤を分散した分散媒中に懸濁し、重合す
る系において、該重合性単量体にカチオン性スチ
レン系共重合体を含有させ重合することにより、
上記の問題を解決することに成功したものであ
る。
何ら理論にとらわれるわけではないが、前記の
方法において単量体系中にカチオン性重合性単量
体又は難水溶性有機アミン化合物などを添加した
場合これらの物質は、懸濁粒子表面に集まり単量
体系中から分散媒系中へわずかに分配し、粒子と
分散媒の界面が不確実になりそのため懸濁粒子が
少し不安定になるため粒度分布がじゆうぶんせま
いとは言えなくなると考えられる。これをカチオ
ン性スチレン系共重合体を単量体系中に含有させ
るこのような方法によつて行うと、懸濁粒子表面
に集まつたカチオン性スチレン系共重合体は単量
体系中から、分散媒系中にまつたく分配されるこ
とがない。これは高分子量化されているためであ
る。そのため、懸濁粒子の界面がしつかりし、安
定になるため、粒径がよりそろいやすくなつてく
るのである。
方法において単量体系中にカチオン性重合性単量
体又は難水溶性有機アミン化合物などを添加した
場合これらの物質は、懸濁粒子表面に集まり単量
体系中から分散媒系中へわずかに分配し、粒子と
分散媒の界面が不確実になりそのため懸濁粒子が
少し不安定になるため粒度分布がじゆうぶんせま
いとは言えなくなると考えられる。これをカチオ
ン性スチレン系共重合体を単量体系中に含有させ
るこのような方法によつて行うと、懸濁粒子表面
に集まつたカチオン性スチレン系共重合体は単量
体系中から、分散媒系中にまつたく分配されるこ
とがない。これは高分子量化されているためであ
る。そのため、懸濁粒子の界面がしつかりし、安
定になるため、粒径がよりそろいやすくなつてく
るのである。
またさらにカチオン性スチレン系共重体は懸濁
粒子表面に集まるため、一種の殻のような形態に
なり得られた粒子は、擬似的なカプセルとなる。
すなわち、始めの重合性単量体の重合とはかかわ
りなく、殻に当るカチオン性スチレン系共重合体
は好みの重合度の樹脂を使用することができる。
そのため内部は比較的低分子量の熱あるいは圧定
着特性の優れたものになるように重合し、殻の部
分に当るカチオン性スチレン系共重合体は比較的
高分子量のブロツキング性の良い現像性、耐摩耗
性の優れた樹脂を用いることができる。
粒子表面に集まるため、一種の殻のような形態に
なり得られた粒子は、擬似的なカプセルとなる。
すなわち、始めの重合性単量体の重合とはかかわ
りなく、殻に当るカチオン性スチレン系共重合体
は好みの重合度の樹脂を使用することができる。
そのため内部は比較的低分子量の熱あるいは圧定
着特性の優れたものになるように重合し、殻の部
分に当るカチオン性スチレン系共重合体は比較的
高分子量のブロツキング性の良い現像性、耐摩耗
性の優れた樹脂を用いることができる。
このような上記トナーは定着性、ブロツキング
性、帯電性に優れ良好な画像が得られるものであ
る。
性、帯電性に優れ良好な画像が得られるものであ
る。
しかしながら、この方法によるトナーは親水性
の分散剤が表面に付着しているため若分の吸湿性
を有するので、実用上使用できるがさらに改善す
ることが望まれた。
の分散剤が表面に付着しているため若分の吸湿性
を有するので、実用上使用できるがさらに改善す
ることが望まれた。
そこで本発明の目的はより現像性のすぐれた、
さらに湿度による変化に対しても非常に安定なト
ナーを得ることである。すなわち本発明は上記の
如き製造方法により得た懸濁重合体をシランカツ
プリング剤又はチタネートカツプリング剤で処理
することで、現像性、耐湿性を向上させる方法で
ある。具体的には、本発明は、スチレンまたはス
チレン誘導体と窒素を含むビニル系単量体とのカ
チオン性スチレン系共重合体を、重合性単量体と
してスチレンを含有するモノマー系に溶解し、加
熱しながら混合し、カチオン性スチレン系共重合
体を溶解している加熱されたモノマー系を、アニ
オン性分散剤を含有する加温された分散媒体中に
懸濁し、重合して重合体粒子を生成し、その重合
体粒子をシランカツプリング又はチタネートカツ
プリング剤で処理して擬似的なカプセル構造を有
するトナーを生成することを特徴とするトナーの
製造方法に関する。上記重合体表面には若干の吸
湿性の無機物分散剤が付着しているのでこれを重
合体重量に対し0.1%重量以上、望ましくは1%
以上のシランカツプリング剤もしくはチタンカツ
プリング剤にて分散剤中の親水基をカツプリング
することにより親水基と水が結合するのを防ぎ、
耐吸湿性を向上させるものである。処理するシラ
ンカツプリング剤もしくはチタンカツプリング剤
が0.1%以下である場合、カツプリングされない
親水基が多数残るので充分な耐吸湿性が得られな
い。
さらに湿度による変化に対しても非常に安定なト
ナーを得ることである。すなわち本発明は上記の
如き製造方法により得た懸濁重合体をシランカツ
プリング剤又はチタネートカツプリング剤で処理
することで、現像性、耐湿性を向上させる方法で
ある。具体的には、本発明は、スチレンまたはス
チレン誘導体と窒素を含むビニル系単量体とのカ
チオン性スチレン系共重合体を、重合性単量体と
してスチレンを含有するモノマー系に溶解し、加
熱しながら混合し、カチオン性スチレン系共重合
体を溶解している加熱されたモノマー系を、アニ
オン性分散剤を含有する加温された分散媒体中に
懸濁し、重合して重合体粒子を生成し、その重合
体粒子をシランカツプリング又はチタネートカツ
プリング剤で処理して擬似的なカプセル構造を有
するトナーを生成することを特徴とするトナーの
製造方法に関する。上記重合体表面には若干の吸
湿性の無機物分散剤が付着しているのでこれを重
合体重量に対し0.1%重量以上、望ましくは1%
以上のシランカツプリング剤もしくはチタンカツ
プリング剤にて分散剤中の親水基をカツプリング
することにより親水基と水が結合するのを防ぎ、
耐吸湿性を向上させるものである。処理するシラ
ンカツプリング剤もしくはチタンカツプリング剤
が0.1%以下である場合、カツプリングされない
親水基が多数残るので充分な耐吸湿性が得られな
い。
本発明に用いるシランカツプリング剤として
は、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リス(2―メトキシエトキシ)シラン、ビニルト
リアセトキシシラン、N―β(アミノエチル)―
γ―アミノプロピルメトキシシラン、N―β(ア
ミノエチル)―γ―アミノプロピルメチルジメト
キシシラン、N―β―(Nビニルベンジルアミノ
エチル)―γ―アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ―アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
―(2―アミノエチル)アミノプロピルトリメト
キシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリクロロシラン、
γ―メタクリロシプロピルトリメトキシシラン、
γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ―メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ―クロロプロピル
トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ビ
ニルトリス(メトキシエトキシ)シラン、γ―ア
ニリノプロピルトリメトキシシラン、オクタデシ
ルジメチル〔3―(トリメトキシシリル)プロピ
ル〕アンモニウムクロライド、γ―メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシラン等がある。
は、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リス(2―メトキシエトキシ)シラン、ビニルト
リアセトキシシラン、N―β(アミノエチル)―
γ―アミノプロピルメトキシシラン、N―β(ア
ミノエチル)―γ―アミノプロピルメチルジメト
キシシラン、N―β―(Nビニルベンジルアミノ
エチル)―γ―アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ―アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
―(2―アミノエチル)アミノプロピルトリメト
キシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリクロロシラン、
γ―メタクリロシプロピルトリメトキシシラン、
γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
γ―メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ―クロロプロピル
トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ビ
ニルトリス(メトキシエトキシ)シラン、γ―ア
ニリノプロピルトリメトキシシラン、オクタデシ
ルジメチル〔3―(トリメトキシシリル)プロピ
ル〕アンモニウムクロライド、γ―メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシラン等がある。
また、本発明に使用するチタネートカツプリン
グ剤としてはイソプロピルトリインソステアロイ
ルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼ
ンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス
(ジオクチルパイロホスフエート)チタネート、
テトライソプロピルビス(ジオクチルホスフアイ
ト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデ
シルホスフアイト)チタネート、テトラ(2,2
―ジアリルオキシメチル―1―ブチル)ビス(ジ
―トリデシル)ホスフアイトチタネート、ビス
(ジオクチルパイロホスフエート)オキシアセテ
ートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフ
エート)エチレンチタネート、イソプロピルトリ
オクタイノルチタネート、イソプロピルジメタク
リルイソステアロイルチタネート、イソプロピル
イソステアロイルジアクリルチタネート等があ
る。なお、これらカツプリング剤は常法により水
溶液に溶解、分散させ浸漬することにより処理す
る方法、少量の水と加水分解用触媒を含む有機溶
媒中に、溶解させ浸漬し、処理する方法、水溶
液、有機溶媒液をスプレーし、処理する方法等を
用いることができるが、これらに限定されるもの
ではない。又重合体粒子のシリカをアルカリによ
り除去後、上記方法を用いて処理することも有効
である。
グ剤としてはイソプロピルトリインソステアロイ
ルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼ
ンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス
(ジオクチルパイロホスフエート)チタネート、
テトライソプロピルビス(ジオクチルホスフアイ
ト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデ
シルホスフアイト)チタネート、テトラ(2,2
―ジアリルオキシメチル―1―ブチル)ビス(ジ
―トリデシル)ホスフアイトチタネート、ビス
(ジオクチルパイロホスフエート)オキシアセテ
ートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフ
エート)エチレンチタネート、イソプロピルトリ
オクタイノルチタネート、イソプロピルジメタク
リルイソステアロイルチタネート、イソプロピル
イソステアロイルジアクリルチタネート等があ
る。なお、これらカツプリング剤は常法により水
溶液に溶解、分散させ浸漬することにより処理す
る方法、少量の水と加水分解用触媒を含む有機溶
媒中に、溶解させ浸漬し、処理する方法、水溶
液、有機溶媒液をスプレーし、処理する方法等を
用いることができるが、これらに限定されるもの
ではない。又重合体粒子のシリカをアルカリによ
り除去後、上記方法を用いて処理することも有効
である。
本発明に用いるカチオン性スチレン系共重合体
としては、ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチ
ルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノ
エナルアクリレート、N―n―プトキシアクリル
アミド、トリメチルアンモニウムクロリド、ダイ
アセトンアクリルアミド、アクリルアミド、N―
ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、2―ビニ
ルイミダゾール、2―ヒドロキシ―3―メタクリ
ルオキシプロピル、トリメチルアンモニウムクロ
リド、2―ヒドロキシ―3―アクリルオキシプロ
ピル、トリメチルアンモニウムクロリド、これら
の窒素を4級化したものなど、窒素を含むビニル
系単量体と、スチレン、O―メチルスチレン、P
―メチルスチレン、2,4―ジメチルスチレン、
P―n・ブチルスチレン、P―tert―ブチルスチ
レン、P―n・ドデシルスチレン、P―クロルス
チレン、P―フエニルスチレン等のスチレンおよ
びその誘導体との共重合体が例示される。好まし
くは、後述する実施例で示してある如く、カチオ
ン性スチレン系共重合体は、重量平均分子量が
50000乃至150000を有するものが良い。また、カ
チオン性スチレン系共重合体に、さらに共重合さ
せても良いモノマーとして、ビニルナフタレン
類、エチレン、プロピレン、イソブチレン等のエ
チレン不飽和モノオレフイン類:塩化ビニル、酢
酸ビニル、酪酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル等のビ
ニルエステル類:アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸n―ブチル、アクリル酸イソ
ブチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸n―オ
クチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ラウリ
ル、アクリル酸2―エチルヘキシル、アクリル酸
ステアリル、アクリル酸2―クロルエチル、アク
リル酸フエニル、α―クロルアクリル酸メチル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸n―ブチル、メ
タクリル酸イソブチル、メタクリル酸n―オクチ
ル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ラウリ
ル、メタクリル酸2―エチルヘキシル、メタクリ
ル酸ステアリル、メタクリル酸フエニル、メタク
リル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエ
チルアミノエチルなどのα―メチレン脂肪族モノ
カルボン酸エステル類、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、アクリルアミドなどのアクリル
酸もしくはメタクリル酸誘導体:ビニルメチルエ
ーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルイソブチ
ルエーテルなどのビニルエーテル類:ビニルメチ
ルケトン、ビニルヘキシルケトン、メチルイソプ
ロペニルケトンなどのビニルケトン類:N―ビニ
ルピロール、N―ビニルカルバゾール、N―ビニ
ルインドール、N―ビニルピロリデンなどのN―
ビニル化合物などを挙げることができる。本発明
において、重合性単量体としてスチレンが使用さ
れ、さらに、後述の実施例に示してある如く、ブ
チルアクリレートモノマーの如きビニル系単量体
をさらに使用しても良い。重合開始剤としては、
一般に熱あるいは光により分解してラジカルを生
成する化合物であり、アゾビスニトリル系として
2―2′―アゾビスイソブチロニトリル、2―2′―
アゾビスプロピオニトリル、2―2′―アゾビスバ
レロニトリル、2―2′―アゾビス―(2・4―ジ
メチルバレロニトリル等がある。
としては、ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジエチ
ルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノ
エナルアクリレート、N―n―プトキシアクリル
アミド、トリメチルアンモニウムクロリド、ダイ
アセトンアクリルアミド、アクリルアミド、N―
ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、2―ビニ
ルイミダゾール、2―ヒドロキシ―3―メタクリ
ルオキシプロピル、トリメチルアンモニウムクロ
リド、2―ヒドロキシ―3―アクリルオキシプロ
ピル、トリメチルアンモニウムクロリド、これら
の窒素を4級化したものなど、窒素を含むビニル
系単量体と、スチレン、O―メチルスチレン、P
―メチルスチレン、2,4―ジメチルスチレン、
P―n・ブチルスチレン、P―tert―ブチルスチ
レン、P―n・ドデシルスチレン、P―クロルス
チレン、P―フエニルスチレン等のスチレンおよ
びその誘導体との共重合体が例示される。好まし
くは、後述する実施例で示してある如く、カチオ
ン性スチレン系共重合体は、重量平均分子量が
50000乃至150000を有するものが良い。また、カ
チオン性スチレン系共重合体に、さらに共重合さ
せても良いモノマーとして、ビニルナフタレン
類、エチレン、プロピレン、イソブチレン等のエ
チレン不飽和モノオレフイン類:塩化ビニル、酢
酸ビニル、酪酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル等のビ
ニルエステル類:アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸n―ブチル、アクリル酸イソ
ブチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸n―オ
クチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸ラウリ
ル、アクリル酸2―エチルヘキシル、アクリル酸
ステアリル、アクリル酸2―クロルエチル、アク
リル酸フエニル、α―クロルアクリル酸メチル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸n―ブチル、メ
タクリル酸イソブチル、メタクリル酸n―オクチ
ル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ラウリ
ル、メタクリル酸2―エチルヘキシル、メタクリ
ル酸ステアリル、メタクリル酸フエニル、メタク
リル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエ
チルアミノエチルなどのα―メチレン脂肪族モノ
カルボン酸エステル類、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、アクリルアミドなどのアクリル
酸もしくはメタクリル酸誘導体:ビニルメチルエ
ーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルイソブチ
ルエーテルなどのビニルエーテル類:ビニルメチ
ルケトン、ビニルヘキシルケトン、メチルイソプ
ロペニルケトンなどのビニルケトン類:N―ビニ
ルピロール、N―ビニルカルバゾール、N―ビニ
ルインドール、N―ビニルピロリデンなどのN―
ビニル化合物などを挙げることができる。本発明
において、重合性単量体としてスチレンが使用さ
れ、さらに、後述の実施例に示してある如く、ブ
チルアクリレートモノマーの如きビニル系単量体
をさらに使用しても良い。重合開始剤としては、
一般に熱あるいは光により分解してラジカルを生
成する化合物であり、アゾビスニトリル系として
2―2′―アゾビスイソブチロニトリル、2―2′―
アゾビスプロピオニトリル、2―2′―アゾビスバ
レロニトリル、2―2′―アゾビス―(2・4―ジ
メチルバレロニトリル等がある。
有機過酸化物系として過酸化ベンゾイル、核置
換過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化
アセチル、キユメンハイドロパーオキサイド等が
ある。
換過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化
アセチル、キユメンハイドロパーオキサイド等が
ある。
アゾおよびジアゾ化合物系としてジアゾアミノ
ベンゼン、アゾチオエーテル等がある。
ベンゼン、アゾチオエーテル等がある。
スルフイン類として芳香族スルフイン酸類等が
ある。
ある。
本発明には架橋剤を用いて、架橋重合体として
も良い。例えば、ジビニルベンゼン、ジビニルナ
フタレン及びそれらの誘導体、例えばジエチレン
グリコールジメタクリレートトリエチレングリコ
ールジメタクリレート、エチレングリコールジメ
タクリレート、テトラエチレングリコールジメタ
クリレートなどのエチレン性カルボン酸エステ
ル、1,2―プロピレングリコール、1,3―ブ
タンジオールなど一般の架橋剤を適宜用いること
ができる。
も良い。例えば、ジビニルベンゼン、ジビニルナ
フタレン及びそれらの誘導体、例えばジエチレン
グリコールジメタクリレートトリエチレングリコ
ールジメタクリレート、エチレングリコールジメ
タクリレート、テトラエチレングリコールジメタ
クリレートなどのエチレン性カルボン酸エステ
ル、1,2―プロピレングリコール、1,3―ブ
タンジオールなど一般の架橋剤を適宜用いること
ができる。
本発明に用いることができる分散剤は一般に知
られているアニオン性分散剤を用いることができ
る。例えばポリビニルアルコール、部分ケン化ポ
リビニルアルコール、その他のビニルアルコール
共重合体のような水溶性高分子、また、コロイダ
ルシリカ例えばアエロジール200あるいは300のよ
うな微粉末状無機物化合物を挙げることができ
る。
られているアニオン性分散剤を用いることができ
る。例えばポリビニルアルコール、部分ケン化ポ
リビニルアルコール、その他のビニルアルコール
共重合体のような水溶性高分子、また、コロイダ
ルシリカ例えばアエロジール200あるいは300のよ
うな微粉末状無機物化合物を挙げることができ
る。
本発明に用いられる染顔料としては一般に知ら
れているものを適宜に用いることができる。さら
にカーボンブラツク、磁性体も用いることができ
る。特に磁性体は表面処理したものが良い。
れているものを適宜に用いることができる。さら
にカーボンブラツク、磁性体も用いることができ
る。特に磁性体は表面処理したものが良い。
本発明における懸濁方法は重合開始剤、カチオ
ン性スチレン系共重合体、スチレンモノマー、及
び添加剤、染顔料、架橋剤などを均一に溶解又は
分散せしめた単量体系を、懸濁安定剤を含有する
分散相すなわち連続相中に通常の撹拌機又はホモ
ミキサー、ホモジナイザ等により分散せしめる。
好ましくは単量体液滴が、所望のトナー粒子のサ
イズ、一般に30μ以下の大きさを有する様に撹拌
速度、時間を調整し、その後は分散安定剤の作用
によりほぼその状態が維持される様、撹拌を粒子
の沈降が防止される程度に行なえばよい。又重合
温度を適当に設定し重合を行うものであり、反応
終了後、生成したトナー粒子をトナーに対して
0.5wt%以上の濃度のシランカツプリング剤水溶
液又はチタネートカツプリング剤水溶液中にて、
室温で粒子が沈降しない程度の速度で1〜3hr撹
拌し過し充分水洗浄後、適当な方法により回収
し乾燥する。
ン性スチレン系共重合体、スチレンモノマー、及
び添加剤、染顔料、架橋剤などを均一に溶解又は
分散せしめた単量体系を、懸濁安定剤を含有する
分散相すなわち連続相中に通常の撹拌機又はホモ
ミキサー、ホモジナイザ等により分散せしめる。
好ましくは単量体液滴が、所望のトナー粒子のサ
イズ、一般に30μ以下の大きさを有する様に撹拌
速度、時間を調整し、その後は分散安定剤の作用
によりほぼその状態が維持される様、撹拌を粒子
の沈降が防止される程度に行なえばよい。又重合
温度を適当に設定し重合を行うものであり、反応
終了後、生成したトナー粒子をトナーに対して
0.5wt%以上の濃度のシランカツプリング剤水溶
液又はチタネートカツプリング剤水溶液中にて、
室温で粒子が沈降しない程度の速度で1〜3hr撹
拌し過し充分水洗浄後、適当な方法により回収
し乾燥する。
このトナーを現像する方法は、公知の方法がす
べて適用できる。例えば、カスケード法、磁気ブ
ラシ法、マイクロトーニング法、などの二成分現
像法;導電性一成分現像法、絶縁性一成分現像
法、ジヤンピング現像法などの磁性体を含有する
一成分現像法;粉末雲法及びフアーブラシ法;ト
ナー担持体上に静電的力によつて保持されること
によつて現像部へ搬送され現像される非磁性一成
分現像法などを挙げることができる。
べて適用できる。例えば、カスケード法、磁気ブ
ラシ法、マイクロトーニング法、などの二成分現
像法;導電性一成分現像法、絶縁性一成分現像
法、ジヤンピング現像法などの磁性体を含有する
一成分現像法;粉末雲法及びフアーブラシ法;ト
ナー担持体上に静電的力によつて保持されること
によつて現像部へ搬送され現像される非磁性一成
分現像法などを挙げることができる。
実施例 1
スチレンモノマー 200g
スチレン―ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト共重合体 10g (8:2,=50.000) アゾビスイソブチロニトリル 10g フタロシアニンブルー 10g をTKホモミキサー(特殊機化工業製)の如き高
剪断力混合装置を備えた容器の中で約60℃に加熱
しながら約5分間混合した。この時前もつて60℃
に加温しながらスチレンモノマーにスチレン―ジ
メチルアミノエチルメタクリレート共重合体を溶
融しておく。
ト共重合体 10g (8:2,=50.000) アゾビスイソブチロニトリル 10g フタロシアニンブルー 10g をTKホモミキサー(特殊機化工業製)の如き高
剪断力混合装置を備えた容器の中で約60℃に加熱
しながら約5分間混合した。この時前もつて60℃
に加温しながらスチレンモノマーにスチレン―ジ
メチルアミノエチルメタクリレート共重合体を溶
融しておく。
別に水1000c.c.にアエロジール#200を4g分散
し、60℃に加温TKホモミキサーの撹拌下に上記
スラリーを投入4000rpmで約1時間撹拌した。そ
ののちこの混合系をパドル刃撹拌で撹拌し、重合
を完結させ、ろ過する。この重合体にN―β―
(N―ビニルベンジルアミノエチル)―γ―アミ
ノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩(トーレシ
リコーン製SZ6032)の水溶液、この濃度は重合
体重量の10%、を加え室温にて1時間撹拌し、重
合体表面の分散剤をカツプリングした後、ろ過、
水洗、乾燥し、擬似的なカプセル構造を有するト
ナーを得た。得られたトナーは、個数平均径
9.05μm、個数分布で6.35μm以下が17%、体積分
布で20.2μm以上が1%であつた(コールターカ
ウンター、アパーチヤー100μ)。
し、60℃に加温TKホモミキサーの撹拌下に上記
スラリーを投入4000rpmで約1時間撹拌した。そ
ののちこの混合系をパドル刃撹拌で撹拌し、重合
を完結させ、ろ過する。この重合体にN―β―
(N―ビニルベンジルアミノエチル)―γ―アミ
ノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩(トーレシ
リコーン製SZ6032)の水溶液、この濃度は重合
体重量の10%、を加え室温にて1時間撹拌し、重
合体表面の分散剤をカツプリングした後、ろ過、
水洗、乾燥し、擬似的なカプセル構造を有するト
ナーを得た。得られたトナーは、個数平均径
9.05μm、個数分布で6.35μm以下が17%、体積分
布で20.2μm以上が1%であつた(コールターカ
ウンター、アパーチヤー100μ)。
又、鉄粉キヤリアEFV250/400にトナーコン
テント10wt%で混合、トリボ電荷を測つた結果、
+16.7μc/gあつた。この現像剤を複写機NP―
5500機によつて反転現像した結果良好な画を得る
ことができ、又、5万枚の連続画出しにおいても
安定した良好な画を得た。さらにこのトナーは50
℃ブロツキングテストの結果、1週間以上たつて
も何らブロツキングすることはなかつた。又、高
湿下においても常湿下と同等の画質を得ることが
できた。
テント10wt%で混合、トリボ電荷を測つた結果、
+16.7μc/gあつた。この現像剤を複写機NP―
5500機によつて反転現像した結果良好な画を得る
ことができ、又、5万枚の連続画出しにおいても
安定した良好な画を得た。さらにこのトナーは50
℃ブロツキングテストの結果、1週間以上たつて
も何らブロツキングすることはなかつた。又、高
湿下においても常湿下と同等の画質を得ることが
できた。
重合体表面の分散剤をSZ6032にて、カツプリ
ング処理しなかつたトナーは、画像濃度は同等で
あつたがカブリが生じ、トリボ電荷も+10.4μc/
gと少し低めであり、高温高湿下での画質は画像
濃度が低く、非常に悪いものであつた。
ング処理しなかつたトナーは、画像濃度は同等で
あつたがカブリが生じ、トリボ電荷も+10.4μc/
gと少し低めであり、高温高湿下での画質は画像
濃度が低く、非常に悪いものであつた。
実施例 2
スチレンモノマー 180g
ブチルアクリレートモノマー 20g
スチレン―ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト共重合体 10g (9:1モノマー比、=100.000) アゾビスイソブチロニトリル 10g BL―250(チタン工業製) 60g ASA―30(三菱化成製) 1g 実施例1と同様の方法によつて懸濁重合し、ろ
過し重合体を得る。これに、重合体重量に対し5
%のN―β(アミノエチル)―γ―アミノプロピ
ルトリメトキシシラン(トーレシリコーン製
SH6020)の水溶液を加え室温にて3時間撹拌後
ろ過、水洗後乾燥しトナーとする。得られたトナ
ーは個数平均径8.5μm、個数分布で6.35μm以下
が20%、体積分布で20.2μm以上が0%であつた。
(コールターカウンター、アパーチヤー100μ)こ
のトナーを複写機PC―10に入れ画出しを行うと
良好な画を得た。さらに連続2000枚の画出しで
も、画像は良好であつた。またこのトナーは50℃
ブロツキングテストにおいて1週間以上まつたく
ブロツキングしなかつた。また、高温高湿下にお
いても良好な画質が得られた。
ト共重合体 10g (9:1モノマー比、=100.000) アゾビスイソブチロニトリル 10g BL―250(チタン工業製) 60g ASA―30(三菱化成製) 1g 実施例1と同様の方法によつて懸濁重合し、ろ
過し重合体を得る。これに、重合体重量に対し5
%のN―β(アミノエチル)―γ―アミノプロピ
ルトリメトキシシラン(トーレシリコーン製
SH6020)の水溶液を加え室温にて3時間撹拌後
ろ過、水洗後乾燥しトナーとする。得られたトナ
ーは個数平均径8.5μm、個数分布で6.35μm以下
が20%、体積分布で20.2μm以上が0%であつた。
(コールターカウンター、アパーチヤー100μ)こ
のトナーを複写機PC―10に入れ画出しを行うと
良好な画を得た。さらに連続2000枚の画出しで
も、画像は良好であつた。またこのトナーは50℃
ブロツキングテストにおいて1週間以上まつたく
ブロツキングしなかつた。また、高温高湿下にお
いても良好な画質が得られた。
重合後、SH6020でカツプリング処理をしてい
ないトナーは、画像濃度が低く、高湿下において
は画像濃度が低く画質が非常に悪いものであつ
た。
ないトナーは、画像濃度が低く、高湿下において
は画像濃度が低く画質が非常に悪いものであつ
た。
実施例 3
スチレンモノマー 200g
スチレン―ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト共重合体 10g (8:5:1.5モノマー比 =150.000) V―65(和光純薬工業製) 10g フタロシアニンブルー 10g ジビニルベンゼン 1.0g を実施例1と同様の方法でトナーを作成した。得
られたトナーは、個数平均径8.7μm、個数分布で
6.35μm以下17%、体積分布で20.2μm以上が1%
であつた。(コールターカウンター100μアパーチ
ヤー) これを、トナー担持体上に静電的力によつて保
持されることによつて現像部に搬送され現像され
る、キヤリア粒子と混合せず、トナー中に磁性体
を含まないトナーを現像する方法によつて、画出
しを行つた。その結果、良好な画像を得た。又連
続画出しを行つたが、2万枚まで安定した画像を
得た。さらにこのトナーは50℃においてブロツキ
ング性に問題がなく、160℃の定着器のシリコン
オイル塗布の系において、良好に定着し、オフセ
ツトもなかつた。定着はするがオフセツトが問題
であつた。
ト共重合体 10g (8:5:1.5モノマー比 =150.000) V―65(和光純薬工業製) 10g フタロシアニンブルー 10g ジビニルベンゼン 1.0g を実施例1と同様の方法でトナーを作成した。得
られたトナーは、個数平均径8.7μm、個数分布で
6.35μm以下17%、体積分布で20.2μm以上が1%
であつた。(コールターカウンター100μアパーチ
ヤー) これを、トナー担持体上に静電的力によつて保
持されることによつて現像部に搬送され現像され
る、キヤリア粒子と混合せず、トナー中に磁性体
を含まないトナーを現像する方法によつて、画出
しを行つた。その結果、良好な画像を得た。又連
続画出しを行つたが、2万枚まで安定した画像を
得た。さらにこのトナーは50℃においてブロツキ
ング性に問題がなく、160℃の定着器のシリコン
オイル塗布の系において、良好に定着し、オフセ
ツトもなかつた。定着はするがオフセツトが問題
であつた。
実施例 4
スチレンモノマー 200g
スチレン―ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト共重合体 10g (8:2,=50.000) アゾビスイソブチロニトリル 10g フタロシアニンブルー 10g をTKホモミキサー(特殊機化工業製)の如き高
剪断力混合装置を備えた容器の中で約60℃に加熱
しながら約5分間混合した。この時、前もつて60
℃に加温しながらスチレンモノマーにスチレン―
ジメチルアミノエチルメタクリレート共重合体を
溶融しておく。
ト共重合体 10g (8:2,=50.000) アゾビスイソブチロニトリル 10g フタロシアニンブルー 10g をTKホモミキサー(特殊機化工業製)の如き高
剪断力混合装置を備えた容器の中で約60℃に加熱
しながら約5分間混合した。この時、前もつて60
℃に加温しながらスチレンモノマーにスチレン―
ジメチルアミノエチルメタクリレート共重合体を
溶融しておく。
別に水1000c.c.にアエロジール#200を4g分散
し、60℃に加温TKホモミキサーの撹拌下に上記
スラリーを投入4000rpmで約1時間撹拌した。そ
ののちこの混合系をパドル刃撹拌で撹拌し、重合
を完結させ、NaOH2gを加え、常温で6時間撹
拌しろ過、水洗し、アエロジールを取り除いた。
その後、SZ―6032(トーレシリコン製)の20%水
溶液200gを加え、常温にて一時間撹拌しろ過、
水洗、乾燥しトナーを得た。得られたトナーは、
個数平均径9.05μm、個数分布で6.3μm以下が17
%、体積分布で20.2μm以上が1%であつた(コ
ールターカウンター、アパーチヤー100μ) 又、鉄粉キヤリアEFV250/400にトナーコン
テント10wt%で混合、トリボ電荷を測つた結果、
+20.2μc/gあつた。この現像剤を複写機NP―
5500機によつて反転現像した結果良好な画を得る
ことができ、又、5万枚の連続画出しにおいても
安定した良好な画を得た。さらにこのトナーは50
℃ブロツキングテストの結果、1週間以上たつて
も何らブロツキングすることはなかつた。また、
高温高湿下においても良好な画質が得られた。
し、60℃に加温TKホモミキサーの撹拌下に上記
スラリーを投入4000rpmで約1時間撹拌した。そ
ののちこの混合系をパドル刃撹拌で撹拌し、重合
を完結させ、NaOH2gを加え、常温で6時間撹
拌しろ過、水洗し、アエロジールを取り除いた。
その後、SZ―6032(トーレシリコン製)の20%水
溶液200gを加え、常温にて一時間撹拌しろ過、
水洗、乾燥しトナーを得た。得られたトナーは、
個数平均径9.05μm、個数分布で6.3μm以下が17
%、体積分布で20.2μm以上が1%であつた(コ
ールターカウンター、アパーチヤー100μ) 又、鉄粉キヤリアEFV250/400にトナーコン
テント10wt%で混合、トリボ電荷を測つた結果、
+20.2μc/gあつた。この現像剤を複写機NP―
5500機によつて反転現像した結果良好な画を得る
ことができ、又、5万枚の連続画出しにおいても
安定した良好な画を得た。さらにこのトナーは50
℃ブロツキングテストの結果、1週間以上たつて
も何らブロツキングすることはなかつた。また、
高温高湿下においても良好な画質が得られた。
実施例 5
スチレンモノマー 200g
スチレン―ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト共重合体 10g (8:2,=50.000) アゾビスイソブチロニトリル 10g フタロシアニンブルー 10g をTKホモミキサー(特殊機化工業製)の如き高
剪断力混合装置を備えた容器の中で約60℃に加熱
しながら約5分間混合した。この時、前もつて60
℃に加温しながらスチレンモノマーにスチレン―
ジメチルアミノエチルメタクリレート共重合体を
溶融しておく。
ト共重合体 10g (8:2,=50.000) アゾビスイソブチロニトリル 10g フタロシアニンブルー 10g をTKホモミキサー(特殊機化工業製)の如き高
剪断力混合装置を備えた容器の中で約60℃に加熱
しながら約5分間混合した。この時、前もつて60
℃に加温しながらスチレンモノマーにスチレン―
ジメチルアミノエチルメタクリレート共重合体を
溶融しておく。
別に水1000c.c.にアエロジール#200を4g分散
し、60℃に加温TKホモミキサーの撹拌下に上記
スラリーを投入4000rpmで約1時間撹拌した。そ
ののちこの混合系をパドル刃撹拌で撹拌し、重合
を完結得られた重合体粒子に対し、イソプロピル
トリイソステアロイルチタネート(味の素製
TTS2―3099)を2g加え、3時間常温で撹拌
し、ろ過、水洗、乾燥しトナーを得た。得られた
トナーは、個数平均径9.05μm、個数分布で6.3μ
m以下が17%、体積分布で20.2μm以上が1%で
あつた(コールターカウンター、アパーチヤー
100μ)。
し、60℃に加温TKホモミキサーの撹拌下に上記
スラリーを投入4000rpmで約1時間撹拌した。そ
ののちこの混合系をパドル刃撹拌で撹拌し、重合
を完結得られた重合体粒子に対し、イソプロピル
トリイソステアロイルチタネート(味の素製
TTS2―3099)を2g加え、3時間常温で撹拌
し、ろ過、水洗、乾燥しトナーを得た。得られた
トナーは、個数平均径9.05μm、個数分布で6.3μ
m以下が17%、体積分布で20.2μm以上が1%で
あつた(コールターカウンター、アパーチヤー
100μ)。
又、鉄粉キヤリアEFV250/400にトナーコン
テント10wt%で混合、トリボ電荷を測つた結果、
−14.7μc/gあつた。この現像剤を複写機NP―
5500機によつて現像した結果良好な画を得ること
ができ、又、5万枚の連続画出しにおいても安定
した良好な画を得た。さらにこのトナーは50℃ブ
ロツキングテストの結果、1週間以上たつても何
らブロツキングすることはなかつた。また、高温
高湿下においても良好な画質が得られた。
テント10wt%で混合、トリボ電荷を測つた結果、
−14.7μc/gあつた。この現像剤を複写機NP―
5500機によつて現像した結果良好な画を得ること
ができ、又、5万枚の連続画出しにおいても安定
した良好な画を得た。さらにこのトナーは50℃ブ
ロツキングテストの結果、1週間以上たつても何
らブロツキングすることはなかつた。また、高温
高湿下においても良好な画質が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 スチレンまたはスチレン誘導体と窒素を含む
ビニル系単量体とのカチオン性スチレン系共重合
体を、重合性単量体としてスチレンを含有するモ
ノマー系に溶解し、加熱しながら混合し、カチオ
ン性スチレン系共重合体を溶解している加熱され
たモノマー系を、アニオン性分散剤を含有する加
温された分散媒中に懸濁し、重合して重合体粒子
を生成し、その重合体粒子をシランカツプリング
又はチタネートカツプリング剤で処理して擬似的
なカプセル構造を有するトナーを生成することを
特徴とするトナーの製造方法。 2 カチオン性スチレン系共重合体の重量平均分
子量が、50000乃至150000である特許請求の範囲
第1項のトナーの製造方法。 3 アニオン性分散剤がコロイダルシリカである
特許請求の範囲第1項または第2項のトナーの製
造方法。 4 モノマー系が架橋剤を含有している特許請求
の範囲第1項乃至第3項のいずれかに記載のトナ
ーの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58025652A JPS59152446A (ja) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | 静電荷像現像用トナ−の製造方法 |
US06/563,828 US4592990A (en) | 1982-12-29 | 1983-12-21 | Process for producing toner |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58025652A JPS59152446A (ja) | 1983-02-18 | 1983-02-18 | 静電荷像現像用トナ−の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59152446A JPS59152446A (ja) | 1984-08-31 |
JPH0153782B2 true JPH0153782B2 (ja) | 1989-11-15 |
Family
ID=12171748
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58025652A Granted JPS59152446A (ja) | 1982-12-29 | 1983-02-18 | 静電荷像現像用トナ−の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59152446A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0695231B2 (ja) * | 1985-12-30 | 1994-11-24 | 日立化成工業株式会社 | 静電荷像現像用トナ−及びその製造法 |
JP2564330B2 (ja) * | 1987-10-30 | 1996-12-18 | 日本ペイント株式会社 | 樹脂粒子の製造方法 |
JP4966058B2 (ja) * | 2006-03-16 | 2012-07-04 | 株式会社リコー | 非磁性トナー、画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
-
1983
- 1983-02-18 JP JP58025652A patent/JPS59152446A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59152446A (ja) | 1984-08-31 |
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