JPH01316901A - 薄膜チップ抵抗器及びその製造方法 - Google Patents

薄膜チップ抵抗器及びその製造方法

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JPH01316901A
JPH01316901A JP63146788A JP14678888A JPH01316901A JP H01316901 A JPH01316901 A JP H01316901A JP 63146788 A JP63146788 A JP 63146788A JP 14678888 A JP14678888 A JP 14678888A JP H01316901 A JPH01316901 A JP H01316901A
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JP
Japan
Prior art keywords
film
thin film
chip resistor
protective
polyimide
Prior art date
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Pending
Application number
JP63146788A
Other languages
English (en)
Inventor
Hajime Okauchi
岡内 肇
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Tama Electric Co Ltd
Original Assignee
Tama Electric Co Ltd
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Publication date
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  • Non-Adjustable Resistors (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 本発明は、電子機器に使用される薄膜チップ抵抗器に関
するものである。
[従来の技術] 一般に、抵抗膜として金属薄膜やサーメット薄膜を使用
した薄膜チップ抵抗器に於ては、抵抗膜が周囲環境に露
出すると、湿気や腐食性気体等によって腐食されて抵抗
値の変化が生じ易いところから、それを防ぐ為に、抵抗
膜表面に、感光性レジスト材のポリイミド膜を形成して
これを保護していた。
[本発明が解決しようとする問題点1 しかしながら、上に述べたような従来の薄膜チップ抵抗
器にあっては、抵抗膜の表面に設ける感光性ポリイミド
膜が、材料の性質上0.1〜3ミクロンと薄い為に、微
細な凹凸の著るしいセラミック基体上に緻密でピンホー
ルの全く無い膜を形成することは困難であり、その結果
、特性の変化の無い、特に耐湿特性の安定した製品を得
ることは困難であった。
〔問題点を解決する手段〕
本発明は、絶縁基体表面上に抵抗膜を被着形成して、所
定の形状及び抵抗値とし、該抵抗膜を含む絶縁基体上に
感光性ポリイミドから成る保護膜を形成して、露光、エ
ツチング処理によって電極部のみを露出させ、これを加
熱硬化させた後、スクリーン印刷用防湿絶縁保護ペース
トによって、前記ポリイミド膜を包み込む層を形成し、
これを加熱硬化させて、前記ポリイミド膜を保護する層
を更に形成することにより、この問題を解決したもので
ある。
〔実施例1 本発明の実施例を、第1図に基づいて以下に説明する。
第1図中の1はアルミナ等から成る絶縁基体であり、2
はその表面に形成したNiCrまたはTaN等から成る
抵抗膜を、また3は一次電極となる金属膜をそれぞれ示
す。
抵抗膜2は、蒸着法またはスパッタリング法等の適宜方
法によって絶縁基体1の表面に被着形成した後、エツチ
ングによってパターン形成し、トリミングによって所定
の抵抗値となるようにする。
次にこの抵抗膜2の上に、低温硬化型の既にイミド化さ
れた骨格を備えている感光性ポリイミドレジスト(例え
ば、宇部興産株式会社製PI−400)を用いて、スピ
ンコード法によって0.1〜3ミクロンの膜厚で保護膜
4を形成する。
この保護膜4は、スピンコーテイング後60℃で30分
プリベータを行なった後、フォトマスクを用いて一次電
極3以外の部分を0.2〜0.5J/crn”の光量で
露光してレジストを硬化させ、その後30秒〜2分に互
って現像することにより未露光部のレジストを除去し、
−次電極部分3を露出させた後、200〜250°Cに
て30分ボストベークを行なうことによってこれを硬化
させる。
次いで、かくして得られた保護膜4の上に、スクリーン
印刷用防湿絶縁保護ペースト(例えば、四国化成工業株
式会社製FCハードC−880)をスクリーン印刷法に
より20〜80ミクロンの膜厚で塗膜して保護膜5を形
成するにの保護膜5には、250メツシユバイアス織ス
テンレススクリーンを用いて、前記保護膜4を包み込む
パターンを印刷した後、150°Cで30分加熱するこ
とによってこれを硬化させる。
次いで、メツキ工程を経て二次電極6を形成して所望の
薄膜チップ抵抗器を得る。
E本発明の効果] か(して得られた本発明の実施例に係る薄膜チップ抵抗
器と、従来型の保護膜をポリイミドのみに依存していた
ものとについて、JISC5202による耐湿負荷寿命
試験に基づく評価試験を行なって比較したところ、温度
40°C1湿度95%の試験槽中で定格直流電圧を90
分印加し30分切る断続負荷試験による抵抗値の経時的
変化を測定した結果は、第2図に示すとおりであった。
第2図に於て、横軸の目盛は時間を示し、縦軸の目盛は
抵抗値の変化率(△R/ Ro )を示すものである。
この結果によれば、感光性ポリイミドのみがら成る従来
製品の保護膜では500時間以上を経過すると耐湿特性
に異常をきたすものが現われ、安定した性能を維持でき
ないのに対し、本発明による第−層にポリイミドを薄く
塗布して絶縁基体表面の凹凸を平滑にした上に第二層の
防湿絶縁保護ペースト層を形成する積層構造とした実施
例に於ては、長時間に亙って格段に安定した特性を維持
することが可能であるという、優れた効果のあることが
明らかに認められる。
なお、本発明によれば、高価な感光性ポリイミドの使用
量が節減出来るから、製造コストの低下を図ることが可
能であるという利点もあり、更に、感光性ポリイミドと
して低温硬化タイプ(硬化温度200〜250’C)の
ものを使用すれば、硬化工程中の加熱によって抵抗膜の
抵抗値に変化を来たす虞も無(、安定した特性を有する
薄膜チップ抵抗器を容易に得ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例に係る薄膜チップ抵抗器の断
面図を示すものであり、図中の各符号はそれぞれ下記の
ものを示す。 1:絶縁基体  2:抵抗膜 3ニ一次電極  4:ポリイミド保護膜5:耐湿性保護
ペースト層  6:二次電極第2図は、従来型薄膜チッ
プ抵抗器と本発明の実施例に係る薄膜チップ抵抗器につ
いての、経時的特性変化に関する比較試験結果を示すも
のであって、図中のAは従来型の場合を、Bは本発明に
係る実施例の場合をそれぞれ示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、セラミック等の絶縁基体表面に被着した抵抗膜と電
    極とから成る薄膜チップ抵抗器に於て、該抵抗膜の保護
    膜として、ポリイミド系耐熱コーティング薄膜と防湿絶
    縁保護ペースト層とを有することを特徴とする薄膜チッ
    プ抵抗器。 2、セラミック等の絶縁基体表面に抵抗膜を被着形成し
    、該抵抗膜が所定の形状及び抵抗値となるようにエッチ
    ング及び/またはトリミングを施した後、該抵抗膜を含
    む絶縁基体上に感光性ポリイミド保護膜を形成し、これ
    に露光、エッチング処理を施して電極に相当する部分の
    みを露出させ、加熱硬化させた後、スクリーン印刷用防
    湿保護ペーストによって該ポリイミド保護膜を包み込む
    ように保護層を形成し、これを加熱硬化させることを特
    徴とする薄膜チップ抵抗器の製造方法。
JP63146788A 1988-06-16 1988-06-16 薄膜チップ抵抗器及びその製造方法 Pending JPH01316901A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105590709A (zh) * 2016-03-23 2016-05-18 东莞市爱伦电子科技有限公司 一种大功率树脂封装金属膜贴片电阻器
CN105590708A (zh) * 2016-03-23 2016-05-18 东莞市爱伦电子科技有限公司 一种大功率树脂封装绕线贴片电阻器

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105590709A (zh) * 2016-03-23 2016-05-18 东莞市爱伦电子科技有限公司 一种大功率树脂封装金属膜贴片电阻器
CN105590708A (zh) * 2016-03-23 2016-05-18 东莞市爱伦电子科技有限公司 一种大功率树脂封装绕线贴片电阻器

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