JPH0130226B2 - - Google Patents
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- JPH0130226B2 JPH0130226B2 JP57130456A JP13045682A JPH0130226B2 JP H0130226 B2 JPH0130226 B2 JP H0130226B2 JP 57130456 A JP57130456 A JP 57130456A JP 13045682 A JP13045682 A JP 13045682A JP H0130226 B2 JPH0130226 B2 JP H0130226B2
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- Japan
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- magnetic disk
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- aluminum alloy
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73917—Metallic substrates, i.e. elemental metal or metal alloy substrates
- G11B5/73919—Aluminium or titanium elemental or alloy substrates
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は高密度記録用磁気デイスク装置に用い
る磁気デイスク媒体用基板の製造方法の改良に関
し、更に詳しくは磁気デイスク媒体用基板表面の
摩擦係数および吸着力を極小にしてヘツドクラツ
シユ等を確実に防止できる磁気デイスク媒体用基
板の製造方法に関する。 従来の、磁気デイスク媒体用基板表面に、磁性
薄膜を形成して成る磁気デイスク媒体は、アルミ
合金円板を研削あるいは旋削で仕上げた後、表面
をアルマイト化して被加工面を硬質化し、研削、
ラツプ、ポリシユなどにより鏡面仕上げ、すなわ
ちRmax0.02μm以下、Ra0.005μm以下にしたも
のが用いられている。 また、このような磁気デイスク媒体用基板上に
形成する磁性薄膜は合金、金属酸化物、金属窒化
物のいずれかであり膜厚は0.2μm以下の薄膜が実
用に供されている。さらに磁性膜を保護するため
に、保護膜を形成する場合でも膜厚は0.1μm以下
のものが用いられている。したがつて、基板上に
形成される総膜厚は0.3μm以下である。そして、
鏡面仕上げ基板上に0.3μm以下の膜を形成した場
合の面精度はやはり鏡面に近くなる。このような
鏡面に近い磁気デイスク媒体はコンタクトスター
トストツプ形の磁気ヘツドとの間で、摩擦係数が
大きくなり、装置の作動停止時にデイスク表面の
潤滑剤あるいは吸着水蒸気の存在のため、強い吸
着を生じ、次の起動時磁気ヘツド及び磁気デイス
クに損傷を与えることがある。このような損傷は
以後ヘツドクラツシユに発展し、装置としての機
能を損う要因となる。 かかる吸着力を小さくさせるには、磁気デイス
ク媒体用基板の表面精度を粗くすればよいが、通
常の機械加工による手法で表面粗さを、適度に粗
くした場合は、凹部のみならず同程度の凸部も形
成され、磁気ヘツド浮上安定性が損われ、やはり
ヘツドクラツシユに至ることがある。 本発明は磁気デイスク媒体用基板の表面に適度
の精度で凹部のみが形成され、媒体表面の摩擦係
数と吸着力を小さくできる磁気デイスク媒体用基
板の製造方法を提供しようとするものであつて、
その構成は表面をアルマイト層で被覆したアルミ
ニウム合金基板上に磁性薄膜を形成してなる磁気
デイスク媒体用基板を製造するに当り、上記アル
マイト層で被覆したアルミニウム合金基板表面を
鏡面仕上げ後、得られた鏡面仕上げ面をエツチン
グし、表面精度がRa0.007〜0.14μmの凹部を形成
せしめたことを特徴とするものである。 本発明磁気デイスク媒体用基板の製造方法にお
いては、アルマイト層で被覆したアルミニウム合
金基板の鏡面仕上げ面のエツチングを、O2、Ar2
又はこれらの混合ガス雰囲気中でプラズマエツチ
ングで行う場合は、特に正確にエツチングするこ
とができる。 次に、図面を参照し従来例との比較において、
本発明の実施例について説明する。 第１図ａは従来のラツプ・ポリシユ法で鏡面仕
上げした表面に膜厚2μmのアルマイト層を有する
アルマイト被覆アルミ合金基板の表面精度を示す
グラフであり凹凸の少ないなめらかな表面になつ
ている。第１図ｂは本発明に係る基板表面の精度
を示すグラフであり上記第１図ａの基板をプラズ
マエツチング装置に入れ、O2雰囲気9pa、RF電
力密度0.2W／cm2で１時間エツチングしたもので
あり、この間平均0.08μmエツチングされている。 そして第１図ｂから明らかなように、
Rmax0.11μm、Ra0.01μmの凹部が形成され、磁
気ヘツドの浮上安定性を損なう凸部は見られなか
つた。このような凹部はエツチング時間によりど
のような深さにも形成できる。 上述したように、基板表面を凹部のみを有する
一定の表面精度に仕上げるには、基板表面を一度
鏡面仕上げした後に、O2、Ar又はこれらの混合
ガス雰囲気中でプラズマエツチングすればよい。 次に、第２図および第３図にプラズマエツチン
グの例を示す。 第２図は、アルミニウム合金基板の表面をアル
マイトで被覆し、鏡面仕上げした後に、O2雰囲
気9pa、RF電力密度0.2W／cm2でプラズマエツチ
ングして得られた基板のエツチング時間と基板表
面粗さをグラフに示す。この図からエツチング時
間を変えるのみで所望の凹部深さを有する基板の
得られることがわかる。なお、RF電力密度を増
せばさらにエツチレートを上げることも可能であ
るが、基板面の温度が上昇しアルマイト層にクラ
ツクを発生することがあり、0.5W／cm2以上では
良好な面が得られない。 第３図は鏡面仕上げしたアルマイト被覆アルミ
合金基板をAr雰囲気9pa、RF電力密度0.2W／cm2
でプラズマエツチングした場合の、エツチング時
間と基板表面粗さをグラフに示す。第３図におい
てもO2雰囲気とほぼ同様の傾向を示すことがわ
かる。またO2とArの混合ガスを用いても同様な
エツチング時間と基板表面粗さの関係が得られ
る。 次に、上記基板を用いた磁気デイスク媒体を従
来のものと比較すると、その摩擦係数、吸着力に
ついて以下の如く顕著な差異がみられる。 まず前述のようにプラズマエツチングにより基
板表面に凹部のみを形成し所定の表面精度にした
基板上に反応スパツタ及び熱処理により0.17μm
のγ―Fe2O3磁性薄膜を施した磁気デイスク媒体
の試料を作成した。同様に従来の鏡面仕上げした
基板上に0.17μmのγ―Fe2O3磁性薄膜を形成した
磁気デイスク媒体の試料を作成した。これら各試
料につき、その表面に液体潤滑剤の希釈液を塗布
したときの磁気ヘツドとの摩擦係数及び吸着力を
測定した。その結果を第１表に示す。尚液体潤滑
剤としてはデユポン社のクライトツクスACを用
いた。また、各試料については基板表面精度が、
Ra0.005、0.007、0.010、0.014のものをそれぞれ
用い、この４種の試料に0.17μmのγ―Fe2O3を形
成したものに、クライトツクスACのフレオン溶
液0.005、0.01、0.1、0.5％の潤滑剤を塗布し、そ
れぞれの試料についてテーパフラツト形Mn―Zn
フエライトヘツド（負荷6gf）との摩擦係数を調
べた。
る磁気デイスク媒体用基板の製造方法の改良に関
し、更に詳しくは磁気デイスク媒体用基板表面の
摩擦係数および吸着力を極小にしてヘツドクラツ
シユ等を確実に防止できる磁気デイスク媒体用基
板の製造方法に関する。 従来の、磁気デイスク媒体用基板表面に、磁性
薄膜を形成して成る磁気デイスク媒体は、アルミ
合金円板を研削あるいは旋削で仕上げた後、表面
をアルマイト化して被加工面を硬質化し、研削、
ラツプ、ポリシユなどにより鏡面仕上げ、すなわ
ちRmax0.02μm以下、Ra0.005μm以下にしたも
のが用いられている。 また、このような磁気デイスク媒体用基板上に
形成する磁性薄膜は合金、金属酸化物、金属窒化
物のいずれかであり膜厚は0.2μm以下の薄膜が実
用に供されている。さらに磁性膜を保護するため
に、保護膜を形成する場合でも膜厚は0.1μm以下
のものが用いられている。したがつて、基板上に
形成される総膜厚は0.3μm以下である。そして、
鏡面仕上げ基板上に0.3μm以下の膜を形成した場
合の面精度はやはり鏡面に近くなる。このような
鏡面に近い磁気デイスク媒体はコンタクトスター
トストツプ形の磁気ヘツドとの間で、摩擦係数が
大きくなり、装置の作動停止時にデイスク表面の
潤滑剤あるいは吸着水蒸気の存在のため、強い吸
着を生じ、次の起動時磁気ヘツド及び磁気デイス
クに損傷を与えることがある。このような損傷は
以後ヘツドクラツシユに発展し、装置としての機
能を損う要因となる。 かかる吸着力を小さくさせるには、磁気デイス
ク媒体用基板の表面精度を粗くすればよいが、通
常の機械加工による手法で表面粗さを、適度に粗
くした場合は、凹部のみならず同程度の凸部も形
成され、磁気ヘツド浮上安定性が損われ、やはり
ヘツドクラツシユに至ることがある。 本発明は磁気デイスク媒体用基板の表面に適度
の精度で凹部のみが形成され、媒体表面の摩擦係
数と吸着力を小さくできる磁気デイスク媒体用基
板の製造方法を提供しようとするものであつて、
その構成は表面をアルマイト層で被覆したアルミ
ニウム合金基板上に磁性薄膜を形成してなる磁気
デイスク媒体用基板を製造するに当り、上記アル
マイト層で被覆したアルミニウム合金基板表面を
鏡面仕上げ後、得られた鏡面仕上げ面をエツチン
グし、表面精度がRa0.007〜0.14μmの凹部を形成
せしめたことを特徴とするものである。 本発明磁気デイスク媒体用基板の製造方法にお
いては、アルマイト層で被覆したアルミニウム合
金基板の鏡面仕上げ面のエツチングを、O2、Ar2
又はこれらの混合ガス雰囲気中でプラズマエツチ
ングで行う場合は、特に正確にエツチングするこ
とができる。 次に、図面を参照し従来例との比較において、
本発明の実施例について説明する。 第１図ａは従来のラツプ・ポリシユ法で鏡面仕
上げした表面に膜厚2μmのアルマイト層を有する
アルマイト被覆アルミ合金基板の表面精度を示す
グラフであり凹凸の少ないなめらかな表面になつ
ている。第１図ｂは本発明に係る基板表面の精度
を示すグラフであり上記第１図ａの基板をプラズ
マエツチング装置に入れ、O2雰囲気9pa、RF電
力密度0.2W／cm2で１時間エツチングしたもので
あり、この間平均0.08μmエツチングされている。 そして第１図ｂから明らかなように、
Rmax0.11μm、Ra0.01μmの凹部が形成され、磁
気ヘツドの浮上安定性を損なう凸部は見られなか
つた。このような凹部はエツチング時間によりど
のような深さにも形成できる。 上述したように、基板表面を凹部のみを有する
一定の表面精度に仕上げるには、基板表面を一度
鏡面仕上げした後に、O2、Ar又はこれらの混合
ガス雰囲気中でプラズマエツチングすればよい。 次に、第２図および第３図にプラズマエツチン
グの例を示す。 第２図は、アルミニウム合金基板の表面をアル
マイトで被覆し、鏡面仕上げした後に、O2雰囲
気9pa、RF電力密度0.2W／cm2でプラズマエツチ
ングして得られた基板のエツチング時間と基板表
面粗さをグラフに示す。この図からエツチング時
間を変えるのみで所望の凹部深さを有する基板の
得られることがわかる。なお、RF電力密度を増
せばさらにエツチレートを上げることも可能であ
るが、基板面の温度が上昇しアルマイト層にクラ
ツクを発生することがあり、0.5W／cm2以上では
良好な面が得られない。 第３図は鏡面仕上げしたアルマイト被覆アルミ
合金基板をAr雰囲気9pa、RF電力密度0.2W／cm2
でプラズマエツチングした場合の、エツチング時
間と基板表面粗さをグラフに示す。第３図におい
てもO2雰囲気とほぼ同様の傾向を示すことがわ
かる。またO2とArの混合ガスを用いても同様な
エツチング時間と基板表面粗さの関係が得られ
る。 次に、上記基板を用いた磁気デイスク媒体を従
来のものと比較すると、その摩擦係数、吸着力に
ついて以下の如く顕著な差異がみられる。 まず前述のようにプラズマエツチングにより基
板表面に凹部のみを形成し所定の表面精度にした
基板上に反応スパツタ及び熱処理により0.17μm
のγ―Fe2O3磁性薄膜を施した磁気デイスク媒体
の試料を作成した。同様に従来の鏡面仕上げした
基板上に0.17μmのγ―Fe2O3磁性薄膜を形成した
磁気デイスク媒体の試料を作成した。これら各試
料につき、その表面に液体潤滑剤の希釈液を塗布
したときの磁気ヘツドとの摩擦係数及び吸着力を
測定した。その結果を第１表に示す。尚液体潤滑
剤としてはデユポン社のクライトツクスACを用
いた。また、各試料については基板表面精度が、
Ra0.005、0.007、0.010、0.014のものをそれぞれ
用い、この４種の試料に0.17μmのγ―Fe2O3を形
成したものに、クライトツクスACのフレオン溶
液0.005、0.01、0.1、0.5％の潤滑剤を塗布し、そ
れぞれの試料についてテーパフラツト形Mn―Zn
フエライトヘツド（負荷6gf）との摩擦係数を調
べた。
【表】
第１表から明らかなように、従来の鏡面仕上げ
による基板（表面精度Ra0.005μm）を用いた場
合に比べ本発明に係る表面精度を有する基板
（Ra0.007〜0.014μm）の試料では潤滑剤濃度の許
合範囲（0.25以下）が広いことがわかる。 次に、表面精度の異なる基板にγ―Fe2O3を形
成しこれに前記クライトツクスACのフレオン溶
液0.1％を塗布し、テーパフラツトMn―Znフエラ
イトヘツドを負荷6gfでコンタクト・ストツプさ
せ24時間後の吸着力を測定したところ表２の結果
を得た。
による基板（表面精度Ra0.005μm）を用いた場
合に比べ本発明に係る表面精度を有する基板
（Ra0.007〜0.014μm）の試料では潤滑剤濃度の許
合範囲（0.25以下）が広いことがわかる。 次に、表面精度の異なる基板にγ―Fe2O3を形
成しこれに前記クライトツクスACのフレオン溶
液0.1％を塗布し、テーパフラツトMn―Znフエラ
イトヘツドを負荷6gfでコンタクト・ストツプさ
せ24時間後の吸着力を測定したところ表２の結果
を得た。
【表】
ここで、Raが0.014μmを超える基板のRmaxす
なわち凹みの深さは第２図から明らかなように
0.17μmを超え、本実施例のγ―Fe2O3媒体厚さに
相当する。従来からこの範囲で媒体の信号対雑音
比（SNR）が著しく大きくなることが明らかに
されており上記表面精度以上に粗くすることはむ
しろ好ましくない。一方鏡面仕上げ面の表面精度
Ra0.005μmに近い粗さの場合、摩擦係数と吸着
力の低下を期待できない。 以上、第１表および第２表から、基板の表面精
度はRa0.007〜0.014μmの範囲において最適な効
果を得られることがわかる。 本発明において前述のように摩擦係数と吸着力
が低下するのは、基板表面に形成した磁気デイス
ク面の凹部に液体潤滑剤が多量に入り長期にわた
る潤滑効果を表わすと共に、磁気ヘツドと接触す
る面積を少なくし接触面における潤滑剤及び吸着
水分による表面張力が小さくなる結果によるもの
と考えられる。 以上説明したように本発明のアルマイト被覆ア
ルミ合金基板を用いたものは、磁気デイスクの潤
滑された表面の摩擦係数と吸着力を従来の鏡面仕
上げ基板のそれと比較して著しく低くすることが
でき、摩耗や吸着によるヘツドクラツシユを防ぐ
効果が大きい利点がある。
なわち凹みの深さは第２図から明らかなように
0.17μmを超え、本実施例のγ―Fe2O3媒体厚さに
相当する。従来からこの範囲で媒体の信号対雑音
比（SNR）が著しく大きくなることが明らかに
されており上記表面精度以上に粗くすることはむ
しろ好ましくない。一方鏡面仕上げ面の表面精度
Ra0.005μmに近い粗さの場合、摩擦係数と吸着
力の低下を期待できない。 以上、第１表および第２表から、基板の表面精
度はRa0.007〜0.014μmの範囲において最適な効
果を得られることがわかる。 本発明において前述のように摩擦係数と吸着力
が低下するのは、基板表面に形成した磁気デイス
ク面の凹部に液体潤滑剤が多量に入り長期にわた
る潤滑効果を表わすと共に、磁気ヘツドと接触す
る面積を少なくし接触面における潤滑剤及び吸着
水分による表面張力が小さくなる結果によるもの
と考えられる。 以上説明したように本発明のアルマイト被覆ア
ルミ合金基板を用いたものは、磁気デイスクの潤
滑された表面の摩擦係数と吸着力を従来の鏡面仕
上げ基板のそれと比較して著しく低くすることが
でき、摩耗や吸着によるヘツドクラツシユを防ぐ
効果が大きい利点がある。
第１図ａは従来の鏡面仕上げアルマイト被覆ア
ルミ合金基板表面の粗さを示すグラフ、第１図ｂ
は本発明により適度に粗くしたアルマイト被覆ア
ルミ合金基板表面の粗さを示すグラフ、第２図は
本発明による、O2雰囲気におけるエツチング時
間と基板表面の粗さの関係を示すグラフ、第３図
は本発明による、Ar雰囲気におけるエツチング
時間と基板表面の粗さの関係を示すグラフであ
る。
ルミ合金基板表面の粗さを示すグラフ、第１図ｂ
は本発明により適度に粗くしたアルマイト被覆ア
ルミ合金基板表面の粗さを示すグラフ、第２図は
本発明による、O2雰囲気におけるエツチング時
間と基板表面の粗さの関係を示すグラフ、第３図
は本発明による、Ar雰囲気におけるエツチング
時間と基板表面の粗さの関係を示すグラフであ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 表面をアルマイト層で被覆したアルミニウム
合金基板上に磁性薄膜を形成してなる磁気デイス
ク媒体用基板を製造するに当り、上記アルマイト
層で被覆したアルミニウム合金基板表面を鏡面仕
上げ後、得られた鏡面仕上げ面をエツチングし、
表面精度がRa0.007〜0.14μmの凹部を形成せしめ
ることを特徴とする磁気デイスク媒体用基板の製
造方法。 ２ アルマイト層で被覆したアルミニウム合金基
板の鏡面仕上げ面のエツチングは、O2、Ar2又は
これらの混合ガス雰囲気中のプラズマエツチング
で行うことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の磁気デイスク媒体用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57130456A JPS5922220A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 磁気ディスク媒体用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57130456A JPS5922220A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 磁気ディスク媒体用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5922220A JPS5922220A (ja) | 1984-02-04 |
| JPH0130226B2 true JPH0130226B2 (ja) | 1989-06-16 |
Family
ID=15034668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57130456A Granted JPS5922220A (ja) | 1982-07-28 | 1982-07-28 | 磁気ディスク媒体用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5922220A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0775069B2 (ja) * | 1987-09-16 | 1995-08-09 | 富士電機株式会社 | 磁気ディスク |
| JPH0191319A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-04-11 | Noboru Tsuya | 磁気ディスクの製造方法 |
-
1982
- 1982-07-28 JP JP57130456A patent/JPS5922220A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5922220A (ja) | 1984-02-04 |
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