JPH0153276B2 - - Google Patents

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JPH0153276B2
JPH0153276B2 JP54127427A JP12742779A JPH0153276B2 JP H0153276 B2 JPH0153276 B2 JP H0153276B2 JP 54127427 A JP54127427 A JP 54127427A JP 12742779 A JP12742779 A JP 12742779A JP H0153276 B2 JPH0153276 B2 JP H0153276B2
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hydrogen atom
atom
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JP54127427A
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JPS5549374A (en
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Gugurierumetsutei Reonarudo
Ryuutei Kurisuteian
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Publication date
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Publication of JPH0153276B2 publication Critical patent/JPH0153276B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D235/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings
    • C07D235/02Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D235/04Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles
    • C07D235/06Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 2
    • C07D235/12Radicals substituted by oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D235/00Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings
    • C07D235/02Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, condensed with other rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D235/04Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles
    • C07D235/06Benzimidazoles; Hydrogenated benzimidazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 2
    • C07D235/10Radicals substituted by halogen atoms or nitro radicals

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフラニル―ベンズアゾールの製造およ
び新らしいベンズアゾール化合物に関するもので
ある。 2―置換ベンゾフランの製法はすでに知られて
いる。例えば、(A)K.B.L.Mathur氏およびH.S.
Mehra氏の論文、J.Chem.Soc.(ロンドン)、
1960、1954〜1955、にはo―(p―ニトロベンジ
ルオキシ)―ベンズアルデヒドの分子内縮合によ
る2―(p―ニトロフエニル)―ベンゾフランの
製造、(B)西ドイツ特許公開第2238628号明細書に
は強塩基性縮合剤を使うo―アラルコキシ―カル
ボニル化合物の脱水による2―置換ベンゾフラン
の製造、(C)西ドイツ特許公開第2361338号明細書
には極性の高い溶媒中で強塩基性縮合剤を使つて
o―アラルコキシ―アゾメチンからアミン分裂に
よる製造、および(D)米国特許第3772323号明細書
にはクマリル酸とN―モノ置換o―フエニレンジ
アミンとの縮合によるベンゾフラニル―ベンズイ
ミダゾールの製造が記載されている。 しかし、これらは製法はいずれも欠点がある。
(A)に記載の反応は一般的に有効ではない。例え
ば、ベンジル基にニトロ基をもつていない、従つ
て反応性ニトロン酸塩を生成できない0―ベンジ
ルオキシベンズアルデヒドでは反応を行うことが
できない。(B)に記載の方法は強アルカリ性条件の
下で望ましくない副反応を起すから、収量を著し
く減ずる。この欠点を克服するために別の合成法
(C)が開発された。しかし、この方法はアゾメチン
の製造および単離という不経済な追加段階が加わ
り、さらに生成するアミンの回収または除去とい
う欠点がある。(D)に記載の方法ではクマリル酸が
比較的に入手し難いという欠点がある。 本発明者は、o―ヒドロキシカルボニル化合物
と2―ハロゲノメチル―ベンズアゾールとの反応
によつて中間体を単離することなく高収量でフラ
ニル―ベンズアゾールを製造できることを意外に
も知つた。 この本発明によるフラニル―ベンズアゾールの
製法は、芳香族単核式または多核式環系をもつ0
―ヒドロキシカルボニル化合物を2―ハロゲノメ
チル―ベンズアゾールと炭酸ナトリウム及び炭酸
カリウムから選ばれた弱塩基性縮合剤の存在下で
縮合させることを特徴がある。 弱塩基性縮合剤としては弱塩基性化合物の混合
物を使うこともできる。 縮合剤の使用量は広い範囲にわたる。反応を成
功させるには触媒として十分な量で十分である
が、有利には当量またはそれ以上の量を使う。 本発明方法は、その反応条件下で不活性な溶媒
の中で行うのが適する。このような溶媒としては
無極性または双極性の非プロトン性溶媒、例えば
キシレン、ジクロロまたはトリクロロベンゼン、
ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、N―メチルピロリドンお
よびそれらの混合物が挙げられる。なお、使用す
る弱塩基が1部分または全く可溶性である無水有
機溶媒を使うのが好ましい。 場合によつては、例えば原料が低融点であつて
分解しない場合には、本発明による反応を溶媒の
不在の下で、すなわち融解状態で、弱塩基性縮合
剤の存在下で行うこともできる。 反応温度は、実施方法(溶媒の有無)および縮
合させる化合物によつて、広い範囲にわたる。溶
媒を使う場合には50℃ないし溶媒の沸点、しかし
好ましくは50〜200℃、特に90〜160℃である。溶
媒を使わずに縮合する場合には、反応温度は使用
する反応成分の混合物の融点ないし縮合する化合
物の分解温度である。なお、100〜250℃が好まし
い。 本発明の範囲内で重要なのは、式 (この式でAは置換されていないかまたは置換さ
れている単核式または多核式芳香族環系でありそ
してRは水素原子、置換されている場合のあるア
ルキル基または置換されている場合のあるフエニ
ル基である) で表わされるo―ヒドロキシカルボニル化合物を
(この式で、Xは酸素原子または基―NR5―で
あつて、このR5はアルケニル基、シクロアルキ
ル基、置換されている場合のあるアルキル基、フ
エニル基またはアラルキル基であり、環Bは置換
されていることができるものとしそしてHalはハ
ロゲン原子である) で表わされる2―ハロゲノメチル―ベンズアゾー
ルと縮合させることを特徴とする、式 (この式でA、B、RおよびXは前に与えた意味
をもち、そして環系Aは式に示したように2個の
隣接C―原子によつてフラン環と縮合している)
で表わされるフラニル―ベンズアゾールの製造で
ある。 この方法によつて製造されるフラニル―ベンズ
アゾールの置換基としては、当該縮合反応に不利
に影響しないもの、すなわち式(2)のo―ヒドロキ
シカルボニル化合物または式(3)の2―ハロゲノメ
チル化合物と容易に反応しない置換基が挙げられ
る。 本発明の重要な実施形式は、式 〔この式でRは水素原子または置換されていない
かまたは非発色団基で置換されているアルキル基
またはフエニル基であり、R1は水素原子、ハロ
ゲン原子、アルケニルオキシ基、シクロアルコキ
シ基、置換されていないかまたは非発色団基で置
換されているアルキル基、アルコキシ基、フエノ
キシ基またはアラルコキシ基、―COOY1、―
CONY1Y2または―SO2NY1Y2(Y1とY2とは互に
無関係に水素原子、アルケニル基、環C―原子5
または6個を持つシクロアルキル基、または置換
されていないかまたは非発色団基で置換されてい
るアルキル基、フエニル基またはアラルキル基で
あるか、またはY1とY2とは互に連結してそれら
の結合している窒素原子を含めて5または6員の
飽和複素環式環を形成している)、モノ―または
ジ―アルキルアミノ基、アシルアミノ基、スルホ
基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニル
基またはアルコキシスルホニル基であるか、また
はR1はR2と互にo―位置で連結して基―CH=
CH−CH=CH−、―O―CH2―O―または―O
―CH2―CH2―O―を形成しているものとし、そ
してR2は水素原子、ハロゲン原子または置換さ
れていないかまたは非発色団基で置換されている
アルキル基またはアルコキシ基であるか、または
R2はR1と互いにo―位置で連結して基―CH=
CH―CH=CH―、―O―CH2―O―または―O
―CH2―CH2―O―を形成しているものとする〕 で表わされるo―ヒドロキシカルボニル化合物を
〔この式でR3は水素原子、ハロゲン原子、アル
ケニルオキシ基、アルケニルカルボニル基、置換
されていないかまたは非発色団基で置換されてい
るアルキル基、アルコキシ基、フエニル基または
アラルキル基、―COOY1、―CONY1Y2または
―SO2NY1Y2(Y1とY2とは前に与えた意味をも
つ)、シアノ基、スルホ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、アリールオキシスル
ホニル基またはトリフルオロメチル基であるかま
たはR3はR4と互にo―位置で連結して基―CH=
CH―CH=CH―を形成しており、R4は水素原
子、ハロゲン原子または置換されていないかまた
は非発色団基で置換されているアルキル基または
アルコキシ基であるかまたはR4はR3と互にo―
位置で連結して基―CH=CH―CH=CH―を形
成しており、Xは酸素原子または基―NR5
(R5はアルケニル基、シクロアルキル基、置換さ
れていないかまたは非発色団基で置換されている
アルキル基、フエニル基またはアラルキル基であ
る)でありそしてHalはふつ素、塩素または臭素
原子である〕 で表わされる2―ハロゲノメチル―ベンズアゾー
ルと縮合させることによつて、式 (この式でR、R1、R2、R3、R4およびXは前に
与えた意味をもつ) で表わされるベンゾフラニル―ベンズアゾールを
製造する方法である。 アルキル基R、R1、R2、R3、R4およびR5はC
―原子1〜8個、好ましくは1〜4個をもちそし
て非発色団性置換基として水酸基、シアノ基、C
―原子を好ましくは1〜4個もつアルコキシ基ま
たは基―COOZ(Zは水素原子またはC―原子を
好ましくは1〜4個もつアルキル基)をもつてい
ることができる。 アルキル基R5は、C―原子を全部で2〜6個
もつジアルキルアミノ基で置換されていることも
できる。 アルコキシ基R1、R2、R3およびR4はC―原子
1〜8個、好ましくは1〜4個をもちそして非発
色団性置換基として水酸基、低級アルコキシ基、
カルボンアミド基、シアノ基、C―原子を全部で
2〜5個もつアルコキシカルボニル基またはC―
原子1〜4個をもつアルコキシ基をもつているこ
とができる。 フエニル基RおよびR3ならびにフエノキシ基
R1は非発色団性置換基としてハロゲン原子例え
ばふつ素、塩素および臭素原子、好ましくは塩素
原子をもつかまたはC―原子1〜4個好ましくは
1個をもつアルキル基またはアルコキシ基をもつ
ことができる。 アラルコキシ基R1はそのアリール部分におい
てフエニル基Rのように非発色団基によつて置換
されていることができそしてそのアルコキシ部分
はC―原子1〜4個をもつている。 アルキル基R5、Y1およびY2は水酸基、低級ア
ルコキシ基、フエノキシ基、カルボキシル基、C
―原子2〜5個をもつカルボアルコキシ基または
シアノ基によつて非発色団的に置換されているこ
とができる。 アルキルアミノ基およびアルキルスルホニル基
におけるアルキル部分はC―原子1〜8個、好ま
しくは1〜4個をもつ。 アラルキル基R5としては特にベンジル基が挙
げられる。この基はフエニル部分においてフエニ
ル基Rのように置換されていることができる。 アルコキシスルホニル基R3はC―原子1〜4
個をもつ。アリールスルホニル基およびアリール
オキシスルホニル基R3としては好ましくはフエ
ニルスルホニル基およびフエノキシスルホニル基
が挙げられる。 アシルアミノ基R1の中では特に式―NH―
COY3(Y3はC―原子1〜8個、好ましくは1〜
4個をもつ置換されていることもできるアルキル
基または置換されていることもできるフエニル基
である)で示される基が挙げられる。 本明細書において任意の基に関して低級とある
のは、この基がC―原子1〜4個をもつことを意
味する。 本発明方法の好ましい実施形式は、 () 式 (この式でR′1は炭素原子1〜8個をもつアルコ
キシ基、炭素原子3または4個をもつアルケニル
オキシ基、置換されてないかまたは塩素原子、低
級アルキル基または低級アルコキシ基で置換され
たフエノキシ基またはそのアルキル部にC―原子
1〜4個をもつフエニルアルコキシ基、ヒドロキ
シアルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、シア
ノアルコキシ基、カルボアルコキシアルコキシ
基、カルボンアミドアルコキシ基、シクロヘキシ
ルオキシ基または水素原子である) で表わされるo―ヒドロキシベンズアルデヒドを
〔この式でR′3は水素原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、ハロゲン原子、フエニル基、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置
換されていないかまたはC―原子1〜4個をもつ
アルキル基、塩素原子またはメトキシ基でモノ―
ないしトリ−置換されたフエノキシスルホニル
基、シアノ基、トリフルオロメチル基、―
COOY1、―SO2NY1Y′2または―CONY1Y′2(Y1
は水素原子、C―原子1〜8個をもつアルキル
基、C―原子3または4個をもつアルケニル基、
シクロヘキシル基、C―原子2〜4個をもつヒド
ロキシアルキル基、C―原子を全部で3〜6個も
つアルコキシアルキル基、C―原子を全部で6〜
9個もつフエノキシアルキル基、C―原子2〜6
個をもつカルボキシアルキル基、C―原子を全部
で3〜6個もつカルボアルコキシアルキル基、C
―原子を2〜5個もつシアノアルキル基、置換さ
れてないかまたはメチル基、塩素原子またはメト
キシ基で置換されたベンジル基、置換されてない
かまたは塩素原子、メチル基またはメトキシ基で
置換されたフエニル基、C―原子を全部で3〜7
個もつジアルキルアミノアルキル基またはフエネ
チル基であり、Y′2は水素原子、C―原子1〜4
個をもつアルキル基、C―原子3または4個をも
つアルケニル基またはC―原子2〜4個をもつヒ
ドロキシアルキル基であるか、またはY1とY′2
は互に連結して式中の窒素原子を含めて5または
6員の飽和複素環式環を形成している)でありそ
してR′5はC―原子1〜8個をもつアルキル基、
C―原子3または4個をもつアルケニル基、シク
ロヘキシル基、C―原子2〜4個をもつヒドロキ
シアルキル基、C―原子を全部で3〜6個もつア
ルコキシアルキル基、C―原子2〜5個をもつカ
ルボキシアルキル基、C―原子を全部で3〜9個
もつカルボアルコキシアルキル基、C―原子2〜
5個をもつシアノアルキル基、置換されてないか
または塩素原子、メチル基またはメトキシ基で置
換されたベンジル基、フエニル基、C―原子を全
部で3〜7個もつジアルキルアミノアルキル基ま
たはフエネチル基である〕 で表わされる2―クロロメチル―ベンズイミダゾ
ールと縮合することによつて、式 (この式でR′1とR′3とR′5とは前に与えた意味を
もつ) で表わされるベンゾフラニル―ベンズイミダゾー
ルを製造する方法、および () 式 (この式でR′は水素原子またはメチル基であり、
R6は水素原子であるかまたはR7と連結して基―
CH=CH―CH=CH―を形成しており、R7は水
素原子、塩素原子、C―原子1〜4個をもつアル
キル基、C―原子1〜4個好ましく1個をもつア
ルキルスルホニル基であるかまたはR6と連結し
て基―CH=CH―CH=CH―を形成しており、
R8は水素原子、C―原子1〜4個好ましくは1
個をもつアルキル基、C―原子1〜4個をもつア
ルコキシ基またはC―原子を全部で2〜6個好ま
しくは4個もつジアルキルアミノ基であり、R9
は水素原子または塩素原子であるが、R6〜R9
うちで1または2個は水素原子ではないものとす
る) で表わされるo―ヒドロキシ―ベンズアルデヒド
を式 〔この式でR10は水素原子であるかまたはR11
連結して基―CH=CH―CH=CH―を形成して
おり、R11は水素原子、C―原子1〜4個好まし
くは1個をもつアルキル基、塩素原子、―
COOY′1または―CONHY′1(Y′1はC―原子1〜
4個好ましくは1または2個をもつアルキル基で
ある)、―CONH2、シアノ基、トリフルオロメ
チル基、スルホ基、C―原子1〜4個好ましくは
1または2個をもつアルキルスルホニル基、―
SO2NHY′1または―SO2N(Y′12(Y′1は上記の意
味をもつ)、―SO2NH2、フエノキシスルホニル
基、モルホリノスルホニル基、シクロヘキシルア
ミノスルホニル基、フエニルアミノスルホニル基
であるかまたはR10と連結して基―CH=CH―
CH=CH―を形成しており、R12は水素原子また
はフエニル基であり、そしてXは酸素原子または
基―NR″5であり、このR″5はC―原子1〜8個を
もつアルキル基、C―原子2〜4個好ましくは2
個をもつヒドロキシアルキル基、C―原子2〜5
個好ましくは2個をもつシアノアルキル基、置換
されてないかまたは塩素原子またはメトキシ基で
置換されたベンジル基、フエニル基またはシクロ
ヘキシル基であり、R10〜R12のうち1個は水素
原子ではないものとする〕 で表わされる2―クロロメチル―ベンズアゾール
と縮合することによつて、式 (この式でR′、R6、R7、R8、R9、R10、R11
R12およびXは前に与えた意味をもつ) で表わされるベンゾフラニル―ベンズアゾールを
製造する方法である。 本発明方法によれば、フラニル―ベンズアゾー
ルを一層高い収量でそして中間生成物を単離する
ことなく製造することができる。本発明方法によ
つて製造されるフラニル―ベンズアゾールは医薬
用生成物(例えば米国特許第3470192号)、染料お
よびシンチレーターの製造用原料でありまたは光
学増白剤(例えば米国特許第3772323号および第
4009994号またはフランス特許第2359839号)であ
る。 式(3)、(6)、(9)および(12)の2―ハロゲノメチル化
合物はこれを有機または無機酸との塩の形で使う
こともできる。 式(2)、(5)、(8)および(11)の化合物を式(3)、(6)、(
9)
および(12)の化合物と縮合する場合には、中間的に
または (これらの式でA、B、X、R、R1〜R12、R′、
R′1、R′3およびR′5は前に与えた意味をもつ) で表わされるエーテルを生成する。これら化合物
は新規であつて、その閉環の前に単離することが
できる。式(14)、(15)および(16)の化合物は
特に重要である。 次に実施例によつて本発明をさらに具体的に説
明する。これら実施例で%は重量%を意味する。 例 1 式 で表わされる2―クロロメチル―1―メチル―5
―メチルスルホニル―ベンズイミダゾール・塩酸
塩29.5gをジメチルホルムアミド100ml中に懸濁
する。この懸濁体を式 で表わされる2―ヒドロキシ―4―メトキシ―ベ
ンズアルデヒド(タイター:93.5%)16.3gと無
水炭酸カリウム41.5gと混合する。反応混合物を
窒素ガスの下で30分間かけて90℃に加熱しそして
この温度で1時間かきまぜる。こうして縮合生成
物として式 で表わされるかなり不溶性のエーテル(融点204
〜206℃)が析出する。この稠密な、しかし十分
にかきまぜられる混合物を30分間かけて140℃に
加熱する。こうして窒素ガスの下でかきまぜなが
ら130℃から水とジメチルホルムアミドとの混合
物がゆつくり留出する。反応混合物を140℃でさ
らに1時間かきまぜると、上記縮合生成物が早く
閉環し、分裂生成した水が絶えず留出されそして
反応混合物はなお流動性である。反応混合物を30
℃に冷却し、冷却しながらこの温度で水200mlで
ゆつくり希釈する。こうして式 で表わされる反応生成物が結晶として析出する。
これを吸引ろ過し、ろ別物を水で中性になるまで
洗いそして真空下で80℃で乾かす。こうして融点
193〜195℃の淡黄色結晶性粉末34.5g(理論の96
%)が得られる。この化合物のクロロベンゼンか
ら再結晶した分析的に純粋な試料は196〜198℃の
一定融点を示す。 原料として使つた式(100)の2―クロロメチ
ル―1―メチル―5―メチルスルホニル―ベンズ
イミダゾール・塩酸塩は例えば次のようにして作
られる。 3―アミノ―4―メチルアミノ―フエニルメチ
ルスルホン200.2gとクロロ酢酸99gとを濃塩酸
200ml中に懸濁し、この懸濁体を還流状態(108
℃)に加熱する。この際70℃で透明な溶液が生成
する。10分間還流した後に反応混合物に2―クロ
ロメチル―1―メチル―5―メチルスルホニル―
ベンズイミダゾール塩酸塩の結晶数個を種として
加えそして還流状態に2時間保つ。こうして還流
温度は108℃から102℃に低下し、反応生成物が結
晶として析出する。この結晶性泥状反応混合物を
0〜5℃に冷却し、同温度で2時間かきまぜてか
ら吸引ろ過する。ろ別物をイソプロピルアルコー
ル200mlで洗いそして80℃で真空乾燥する。こう
して式(100)の化合物が淡褐色結晶性粉末とし
て271g(理論の92%)得られる。このものは247
〜256℃で分解しながら融解する。この化合物は
薄層クロマドグラフによれば純粋であつて、これ
を精製しないで使う。 例 2 式(100)の2―クロロメチル―1―メチル―
5―メチルスルホニル―ベンズイミダゾール塩酸
塩29.5gをN―メチルピロリド100ml中に懸濁す
る。この懸濁体に2―ヒドロキシ―4―メトキシ
―ベンズアルデヒド(タイター:93.5%)16.3g
と無水炭酸カリウム41.5gとを加える。これを例
1に記載したように縮合させる。その後で反応混
合物から真空下でN―メチルピロリドンを除き、
水200mlでゆつくり希釈する。こうして式(103)
の反応生成物が結晶として析出する。これを吸引
ろ別し、ろ別物を水で中性になるまで洗いそして
80℃で真空乾燥する。こうして式(103)の化合
物が融点196〜197℃の淡黄色結晶性粉末として34
g(理論の95.5%)得られる。 例 3 式(100)の2―クロロメチル―1―メチル―
5―メチルスルホニル―ベンズイミダゾール塩酸
塩29.5gをクロロベンゼン200ml中に懸濁する。
この懸濁体に2―ヒドロキシ―4―メトキシ―ベ
ンズアルデヒド(タイター:93.5%)16.3gと無
水炭酸カリウム41.5gとを加える。反応混合物を
窒素ガスの下で還流状態で20時間保ち、分裂生成
した水を絶えず除去する。反応混合物を30℃に冷
却し、同温度で冷却しながら水300mlでゆつくり
希釈する。こうして式(103)の反応生成物が結
晶として析出する。反応混合物から真空下でクロ
ロベンゼンを除き、吸引ろ過し、ろ別物を水で中
性になるまで洗いそして80℃で真空乾燥する。こ
うして式(103)の化合物が融点188〜193℃の淡
黄色結晶性粉末として31.4g(理論の88.5%)得
られる。 同様の方法によつて、式 で表わされる第1表に記載の化合物が作られる。 【表】 【表】 例 4 式 で表わされる1―ベンジル―2―クロロメチル―
ベンズイミダゾール25.6gと式(101)の2―ヒ
ドロキシ―4―メトキシ―ベンズアルデヒド(タ
イター:93.5%)16.3gとをジメチルホルムアミ
ド100ml中に溶解する。こうして透明な溶液が生
成する。この溶液に炭酸カリウム27.6gを加え
る。反応混合物を窒素ガスの下で30分間かけて90
℃に加熱し、この温度で1時間かきまぜる。こう
して生成した十分にかきまぜられる赤褐色懸濁体
を30分間かけて150℃に加熱する。こうして窒素
ガスの下でかきまぜると130℃から水とジメチル
ホルムアミドとの混合物がゆつくり留出する。反
応混合物を150℃でさらに、6時間かきまぜてか
ら、0℃に冷却し、この温度で水300mlでゆつく
り希釈する。こうして式 で表わされる反応生成物が結晶として析出する。
反応生成物を吸引ろ別し、ろ別物を水で中性にな
るまで洗いそして真空下で80℃で乾かす。こうし
て融点132〜136℃の明るい褐色の結晶性粉末33.5
g(理論の95%)が得られる。この化合物のイソ
プロピルアルコールから再結晶した分析的に純粋
な試料は139〜140℃の一定融点を示す。 原料として使つた式(400)の1―ベンジル―
2―クロロメチル―ベンズイミダゾールは例えば
次のようにして作られる。 N―ベンジル―1,2―フエニレンジアミン40
gとクロロ酢酸22gとを濃塩酸60ml中に懸濁し、
この懸濁体を還流状態(108℃)に加熱する。こ
うして透明な褐黒色溶液が生成する。反応混合物
を還流状態で2時間保ち、10℃に冷却し、塩化メ
チレン600mlを加えそしてかきまぜながら水500ml
でゆつくり希釈する。塩化メチレン層をデカンテ
ーシヨンし、水で中性になるまで洗い、硫酸ナト
リウムで乾かしそして蒸発乾固する。こうして式
(400)の化合物が淡褐色の結晶性物質として44g
(理論の86%)得られる。これは102〜106℃で融
解する。この化合物は薄層クロマトグラフによれ
ば純粋であつて、精製しないで使う。この化合物
のエタノールから再結晶した分析的に純粋な試料
は108〜110℃の一定融点を示す。 例 5 例4においてジメチルホルムアミドの代りに
1,2―ジクロロベンゼン200mlを使う場合に、
式(401)の化合物32.5g(理論の92%)が融点
129〜133℃の明るい褐色の結晶性粉末として得ら
れる。 同様の方法によつて、式 で表わされる第2表に記載の化合物が作られる。 【表】 【表】 【表】 例 6 式 で表わされる2―クロロメチル―ベンズオキサゾ
ール33.5gと式(101)の2―ヒドロキシ―4―
メトキシ―ベンズアルデヒド(タイター:93.6
%)32.6gとをジメチルホルムアミド100mlに溶
かすと透明な溶液が生成する。この溶液に炭酸カ
リウム55gとよう化カリウム5gとを加える。反
応混合物を窒素ガスの下で30分間かけて90℃に加
熱し、この温度で2時間かきまぜる。生成した十
分にかきまぜられる褐色の懸濁体を30分間かけて
140℃に加熱する。こうして窒素ガスの下でかき
まぜると130℃から水とジメチルホルムアミドと
の混合物がゆつくり留出する。反応混合物を140
℃でさらに2時間かきまぜてから、0℃に冷却
し、この温度で水300mlでゆつくり希釈する。こ
うして式 で表わされる反応生成物が結晶として析出する。
反応生成物を吸引ろ別し、ろ別物を水で中性にな
るまで洗いそして真空下で80℃で乾かす。こうし
て融点138〜143℃の黄色の結晶性粉末41.5g(理
論の78%)が得られる。この化合物のノナンから
再結晶した分析的に純粋な試料は146〜147℃の一
定融点を示す。 同様の方法によつて、式 で表わされる次の第3表に記載の化合物が作られ
る。 【表】 【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 芳香族の単核式又は多核式環系をもつo―ヒ
    ドロキシカルボニル化合物を炭酸ナトリウム及び
    炭酸カリウムから選ばれた弱塩基性縮合剤の存在
    下で2―ハロゲノメチル―ベンズアゾールと縮合
    させることを特徴とするフラニル―ベンズアゾー
    ルの製法。 2 反応条件の下で不活性な有機溶媒及び弱塩基
    性縮合剤の存在下で少なくとも50℃の温度で縮合
    させる特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3 50〜200℃で縮合させる特許請求の範囲第2
    項に記載の方法。 4 弱塩基性縮合剤の存在下でそして溶媒の存在
    下で100〜250℃で縮合させる特許請求の範囲第1
    項に記載の方法。 5 式 (この式でAは置換されていないか又は置換され
    ている単核式又は多核式芳香族環系でありそして
    Rは水素原子、置換されている場合のあるアルキ
    ル基又は置換されている場合のあるフエニル基で
    ある) で表わされるo―ヒドロキシカルボニル化合物を
    (この式で、Xは酸素原子又は基―NR5―であ
    つて、このR5はアルケニル基、シクロアルキル
    基置換されている場合のあるアルキル基、フエニ
    ル基又はアラルキル基であり、環Bは置換されて
    いることができるものとしそしてHalはハロゲン
    原子である) で表わされる2―ハロゲノメチル―ベンズアゾー
    ルと縮合させることによつて、式 (この式でA、B、R及びXは前に与えた意味を
    もち、そして環系Aは式に示したように2個の隣
    接C―原子によつてフラン環と縮合している) で表わされるベンゾフラニル―ベンズアゾールを
    製造する特許請求の範囲第1項乃至第4項のいず
    れかに記載の方法。 6 式 〔この式でRは水素原子又は置換されていないか
    又は非発色団基で置換されているアルキル基又は
    フエニル基であり、R1は水素原子、ハロゲン原
    子、アルケニルオキシ基、シクロアルコキシ基、
    置換されていないか又は非発色団基で置換されて
    いるアルキル基、アルコキシ基、フエノキシ基又
    はアラルコキシ基、―COOY1、―CONY1Y2
    は―SO2NY1Y2(Y1とY2とは互いに無関係に水素
    原子、アルケニル基、環C―原子5又は6個を持
    つシクロアルキル基、又は置換されていないか又
    は非発色団基で置換されているアルキル基、フエ
    ニル基又はアラルキル基であるか、又はY1とY2
    とは互いに連結してそれらの結合している窒素原
    子を含めて5又は6員の飽和複素環式環を形成し
    ている)、モノ―又はジ―アルキルアミノ基、ア
    シルアミノ基、スルホ基、アリールスルホニル
    基、アルキルスルホニル基又はアルコキシスルホ
    ニル基であるか、又はR1は、R2と互いにo―位
    置では連結して基―CH=CH−CH=CH−、―
    O―CH2―O―又は―O―CH2―CH―O―を形
    成しているものとし、そしてR2は水素原子、ハ
    ロゲン原子又は置換されていないか又は非発色団
    基で置換されているアルキル基又はアルコキシ基
    であるか、又はR2はR1と互いにo―位置で連結
    して基―CH=CH―CH=CH―、―O―CH2
    O―又は―O―CH2―CH2―O―を形成している
    ものとする〕で表わされるo―ヒドロキシカルボ
    ニル化合物を式 〔この式でR3は水素原子、ハロゲン原子、アル
    ケニルオキシ基、アルケニルカルボニル基、置換
    されていないか又は非発色団基で置換されている
    アルキル基、アルコキシ基、フエニル基又はアラ
    ルキル基、―COOY1、―CONY1Y2又は―
    SO2NY1Y2(Y1とY2とは前に与えた意味をもつ)、
    シアノ基、スルホ基、アルキルスルホニル基、ア
    リールスルホニル基、アリールオキシスルホニル
    基又はトリフルオロメチル基であるか又はR3
    R4と互いにo―位置で連結して基―CH=CH―
    CH=CH―を形成しており、R4は水素原子ハロ
    ゲン原子又は置換されていないか又は非発色団基
    で置換されているアルキル基又はアルコキシ基で
    あるか又はR4はR3と互いにo―位置で連結して
    基―CH=CH―CH=CH―を形成しており、X
    は酸素原子又は基―NR5―(R5はアルケニル基、
    シクロアルキル基、置換されていないか又は非発
    色団基で置換されているアルキル基、フエニル基
    又はアラルキル基である)でありそしてHalはふ
    つ素、塩素又は臭素原子である〕 で表わされる2―ハロゲノメチル―ベンズアゾー
    ルと縮合させることによつて、式 (この式でR、R1、R2、R3、R4及びXは前に与
    えた意味をもつ) で表わされるベンゾフラニル―ベンズアゾールを
    製造する特許請求の範囲第1項乃至第4項のいず
    れかに記載の方法。 7 式 (この式でR1′は炭素原子1〜8個をもつアルコ
    キシ基、炭素原子3又は4個をもつアルケニルオ
    キシ基、置換されてないか又は塩素原子、低級ア
    ルキル基又は低級アルコキシ基で置換されたフエ
    ノキシ基又はそのアルキル部にC―原子1〜4個
    をもつフエニルアルコキシ基、ヒドロキシアルコ
    キシ基、アルコキシアルコキシ基、シアノアルコ
    キシ基、カルボアルコキシアルコキシ基、カルボ
    ンアミドアルコキシ基、シクロヘキシルオキシ基
    又は水素原子である) で表わされるo―ヒドロキシベンズアルデヒドを
    〔この式でR3′は水素原子、低級アルキル基、低
    級アルコキシ基、ハロゲン原子、フエニル基アル
    キルスルホニル基、アリールスルホニル基置換さ
    れていないか又はC―原子1〜4個をもつアルキ
    ル基、塩素原子又はメトキシ基でモノ―乃至トリ
    −置換されたフエノキシスルホニル基、シアノ
    基、トリフルオロメチル基、―COOY1
    SO2NY1Y2′又は―CONY1Y2′(Y1は水素原子、
    C―原子1〜8個をもつアルキル基、C―原子3
    又は4個をもつアルケニル基、シクロヘキシル
    基、C―原子2〜4個をもつヒドロキシアルキル
    基、C―原子を全部で3〜6個をもつアルコキシ
    アルキル基、C―原子を全部で6〜9個をもつフ
    エノキシアルキル基、C―原子2〜6個をもつカ
    ルボキシアルキル基、C―原子を全部で3〜6個
    もつカルボアルコキシアルキル基、C―原子を2
    〜5個もつシアノアルキル基、置換されてないか
    又はメチル基、塩素原子又はメトキシ基で置換さ
    れたベンジル基、置換されていないか又は塩素原
    子、メチル基又はメトキシ基で置換されたフエニ
    ル基、C―原子を全部で3〜7個もつジアルキル
    アミノアルキル基又はフエネチル基であり、
    Y2′は水素原子、C―原子1〜4個をもつアルキ
    ル基、C―原子又は4個をもつアルケニル基又は
    C―原子2〜4個をもつヒドロキシアルキル基で
    あるか、又はY1とY2′とは互いに連結して式中の
    窒素原子を含めて5又は6員の飽和複素環式環を
    形成している)であるそしてR5′はC―原子1〜
    8個をもつアルキル基、C―原子3又は4個をも
    つアルケニル基、シクロヘキシル基、C―原子2
    〜4個をもつヒドロキシアルキル基、C―原子を
    全部で3〜6個もつアルコキシアルキル基、C―
    原子2〜5個をもつカルボキシアルキル基、C―
    原子を全部で3〜9個もつカルボアルコキシアル
    キル基、C―原子2〜5個をもつシアノアルキル
    基、置換されてないか又は塩素原子、メチル基又
    はメトキシ基で置換されたベンジル基、フエニル
    基、C―原子を全部で3〜7個もつジアルキルア
    ミノアルキル基又はフエネチル基である〕 で表わされる2―クロロメチル―ベンズイミダゾ
    ールと縮合することによつて、式 (この式でR1′とR3′とR5′とは前に与えた意味を
    もつ) で表わされるベンゾフラニル―ベンズイミダゾー
    ルを製造する特許請求の範囲第1項乃至第4項の
    いずれかに記載の方法。 8 式 (この式でR′は水素原子又はメチル基であり、
    R6は水素原子であるか又はR7と連結して基―CH
    =CH―CH=CH―を形成しており、R7は水素原
    子、塩素原子、C―原子1〜4個をもつアルキル
    基、C―原子1〜4個をもつアルキルスルホニル
    基であるか又はR6と連結して基―CH=CH―CH
    =CH―を形成しておりR8は水素原子、C―原子
    1〜4個をもつアルキル基、C―原子1〜4個を
    もつアルコキシ基又はC―原子を全部で2〜6個
    もつジアルキルアミノ基であり、R9は水素原子
    又は塩素原子であるが、R6〜R9のうちで1又は
    2個は水素原子ではないものとする) で表わされるo―ヒドロキシ―ベンズアルデヒド
    を式 〔この式でR10は水素原子であるか又はR11と連
    結して基―CH=CH―CH=CH―を形成してお
    り、R11は水素原子、C―原子1〜4個をもつア
    ルキル基、塩素原子、―COOY1′又は―
    CONHY1′(Y1′はC―原子1〜4個をもつアルキ
    ル基である)、―CONH2、シアノ基、トリフル
    オロメチル基、スルホ基、C―原子1〜4個をも
    つアルキルスルホニル基、―SO2NHY1′又は―
    SO2N(Y1′)2(Y1′は上記の意味をもつ)、―
    SO2NH2、フエノキシスルホニル基、モルホリノ
    スルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル
    基、フエニルアミノスルホニル基であるか又は
    R10と連結して基―CH=CH―CH=CH―を形成
    しており、R12は水素原子又はフエニル基であ
    り、そしてXは酸素原子又は基―NR5″であり、
    このR5″はC―原子1〜8個をもつアルキル基C
    ―原子2〜4個をもつヒドロキシアルキル基C―
    原子2〜5個をもつシアノアルキル基、置換され
    ていないか又は塩素原子又はメトキシ基で置換さ
    れたベンジル基、フエニル基又はシクロヘキシル
    基であり、R10〜R12のうち1個は水素原子では
    ないものとする〕 で表わされる2―クロロメチルベンズアゾールと
    縮合することによつて、式 (この式でR′、R6、R7、R8、R9、R10、R11
    R12及びXは前に与えた意味をもつ) で表わされるベンゾフラニル―ベンズアゾールを
    製造する特許請求の範囲第1項乃至第4項のいず
    れかに記載の方法。 9 反応条件の下で不活性な溶媒として無極性又
    は双極性の非プロトン性溶媒を使う特許請求の範
    囲第1項乃至第8項のいずれかに記載の方法。 10 溶媒としてジメチルホルムアミドを使う特
    許請求の範囲第9項に記載の方法。
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