JPH01315701A - プラスチックレンズ基材およびその製造方法 - Google Patents
プラスチックレンズ基材およびその製造方法Info
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- JPH01315701A JPH01315701A JP894128A JP412889A JPH01315701A JP H01315701 A JPH01315701 A JP H01315701A JP 894128 A JP894128 A JP 894128A JP 412889 A JP412889 A JP 412889A JP H01315701 A JPH01315701 A JP H01315701A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、硫黄を含むプラスチックレンズ用基材に関し
、詳しくは高屈折率で光学特性のすぐれたプラスチック
レンズ基材およびその製造方法に関するものである。
、詳しくは高屈折率で光学特性のすぐれたプラスチック
レンズ基材およびその製造方法に関するものである。
[従来の技術]
プラスチックレンズはガラスレンズに比べて、軽量性、
耐衝撃性、染色性、加工性などの点で優れているため、
光学製品に広く用いられるようになってきている。中で
も眼鏡用レンズにおいては、その前記した特長が大きく
ガラスを次第に置換しCいる。
耐衝撃性、染色性、加工性などの点で優れているため、
光学製品に広く用いられるようになってきている。中で
も眼鏡用レンズにおいては、その前記した特長が大きく
ガラスを次第に置換しCいる。
眼鏡用のプラスチックレンズ用樹脂としては、従来、ジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂(CR
−39)やポリ(メチルメタクリレート’)(PM、M
A)が主として用いられてきている。特に前者は、透明
性、易加工性、表面特性のバランスの良好さなどの特長
のため、最も大量に用いられている。
エチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂(CR
−39)やポリ(メチルメタクリレート’)(PM、M
A)が主として用いられてきている。特に前者は、透明
性、易加工性、表面特性のバランスの良好さなどの特長
のため、最も大量に用いられている。
一方、高屈折率レンズ用樹脂で特に硫黄原子含有樹脂と
しては、特開昭60−217229号、特開昭60−1
99016号公報の提案があり、レンズ用樹脂ではない
が、硫黄原子含有高屈折率樹脂を得る方法として、特開
昭62−270627号公報などの提案がある。
しては、特開昭60−217229号、特開昭60−1
99016号公報の提案があり、レンズ用樹脂ではない
が、硫黄原子含有高屈折率樹脂を得る方法として、特開
昭62−270627号公報などの提案がある。
しかしながら、これらの提案技術では、後述するように
、特性上、プロセス上に問題点があり、安価に良好なプ
ラスチックレンズを提供できる樹脂になっていない。
、特性上、プロセス上に問題点があり、安価に良好なプ
ラスチックレンズを提供できる樹脂になっていない。
[発明が解決しようとする課題]
ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂は屈
折率が1.49〜1.50であり、通常のガラスレンズ
の屈折率1.5〜1.6に比べて低いため、この樹脂を
レンズにした場合、ガラスに比べてレンズの外周部の厚
みが大きくなり、見映えが悪いと言う欠点がある。これ
はレンズの度数が大きくなると特に顕著である。
折率が1.49〜1.50であり、通常のガラスレンズ
の屈折率1.5〜1.6に比べて低いため、この樹脂を
レンズにした場合、ガラスに比べてレンズの外周部の厚
みが大きくなり、見映えが悪いと言う欠点がある。これ
はレンズの度数が大きくなると特に顕著である。
またPMMAは、前記ジエチレングリコールビスアリル
カーボネート樹脂と同様の問題点(低屈折率)を有する
上に、二次元高分子でかつ、熱可塑性であるために加工
性が劣り、サングラスや安全メガネに使用されているに
とどまっている。
カーボネート樹脂と同様の問題点(低屈折率)を有する
上に、二次元高分子でかつ、熱可塑性であるために加工
性が劣り、サングラスや安全メガネに使用されているに
とどまっている。
硫黄原子含有化合物を用いて高屈折率のレンズ用樹脂を
得る技術として提案されている特開昭60−21722
9号公報にはm−キシリレンジイソシアネートなどのイ
ソシアネート化合物と、ジ(2−ヒドロキシエチル)ス
ルフィドなどの硫黄原子含有ポリオール化合物との硫黄
原子含有ウレタン樹脂が示され、また特開昭60−19
9016号公報にはm−キシリレンジイソシアネートな
どのイソシアネート化合物と、ジ(2−メルカプトエチ
ル)エーテルなどのメルカプト化合物を反応して得られ
るチオカルバミン酸S〜アルキルエステル系樹脂が示さ
れている。
得る技術として提案されている特開昭60−21722
9号公報にはm−キシリレンジイソシアネートなどのイ
ソシアネート化合物と、ジ(2−ヒドロキシエチル)ス
ルフィドなどの硫黄原子含有ポリオール化合物との硫黄
原子含有ウレタン樹脂が示され、また特開昭60−19
9016号公報にはm−キシリレンジイソシアネートな
どのイソシアネート化合物と、ジ(2−メルカプトエチ
ル)エーテルなどのメルカプト化合物を反応して得られ
るチオカルバミン酸S〜アルキルエステル系樹脂が示さ
れている。
しかしながらこれらのウレタン樹脂は、レンズが着色し
やすく、太陽光線によって黄変しやすいという問題があ
り、さらに均一なレンズをつくることが比較的困難であ
るという問題があった。
やすく、太陽光線によって黄変しやすいという問題があ
り、さらに均一なレンズをつくることが比較的困難であ
るという問題があった。
必ずしもレンズを対象としたものではないが、硫黄原子
含有化合物を用いて高屈折率樹脂を得る方法としては、
特開昭62−270627号公報などがあり、この方法
は、ジビニルベンゼンとp−ベンゼンジチオールとをモ
ル比で等モル程度用いて、の繰り返し単位を有するもの
である。しかしながら、これにより得られる樹脂は軟質
で眼鏡レンズとして実用できる物ではなく、眼鏡レンズ
化の必須工程である切削加工すらできないものである。
含有化合物を用いて高屈折率樹脂を得る方法としては、
特開昭62−270627号公報などがあり、この方法
は、ジビニルベンゼンとp−ベンゼンジチオールとをモ
ル比で等モル程度用いて、の繰り返し単位を有するもの
である。しかしながら、これにより得られる樹脂は軟質
で眼鏡レンズとして実用できる物ではなく、眼鏡レンズ
化の必須工程である切削加工すらできないものである。
上記のように、従来の技術では剛性があり、加工性がよ
く、着色もなく透明性に優れる高屈折率レンズ用基材を
簡便容易なプロセスで得ることができていないのが実状
である。
く、着色もなく透明性に優れる高屈折率レンズ用基材を
簡便容易なプロセスで得ることができていないのが実状
である。
本発明は、上記従来技術を改善し、剛性があり、加工性
に優れ、着色も少ない高屈折率プラスチックレンズ用基
材を簡便容易(安価)に提供することを目的とする。
に優れ、着色も少ない高屈折率プラスチックレンズ用基
材を簡便容易(安価)に提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するため本発明は下記の構成からなる。
「(1)繰り返し単位の成分として[−CH2−CI(
X−コ単位、および[−CH2−CX−] (ただし
Xは水素またはメチル基を示す。)単位で表されるユニ
ットをモル平均で1.3個以上有する残基、および繰り
返し単位成分にメチレン基に結合した[−S −]をモ
ル平均で1.1個以上有する残基とを含み、かつ両ユニ
ットのモル比率が下記のASBで示される関係であるこ
とを特徴とする硫黄含有プラスチックレンズ基材。
X−コ単位、および[−CH2−CX−] (ただし
Xは水素またはメチル基を示す。)単位で表されるユニ
ットをモル平均で1.3個以上有する残基、および繰り
返し単位成分にメチレン基に結合した[−S −]をモ
ル平均で1.1個以上有する残基とを含み、かつ両ユニ
ットのモル比率が下記のASBで示される関係であるこ
とを特徴とする硫黄含有プラスチックレンズ基材。
A+ 0.1<メチレン基に結合した[−3−]/B
:メチレン基に結合した[−3−] =[−CH2−C
HX−]■ 分子内にCH2=Cx−基(ただしXは水
素またはメチル基)をモル平均で1.3個以上有する化
合物と、分子内に一3H基をモル平均で1゜1個以上有
する化合物とを、モル比率が下記の範囲となるように混
合し、該混合物をラジカル重合開始剤の存在下で重合す
ることを特徴とする特許含有プラスチックレンズ基材の
製造方法。
:メチレン基に結合した[−3−] =[−CH2−C
HX−]■ 分子内にCH2=Cx−基(ただしXは水
素またはメチル基)をモル平均で1.3個以上有する化
合物と、分子内に一3H基をモル平均で1゜1個以上有
する化合物とを、モル比率が下記の範囲となるように混
合し、該混合物をラジカル重合開始剤の存在下で重合す
ることを特徴とする特許含有プラスチックレンズ基材の
製造方法。
0.1< [−8H] / [CH2=CX−1<0.
6J本発明において、繰り返し単位が [−CH2−CHX−] (ただしXは水素またはメ
チル基)で表されるユニットとは、分子内にC)(2=
CX−基を有する化合物が重合反応した結果物をいう。
6J本発明において、繰り返し単位が [−CH2−CHX−] (ただしXは水素またはメ
チル基)で表されるユニットとは、分子内にC)(2=
CX−基を有する化合物が重合反応した結果物をいう。
そして分子内にCH2=CX−基を有する化合物とは、
いわゆる広義にビニル系化合物と呼称されている化合物
であり、さらにくわしくはスチレン系化合物、アクリル
系化合物、アリル系化合物、狭義のビニル系化合物など
のことである。
いわゆる広義にビニル系化合物と呼称されている化合物
であり、さらにくわしくはスチレン系化合物、アクリル
系化合物、アリル系化合物、狭義のビニル系化合物など
のことである。
分子内にCH2=CX−基を1.3個以上有する化合物
とは、上記基を分子内に1個有する化合物と2個以上有
する化合物との混合物を意味するが、勿論、分子内に上
記基を2個以上有する化合物単独であってもよい。また
、1個有する化合物も2個以上有する化合物も単一化合
物でも混合物でもよい。CH2=CX−基がモル平均で
1.3個より少ないと、剛性、高強度の樹脂が得にくく
好ましくない。この意味で、特に好ましくは1.5個以
上である。
とは、上記基を分子内に1個有する化合物と2個以上有
する化合物との混合物を意味するが、勿論、分子内に上
記基を2個以上有する化合物単独であってもよい。また
、1個有する化合物も2個以上有する化合物も単一化合
物でも混合物でもよい。CH2=CX−基がモル平均で
1.3個より少ないと、剛性、高強度の樹脂が得にくく
好ましくない。この意味で、特に好ましくは1.5個以
上である。
本発明において、分子内にCH2=CX−基を含む化合
物は上記のように種々のものが有用であるが、反応、重
合をなるべく容易に起すこと、原料が安価なこと、得ら
れる樹脂の耐熱性、耐候性などの理由から、Xは水素な
いしメチル基である。
物は上記のように種々のものが有用であるが、反応、重
合をなるべく容易に起すこと、原料が安価なこと、得ら
れる樹脂の耐熱性、耐候性などの理由から、Xは水素な
いしメチル基である。
特にジビニルベンゼンとアクリル酸エステル類がバラン
スが取れており、少なくとも原料中に含まれていること
が好ましい。
スが取れており、少なくとも原料中に含まれていること
が好ましい。
本発明において、分子内に−SH基を分子内に1.1個
以上有する化合物とは、上記メルカプト基を分子内に1
個以上有する化合物と、上記メルカプト基を2個以上有
する化合物との混合物を意味するが、勿論、分子内に上
記基を2個以上有する化合物単独であってもよい。また
、1個有する化合物も2個以上有する化合物も単一化合
物でも混合物でもよい。−8H基がモル平均で1.1個
より少ないと、高屈折率にならなかったり、剛性が上が
らなかったり、強度が低かったりして好ましくない。こ
の意味で、1.3個以上であるとさらによい。
以上有する化合物とは、上記メルカプト基を分子内に1
個以上有する化合物と、上記メルカプト基を2個以上有
する化合物との混合物を意味するが、勿論、分子内に上
記基を2個以上有する化合物単独であってもよい。また
、1個有する化合物も2個以上有する化合物も単一化合
物でも混合物でもよい。−8H基がモル平均で1.1個
より少ないと、高屈折率にならなかったり、剛性が上が
らなかったり、強度が低かったりして好ましくない。こ
の意味で、1.3個以上であるとさらによい。
本発明におけるメルカプト基を有する化合物の具体例と
しては、エチルメルカプタン、ブチルメルカプタン、ア
リルメルカプタン、フェニルメルカプタン、チオキシレ
ノール、p−トルエンチオール、ペンタクロロチオフェ
ノールなどの一価メルカブタン、エタンジチオール、1
.4−ブタンジチオール、エチレングリコールジチオグ
リコレート、3.3”−ジチオジプロピオン酸、ジ(2
−メルカプトエチル)エーテル、1,4−ベンゼンジチ
オール、1.2−ベンゼンジチオール、4−t−ブチル
−1,2−ベンゼンジチオール、3゜4−ジメチルカプ
トトルエン、1,2−プロパンジチオールなどの二価メ
ルカプタン、トリチオグリセリン、トリメチロールプロ
パントリス(チオグリコレート)などの三価メルカプタ
ン、ペンタエリスリトールテトラキス−(チオグリコレ
ート)などの四価メルカプタン、チオグリコール酸、チ
オヒドロアクリル酸、チオ乳酸、チオリンゴ酸などのメ
ルカプトカルボン酸、1,2−ジチオグリセリン、1,
3−ジチオグリセリンなどの水酸基置換二価メルカプタ
ン、1,3−ジメルカプトアセトンなどのジメルカプト
ケトン、β、β′ −ジチオイソ酪酸などが単独あるい
は混合して用いられる。
しては、エチルメルカプタン、ブチルメルカプタン、ア
リルメルカプタン、フェニルメルカプタン、チオキシレ
ノール、p−トルエンチオール、ペンタクロロチオフェ
ノールなどの一価メルカブタン、エタンジチオール、1
.4−ブタンジチオール、エチレングリコールジチオグ
リコレート、3.3”−ジチオジプロピオン酸、ジ(2
−メルカプトエチル)エーテル、1,4−ベンゼンジチ
オール、1.2−ベンゼンジチオール、4−t−ブチル
−1,2−ベンゼンジチオール、3゜4−ジメチルカプ
トトルエン、1,2−プロパンジチオールなどの二価メ
ルカプタン、トリチオグリセリン、トリメチロールプロ
パントリス(チオグリコレート)などの三価メルカプタ
ン、ペンタエリスリトールテトラキス−(チオグリコレ
ート)などの四価メルカプタン、チオグリコール酸、チ
オヒドロアクリル酸、チオ乳酸、チオリンゴ酸などのメ
ルカプトカルボン酸、1,2−ジチオグリセリン、1,
3−ジチオグリセリンなどの水酸基置換二価メルカプタ
ン、1,3−ジメルカプトアセトンなどのジメルカプト
ケトン、β、β′ −ジチオイソ酪酸などが単独あるい
は混合して用いられる。
上記の硫黄原子を含有する化合物の中で特に好ましいも
のは、分子内の炭素/硫黄元素数比が6以下の化合物、
即ち、エチレングリコールジチオグリコレート、トリメ
チロールプロパントリス−(チオグリコレート)、ペン
タエリスリトールテトラキス−(チオグリコレート)、
1.2−エタンジチオール、1.4−ブタンジチオール
、1゜6−ヘキサンジチオール、メルカプトメチルスル
フィド、2−メルカプトエチルスルフィド、3−メルカ
プトプロピルスルフィド、2−メルカプトエチルジスル
フィドなど脂肪族系のメルカプト基含有化合物、1.4
−ベンゼンジチオール、1゜3−ベンゼンジチオール、
1,2−ベンゼンジチオール、4−t−ブチル−1,2
−ベンゼンジチオール、1.2−ビス(メルカプトメチ
レン)べンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチレン)
ベンゼン、1.4−ビス(メルカプトメチレン)ベンゼ
ン、1.2−ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、1
,3−ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、1,4−
ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、1.2−ビス(
メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(
メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(
メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,2−ビス(
メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(
メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(
メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1.2−ビス(
メルカプトメチレンチオ)ベンゼン、1,3−ビス(メ
ルカプトメチレンチオ)ベンゼン、1.4−ビス(メル
カプトメチレンチオ)ベンゼン、1,2−ビス(メルカ
プトエチレンチオ)ベンゼン、1.3−ビス(メルカプ
トエチレンチオ)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプト
エチレンチオ)ベンゼン、1.3.5−トリメルカプト
ベンゼン、1,3.5−トリス(メルカプトメチレン)
ベンゼン、4. 4’ −チオジチオフェノール、4.
4’−ビフェニルジチオール、フェニルメルカプタンな
どの芳香族系メルカプト基含有化合物が挙げられる。
のは、分子内の炭素/硫黄元素数比が6以下の化合物、
即ち、エチレングリコールジチオグリコレート、トリメ
チロールプロパントリス−(チオグリコレート)、ペン
タエリスリトールテトラキス−(チオグリコレート)、
1.2−エタンジチオール、1.4−ブタンジチオール
、1゜6−ヘキサンジチオール、メルカプトメチルスル
フィド、2−メルカプトエチルスルフィド、3−メルカ
プトプロピルスルフィド、2−メルカプトエチルジスル
フィドなど脂肪族系のメルカプト基含有化合物、1.4
−ベンゼンジチオール、1゜3−ベンゼンジチオール、
1,2−ベンゼンジチオール、4−t−ブチル−1,2
−ベンゼンジチオール、1.2−ビス(メルカプトメチ
レン)べンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチレン)
ベンゼン、1.4−ビス(メルカプトメチレン)ベンゼ
ン、1.2−ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、1
,3−ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、1,4−
ビス(メルカプトエチレン)ベンゼン、1.2−ビス(
メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(
メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(
メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,2−ビス(
メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(
メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(
メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1.2−ビス(
メルカプトメチレンチオ)ベンゼン、1,3−ビス(メ
ルカプトメチレンチオ)ベンゼン、1.4−ビス(メル
カプトメチレンチオ)ベンゼン、1,2−ビス(メルカ
プトエチレンチオ)ベンゼン、1.3−ビス(メルカプ
トエチレンチオ)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプト
エチレンチオ)ベンゼン、1.3.5−トリメルカプト
ベンゼン、1,3.5−トリス(メルカプトメチレン)
ベンゼン、4. 4’ −チオジチオフェノール、4.
4’−ビフェニルジチオール、フェニルメルカプタンな
どの芳香族系メルカプト基含有化合物が挙げられる。
特に屈折率の高いプラスチックレンズ基材を得るために
は、分子内にCH2=CX−基を有する化合物としてジ
ビニルベンゼンを、分子内に一3H基を有する化合物と
して芳香族系メルカプト基含有化合物あるいは、2−メ
ルカプトエチルスルフィドのように分子内の炭素/硫黄
元素比が3以下の脂肪族系メルカプト基含有化合物の組
合わせが好適である。
は、分子内にCH2=CX−基を有する化合物としてジ
ビニルベンゼンを、分子内に一3H基を有する化合物と
して芳香族系メルカプト基含有化合物あるいは、2−メ
ルカプトエチルスルフィドのように分子内の炭素/硫黄
元素比が3以下の脂肪族系メルカプト基含有化合物の組
合わせが好適である。
本発明において、上記した広義のビニル系化合物と、メ
ルカプト基を有する化合物のモル比率は、下記の範囲が
必要である。その理由は屈折率、切削・研磨性の観点か
らである。
ルカプト基を有する化合物のモル比率は、下記の範囲が
必要である。その理由は屈折率、切削・研磨性の観点か
らである。
0.1 < [−S−] /([−CH2−CHX−]
+を下記の範囲とすることが必要である。
+を下記の範囲とすることが必要である。
0、 1< [−8Hコ / ECHz=CX−コ
〈 0. にの比率が0.1より少ないと屈折率をあ
まり高くすることができず、また0、6よりも大きいと
剛性があり切削、研磨が容易な樹脂が得にくく好ましく
ない。この意味で 0.3< [−3H] / [CH2=CX−’] <
0.55であるとさらによい。
〈 0. にの比率が0.1より少ないと屈折率をあ
まり高くすることができず、また0、6よりも大きいと
剛性があり切削、研磨が容易な樹脂が得にくく好ましく
ない。この意味で 0.3< [−3H] / [CH2=CX−’] <
0.55であるとさらによい。
本発明において、重合反応は、−8H基のCH2=CX
−基への付加とCH2=CX−基の重合(広義のビニル
重合)によって行われると考えられ、重合を実質的に完
結する意味で、ラジカル重合開始剤添加によるラジカル
重合や光照射による重合などが有効であるが、レンズを
得るという目的から特にラジカル重合開始剤添加による
ラジカル重合が操作性からも得られる樹脂特性からもよ
い。
−基への付加とCH2=CX−基の重合(広義のビニル
重合)によって行われると考えられ、重合を実質的に完
結する意味で、ラジカル重合開始剤添加によるラジカル
重合や光照射による重合などが有効であるが、レンズを
得るという目的から特にラジカル重合開始剤添加による
ラジカル重合が操作性からも得られる樹脂特性からもよ
い。
ラジカル重合開始剤としては、通常の過酸化物系化合物
やアゾ系化合物を用いることができる。
やアゾ系化合物を用いることができる。
本発明において、上記CH2=CX−基を有する化合物
と−SR基を有する化合物以外にエポキシ基を含む化合
物、アミノ基を含む化合物、などを併用することもでき
るし、得られるポリマーの特性を損なわない範囲で他の
ポリマー、オリゴマー、可塑剤などを併用してもよいが
、いずれの併用成分とも、全体の50重量%以下である
ことがよい。
と−SR基を有する化合物以外にエポキシ基を含む化合
物、アミノ基を含む化合物、などを併用することもでき
るし、得られるポリマーの特性を損なわない範囲で他の
ポリマー、オリゴマー、可塑剤などを併用してもよいが
、いずれの併用成分とも、全体の50重量%以下である
ことがよい。
これらの併用成分の割合が50重量%を越えると本発明
の目的を十分に達しにくくなり好ましくない。
の目的を十分に達しにくくなり好ましくない。
本発明において、耐候(光)性などの向上のために紫外
線吸収剤、酸化防止剤などを原料中に添加して用いるこ
とができる。
線吸収剤、酸化防止剤などを原料中に添加して用いるこ
とができる。
本発明により得られる樹脂はレンズとして用いる場合に
必要に応じ、ハードコート、反射防止コート、防曇剤コ
ート、防汚剤コートなど機能材の表面コートを行うこと
ができるし、染色なども行うことができる。
必要に応じ、ハードコート、反射防止コート、防曇剤コ
ート、防汚剤コートなど機能材の表面コートを行うこと
ができるし、染色なども行うことができる。
[実施例コ
以下、実施例および比較例により、本発明の詳細な説明
する。なお本発明は実施例の記載に限定されるものでは
ない。
する。なお本発明は実施例の記載に限定されるものでは
ない。
実施例1
ハイドロキノンジアクリレート 54.3g。
市販のエチレングリコールジメタクリレート 21.1
g、およびジ(2−メルカプトエチル)エーテル 24
.6gおよびアゾビスイソブチロニトリル 0.1gと
をよく混合した(この場合[−8HI / [CH2=
CX−1=0.5)。ついでこのものを脱泡、脱気した
。これをガラス型中に注入し、これを60℃で3時間、
70℃で4時間、90℃で2時間、さらに110℃で3
時間加熱して重合反応させた。
g、およびジ(2−メルカプトエチル)エーテル 24
.6gおよびアゾビスイソブチロニトリル 0.1gと
をよく混合した(この場合[−8HI / [CH2=
CX−1=0.5)。ついでこのものを脱泡、脱気した
。これをガラス型中に注入し、これを60℃で3時間、
70℃で4時間、90℃で2時間、さらに110℃で3
時間加熱して重合反応させた。
得られた樹脂の繰り返し単位成分のモル比率は[−S−
] = [−CH2−C0X−]であった。
] = [−CH2−C0X−]であった。
この樹脂のガラス型からの離型性も極めて容易であり、
剛性で切削、研磨加工も容易であった。
剛性で切削、研磨加工も容易であった。
れていた。またアツベ数νP=41であった。
比較例1
実施例1において、ジ(2−メルカプトエチル)エーテ
ルの使用量を49.0gにする以外すべて実施例1と同
じ条件にした(この場合 [−8H] / [CH2=CX−] =1)。
ルの使用量を49.0gにする以外すべて実施例1と同
じ条件にした(この場合 [−8H] / [CH2=CX−] =1)。
得られた樹脂の繰り返し単位成分のモル比率は[−3−
] = [−CH2−CHX−1であった。
] = [−CH2−CHX−1であった。
この樹脂は、他に大きな問題はなかったものの硬さが低
く、切削、研磨が容易に行えず、レンズ用樹脂として致
命的な問題点を有し、有用なものではなかった。
く、切削、研磨が容易に行えず、レンズ用樹脂として致
命的な問題点を有し、有用なものではなかった。
比較例2
実施例1において、ジ(2−メルカプトエチル)エーテ
ルを24.6g用いるかわりに、ジ(2−メルカプトエ
チル)エーテル 2.5gとジエチレングリコール 1
7.0gを用い、他はすべて実施例1と同じ条件にした
(この場合([−8HI+ [−0H] ) /
[CH2=CX−コ =0.5、[−8Hコ /
[CH2=CX−] =0. 05) 。
ルを24.6g用いるかわりに、ジ(2−メルカプトエ
チル)エーテル 2.5gとジエチレングリコール 1
7.0gを用い、他はすべて実施例1と同じ条件にした
(この場合([−8HI+ [−0H] ) /
[CH2=CX−コ =0.5、[−8Hコ /
[CH2=CX−] =0. 05) 。
得られた樹脂の繰り返し単位成分のモル比率は[−3−
] ]+[−C)(2−CHX−1+ [−CH2
−CX−11=0゜05であり、[−S−] = [
−C)L!−CHX−] テア”) tニー。この樹脂
は軟質であり、切削、研磨が容易に行えず、シロ5=4
0であった。
] ]+[−C)(2−CHX−1+ [−CH2
−CX−11=0゜05であり、[−S−] = [
−C)L!−CHX−] テア”) tニー。この樹脂
は軟質であり、切削、研磨が容易に行えず、シロ5=4
0であった。
実施例2
実施例1において、エチレングリコールジメタクリレー
ト 21.1gを用いる代わりに、エチレングリコール
ジメタクリレート 10.6gとメチルメタクリレート
9.2gを用い、([−8H] / [CH2=CX
−1=0.5) 、他はすべて実施例1と同条件にした
。
ト 21.1gを用いる代わりに、エチレングリコール
ジメタクリレート 10.6gとメチルメタクリレート
9.2gを用い、([−8H] / [CH2=CX
−1=0.5) 、他はすべて実施例1と同条件にした
。
得られた樹脂の繰り返し単位成分のモル比率は[−S−
] /([−CH2−CHX−]+ [−CH2−
Cl−11=0. 5、[−S−] = [−CH2
−CHX−]であった。この樹脂は離型性も加工性もよ
く、硬質であり、無色透明で屈折率n25=1. 56
であり、アツベ数ν25=42でD
Dあった。
] /([−CH2−CHX−]+ [−CH2−
Cl−11=0. 5、[−S−] = [−CH2
−CHX−]であった。この樹脂は離型性も加工性もよ
く、硬質であり、無色透明で屈折率n25=1. 56
であり、アツベ数ν25=42でD
Dあった。
実施例3
実施例1において、ジ(2−メルカプトエチル)エーテ
ルを24.6g用いる代わりに、ジ(2−メルカプトエ
チル)エーテル 9.8gとフェニルメルカプタン 2
3.6gを用い、([−3H]/ [CH2=CX−]
=0.5) 、他はすべて実施例1と同条件にした。
ルを24.6g用いる代わりに、ジ(2−メルカプトエ
チル)エーテル 9.8gとフェニルメルカプタン 2
3.6gを用い、([−3H]/ [CH2=CX−]
=0.5) 、他はすべて実施例1と同条件にした。
得られた樹脂の繰り返し単位成分のモル比率は[、S−
]・[−CH2−CHX−]であった。この樹脂は離型
性も加工性もよく、硬質であり、無色透明で屈折率n2
5=1.59であり、アツベ数ν25=39であり
Dった。
]・[−CH2−CHX−]であった。この樹脂は離型
性も加工性もよく、硬質であり、無色透明で屈折率n2
5=1.59であり、アツベ数ν25=39であり
Dった。
実施例4
p−ジビニルベンゼン82.1gと1.4−ベンゼンジ
チオール17.9gおよびアゾビスイソブチロニトリル
0.5gとをよく混合した(この場合[−8HI /
[CH2=CX−] =0.2)。
チオール17.9gおよびアゾビスイソブチロニトリル
0.5gとをよく混合した(この場合[−8HI /
[CH2=CX−] =0.2)。
ついでこのものを実施例1と同じ条件で重合反応させた
。得られた樹脂はガラス型からの離型性が良好であり、
剛性が高く切削、研磨加工も容易であった。光学的にも
無色透明で屈折率η2L。
。得られた樹脂はガラス型からの離型性が良好であり、
剛性が高く切削、研磨加工も容易であった。光学的にも
無色透明で屈折率η2L。
64と高く、アツベ数はシロ5=27であった。
実施例5
実施例4において、p−ビニルベンゼンの使用量を64
.7gに、1,4−ベンゼンジチオールの使用量を35
.3gにする以外はすべて実施例1と同じ条件にした。
.7gに、1,4−ベンゼンジチオールの使用量を35
.3gにする以外はすべて実施例1と同じ条件にした。
(この場合[−8H]/[CH2=CX−] =0.5
)。
)。
得られた樹脂は実施例4の樹脂と同様に離型性剛性さら
に切削、研磨加工性が良好であった。光学特性は屈折率
がη、q5=1.67とさらに優れ、アツベ数もν25
=26であった。
に切削、研磨加工性が良好であった。光学特性は屈折率
がη、q5=1.67とさらに優れ、アツベ数もν25
=26であった。
実施例6
実施例4において、p−ジビニルベンゼンの使用量を6
7.8gに、1,4−ベンゼンジチオールの代わりに2
−メルカプトエチルスルフィドを32.2g用いた以外
はすべて実施例1と同じ条件にした。(この場合[−3
H] / [CH2=CX−] =0.4)。
7.8gに、1,4−ベンゼンジチオールの代わりに2
−メルカプトエチルスルフィドを32.2g用いた以外
はすべて実施例1と同じ条件にした。(この場合[−3
H] / [CH2=CX−] =0.4)。
得られた樹脂は、ガラス型からの離型性が良好であり、
剛性が高(切削、磁層加工も容易であつ2、アツベ数ν
25=soと優れていた。
剛性が高(切削、磁層加工も容易であつ2、アツベ数ν
25=soと優れていた。
実施例7
市販のジビニルベンゼン(ジビニルベンゼン57.0w
t%、エチルビニルベンゼン39.0wt%)66.7
go ジメルカプトメチルベンゼン33゜3g、および
アゾビスイソブチロニトリル0. 5gとをよく混合し
た(この場合[−8H] / [C)+2=CX −]
=0. 5)。
t%、エチルビニルベンゼン39.0wt%)66.7
go ジメルカプトメチルベンゼン33゜3g、および
アゾビスイソブチロニトリル0. 5gとをよく混合し
た(この場合[−8H] / [C)+2=CX −]
=0. 5)。
ついでこのものを実施例1と同じ条件で重合反応させた
。
。
得られた樹脂は無色透明で、ガラス型からの離型性もよ
く、剛性および切削、研磨加工性が優れていた。屈折率
η2L1.63、アツベ数シロ5=31と高い値であっ
た。
く、剛性および切削、研磨加工性が優れていた。屈折率
η2L1.63、アツベ数シロ5=31と高い値であっ
た。
[発明の効果]
本発明により得られるプラスチックレンズ基材は高屈折
率、高アツベ数であり、レンズ用基材として理想的な光
学特性を有し、しかも高硬度、高衝撃性、高耐熱性、高
耐久性であって切削研磨性も優れ、実用特性面でも優れ
ていた。さらに重合操作が容易であり、均質、均一な製
品を安定に得る製造方法を提供することができた。
率、高アツベ数であり、レンズ用基材として理想的な光
学特性を有し、しかも高硬度、高衝撃性、高耐熱性、高
耐久性であって切削研磨性も優れ、実用特性面でも優れ
ていた。さらに重合操作が容易であり、均質、均一な製
品を安定に得る製造方法を提供することができた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)繰り返し単位の成分として[−CH_2−CHX
−]単位、および[−CH_2−CX−](ただしXは
水素またはメチル基を示す。)単位で表されるユニット
をモル平均で1.3個以上有する残基、および繰り返し
単位成分にメチレン基に結合した[−S−]をモル平均
で1.1個以上有する残基とを含み、かつ両ユニットの
モル比率が下記のA、Bで示される関係であることを特
徴とする硫黄含有プラスチックレンズ基材。 A:0.1<メチレン基に結合した[−S−]/{[−
CH_2CHX−]+[−CH_2−CX−]}<0.
6B:メチレン基に結合した[−S−]=[−CH_2
−CHX−] (2)分子内にCH_2=CX−基(ただしXは水素ま
たはメチル基)をモル平均で1.3個以上有する化合物
と、分子内に−SH基をモル平均で1.1個以上有する
化合物とを、モル比率が下記の範囲となるように混合し
、該混合物をラジカル重合開始剤の存在下で重合するこ
とを特徴とする硫黄含有プラスチックレンズ基材の製造
方法。 0.1<[−SH]/[CH_2=CX−]<0.6
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP894128A JPH01315701A (ja) | 1988-03-08 | 1989-01-11 | プラスチックレンズ基材およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-54652 | 1988-03-08 | ||
JP5465288 | 1988-03-08 | ||
JP894128A JPH01315701A (ja) | 1988-03-08 | 1989-01-11 | プラスチックレンズ基材およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01315701A true JPH01315701A (ja) | 1989-12-20 |
Family
ID=12976717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP894128A Pending JPH01315701A (ja) | 1988-03-08 | 1989-01-11 | プラスチックレンズ基材およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01315701A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63234032A (ja) * | 1987-03-23 | 1988-09-29 | Showa Denko Kk | 合成樹脂製光学用素子 |
JPH01182314A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-20 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高アッベ数レンズ用組成物 |
JPH01197528A (ja) * | 1988-02-01 | 1989-08-09 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高屈折率レンズ用組成物 |
-
1989
- 1989-01-11 JP JP894128A patent/JPH01315701A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63234032A (ja) * | 1987-03-23 | 1988-09-29 | Showa Denko Kk | 合成樹脂製光学用素子 |
JPH01182314A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-20 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高アッベ数レンズ用組成物 |
JPH01197528A (ja) * | 1988-02-01 | 1989-08-09 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高屈折率レンズ用組成物 |
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