JPH01307701A - 反射防止層形成用フイルムとこのフイルムを用いた反射防止板の製造方法 - Google Patents
反射防止層形成用フイルムとこのフイルムを用いた反射防止板の製造方法Info
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- JPH01307701A JPH01307701A JP63138642A JP13864288A JPH01307701A JP H01307701 A JPH01307701 A JP H01307701A JP 63138642 A JP63138642 A JP 63138642A JP 13864288 A JP13864288 A JP 13864288A JP H01307701 A JPH01307701 A JP H01307701A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、プラスチックフィルム表面上に単層または
多層の反射防止層形成用薄膜を設けた反射防止層形成用
フィルムと、このフィルムを用いて反射防止板を製造す
る方法とに関するものである。
多層の反射防止層形成用薄膜を設けた反射防止層形成用
フィルムと、このフィルムを用いて反射防止板を製造す
る方法とに関するものである。
一般に、反射防止板は、プラスチックやガラスなどの基
板表面上に真空蒸着法などにより所望の屈折率を有する
単層あるいは積層薄膜からなる反射防止層を形成して構
成される。
板表面上に真空蒸着法などにより所望の屈折率を有する
単層あるいは積層薄膜からなる反射防止層を形成して構
成される。
たとえば、上記基板上に単層として反射防止層を形成す
る場合には、M g F zやSin、などの低屈折率
材料の薄膜を、この屈折率nとの関係において、光学的
膜厚dを、nd=λ/4(ただし、λは設計波長で50
0〜580r+n+)と設定して、単層反射防止層を形
成する。
る場合には、M g F zやSin、などの低屈折率
材料の薄膜を、この屈折率nとの関係において、光学的
膜厚dを、nd=λ/4(ただし、λは設計波長で50
0〜580r+n+)と設定して、単層反射防止層を形
成する。
また、2層膜として形成する場合には、上記基板上にま
ずTi1tやZ r O,あるいはIntOlなどの高
屈折率材料の薄膜を、この屈折率n。
ずTi1tやZ r O,あるいはIntOlなどの高
屈折率材料の薄膜を、この屈折率n。
との関係において、光学的膜厚d、を、n+ d。
=λ/2 (ただし、λは設計波長で500〜580
nm)と設定して形成し、つぎにこの高屈折率薄膜上に
前記単層の場合と同様の低屈折率薄膜を積層させること
により、2層膜の形成が行われる。
nm)と設定して形成し、つぎにこの高屈折率薄膜上に
前記単層の場合と同様の低屈折率薄膜を積層させること
により、2層膜の形成が行われる。
なお、3層膜以上の場合でも、まず基板側に屈折率の高
い薄膜を形成し、順次中屈折率層、たとえばA1z’O
sやMgO1Y20.などの薄膜を形成後、上記低屈折
率薄膜を積層することが行われる。つまり、上記いずれ
の場合でも最上層は低屈折率薄膜を形成することによっ
て反射防止板が構成される。
い薄膜を形成し、順次中屈折率層、たとえばA1z’O
sやMgO1Y20.などの薄膜を形成後、上記低屈折
率薄膜を積層することが行われる。つまり、上記いずれ
の場合でも最上層は低屈折率薄膜を形成することによっ
て反射防止板が構成される。
ところで、上述のように構成される反射防止板は、その
反射防止層となる薄膜の形成に際し、膜厚の制御を基板
を取りかえる毎あるいは少数枚毎に行わなければ所望厚
さの薄膜が得られないという問題があり、このため歩留
りが悪く生産性が低いものとなっていた。
反射防止層となる薄膜の形成に際し、膜厚の制御を基板
を取りかえる毎あるいは少数枚毎に行わなければ所望厚
さの薄膜が得られないという問題があり、このため歩留
りが悪く生産性が低いものとなっていた。
また、従来の方法では、曲面などを有する基板に対して
は均一な厚さの薄膜の形成が困難であり、さらに薄膜と
基板との密着性が小さく、実用上問題となるものであっ
た。
は均一な厚さの薄膜の形成が困難であり、さらに薄膜と
基板との密着性が小さく、実用上問題となるものであっ
た。
この発明は、上記従来の事情に鑑み、基板すなわち通常
の平板または曲面を有する基板表面上に均一性のすぐれ
た所望厚さの反射防止層を効率よく形成でき、しかもこ
の反射防止層と基板との密着性を大幅に改善しうる反射
防止層形成用フィルムと、このフィルムを用いた反射防
止板の製造方法を提供することを目的としている。
の平板または曲面を有する基板表面上に均一性のすぐれ
た所望厚さの反射防止層を効率よく形成でき、しかもこ
の反射防止層と基板との密着性を大幅に改善しうる反射
防止層形成用フィルムと、このフィルムを用いた反射防
止板の製造方法を提供することを目的としている。
この発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討
した結果、プラスチックフィルム表面上に低屈折率薄膜
を単層として、またはプラスチックフィルム表面上に低
屈折率薄膜とこの薄膜より高い屈折率を有する高屈折率
薄膜とを順次積層して多層とした所望膜厚の反射防止層
形成用薄膜を設けてなる反射防止層形成用フィルムを作
製し、このフィルムにおける上記の反射防止層形成用薄
膜を接着剤層を介して透明性基板と接着したのち、上記
プラスチックフィルムを剥離するようにすれば、所望膜
厚の反射防止層形成用薄膜が通常の透明性基板上あるい
は曲面を有する透明性基板上に反転接着されて好適な反
射防止層が形成され、しかもこの反射防止層は接着剤に
よって基板との密着性が大幅に高められたものとなるこ
とを知り、この発明を完成するに至った。
した結果、プラスチックフィルム表面上に低屈折率薄膜
を単層として、またはプラスチックフィルム表面上に低
屈折率薄膜とこの薄膜より高い屈折率を有する高屈折率
薄膜とを順次積層して多層とした所望膜厚の反射防止層
形成用薄膜を設けてなる反射防止層形成用フィルムを作
製し、このフィルムにおける上記の反射防止層形成用薄
膜を接着剤層を介して透明性基板と接着したのち、上記
プラスチックフィルムを剥離するようにすれば、所望膜
厚の反射防止層形成用薄膜が通常の透明性基板上あるい
は曲面を有する透明性基板上に反転接着されて好適な反
射防止層が形成され、しかもこの反射防止層は接着剤に
よって基板との密着性が大幅に高められたものとなるこ
とを知り、この発明を完成するに至った。
すなわち、この発明は、プラスチックフィルム表面上に
低屈折率薄膜を単層として、またはプラスチックフィル
ム表面上に低屈折率薄膜とこの薄膜より高い屈折率を有
する高屈折率薄膜とを順次積層して多層とした反射防止
層形成用薄膜を設けてなる反射防止層形成用フィルムに
係る第1の発明と、このフィルムを構成するプラスチッ
クフィルム表面上の反射防止層形成用薄膜を接着剤層を
介して透明性基板と接着したのち、上記プラスチックフ
ィルムを剥離することを特徴とする反射防止板の製造方
法に係る第2の発明とからなるものである。
低屈折率薄膜を単層として、またはプラスチックフィル
ム表面上に低屈折率薄膜とこの薄膜より高い屈折率を有
する高屈折率薄膜とを順次積層して多層とした反射防止
層形成用薄膜を設けてなる反射防止層形成用フィルムに
係る第1の発明と、このフィルムを構成するプラスチッ
クフィルム表面上の反射防止層形成用薄膜を接着剤層を
介して透明性基板と接着したのち、上記プラスチックフ
ィルムを剥離することを特徴とする反射防止板の製造方
法に係る第2の発明とからなるものである。
以下、この発明を第1〜4図を参考にして詳しく説明す
る。第1図はこの発明に係る単層とした反射防止層形成
用フィルムの構成を示し、第3図は同じく多層とした反
射防止層形成用フィルムの構成を示すもので、図中、1
はプラスチックフィルム、2はこのフィルム1表面上に
形成された低屈折率薄膜、3はこの低屈折率薄膜2上に
積層された高屈折率薄膜である。
る。第1図はこの発明に係る単層とした反射防止層形成
用フィルムの構成を示し、第3図は同じく多層とした反
射防止層形成用フィルムの構成を示すもので、図中、1
はプラスチックフィルム、2はこのフィルム1表面上に
形成された低屈折率薄膜、3はこの低屈折率薄膜2上に
積層された高屈折率薄膜である。
また、第2図と第4図は各々単層あるいは多層とした反
射防止層形成用フィルムの低屈折率薄膜2の表面2aあ
るいは高屈折率薄膜3の表面3aに接着剤層4を介して
透明性基板5を接着したのち、上記プラスチックフィル
ム1を剥離する態様を示している。
射防止層形成用フィルムの低屈折率薄膜2の表面2aあ
るいは高屈折率薄膜3の表面3aに接着剤層4を介して
透明性基板5を接着したのち、上記プラスチックフィル
ム1を剥離する態様を示している。
すなわち、この発明は、プラスチックフィルム1の表面
上に低屈折率薄膜2からなる単層または通常の反射防止
板における積層膜、つまり最上層を低屈折率薄膜で構成
する多層体とは逆の順序で積層してなる反射防止層形成
用フィルムと、さらにこのフィルム表面上の単層または
多層薄膜を反転させるように透明性基板5に接着させ、
しかるのち上記プラスチックフィルム1を剥離して所望
の反射防止層を基板5上に形成させる新規な反射防止板
の製造方法を提供するものである。
上に低屈折率薄膜2からなる単層または通常の反射防止
板における積層膜、つまり最上層を低屈折率薄膜で構成
する多層体とは逆の順序で積層してなる反射防止層形成
用フィルムと、さらにこのフィルム表面上の単層または
多層薄膜を反転させるように透明性基板5に接着させ、
しかるのち上記プラスチックフィルム1を剥離して所望
の反射防止層を基板5上に形成させる新規な反射防止板
の製造方法を提供するものである。
上記この発明におけるプラスチックフィルム1としては
、上記単層または多層の反射防止層形成用薄膜が連続し
て作製できるものであればどのようなものでもよく特に
限定されない。しかし、上記積層または多層として低、
高などの屈折率を有する薄膜を形成する際の耐熱性や上
記透明性基板5を接着したのちの剥離強度などの点から
みて、厚みが通常10〜250μm程度のポリエチレン
テレフタレート(PET) 、ポリイミド(PI)、ポ
リテトラフルオロエチレン(PTFE)などが好ましい
。
、上記単層または多層の反射防止層形成用薄膜が連続し
て作製できるものであればどのようなものでもよく特に
限定されない。しかし、上記積層または多層として低、
高などの屈折率を有する薄膜を形成する際の耐熱性や上
記透明性基板5を接着したのちの剥離強度などの点から
みて、厚みが通常10〜250μm程度のポリエチレン
テレフタレート(PET) 、ポリイミド(PI)、ポ
リテトラフルオロエチレン(PTFE)などが好ましい
。
この発明において上記プラスチックフィルム1の表面上
に形成させる薄膜は、単層あるいは多層にかかわらずま
ず低屈折率材料の薄膜2を形成する。これは、単層ある
いは多層として反射防止層形成用フィルムを作製したの
ち、反射防止層として効果的な低屈折率薄膜2が最上層
となるように透明性基板5に反転して接着させるためで
ある。
に形成させる薄膜は、単層あるいは多層にかかわらずま
ず低屈折率材料の薄膜2を形成する。これは、単層ある
いは多層として反射防止層形成用フィルムを作製したの
ち、反射防止層として効果的な低屈折率薄膜2が最上層
となるように透明性基板5に反転して接着させるためで
ある。
このような低屈折率材料としては、前記MgF2、Si
O2などの屈折率が通常1.35〜1.5程度のものが
対象となり、その薄膜の膜厚は反射防止効果があれば特
に制限されるものではないが、通常は前記屈折率との関
係において光学的膜厚nd=λ/4として設定される。
O2などの屈折率が通常1.35〜1.5程度のものが
対象となり、その薄膜の膜厚は反射防止効果があれば特
に制限されるものではないが、通常は前記屈折率との関
係において光学的膜厚nd=λ/4として設定される。
この低屈折率薄膜2は、プラスチックフィルム1と接し
て形成されるが、上記のように透明性基板5と接着され
たのち、この低屈折率薄膜2と接するプラスチックフィ
ルム1は剥離されるので、この観点からは両者の密着力
は小さい方が望ましい。しかし、あまり密着力が小さい
とこの薄膜の形成時あるいは形成後にクラックが発生し
容易に剥離してしまうため、実際的には上記透明性基板
5へ接着する際の接着力よりも小さい程度の密着力があ
ればよい。
て形成されるが、上記のように透明性基板5と接着され
たのち、この低屈折率薄膜2と接するプラスチックフィ
ルム1は剥離されるので、この観点からは両者の密着力
は小さい方が望ましい。しかし、あまり密着力が小さい
とこの薄膜の形成時あるいは形成後にクラックが発生し
容易に剥離してしまうため、実際的には上記透明性基板
5へ接着する際の接着力よりも小さい程度の密着力があ
ればよい。
また、上記低屈折率薄膜2と積層される高屈折率薄膜3
は、前記Tie、やZrO,あるいはIn2O3などの
屈折率が透明性基板5のそれよりも高くなる、通常1.
8〜2.4程度の屈折率を有する材料からなり、その膜
厚は通常前記屈折率との関係において、光学的膜厚n+
a、=λ/2として設定される。
は、前記Tie、やZrO,あるいはIn2O3などの
屈折率が透明性基板5のそれよりも高くなる、通常1.
8〜2.4程度の屈折率を有する材料からなり、その膜
厚は通常前記屈折率との関係において、光学的膜厚n+
a、=λ/2として設定される。
なお、これらの低、高屈折率薄膜2.3以外に前記中屈
折率薄膜を介入させて反射防止層形成用薄膜を構成して
もよく、このような膜構成は目的に応じ任意に設計され
る。
折率薄膜を介入させて反射防止層形成用薄膜を構成して
もよく、このような膜構成は目的に応じ任意に設計され
る。
上記低、高屈折率薄膜2.3あるいは中屈折率薄膜のプ
ラスチックフィルム1表面上への形成は、真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンブレーティング法、気相成長
法(CV D)などによって行われる。これら方法で形
成される低屈折率薄膜2とプラスチックフィルム1との
密着力は、一般に180度剥離接着力で10〜500g
/c[II程度である。
ラスチックフィルム1表面上への形成は、真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンブレーティング法、気相成長
法(CV D)などによって行われる。これら方法で形
成される低屈折率薄膜2とプラスチックフィルム1との
密着力は、一般に180度剥離接着力で10〜500g
/c[II程度である。
この発明において上記の反射防止層形成用薄膜と透明性
基板5とを接着させるための接着剤層4の接着強度は、
上記両者の接着後において剥離されるプラスチックフィ
ルム1の抗力よりも大きく、かつ剥離に伴う張力などに
充分耐えるものでなければならないため、接着強度のか
なり大きいものが望まれる。
基板5とを接着させるための接着剤層4の接着強度は、
上記両者の接着後において剥離されるプラスチックフィ
ルム1の抗力よりも大きく、かつ剥離に伴う張力などに
充分耐えるものでなければならないため、接着強度のか
なり大きいものが望まれる。
しかし、剥離されるプラスチックフィルム1の表面上へ
の低屈折率薄膜2の形成は、上記真空蒸着法などで行わ
れるので、これら相互間の密着力は既述のとおり比較的
小さいものであり、このため通常使用される一般の接着
剤、たとえばアクリル系、メラミン系、フェノール系、
エポキシ系、シアノアクリレート系、ウレタン系、ポリ
エステル系などの接着剤を用いることにより、上記目的
が適えられる。
の低屈折率薄膜2の形成は、上記真空蒸着法などで行わ
れるので、これら相互間の密着力は既述のとおり比較的
小さいものであり、このため通常使用される一般の接着
剤、たとえばアクリル系、メラミン系、フェノール系、
エポキシ系、シアノアクリレート系、ウレタン系、ポリ
エステル系などの接着剤を用いることにより、上記目的
が適えられる。
この発明における透明性基板5としては、ガラスや、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル樹脂
、ポリテトラフルオロエチレン、トリアセテートなどの
プラスチックからなるシート、フィルム、その他の成形
品が用いられ、透明性を保持しうる限りその厚みは特に
限定されず、用途目的に応じて適宜選択される。
リエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル樹脂
、ポリテトラフルオロエチレン、トリアセテートなどの
プラスチックからなるシート、フィルム、その他の成形
品が用いられ、透明性を保持しうる限りその厚みは特に
限定されず、用途目的に応じて適宜選択される。
このように構成されるこの発明の反射防止層形成用フィ
ルムと、このフィルムを用いて製造される反射防止板は
、意識的に上記プラスチックフィルム1と、低屈折率薄
膜2を接点とする単層または多層からなる反射防止層形
成用薄膜との低密着性を利用して行うものであって、具
体的には、上記フィルム1表面上の反射防止層形成用薄
膜を接着剤層4を介して透明性基板5へ反転させるよう
に接着させ、その後上記プラスチックフィルムlを剥離
して所望の反射防止層を透明性基板5に形成させるもの
である。
ルムと、このフィルムを用いて製造される反射防止板は
、意識的に上記プラスチックフィルム1と、低屈折率薄
膜2を接点とする単層または多層からなる反射防止層形
成用薄膜との低密着性を利用して行うものであって、具
体的には、上記フィルム1表面上の反射防止層形成用薄
膜を接着剤層4を介して透明性基板5へ反転させるよう
に接着させ、その後上記プラスチックフィルムlを剥離
して所望の反射防止層を透明性基板5に形成させるもの
である。
したがって、反射防止板の製造が容易であるばかりでな
く、たとえば透明性基板5が曲面を有するものであって
も何ら支障なく反射防止層の形成ができ、かつ接着剤を
用いて反射防止層と透明性基板5とを接着させているの
で、その密着性は強力なものとなる。
く、たとえば透明性基板5が曲面を有するものであって
も何ら支障なく反射防止層の形成ができ、かつ接着剤を
用いて反射防止層と透明性基板5とを接着させているの
で、その密着性は強力なものとなる。
以上のように、この発明は、プラスチックフィルム表面
上に反射防止層形成用薄膜を設けてなる反射防止層形成
用フィルムを作製し、このフィルムにおける上記薄膜を
透明性基板に反転させて接着するとともに上記プラスチ
ックフィルムを剥離して反射防止板を製造するようにし
たことにより、所望の反射防止層を透明性基板の形状に
拘束されることなく転着させるだけで容易に反射防止板
が製造でき、たとえば2次曲面を有する基板上への適用
も可能となる。
上に反射防止層形成用薄膜を設けてなる反射防止層形成
用フィルムを作製し、このフィルムにおける上記薄膜を
透明性基板に反転させて接着するとともに上記プラスチ
ックフィルムを剥離して反射防止板を製造するようにし
たことにより、所望の反射防止層を透明性基板の形状に
拘束されることなく転着させるだけで容易に反射防止板
が製造でき、たとえば2次曲面を有する基板上への適用
も可能となる。
以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。
する。
実施例1
真空度を5 X 10−’To r rとした真空蒸着
槽内に屈折率no=1.69、厚さ100μmのPET
フィルムをセットし、このPETフィルム表面上に屈折
率n=1.38、光学的膜厚が95nmのMgFz薄膜
を形成した。なお、このPETフィルムとMgF、薄膜
との密着力は、180度方角の引き剥がし試験において
20g/amであった。
槽内に屈折率no=1.69、厚さ100μmのPET
フィルムをセットし、このPETフィルム表面上に屈折
率n=1.38、光学的膜厚が95nmのMgFz薄膜
を形成した。なお、このPETフィルムとMgF、薄膜
との密着力は、180度方角の引き剥がし試験において
20g/amであった。
一方、上記のように形成したPETフィルム表面上のM
gF、薄膜面を、屈折率n3=15z、厚さ1μmのガ
ラス板表面へエポキシ系接着剤を用いて貼り付けたのち
、上記PETフィルムのみを引き剥がすことにより上記
ガラス板とMgF。
gF、薄膜面を、屈折率n3=15z、厚さ1μmのガ
ラス板表面へエポキシ系接着剤を用いて貼り付けたのち
、上記PETフィルムのみを引き剥がすことにより上記
ガラス板とMgF。
薄膜からなる単層反射防止板を作製した。
この反射防止板の表面は、平滑度にすぐれ、かつ最小反
射率波長領域で青紫色の反射光を呈した。
射率波長領域で青紫色の反射光を呈した。
また設計波長530nmにおける分光反射率は1.5%
であった。
であった。
実施例2
実施例1と同様のPETフィルム表面上に実施例1と同
様のMgF、薄膜を形成し、ついでスパッタリングによ
りこのMgF2薄膜上に屈折率n、=2.0のIn2O
3薄膜を光学的膜厚が120n−となるように形成した
。このPETフィルムとMgF、薄膜上のIn、03薄
膜面を、実施例1と同様のガラス板表面にシアノアクリ
レート系接着剤を用いて貼り付けたのち、上記PETフ
ィルムのみを引き剥がすことにより上記ガラス板とIn
、O,薄膜およびMgF、薄膜からなる多層反射防止板
を作製した。この反射防止板の設計波長530+vにお
ける分光反射率は約1%であった。
様のMgF、薄膜を形成し、ついでスパッタリングによ
りこのMgF2薄膜上に屈折率n、=2.0のIn2O
3薄膜を光学的膜厚が120n−となるように形成した
。このPETフィルムとMgF、薄膜上のIn、03薄
膜面を、実施例1と同様のガラス板表面にシアノアクリ
レート系接着剤を用いて貼り付けたのち、上記PETフ
ィルムのみを引き剥がすことにより上記ガラス板とIn
、O,薄膜およびMgF、薄膜からなる多層反射防止板
を作製した。この反射防止板の設計波長530+vにお
ける分光反射率は約1%であった。
第1図はこの発明のプラスチックフィルム表面上に単層
として反射防止層形成用薄膜を形成した状態を示す断面
図、第2図は上記第1図のものに接着剤層を介して透明
性基板を接着後、上記プラスチックフィルムを剥離する
態様を示す断面図、第3図はこの発明のプラスチックフ
ィルム表面上に多層として反射防止層形成用薄膜を形成
した状態を示す断面図、第4図は上記第3図のものに接
着剤層を介して透明性基板を接着後、上記プラスチック
フィルムを剥離する態様を示す断面図である。 1・・・プラスチックフィルム、2・・・低屈折率薄膜
、3・・・高屈折率薄膜、4・・・接着剤層、5・・・
透明性基板 特許出願人 日東電気工業株式会社 第1図 1.プラス÷ツフフ4ルム 2 : イ6ご圧寸t1もヒ シi′B騙ヒ4:掲蒐を
1局 5:3JI!L1)馴1美坂 3:ん忌粧6簿咳
として反射防止層形成用薄膜を形成した状態を示す断面
図、第2図は上記第1図のものに接着剤層を介して透明
性基板を接着後、上記プラスチックフィルムを剥離する
態様を示す断面図、第3図はこの発明のプラスチックフ
ィルム表面上に多層として反射防止層形成用薄膜を形成
した状態を示す断面図、第4図は上記第3図のものに接
着剤層を介して透明性基板を接着後、上記プラスチック
フィルムを剥離する態様を示す断面図である。 1・・・プラスチックフィルム、2・・・低屈折率薄膜
、3・・・高屈折率薄膜、4・・・接着剤層、5・・・
透明性基板 特許出願人 日東電気工業株式会社 第1図 1.プラス÷ツフフ4ルム 2 : イ6ご圧寸t1もヒ シi′B騙ヒ4:掲蒐を
1局 5:3JI!L1)馴1美坂 3:ん忌粧6簿咳
Claims (2)
- (1)プラスチックフィルム表面上に低屈折率薄膜を単
層として、またはプラスチックフィルム表面上に低屈折
率薄膜とこの薄膜より高い屈折率を有する高屈折率薄膜
とを順次積層して多層とした反射防止層形成用薄膜を設
けてなる反射防止層形成用フィルム。 - (2)請求項(1)に記載のプラスチックフィルム表面
上の反射防止層形成用薄膜を接着剤層を介して透明性基
板と接着したのち、上記プラスチックフィルムを剥離す
ることを特徴とする反射防止板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63138642A JPH01307701A (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 反射防止層形成用フイルムとこのフイルムを用いた反射防止板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63138642A JPH01307701A (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 反射防止層形成用フイルムとこのフイルムを用いた反射防止板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01307701A true JPH01307701A (ja) | 1989-12-12 |
Family
ID=15226782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63138642A Pending JPH01307701A (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 反射防止層形成用フイルムとこのフイルムを用いた反射防止板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01307701A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08101302A (ja) * | 1994-09-30 | 1996-04-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止シート及びその製造方法 |
JP2008296591A (ja) * | 2008-07-30 | 2008-12-11 | Kuraray Co Ltd | 感圧転写材、その製造方法及び転写物 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5050942A (ja) * | 1973-09-04 | 1975-05-07 | ||
JPS5494905A (en) * | 1978-01-10 | 1979-07-27 | Teijin Ltd | Laminated material for thin layer transfer |
JPS54151457A (en) * | 1978-05-19 | 1979-11-28 | Nec Corp | Forming method of reflection reducing coating |
JPS61292181A (ja) * | 1986-03-11 | 1986-12-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 透明型ホログラム転写シ−ト |
JPS6364001A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-22 | Teijin Ltd | 光学薄膜の製造方法 |
-
1988
- 1988-06-06 JP JP63138642A patent/JPH01307701A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5050942A (ja) * | 1973-09-04 | 1975-05-07 | ||
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JP2008296591A (ja) * | 2008-07-30 | 2008-12-11 | Kuraray Co Ltd | 感圧転写材、その製造方法及び転写物 |
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