JPH0145974B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0145974B2 JPH0145974B2 JP58170771A JP17077183A JPH0145974B2 JP H0145974 B2 JPH0145974 B2 JP H0145974B2 JP 58170771 A JP58170771 A JP 58170771A JP 17077183 A JP17077183 A JP 17077183A JP H0145974 B2 JPH0145974 B2 JP H0145974B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- valve
- pull
- main discharge
- output side
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 59
- 244000208734 Pisonia aculeata Species 0.000 claims description 21
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 17
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体素子製造工程における半導体基
板（以下ウエハと呼ぶ）にフオトレジストを塗布
処理をするフオトレジスト塗布装置内のフオトレ
ジスト吐出装置に関するものである。
板（以下ウエハと呼ぶ）にフオトレジストを塗布
処理をするフオトレジスト塗布装置内のフオトレ
ジスト吐出装置に関するものである。
フオトレジスト吐出装置はウエハ上に一定量の
粘度の均一な塵俟を含まないフオトレジストを吐
出する条件を必要とする。
粘度の均一な塵俟を含まないフオトレジストを吐
出する条件を必要とする。
一般的に前記条件のうち粘度の均一性を保つ上
でフオトレジスト吐出口の先端からの溶剤の揮発
を低く押さえ、かつフオトレジスト吐出口先端の
溜り量の垂れ落ちを防止するため、フオトレジス
ト吐出後、若干量のフオトレジストを引き戻す方
法が採用されている。このフオトレジストの引き
戻し量は適正量に調整された後、常に安定してい
なければ、前記フオトレジスト吐出装置の条件を
満足できない。
でフオトレジスト吐出口の先端からの溶剤の揮発
を低く押さえ、かつフオトレジスト吐出口先端の
溜り量の垂れ落ちを防止するため、フオトレジス
ト吐出後、若干量のフオトレジストを引き戻す方
法が採用されている。このフオトレジストの引き
戻し量は適正量に調整された後、常に安定してい
なければ、前記フオトレジスト吐出装置の条件を
満足できない。
又、近年フオトリソグラフイによるレジストパ
ターンはより一層の微細化を要求されており、ウ
エハ上に形成されるフオトレジストは均一なもの
が必要となつている。そのため、フオトレジスト
内の塵俟及び一部粘度が高く膠化したフオトレジ
ストを除去しなければならない。前記フオトレジ
スト内の異物を除去する方法としてフオトレジス
ト吐出時、フイルターを通過させることが行われ
ており、このフイルターの組み込み位置として、
吐出口末端に近い方が好ましいことは説明するま
でもない。
ターンはより一層の微細化を要求されており、ウ
エハ上に形成されるフオトレジストは均一なもの
が必要となつている。そのため、フオトレジスト
内の塵俟及び一部粘度が高く膠化したフオトレジ
ストを除去しなければならない。前記フオトレジ
スト内の異物を除去する方法としてフオトレジス
ト吐出時、フイルターを通過させることが行われ
ており、このフイルターの組み込み位置として、
吐出口末端に近い方が好ましいことは説明するま
でもない。
従来のフオトレジスト吐出装置には、前記した
フオトレジスト引き戻し方法として、ベローズ又
はピストン・シリンダー構造による吐出手段の吐
出動作終了後の吸引動作時に吐出口側からもフオ
トレジストを若干量吸引する方法、又は吐出手段
以外にこれと同様に定量機能をもつた引き戻し手
段を備え、該引き戻し手段でフオトレジストを吸
引して引き戻す方法が採用されているが、いずれ
の場合も吐出口末端近くにフイルターのように容
積の大きな部品を設けることにより安定した引き
戻し量を確保することは困難である。
フオトレジスト引き戻し方法として、ベローズ又
はピストン・シリンダー構造による吐出手段の吐
出動作終了後の吸引動作時に吐出口側からもフオ
トレジストを若干量吸引する方法、又は吐出手段
以外にこれと同様に定量機能をもつた引き戻し手
段を備え、該引き戻し手段でフオトレジストを吸
引して引き戻す方法が採用されているが、いずれ
の場合も吐出口末端近くにフイルターのように容
積の大きな部品を設けることにより安定した引き
戻し量を確保することは困難である。
したがつて、従来のフオトレジスト吐出装置で
は一般的にその吐出手段の吸引側にフイルターを
設け使用されているが、その吐出手段の吐出動作
による塵俟発生が比較的多く、好ましい状態で使
用されていないのが実情である。
は一般的にその吐出手段の吸引側にフイルターを
設け使用されているが、その吐出手段の吐出動作
による塵俟発生が比較的多く、好ましい状態で使
用されていないのが実情である。
本発明の目的は前記問題点を削除し、安定した
引き戻し量を確保するフオトレジスト吐出装置を
提供することにある。
引き戻し量を確保するフオトレジスト吐出装置を
提供することにある。
本発明のフオトレジスト吐出装置においては、
貯蔵容器内に充填されたフオトレジストを吸引
し、フイルターを経由して吸引したフオトレジス
トを吐出口に圧出する機能を備えた主吐出手段
と、 フオトレジストの吐出後、主吐出手段の出力側
配管に装備した第１の開閉弁と吐出口間に残留す
るフオトレジストを吸引し、吸引したフオトレジ
ストを出力側に圧出する機能を備えた引き戻し手
段と、 前記引き戻し手段および主吐出手段の吸引側配
管に接続され、各引き戻し手段、主吐出手段によ
るフオトレジストの圧出時にそれぞれ閉弁する第
１の逆止弁および第２の逆止弁とを有し、 前記第１の開閉弁と同時に開、閉動作を行う第
２の開閉弁を介して前記引き戻し手段の出力側配
管を前記フイルターの上流側で前記主吐出手段の
出力側配管に接続したものである。
貯蔵容器内に充填されたフオトレジストを吸引
し、フイルターを経由して吸引したフオトレジス
トを吐出口に圧出する機能を備えた主吐出手段
と、 フオトレジストの吐出後、主吐出手段の出力側
配管に装備した第１の開閉弁と吐出口間に残留す
るフオトレジストを吸引し、吸引したフオトレジ
ストを出力側に圧出する機能を備えた引き戻し手
段と、 前記引き戻し手段および主吐出手段の吸引側配
管に接続され、各引き戻し手段、主吐出手段によ
るフオトレジストの圧出時にそれぞれ閉弁する第
１の逆止弁および第２の逆止弁とを有し、 前記第１の開閉弁と同時に開、閉動作を行う第
２の開閉弁を介して前記引き戻し手段の出力側配
管を前記フイルターの上流側で前記主吐出手段の
出力側配管に接続したものである。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
図において、フオトレジスト吐出口１に空気作
動弁等よりなる第１の開閉弁２及びフオトレジス
ト用フイルター３を介してエアシリンダーとベロ
ーズ等による定量機能をもつたフオトレジストの
主吐出手段４を配管接続し、フオトレジスト用フ
イルター３に空気作動弁等よりなる第２の開閉弁
５を介して、エアシリンダーとベローズ等による
定量機能をもつた引き戻し手段６を配管接続す
る。さらに第１の逆止弁７を介して第１の開閉弁
２とフオトレジスト吐出口１との中間にフオトレ
ジストの引き戻し手段６を主吐出手段４と並列に
配管接続し、また、主吐出手段４に第２の逆止弁
８を介してフオトレジスト吸引口９を設け、該吸
引口９をフオトレジスト貯蔵容器１０に接続す
る。
動弁等よりなる第１の開閉弁２及びフオトレジス
ト用フイルター３を介してエアシリンダーとベロ
ーズ等による定量機能をもつたフオトレジストの
主吐出手段４を配管接続し、フオトレジスト用フ
イルター３に空気作動弁等よりなる第２の開閉弁
５を介して、エアシリンダーとベローズ等による
定量機能をもつた引き戻し手段６を配管接続す
る。さらに第１の逆止弁７を介して第１の開閉弁
２とフオトレジスト吐出口１との中間にフオトレ
ジストの引き戻し手段６を主吐出手段４と並列に
配管接続し、また、主吐出手段４に第２の逆止弁
８を介してフオトレジスト吸引口９を設け、該吸
引口９をフオトレジスト貯蔵容器１０に接続す
る。
本発明によるフオトレジスト吐出装置の動作に
ついて説明する。まず、主吐出手段４と引き戻し
手段６の吐出動作及び第１の開閉弁２と第２の開
閉弁５の開動作を同時に行い、主吐出手段４から
フオトレジストをフイルター３を通してフオトレ
ジスト吐出口１に供給する。次に、一定時間経過
後又は主吐出手段４及び引き戻し手段６の圧出行
程動作の終了後、主吐出手段４の吸引動作及び第
１の開閉弁２と第２の開閉弁５の閉動作を同時に
行い、主吐出手段４の吸引動作により、第１の逆
止弁７を開弁して容器１０よりフオトレジストを
吸い上げる。一定時間経過後又は主吐出手段４の
吸引行程動作の終了後、引き戻し手段６の吸引動
作を行い第１の開閉弁２からフオトレジスト吐出
口１までの小さく閉ざされた空間内のフオトレジ
ストを逆止弁７を開弁して引き戻し手段６内に引
き戻すものである。
ついて説明する。まず、主吐出手段４と引き戻し
手段６の吐出動作及び第１の開閉弁２と第２の開
閉弁５の開動作を同時に行い、主吐出手段４から
フオトレジストをフイルター３を通してフオトレ
ジスト吐出口１に供給する。次に、一定時間経過
後又は主吐出手段４及び引き戻し手段６の圧出行
程動作の終了後、主吐出手段４の吸引動作及び第
１の開閉弁２と第２の開閉弁５の閉動作を同時に
行い、主吐出手段４の吸引動作により、第１の逆
止弁７を開弁して容器１０よりフオトレジストを
吸い上げる。一定時間経過後又は主吐出手段４の
吸引行程動作の終了後、引き戻し手段６の吸引動
作を行い第１の開閉弁２からフオトレジスト吐出
口１までの小さく閉ざされた空間内のフオトレジ
ストを逆止弁７を開弁して引き戻し手段６内に引
き戻すものである。
以上のように本発明によるときにはフオトレジ
ストの吐出後、第１の開閉弁及び第２の開閉弁を
閉弁した状態で第１の開閉弁から吐出口に至る主
吐出手段の出力側配管内に残留するフオトレジス
トを、主吐出手段とは別個に備えた引き戻し手段
によつて引き戻しを行うため、その吸引圧力の設
定により安定した引き戻し量を確保できる。
ストの吐出後、第１の開閉弁及び第２の開閉弁を
閉弁した状態で第１の開閉弁から吐出口に至る主
吐出手段の出力側配管内に残留するフオトレジス
トを、主吐出手段とは別個に備えた引き戻し手段
によつて引き戻しを行うため、その吸引圧力の設
定により安定した引き戻し量を確保できる。
また、フオトレジストの吐出時には、同時に引
き戻し手段による圧出行程動作を利用して主吐出
手段の出力側配管に押し出されたフオトレジスト
を加圧することができ、あわせてその後の残留レ
ジストの引き戻しに必要な吸引行程動作の態勢に
保たせることができる。
き戻し手段による圧出行程動作を利用して主吐出
手段の出力側配管に押し出されたフオトレジスト
を加圧することができ、あわせてその後の残留レ
ジストの引き戻しに必要な吸引行程動作の態勢に
保たせることができる。
以上説明したように、本発明により良好なフオ
トレジスト吐出装置を提供でき、半導体素子製造
工程に多大な効果をもたらすものである。
トレジスト吐出装置を提供でき、半導体素子製造
工程に多大な効果をもたらすものである。
図は本発明の一実施例を示す構成図である。
１……フオトレジスト吐出口、２……第１の開
閉弁、３……フオトレジスト用フイルター、４…
…主吐出手段、５……第２の開閉弁、６……引き
戻し手段、７……第１の逆止弁、８……第２の逆
止弁、９……フオトレジスト吸引口、１０……フ
オトレジスト貯蔵容器。
閉弁、３……フオトレジスト用フイルター、４…
…主吐出手段、５……第２の開閉弁、６……引き
戻し手段、７……第１の逆止弁、８……第２の逆
止弁、９……フオトレジスト吸引口、１０……フ
オトレジスト貯蔵容器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 貯蔵容器内に充填されたフオトレジストを吸
引し、フイルターを経由して吸引したフオトレジ
ストを吐出口に圧出する機能を備えた主吐出手段
と、 フオトレジストの吐出後、主吐出手段の出力側
配管に装備した第１の開閉弁と吐出口間に残留す
るフオトレジストを吸引し、吸引したフオトレジ
ストを出力側に圧出する機能を備えた引き戻し手
段と、 前記引き戻し手段および主吐出手段の吸引側配
管に接続され、各引き戻し手段、主吐出手段によ
るフオトレジストの圧出時にそれぞれ閉弁する第
１の逆止弁および第２の逆止弁とを有し、 前記第１の開閉弁と同時に開、閉動作を行う第
２の開閉弁を介して前記引き戻し手段の出力側配
管を前記フイルターの上流側で前記主吐出手段の
出力側配管に接続したことを特徴とするフオトレ
ジスト吐出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17077183A JPS6062121A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | フオトレジスト吐出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17077183A JPS6062121A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | フオトレジスト吐出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6062121A JPS6062121A (ja) | 1985-04-10 |
| JPH0145974B2 true JPH0145974B2 (ja) | 1989-10-05 |
Family
ID=15911067
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17077183A Granted JPS6062121A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | フオトレジスト吐出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6062121A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0811207B2 (ja) * | 1986-10-03 | 1996-02-07 | ノードソン株式会社 | 液体の微量精密吐出調整方法とその装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4935435A (ja) * | 1972-08-09 | 1974-04-02 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5898641U (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-05 | 凸版印刷株式会社 | レジスト供給装置 |
-
1983
- 1983-09-16 JP JP17077183A patent/JPS6062121A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4935435A (ja) * | 1972-08-09 | 1974-04-02 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6062121A (ja) | 1985-04-10 |
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