JPH0139813B2

JPH0139813B2 -

Info

Publication number: JPH0139813B2
Application number: JP60263733A
Authority: JP
Inventors: Yoshinori Tokugawa; Masakazu Yokota
Original assignee: Japan Steel Works Ltd
Current assignee: Japan Steel Works Ltd
Priority date: 1985-11-26
Filing date: 1985-11-26
Publication date: 1989-08-23
Also published as: JPS62125821A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、下水処理場あるいは有機廃棄物処理
場等において発生する悪臭ガスの脱臭処理、ガス
中の有機溶剤の回収処理、水分含有ガスの除湿処
理、あるいはガスと粉粒体との化学反応を行わせ
る反応処理等のためのガス処理装置に関するもの
で、特に、ガスを粉粒状処理剤に接触させるよう
にしたガス処理装置に関するものである。

（従来の技術）例えば、悪臭ガスを脱臭処理するときには、そ
のガスを活性炭等の粉粒状吸着剤に接触させて、
悪臭成分を吸着除去するようにする。そのように
ガスと粉粒状処理剤とを接触させる接触処理装置
としては、従来は主に固定層式処理装置あるいは
流動層式処理装置が用いられていた。

固定層式処理装置は、円塔形あるいは角塔形の
処理層内に粉粒状処理剤を充填し、その処理層に
ガスを通気させるようにしたものである。この場
合、処理剤は処理層内で固定的に保持される。

一方、流動層式処理装置は、同様の処理層内
に、大きな空間が残るようにして粉粒状処理剤を
収容させ、槽の下部からガスを通気させることに
より、処理剤をそのガスの流れの中で浮遊させる
ようにしたものである。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、このような固定層式処理装置で
は、ガスの偏流のためにガスを処理剤層の中に均
一に分散させることは難しく、処理剤層中にガス
が接触する部分と接触しない部分とが生じてしま
う。そのために、処理剤に飽和部分と未飽和部分
とが生じることは避けられず、未飽和の処理剤を
残したまま処理剤を交換することが必要となり、
処理剤の充填量に比べて、その交換頻度を多くし
なければならないという問題がある。また、この
ような固定層式処理装置においては、処理剤との
接触時間を確保するために、一般にガス流速を
0.5ｍ／sec程度に低く抑えるようにしているが、
処理剤が運動しないので、そのように低速のガス
では処理剤中に拡散しにくく、接触効率を高める
ことができない。そのために、処理剤層の高さを
高くする等の対策が必要となり、処理剤の充填量
を多くすることが必要となるばかりでなく、装置
も大形化しなければならないという問題がある。

一方、流動層式処理装置では、処理剤がガスに
よつて流動化することにより、処理剤とガスとが
極めて効率的に接触するようになるので、非常に
高い処理性能を得ることができる。しかしなが
ら、そのように処理剤が流動化されるようにする
ためには、処理剤として、その粒子の形状及び粒
径が一定の範囲内にあるものを用いることが必要
となる。例えば、現在流動層式処理装置に一般的
に用いられている処理剤は、ビーズ状で、粒径が
0.5〜1.5mm程度のものとされている。このように
形状及び粒径がそろえられた処理剤は、それだけ
コストの高いものであり、そのために運転経費が
高くなるという問題がある。また、このような流
動層式処理装置においては、ビーズ状等の処理剤
を流動化状態とするために、ガス流速は、固定層
式処理装置の場合の数倍から数十倍にしなければ
ならず、圧力損失が増大するという問題もある。
しかも、それによつて処理剤の粒子が激しい衝突
運動を繰り返すことになるので、粒子が摩耗した
り割れたりして粒塵化しやすい。そのために、粉
塵処理等が必要となることもある。

更に、固定層式あるいは流動層式のいずれの処
理装置においても、処理剤の交換時には、その処
理を一時停止させなければならない。そのため
に、その間は未処理のガスがそのまま放出される
ことになる。そこで、通常は、そのような処理装
置を二系列に設置し、それを交互に働かせるよう
にしているが、そのために建設費が高いものとな
つている。

本発明は、このような諸問題に鑑みてなされた
ものであつて、その目的は、ガスと処理剤との接
触効率が高く、しかも、処理剤として、任意の粒
形状あるいは粒径のものを用いることのできるガ
ス処理装置を得ることである。

また、本発明の他の目的は、そのガス処理装置
によるガスの圧力損失が、比較的低く抑えられる
ようにすることである。

本発明の更に他の目的は、処理剤の交換時にも
連続運転可能なガス処理装置を得ることである。

（問題点を解決するための手段）この目的を達成するために、本発明では、処理
槽を、浮動支持装置により浮動状態で支持すると
ともに、バイブレータによつて少なくとも上下方
向に振動させるようにしている。その処理槽内
は、複数枚の仕切板により複数のガス処理室に仕
切られていて、その各ガス処理室内に粉粒状の処
理剤が収容されるようになつている。また、処理
槽にはガス導入口とガス排出口とが設けられてお
り、そのガス導入口から導入されたガスが、複数
のガス処理室を順次通過してガス排出口に導かれ
るようになつている。

複数枚の仕切板には、交互に反対側の端部に、
隣り合うガス処理室間を連通させる開口が設けら
れている。こうして、処理槽内の一側のガス処理
室に供給された粉粒状処理剤が、その開口を通し
て次のガス処理室へと流れ、各ガス処理室を順に
移動した後、処理槽内の他側のガス処理室から回
収されるようになつている。交互の開口の少なく
とも一方は、そのように流動する粉粒状処理剤に
よつて塞がれるようになつている。

（作用）このように構成することにより、処理槽を適正
な振幅と振動数で振動させると、ガス処理室内に
収容された粉粒状処理剤が振動の方向に合わせて
高速微動運動し、流動化状態となる。このような
振動によつて形成される流動層は、流動層式処理
装置の場合のように層全体がガスと処理剤との完
全混合となるものとは異なり、層中の処理剤粒子
の変位量及び全体としての移動速度は小さい。し
かしながら、振動状態で移動するので、その粒子
の運動速度は瞬間的には非常に速いことになる。
したがつて、処理剤に接触するガスの流速が低い
場合にも、その処理剤とガスとの接触効率は極め
て良好となる。すなわち、例えば悪臭ガスの吸着
処理の場合、悪臭成分の拡散速度及び吸着剤表面
との接触面積が増大するので、従来の流動層式処
理装置と同等の吸着性能が得られることになる。
そして、その流動化は、ガス流によつて生じさせ
るものではないので、ガスの流速は低く抑えるこ
とができ、圧力損失を低減させることができる。
また、処理剤の粒子は、形状や粒径の異なるもの
が混合していても、大きい形状のものに合わせて
振動条件を設定しておけば、小さい形状のものも
同時に流動化するので、その形状や粒径をそろえ
る必要はなくなる。

そして流動化した粉粒状処理剤は、一つのガス
処理室から次の処理室へと徐々に移動していく。
したがつて、最初の処理室に処理剤を供給し、最
後の処理室から排出させるようにしておけば、連
続運転したまま処理剤の交換を行うことができ
る。

（実施例）以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。

図中、第１図は本発明を適用した悪臭ガスの吸
着処理装置の一実施例を示す模式図である。

この図から明らかなように、このガス処理装置
１は、横形の処理槽、すなわちガス吸着塔２を備
えている。このガス吸着塔２は、浮動支持装置で
あるスプリング３，３，…によつて、浮動状態で
支持されるようになつている。そして、その吸着
塔２の外面下部には、振幅0.5〜10mm、振動数５
〜50ヘルツの範囲内の設定された条件で、吸着塔
２を上下方向、あるいは上下及び水平方向、すな
わち斜め方向に振動させるバイブレータ４が取り
付けられている。

吸着塔２の内部には、その上下の壁面に交互に
仕切板５₁，５₂，５₃が取り付けられ、それによ
つて、その内部に複数のガス処理室６₁，６₂，６
_３，６₄が形成されるとともに、その処理室６₁〜
６₄間が、開口７₁，７₂，７₃によつてその上部あ
るいは下部において交互に連通するようにされて
いる。そして、吸着塔２の両側に位置するガス処
理室６₄，６₁の上面には、それぞれガス導入口８
及びガス排出口９が設けられている。ガス導入口
８には、蛇腹管等のフレキシブルパイプ１０を介
して悪臭ガス案内管が接続され、下水処理場等の
悪臭発生施設から発生する悪臭ガスＡが、吸着塔
２内に導入されるようになつている。また、ガス
排出口９には、同様のフレキシブルパイプ１１を
介してガス排出口１２が接続され、吸着塔２内で
処理されたガスが、吸引フアン１３によつて吸引
されて、浄化空気Ｂとして大気中に排出されるよ
うになつている。したがつて、吸着塔２内には、
ガス導入口８から処理室６₄、開口７₃、処理室６
_３、開口７₂、処理室６₂、開口７₁、及び処理室６₁
を経て、ガス排出口９に至るジグザグ状のガス流
通経路が形成されている。

一方、ガス排出口９が設けられた端部のガス処
理室６₁の上部には、吸着剤投入口１４が設けら
れている。この吸着剤投入口１４には、蛇腹管等
のフレキシブルパイプ１５を介して、処理剤供給
装置である吸着剤供給ホツパ１６が接続されてい
る。このホツパ１６の下端部にはロータリバルブ
１７が設けられ、ホツパ１６内の粉粒状吸着剤Ｃ
が、吸着塔２の一端側のガス処理室６₁内に、そ
のロータリバルブ１７の開度に応じて連続的に供
給されるようになつている。また、ガス導入口８
が設けられた端部のガス処理室６₄には、その側
壁の中間部に、斜め下方に延びる再生用吸着剤回
収口１８が設けられている。この吸着剤回収口１
８には、同様に蛇腹管等のフレキシブルパイプ１
９を介して、処理剤回収装置である再生用吸着剤
貯留槽２０が接続されており、吸着塔２の他端側
のガス処理室６₄から吸着剤回収口１８を通して
落下する粉粒状吸着剤が回収されるようになつて
いる。この吸着剤貯留槽２０の下端部にもロータ
リバルブ２１が取り付けられ、そのロータリバル
ブ２１を開くことによつて、回収された再生用吸
着剤Ｄが取り出されるようになつている。吸着塔
２は、斜め方向に振動させるようにする場合に
は、吸着剤回収口１８の延出方向に振動するよう
にすることが望ましい。

次に、このように構成されたガス処理装置１の
作用について説明する。

吸着剤供給ホツパ１６のロータリバルブ１７を
適度に開くと、ホツパ１６内の粉粒状吸着剤Ｃが
吸着剤投入口１４から端部の処理室６₁内に供給
される。そこで、バイブレータ４を作動させる
と、ガス吸着塔２全体が上下方向あるいは斜め方
向に振動する。このとき、吸着塔２とフレキシブ
ルパイプ１０，１１，１５，１９を介して接続さ
れたガス案内管、ガス排出管１２、ホツパ１６、
吸着剤貯留槽２０等にその振動が伝わることはな
い。

吸着塔２が振動すると、処理室６₁内に供給さ
れた粉粒状の吸着剤Ｃが、その振動方向に合わせ
てミクロ状に高速運動し、流動化状態となる。こ
のように振動によつて流動層が形成されるように
するためには、振動の加速度ｇを定めることが重
要となる。この振動の加速度ｇは、振幅をａ
（mm）、振動数をｎ（ヘルツ）とするとき、一般に、ｇ＝ａ（2πn）²／1000G で表される。ここで、Ｇは重力の加速度、すなわ
ち9.8ｍ／sec²である。振幅ａは、粉粒状吸着剤
の粒子の大きさ、形状、粒度分布、密度、付着性
等の性状、作動時の吸着剤層の高さ、処理するガ
スの性状、処理量等によつて選定されるが、通常
の粒径約10mm以下の吸着剤や有機質系材料の場合
には、0.5〜10mmの範囲とされる。振幅ａが小さ
すぎると、粒子の上下方向の変動量が小さいため
に、適正な流動化状態が得られない。また、逆に
振幅ａが大きすぎると、流動化状態は良好となる
が、振動のために要する動力が大きくなり、設備
を頑強なものとすることが必要となる。一方、こ
れまでの経験から、通常の粉粒状においては、振
動の加速度ｇが1G程度で流動化を始めるものが
多いが、5G以上となると、粒子の摩耗等が生じ
て粉塵化しやすくなることが判明している。した
がつて、振動の加速度ｇは、1G〜5Gの範囲とす
ることが求められる。このことから上述の式によ
り振動数ｎを試算すると、振動数ｎはほぼ５〜50
ヘルツの範囲内となる。すなわち、吸着塔２を振
幅0.5〜10mm、振動数５〜50ヘルツで振動させる
ことにより、粉粒状の吸着剤Ｃが良好な流動層と
なる。

このように流動化した吸着剤Ｃは、ホツパ１６
から供給されるにつれて、端部のガス処理室６₁
から開口７₁を通して次の処理室６₂へと徐々に水
平方向に移動する。そして、処理室６₂内の吸着
剤Ｃの量が仕切板５₂の高さを超えると、吸着剤
Ｃはその仕切板５₂からあふれ、開口７₂を通して
次の処理室６₃へと移動する。更に、処理室６₃内
の吸着剤Ｃは、開口７₃を通して次の処理室６₄へ
と水平方向に移動し、その処理室６₄内の吸着剤
Ｃの量が所定量を超えると、吸着剤Ｃは再生用吸
着剤回収口１８からオーバフローして、再生用吸
着剤Ｄとして再生用吸着剤貯留槽２０内に貯留さ
れる。定常運転状態に入ると、ホツパ１６から供
給される吸着剤Ｃに等しい量の再生用吸着剤Ｄが
貯留槽２０に連続的に貯留されることになる。ま
た、その状態でホツパ１６からの供給を停止する
と、各処理室６₁〜６₄内の吸着剤Ｃは、仕切板５
_１〜５₃の効果によつてほとんどその位置で保持さ
れる。

一方、この間に、吸引フアン１３を作動させ
る。すると、悪臭ガスＡがガス導入口８からガス
吸着塔２内に吸引され、吸着塔２内のガス流動経
路を通つて、ガス排出口９から排出される。そし
て、このガス流動経路を通るとき、その経路内の
ガス処理室６₄〜６₁内に収容され、振動によつて
流動層を形成している吸着剤Ｃに順次接触するこ
とにより、悪臭ガスＡ中の悪臭成分は完全に吸着
除去される。したがつて、吸引フアン１３から
は、浄化空気Ｂが排出されることになる。仕切板
５₁〜５₃の上述した配置により、仕切板５₁，５₃
の下端部は必ず吸着剤Ｃ内に侵入しているので、
その下端側の開口７₁，７₃は吸着剤Ｃによつて塞
がれる。したがつて、悪臭ガスＡが吸着剤Ｃに接
触せずに短絡的にガス排出口９に流れることはな
い。

この間において、吸着剤Ｃの粒子はミクロ的に
高速運動しているので、悪臭ガスＡ中の悪臭成分
の拡散速度は大きく、また、吸着剤Ｃの粒子の表
面と接触する機会も極めて多くなる。したがつ
て、ガスＡと吸着剤Ｃとの接触効率は著しく高め
られ、少量の吸着剤Ｃによつても良好な吸着性能
を得ることができるようになる。そして、吸着剤
Ｃは、ガス処理室６₁〜６₄を順次移動していく間
に混合されるので、悪臭ガスＡが吸着剤Ｃに均一
に接触することになる。しかも、吸着剤Ｃは、ガ
ス処理室６₁，６₂間においてはその下部の開口７
_１を通して移動し、処理室６₂，６₃間においては
その上部の開口７₂を通して移動し、更に処理室
６₃，６₄間においてはその下部の開口７₃を通し
て移動することにより、悪臭ガスＡとの接触時間
の長いものほど先へと送られ、最後に吸着剤回収
口１８を通して貯留槽２０に貯留されることにな
る。その結果、再生用吸着剤Ｄとして回収される
吸着剤中に未飽和の吸着剤が含まれることはほと
んどなくなる。したがつて、すべての吸着剤Ｃが
有効に使用されるようになる。

また、吸着剤Ｃの粒子が高速振動することによ
り、その振動エネルギが熱エネルギとなつて吸着
剤Ｃが昇温する。それによつて、ガスＡ中に水分
が含まれている場合にも、その水分が凝縮するこ
とが防止され、吸着剤の性能低下が軽減されるよ
うになる。したがつて、吸着剤の寿命が長くな
る。しかも、吸着塔２を振動させるものであるの
で、吸着剤Ｃの粒子間の衝突は強くない。したが
つて、粒子の摩耗や割れ等による粉塵の発生はほ
とんどない。

更に、各処理室６₁〜６₄内の吸着剤Ｃの層高は
数cm〜10数cm程度の低いものとすることができる
ので、圧力損失の増大を抑制するようにしなが
ら、ガス流速を大きくすることができる。また、
仕切板５₁，５₂，…の数を多くすることにより、
逆にガスＡと吸着剤Ｃとの接触時間を長くするよ
うにすることもできる。したがつて、それらの調
整により、最適の吸着性能が得られるようにする
ことができる。

そのほか、吸着剤Ｃの移動方向とガスＡの流れ
方向とを、上記実施例のように互いに逆方向の向
流型とすることにより、吸着反応が発熱反応のと
きなどには、そのガスＡによつて吸着剤Ｃが効率
よく冷却されるようになる。なお、その反応が吸
熱反応であるときなどには、ガス導入口８とガス
排出口９とを逆にして、吸着剤Ｃの移動方向とガ
スＡの流れ方向とが同じ方向となる並流型とする
とともに、ガスＡを高温ガスとすることにより、
吸着剤Ｃの加熱を兼ねさせるようにすることもで
きる。

再生用吸着剤貯留槽２０に貯留された再生用吸
着剤Ｄは、ロータリバルブ２１を開くことによつ
て適宜取り出し、再生処理した後、吸着剤供給ホ
ツパ１６に投入する。それによつて、ガス吸着塔
２の運転を続けたままで、吸着剤を交換し、循環
させて使用することができる。

第２図は、本発明を適用した悪臭ガスの吸着処
理装置の他の実施例を示す模式図である。このガ
ス処理装置は、立て形のものである点で第１図の
実施例のものとは異なつているが、基本的な構成
及び作用効果は同様であるので、同様の部分には
同じ符号を付すことにより重複する説明は省略す
る。

第２図から明らかなように、このガス処理装置
１は立て形のガス吸着塔２を備えている。この吸
着塔２の内部には、水平方向の多孔仕切板５ａ，
５ｂ，…，５ｅが設けられ、それによつて、その
内部に多段のガス処理室６ａ，６ｂ，…，６ｅと
ガス分散室６ｆとが形成されている。多孔仕切板
５ａ〜５ｅは、ガスＡは通過するが、粉粒状吸着
剤Ｃは落下することのない多数の小孔を備えたも
のである。最下部の多孔仕切板５ｅを除く各多孔
仕切板５ａ〜５ｄの右あるいは左側の端部には、
上下方向に連通する開口７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ
が設けられ、各処理室６ａ〜６ｅ間が、その開口
７ａ〜７ｄによつてその右側あるいは左側におい
て交互に連通するようにされている。各開口７ａ
〜７ｄと各処理室６ａ〜６ｅとの間には、上下方
向に延びる溢流板２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２
ｄが設けられている。この溢流板２２ａ〜２２ｄ
の上下の端部と吸着塔２の上面あるいは各多孔仕
切板５ａ〜５ｅとの間には、それぞれすきまが設
けられている。

ガス導入口８は、吸着塔２の下端部に設けら
れ、最下部のガス分散室６ｆに連通している。ま
た、ガス排出口９は、吸着塔２の上面に設けら
れ、最上部のガス処理室６ａに連通している。し
たがつて、吸着塔２内には、ガス導入口８からガ
ス分散室６ｆ及びガス処理室６ｅ，６ｄ，６ｃ，
６ｂ，６ａを経て、ガス排出口９に至る上下方向
のガス流通経路が形成されている。

また、吸着剤投入口１４は、吸着塔２の上面端
部に設けられ、吸着剤供給ホツパ１６内の吸着剤
Ｃが、最上部のガス処理室６ａの開口７ａから遠
い側の端部に供給されるようになつている。再生
用吸着剤回収口１８は、最下部のガス処理室６ｅ
の開口７ｄから遠い側の側壁上部に設けられてい
る。

その他の構成は、第１図の実施例のものと同様
である。

このように構成されたガス処理装置１におい
て、吸着剤供給ホツパ１６内の粉粒状吸着剤Ｃ
は、ロータリバルブ１７によつて適度に絞られな
がら、連続的に最上部の処理室６ａに供給され
る。そこで、バイブレータ４によりガス吸着塔２
を上下方向に振動させると、処理室６ａ内の吸着
剤Ｃは振動して流動化し、溢流板２２ａの方向へ
と水平移動する。そして、この処理室６ａ内の吸
着剤Ｃが所定量に達すると、ホツパ１６から供給
される量に見合つた量の吸着剤Ｃが溢流板２２ａ
からあふれ、開口７ａから落下して、次の処理室
６ｂへと導かれる。処理室６ｂ内では、同様に吸
着剤Ｃは溢流板２２ｂの方向へと水平移動する。
処理室６ｂ内の吸着剤Ｃが所定量に達すると、更
に溢流板２２ｂからあふれ、開口７ｂから落下す
る。このようにして、吸着剤Ｃは、上部の処理室
６ａからその下の処理室６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅ
へと順に移動し、最後に処理室６ｅからオーバフ
ローした吸着剤Ｃが、再生用吸着剤Ｄとして再生
用吸着剤貯留槽２０内に貯留される。この状態で
は、各溢流板２２ａ〜２２ｄの下端部は、それぞ
れその下部の処理室６ｂ〜６ｅ内の処理剤Ｃ中に
潜り込むようにされている。

この状態で吸引フアン１３を作動させると、ガ
ス導入口８から吸着塔２内に吸引された悪臭ガス
Ａは、ガス分散室６ｆから最下部の多孔仕切板５
ｅを通して処理室６ｅに通気され、更に、多孔仕
切板５ｄ、処理室６ｄ、多孔仕切板５ｃ、処理室
６ｃ、多孔仕切板５ｂ、処理室６ｂ、多孔仕切板
５ａ、処理室６ａを順次通つて、ガス排出口９か
ら排出される。この間に、悪臭ガスＡは各処理室
６ｅ〜６ａ内の吸着剤Ｃに接触して悪臭成分が吸
着除去されるので、吸引フアン１３からは浄化空
気Ｂが排出されることになる。このとき、上述の
ように溢流板２２ａ〜２２ｄの下端部が下部の処
理室６ｂ〜６ｅの吸着剤Ｃ内に潜り込んでいるの
で、各処理室６ａ〜６ｅの間の開口７ａ〜７ｄは
その吸着剤Ｃによつて塞がれている。したがつ
て、ガスＡがその開口７ａ〜７ｄを通して短絡的
に流れることはない。

こうして、ガスＡは、各処理室６ａ〜６ｅ内を
水平方向に移動する吸着剤Ｃに直交する形で接触
し、吸着塔２内を上昇することになる。したがつ
て、すべての吸着剤ＣにガスＡが接触するように
なり、未飽和の吸着剤Ｃが再生用吸着剤貯留槽２
０に導かれることはほとんどなくなる。また、処
理室６ａ〜６ｅの段数を変えるだけで、容易にガ
スＡと吸着剤Ｃとの接触時間を調整することがで
きるようになる。

なお、この実施例のような立て形ガス処理装置
１においても、ガス導入口８とガス排出口９とを
逆にして、ガスＡを吸着塔２の上部から導入させ
るようにすることにより、ガスＡと吸着剤Ｃとが
ともに上から下へと流れる並流型のものとするこ
ともできる。

以上、悪臭ガスの吸着処理装置を例にあげて説
明したが、本発明は、そのほか、粉粒状処理剤に
よる有機溶剤の回収や粉粒状触媒によるガスの反
応処理、粉粒体とガスとの化学反応処理等にも適
用することができるものであることは明らかであ
ろう。

また、上記実施例においては、いずれも粉粒状
処理剤が連続供給されるものとしているが、間欠
供給されるものでも同様の効果を得ることができ
る。更に、その連続供給装置としても、上記実施
例のようなホツパ１６とロータリバルブ１７とに
よるもののほか、コンベヤ等を用いることもでき
る。そのような場合には、その供給装置と処理槽
とを接続するフレキシブル部材は、必ずしもフレ
キシブルパイプとは限らず、フレキシブルな案内
板等とすることもできる。

（発明の効果）以上の説明から明らかなように、本発明によれ
ば、処理槽を振動させることによつて、ガス処理
室内に収容された粉粒状処理剤を流動化させ、そ
の処理剤を一方の処理室から次の処理室へと順に
移動させるようにしているので、ガスと処理剤と
の接触効率が高められ、少量の処理剤でも良好な
処理性能が得られるようになる。したがつて、処
理剤の層を薄くすることができ、また、ガスによ
つて流動化させる必要もないので、ガス流の圧力
損失を低く抑えることができる。更に、一方のガ
ス処理室に処理剤を供給し、他方の処理室から使
用済みの処理剤を排出させるようにすることがで
きるので、連続運転状態のまま、処理剤の交換を
行うことも可能となる。

そして、振動によつて粉粒状処理剤を流動化さ
せるものであるので、処理剤の粒子の形状及び粒
径等に関係なく良好な流動層を形成させることが
できる。したがつて、一定の粒径範囲にそろえら
れたビーズ状等の高価な処理剤を用いる必要はな
くなる。しかも、ガス流によつて流動化させるも
のではないので、ガスの流れ方向は任意の方向と
することができる。したがつて、設計の自由度が
増し、最も効率良く処理が行われるように選定す
ることが可能となる。また、振動によつて処理剤
が昇温するので、水分を含むガスの処理を行うと
きにも、その水分の凝縮が防止され、処理剤の処
理性能が長く保持されるようになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明によるガス処理装置の一実施
例を示す模式図、第２図は、本発明によるガス処
理装置の他の実施例を示す模式図である。１……ガス処理装置、２……ガス吸着塔（処理
槽）、３……スプリング（浮動支持装置）、４……
バイブレータ、５₁〜５₃……仕切板、５ａ〜５ｅ
……多孔仕切板、６₁〜６₄……ガス処理室、６ａ
〜６ｅ……ガス処理室、７₁〜７₃……開口、７ａ
〜７ｄ……開口、８……ガス導入口、９……ガス
排出口、１５……フレキシブルパイプ（フレキシ
ブル部材）、１６……吸着剤供給ホツパ（処理剤
供給装置）、２０……再生用吸着剤貯留槽（処理
剤回収装置）、Ａ……悪臭ガス、Ｂ……浄化空気、
Ｃ……吸着剤（処理剤）、Ｄ……再生用吸着剤。

Claims

【特許請求の範囲】１ガス導入口とガス排出口とを有し、内部が複
数枚の仕切板により粉粒状処理剤を収容する複数
のガス処理室に仕切られていて、前記ガス導入口
から導入されたガスが前記ガス排出口に至るまで
にその複数のガス処理室を順次通過するようにさ
れている処理槽と、その処理槽を浮動状態で支持する浮動支持装置
と、その処理槽を少なくとも上下方向に振動させる
バイブレータと、前記処理槽内の一側の前記ガス処理室に前記粉
粒状処理剤を供給する処理剤供給装置と、前記処理槽内の他側の前記ガス処理室から前記
粉粒状処理剤を回収する処理剤回収装置と、を備え、前記複数枚の仕切板に、隣り合う前記ガス処理
室間を連通させる開口が交互に反対側の端部に設
けられていて、各ガス処理室内の前記粉粒状処理
剤がその開口を通して順に流動するとともに、そ
の交互の開口の少なくとも一方がその粉粒状処理
剤によつて塞がれるようにされている、ガス処理装置。２前記バイブレータが、前記処理槽を、振幅0.5〜10mm、振動数５〜50
ヘルツで振動させるものである、特許請求の範囲第１項記載のガス処理装置。３前記処理剤供給装置が、前記ガス処理室に粉
粒状処理剤を連続的に供給するものとされてお
り、その処理剤供給装置が、前記処理槽にフレキシ
ブル部材を介して接続されている、特許請求の範囲第１項記載のガス処理装置。