JPH0131919Y2 - - Google Patents
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- JPH0131919Y2 JPH0131919Y2 JP2184486U JP2184486U JPH0131919Y2 JP H0131919 Y2 JPH0131919 Y2 JP H0131919Y2 JP 2184486 U JP2184486 U JP 2184486U JP 2184486 U JP2184486 U JP 2184486U JP H0131919 Y2 JPH0131919 Y2 JP H0131919Y2
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- Japan
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- cooling jacket
- pressure vessel
- high pressure
- container
- cooling
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
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- 238000005338 heat storage Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B30—PRESSES
- B30B—PRESSES IN GENERAL
- B30B11/00—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses
- B30B11/001—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses using a flexible element, e.g. diaphragm, urged by fluid pressure; Isostatic presses
- B30B11/002—Isostatic press chambers; Press stands therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は、熱間静水圧加圧装置に関する。
(従来の技術)
アルゴン等の不活性ガスを圧力媒体とし、1000
〜2000Kg/cm2にも達するガス圧力下で、被処理
体を数百〜2000℃もの高温にして圧縮処理する技
術は、熱間静水圧加圧法(Hot Isostatic
Pressing、以下HIPと略す)と呼ばれる。
〜2000Kg/cm2にも達するガス圧力下で、被処理
体を数百〜2000℃もの高温にして圧縮処理する技
術は、熱間静水圧加圧法(Hot Isostatic
Pressing、以下HIPと略す)と呼ばれる。
また、HIP処理をおこなう装置において、真空
あるいは常圧焼結をおこない、その後高圧ガスを
導入してHIP処理する方法もある。
あるいは常圧焼結をおこない、その後高圧ガスを
導入してHIP処理する方法もある。
近年、HIP技術の工業的利用の増大あるいはそ
の用途の拡大とともに、HIP装置そのものに対す
るニーズの多様化が進みつつある。
の用途の拡大とともに、HIP装置そのものに対す
るニーズの多様化が進みつつある。
ところが、工業的利用の面では、生産性向上の
問題があり、とりわけ、HIP処理後の冷却時間の
短縮が求められる。
問題があり、とりわけ、HIP処理後の冷却時間の
短縮が求められる。
このため、特開昭61−205761号公報(従来例の
1)および実開昭60−151096号公報(従来例の
2)の技術が知られている。
1)および実開昭60−151096号公報(従来例の
2)の技術が知られている。
(考案が解決しようとする課題)
ところで、従来例の1は、高圧容器のネジ蓋
に、熱交換器を設けるとともに、冷却手段として
蓄熱器を用いているため、プレスレフーム形の
HIP装置には適用困難であるし、又、蓄熱器によ
る奪熱量に限度があり、次第に、蓄熱器側の温度
が上昇してガス温と同温度となれば、最早奪熱作
用は生じなくなつてしまうものであつた。また、
蓄熱器設置スペースは高圧容器における炉室有効
容積を阻害するし、このため、阻害しない程度に
すると冷却能力の低下が生じるものであつた。
に、熱交換器を設けるとともに、冷却手段として
蓄熱器を用いているため、プレスレフーム形の
HIP装置には適用困難であるし、又、蓄熱器によ
る奪熱量に限度があり、次第に、蓄熱器側の温度
が上昇してガス温と同温度となれば、最早奪熱作
用は生じなくなつてしまうものであつた。また、
蓄熱器設置スペースは高圧容器における炉室有効
容積を阻害するし、このため、阻害しない程度に
すると冷却能力の低下が生じるものであつた。
一方、従来例の2は高圧容器の外周に、冷却ジ
ヤケツトを設けるとともにHIP処理後に断熱層内
外を連通するガス対流通路を形成し、熱ガスを断
熱層の外へ導いて高圧容器で冷却することによ
り、冷却を促進する技術であり、このためには、
高圧容器の設計温度を上げる必要がある(例えば
従来のMAX100℃からMAX150℃に変更され
る)。
ヤケツトを設けるとともにHIP処理後に断熱層内
外を連通するガス対流通路を形成し、熱ガスを断
熱層の外へ導いて高圧容器で冷却することによ
り、冷却を促進する技術であり、このためには、
高圧容器の設計温度を上げる必要がある(例えば
従来のMAX100℃からMAX150℃に変更され
る)。
ところが、高圧容器は鉄鋼材であるため、この
程度の温度上昇には何ら問題はないが、高圧容器
と上、下蓋とを気密に保つているシール部材にお
いては、一般に高分子材料であるので使用温度の
上昇にともない、その寿命は著しく低下する。
程度の温度上昇には何ら問題はないが、高圧容器
と上、下蓋とを気密に保つているシール部材にお
いては、一般に高分子材料であるので使用温度の
上昇にともない、その寿命は著しく低下する。
本考案は、従来の問題点に鑑み、高圧容器の設
計温度を上げ、かつ、シール部材を有効に冷却す
ることで、HIP処理後の冷却時間を短縮し、生産
性の向上を図つた熱間静水圧加圧装置を提供する
ことを目的とする。
計温度を上げ、かつ、シール部材を有効に冷却す
ることで、HIP処理後の冷却時間を短縮し、生産
性の向上を図つた熱間静水圧加圧装置を提供する
ことを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本考案は、外周壁に冷却ジヤケツト2を有する
高圧容器1の上、下開口部に、シール部材4を介
して上蓋3及び下蓋5が嵌挿されて高圧室6が形
成されており、該高圧室6内に断熱層7及びヒー
タ8が配置されている熱間静水圧加圧装置におい
て、前記目的を達成するために次の技術的手段を
講じている。
高圧容器1の上、下開口部に、シール部材4を介
して上蓋3及び下蓋5が嵌挿されて高圧室6が形
成されており、該高圧室6内に断熱層7及びヒー
タ8が配置されている熱間静水圧加圧装置におい
て、前記目的を達成するために次の技術的手段を
講じている。
すなわち、本考案は、高圧容器1の上、下開口
部端面1a,1bの少なくとも何れか一方側の端
面1a,1bに、環形状の第2冷却ジヤケツト1
1を容器軸方向に重ね合わせて設け、該第2冷却
ジヤケツト11の内周面11bに嵌挿した蓋3,
5を前記シール部材4を介して高圧容器1の内周
面に嵌合したことを特徴とするものである。
部端面1a,1bの少なくとも何れか一方側の端
面1a,1bに、環形状の第2冷却ジヤケツト1
1を容器軸方向に重ね合わせて設け、該第2冷却
ジヤケツト11の内周面11bに嵌挿した蓋3,
5を前記シール部材4を介して高圧容器1の内周
面に嵌合したことを特徴とするものである。
(作用)
第1図、第2図に示す如く、高圧容器1の外周
壁に設けられた冷却ジヤケツト2と共に、第2冷
却ジヤケツト11にも冷媒を矢印Bの如く環状に
流すと、より高圧容器1の冷却面積が増加され、
容器1の冷却は促進される。
壁に設けられた冷却ジヤケツト2と共に、第2冷
却ジヤケツト11にも冷媒を矢印Bの如く環状に
流すと、より高圧容器1の冷却面積が増加され、
容器1の冷却は促進される。
この第2冷却ジヤケツト11は、高圧容器1の
端面1a,1bに容器軸方向に重ねて設けられ、
しかも該ジヤケツト11の内周面11bに嵌挿し
た蓋3,5をシール部材4を介して高圧容器1の
内周面に嵌合していることから、高圧容器1の冷
却はもちろん、シール部材4の冷却も効果的に行
われる。
端面1a,1bに容器軸方向に重ねて設けられ、
しかも該ジヤケツト11の内周面11bに嵌挿し
た蓋3,5をシール部材4を介して高圧容器1の
内周面に嵌合していることから、高圧容器1の冷
却はもちろん、シール部材4の冷却も効果的に行
われる。
(実施例)
本考案の実施例を第1図及び第2図を参照して
詳述する。
詳述する。
第2図において、1は高圧容器であり、外周壁
に冷却ジヤケツト2を有し、このジヤケツト2に
矢印Aの如く冷媒を流通可能である。高圧容器1
の上開口部にシール部材4を介して上蓋3が嵌挿
され、又、高圧容器1の下開口部にはシール部材
4を介して下蓋5が嵌挿され、ここに、高圧室6
が内部に形成されている。7は断熱層で倒立コツ
プ形状とされて高圧室6内に配置されており、こ
の断熱層7の内側に、ヒータ8を有し、炉床9上
の被処理物10をHIP処理可能とされている。
に冷却ジヤケツト2を有し、このジヤケツト2に
矢印Aの如く冷媒を流通可能である。高圧容器1
の上開口部にシール部材4を介して上蓋3が嵌挿
され、又、高圧容器1の下開口部にはシール部材
4を介して下蓋5が嵌挿され、ここに、高圧室6
が内部に形成されている。7は断熱層で倒立コツ
プ形状とされて高圧室6内に配置されており、こ
の断熱層7の内側に、ヒータ8を有し、炉床9上
の被処理物10をHIP処理可能とされている。
なお、HIP中のプレス軸力はプレスフレーム1
2で担持するものとされている。
2で担持するものとされている。
11は第2冷却ジヤケツトであり、前記高圧容
器の上、下開口部端面1a,1bに容器軸方向に
重ね合されて設けられており、この端面1a,1
bの幅と略同じ幅で環形状を有し、その縦断面形
状は矩形を有しており、図外装置によりこのジヤ
ケツト11を介して冷媒が矢印Bの如く循環され
る。
器の上、下開口部端面1a,1bに容器軸方向に
重ね合されて設けられており、この端面1a,1
bの幅と略同じ幅で環形状を有し、その縦断面形
状は矩形を有しており、図外装置によりこのジヤ
ケツト11を介して冷媒が矢印Bの如く循環され
る。
更に、前記第2冷却ジヤケツト10の内周面1
1bに嵌挿した上、下蓋3,5は前記シール部材
4を介して高圧容器1の内周面に嵌合され、この
嵌合状態において、第2冷却ジヤケツト11の端
面11aと上、下蓋3,5の係止面3a,5aが
当接される。
1bに嵌挿した上、下蓋3,5は前記シール部材
4を介して高圧容器1の内周面に嵌合され、この
嵌合状態において、第2冷却ジヤケツト11の端
面11aと上、下蓋3,5の係止面3a,5aが
当接される。
また、第2冷却ジヤケツト11の内周面11b
と上、下蓋3,5の挿嵌面3b,5bは、上、下
蓋3,5の挿嵌において支障がなければ、接して
いてもよい。
と上、下蓋3,5の挿嵌面3b,5bは、上、下
蓋3,5の挿嵌において支障がなければ、接して
いてもよい。
ここに、高圧容器1と上、下蓋3,5の冷却面
積が増加され、かつ、シール部材4の近傍で冷却
を行うので、高圧容器1、上、下蓋3,5とシー
ル部材4の冷却を促進する。
積が増加され、かつ、シール部材4の近傍で冷却
を行うので、高圧容器1、上、下蓋3,5とシー
ル部材4の冷却を促進する。
また、一般に不活性ガスを圧力媒体とする高圧
処理の場合には、激しい自然対流のため、高圧容
器1の上部が過熱されるので、この容器1の上開
口部端面1aに設けられた第2冷却ジヤケツト1
1により冷却することが有効である。
処理の場合には、激しい自然対流のため、高圧容
器1の上部が過熱されるので、この容器1の上開
口部端面1aに設けられた第2冷却ジヤケツト1
1により冷却することが有効である。
他方、HIP装置の中で、真空あるいは常圧焼結
をおこない、その後、高圧ガスを導入してHIP処
理する方法がある。ところが、真空あるいは常圧
状態では、高圧下によるHIP処理とは熱電圧のメ
カニズムが異なり、伝導が主体となり高圧容器の
下部が過熱される。したがつて、この場合には容
器1の下開口部端面1bに設けられた第2冷却ジ
ヤケツト11により冷却することが有効である。
をおこない、その後、高圧ガスを導入してHIP処
理する方法がある。ところが、真空あるいは常圧
状態では、高圧下によるHIP処理とは熱電圧のメ
カニズムが異なり、伝導が主体となり高圧容器の
下部が過熱される。したがつて、この場合には容
器1の下開口部端面1bに設けられた第2冷却ジ
ヤケツト11により冷却することが有効である。
前述のこの第2冷却ジヤケツト11は、実施例
のように高圧容器1の上、下部両方に設けても、
上、下部のどちらか一方側に設けてもよく、要す
るに過熱部分の冷却を有効におこなう側に設けて
あればよい。
のように高圧容器1の上、下部両方に設けても、
上、下部のどちらか一方側に設けてもよく、要す
るに過熱部分の冷却を有効におこなう側に設けて
あればよい。
(考案の効果)
本考案によれば、高圧容器1の上、下開口部端
面1a,1bの少なくとも何れか一方側の端面1
a,1bに、環状の第2冷却ジヤケツト11を容
器軸方向に重ね合せて設けたので、高圧容器1及
び上、下蓋3,5の冷却面積が増加され、冷却時
間が短縮できるし、プレスフレーム形のHIP装置
にも適用できる。更に、第2冷却ジヤケツト11
の内周面11bに嵌挿した蓋3,5をシール部材
4を介して高圧容器1の内周面に嵌合しているの
で、シール部材4は効果的に冷却可能となり、使
用温度上昇にともなうシール部材4の寿命の著し
い低下は防止され、このシール部材4の寿命を大
幅に向上することができる。
面1a,1bの少なくとも何れか一方側の端面1
a,1bに、環状の第2冷却ジヤケツト11を容
器軸方向に重ね合せて設けたので、高圧容器1及
び上、下蓋3,5の冷却面積が増加され、冷却時
間が短縮できるし、プレスフレーム形のHIP装置
にも適用できる。更に、第2冷却ジヤケツト11
の内周面11bに嵌挿した蓋3,5をシール部材
4を介して高圧容器1の内周面に嵌合しているの
で、シール部材4は効果的に冷却可能となり、使
用温度上昇にともなうシール部材4の寿命の著し
い低下は防止され、このシール部材4の寿命を大
幅に向上することができる。
また、冷却が効果的に行えるので高圧容器1の
設計温度も上げることが可能となる。
設計温度も上げることが可能となる。
その結果、HIP処理後の冷却時間が短縮され、
生産性が向上される。
生産性が向上される。
第1図、第2図は本考案の実施例を示し、第1
図は要部断面図、第2図は装置の縦断面図であ
る。 1……高圧容器、1a,1b……上、下開口部
端面、2……冷却ジヤケツト、3……上蓋、4…
…シール部材、5……下蓋、6……高圧室、7…
…断熱層、8……ヒータ、10……被処理体、1
1……第2冷却ジヤケツト、11b……内周面。
図は要部断面図、第2図は装置の縦断面図であ
る。 1……高圧容器、1a,1b……上、下開口部
端面、2……冷却ジヤケツト、3……上蓋、4…
…シール部材、5……下蓋、6……高圧室、7…
…断熱層、8……ヒータ、10……被処理体、1
1……第2冷却ジヤケツト、11b……内周面。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 外周壁に冷却ジヤケツト2を有する高圧容器1
の上、下開口部に、シール部材4を介して上蓋3
及び下蓋5が嵌挿されて高圧室6が形成されてお
り、該高圧室6内に断熱層7及びヒータ8が配置
されている熱間静水圧加圧装置において、 高圧容器1の上、下開口部端面1a,1bの少
なくとも何れか一方側の端面1a,1bに、環形
状の第2冷却ジヤケツト11を容器軸方向に重ね
合わせて設け、該第2冷却ジヤケツト11の内周
面11bに嵌挿した蓋3,5を前記シール部材4
を介して高圧容器1の内周面に嵌合したことを特
徴とする熱間静水圧加圧装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2184486U JPH0131919Y2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2184486U JPH0131919Y2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62135095U JPS62135095U (ja) | 1987-08-25 |
JPH0131919Y2 true JPH0131919Y2 (ja) | 1989-09-29 |
Family
ID=30818664
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2184486U Expired JPH0131919Y2 (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0131919Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-02-17 JP JP2184486U patent/JPH0131919Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62135095U (ja) | 1987-08-25 |
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