JPH0245243B2 - Suichokujikikirokubaitai - Google Patents
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- JPH0245243B2 JPH0245243B2 JP16319984A JP16319984A JPH0245243B2 JP H0245243 B2 JPH0245243 B2 JP H0245243B2 JP 16319984 A JP16319984 A JP 16319984A JP 16319984 A JP16319984 A JP 16319984A JP H0245243 B2 JPH0245243 B2 JP H0245243B2
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
3.1 産業上の利用分野
この発明は、アルミニウム（以下、Alとい
う。）又はAl合金の陽極酸化処理により生成され
る酸化皮膜のポア中に強磁性体を析出充填させて
なる垂直磁気記録媒体に関するものであり、とく
にハードデイスクに使用される垂直磁気記録媒体
に係るものである。
う。）又はAl合金の陽極酸化処理により生成され
る酸化皮膜のポア中に強磁性体を析出充填させて
なる垂直磁気記録媒体に関するものであり、とく
にハードデイスクに使用される垂直磁気記録媒体
に係るものである。
3.2 解決すべき課題
この種の垂直磁気記録媒体を磁気デイスクに使
用する場合、その基板としてAl合金を用いると
きは、その合金に含まれる金属間化合物や非金属
介在物などの不純物により、陽極酸化処理時はポ
アの径、長軸方向及び分布率などについて均一な
磁性膜が得られないとともに、磁性体析出処理後
の研磨時に皮膜欠陥が生じて記録エラーが生じた
り、使用時に磁気ヘツドのクラツシユを起したり
する難点があるのに対して、基板として純Alを
使用する場合は、Al合金の上記難点が排除され、
記憶の高密度化が可能であり、磁気ヘツドに対し
て平滑な表面が得られる利点を有するなどの点
を、この出願人は特願昭59−36594号明細書にお
いて明らかにした。
用する場合、その基板としてAl合金を用いると
きは、その合金に含まれる金属間化合物や非金属
介在物などの不純物により、陽極酸化処理時はポ
アの径、長軸方向及び分布率などについて均一な
磁性膜が得られないとともに、磁性体析出処理後
の研磨時に皮膜欠陥が生じて記録エラーが生じた
り、使用時に磁気ヘツドのクラツシユを起したり
する難点があるのに対して、基板として純Alを
使用する場合は、Al合金の上記難点が排除され、
記憶の高密度化が可能であり、磁気ヘツドに対し
て平滑な表面が得られる利点を有するなどの点
を、この出願人は特願昭59−36594号明細書にお
いて明らかにした。
この発明者は、この種の垂直磁気記録媒体が所
要の記録再生特性、とくに、オーバーライト特性
（記憶・消去の反復可能性）を備えるための条件
を探求する目的で、各種のアルマイト垂直磁気記
録媒体を試作して、記録再生特性の測定を行なつ
た。
要の記録再生特性、とくに、オーバーライト特性
（記憶・消去の反復可能性）を備えるための条件
を探求する目的で、各種のアルマイト垂直磁気記
録媒体を試作して、記録再生特性の測定を行なつ
た。
磁気記録媒体の評価項目の一つであるオーバー
ライト特性は、−30dB以上であることが必要であ
るが、第１図に前記測定の結果を示すように、保
磁力Hcが400（Oe）以上で−30dBの条件を満すに
は、膜厚は3μｍ以上、多数のポア中に充填され
た強磁性体からなる磁性層の厚さは、波長1.5μｍ
程度の高密度記録をさせる場合は、約2μｍ以下
（0.5〜2μｍ）が望ましいことが判明した。
ライト特性は、−30dB以上であることが必要であ
るが、第１図に前記測定の結果を示すように、保
磁力Hcが400（Oe）以上で−30dBの条件を満すに
は、膜厚は3μｍ以上、多数のポア中に充填され
た強磁性体からなる磁性層の厚さは、波長1.5μｍ
程度の高密度記録をさせる場合は、約2μｍ以下
（0.5〜2μｍ）が望ましいことが判明した。
ところで、酸化皮膜自体の硬度はHV300以上
はあるが、膜厚が2μｍ程度になると、基板に使
用されている純Alの硬度はHV80程度と小さいた
め、記録媒体の機械的強度が問題になる。すなわ
ち、その磁気記録媒体の記録面上を磁気ヘツドが
走行するときに、ゴミやほこりを巻き込んだとき
の衝撃力を酸化皮膜のみで持ちこたえることがで
きなくなつて、純Al基板素地又は下地のAl合金
を変形させることとなり、記録エラーの原因とな
つたり、記録媒体及び磁気ヘツドの耐久性を著し
く低下させる原因となつたりする。
はあるが、膜厚が2μｍ程度になると、基板に使
用されている純Alの硬度はHV80程度と小さいた
め、記録媒体の機械的強度が問題になる。すなわ
ち、その磁気記録媒体の記録面上を磁気ヘツドが
走行するときに、ゴミやほこりを巻き込んだとき
の衝撃力を酸化皮膜のみで持ちこたえることがで
きなくなつて、純Al基板素地又は下地のAl合金
を変形させることとなり、記録エラーの原因とな
つたり、記録媒体及び磁気ヘツドの耐久性を著し
く低下させる原因となつたりする。
最近、巷間に発表された高密度薄膜デイスク用
新合金（Al地金、添加成分及び製造条件を制御
して金属間化合物を微細化したもの）を基板とし
て使用するものも同様な問題がある。
新合金（Al地金、添加成分及び製造条件を制御
して金属間化合物を微細化したもの）を基板とし
て使用するものも同様な問題がある。
一方、Alの酸化皮膜は、膜厚が大きいほど硬
度が大きいことが知られている。そこで、この発
明者は、酸化皮膜の膜厚と硬度の関係を試験し
て、純Al又は下地合金の硬度に影響されること
なく、皮膜のみで実用上子障のない硬度が得られ
る膜厚を探求した結果、第２図に示すように、膜
厚が少なくとも3μｍ以上において所要の耐久性
が得られ、6μｍ以上の範囲においては、硬度が
ほぼHV350で安定して、好ましいことが判明し
た。なお、この硬度試験に用いた荷重は25ｇｆで
ある。
度が大きいことが知られている。そこで、この発
明者は、酸化皮膜の膜厚と硬度の関係を試験し
て、純Al又は下地合金の硬度に影響されること
なく、皮膜のみで実用上子障のない硬度が得られ
る膜厚を探求した結果、第２図に示すように、膜
厚が少なくとも3μｍ以上において所要の耐久性
が得られ、6μｍ以上の範囲においては、硬度が
ほぼHV350で安定して、好ましいことが判明し
た。なお、この硬度試験に用いた荷重は25ｇｆで
ある。
こうして、一面において、所要のオーバーライ
ト特性を確保するには、磁性層の厚さは約2μｍ
以下であることが必要であるが、反面において、
磁気ヘツド走行時の衝撃力に対する強度、耐久性
を有するためには、膜厚が6μｍ以上であること
が必要であるという、相矛盾する要求を満足させ
なければならないという問題に当面する。
ト特性を確保するには、磁性層の厚さは約2μｍ
以下であることが必要であるが、反面において、
磁気ヘツド走行時の衝撃力に対する強度、耐久性
を有するためには、膜厚が6μｍ以上であること
が必要であるという、相矛盾する要求を満足させ
なければならないという問題に当面する。
3.3 この発明の目的
この発明は、上記の点に鑑み、磁気記録媒体の
所要な機械的強度を備えるため膜厚を大きくした
まま、しかも所要のオーバーライト特性を備える
ため磁性層厚さを薄くすることができるようにし
て、記録再生特性及び耐久性の双方が向上された
垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。
所要な機械的強度を備えるため膜厚を大きくした
まま、しかも所要のオーバーライト特性を備える
ため磁性層厚さを薄くすることができるようにし
て、記録再生特性及び耐久性の双方が向上された
垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。
この発明は、上記の目的を達成するため、原理
的には、第３図に模写的に示すように、陽極酸化
皮膜１の膜厚を厚くしたまま、磁性層の厚さを薄
くするために、皮膜のポア２の底部に、まず、導
電性の非磁性体３を充填し、その後にその上に強
磁性体４を充填させたものである。第３図におい
て、１ａはポーラス層、１ｂはバリア層、５は基
板である。
的には、第３図に模写的に示すように、陽極酸化
皮膜１の膜厚を厚くしたまま、磁性層の厚さを薄
くするために、皮膜のポア２の底部に、まず、導
電性の非磁性体３を充填し、その後にその上に強
磁性体４を充填させたものである。第３図におい
て、１ａはポーラス層、１ｂはバリア層、５は基
板である。
ここで、酸化皮膜を厚くする目的は、磁気ヘツ
ドと記録面の間に進入することがあるゴミや埃な
どによる衝撃力に対する機械的強度を増大するこ
とにある。この観点において、低浴温、高電圧で
Alを陽極酸化処理して得られる硬質皮膜は、機
械強度及び耐摩耗性とくに優れていることが知ら
れている。従つて、この発明においても、この硬
質皮膜を使用することがとくに有効である。
ドと記録面の間に進入することがあるゴミや埃な
どによる衝撃力に対する機械的強度を増大するこ
とにある。この観点において、低浴温、高電圧で
Alを陽極酸化処理して得られる硬質皮膜は、機
械強度及び耐摩耗性とくに優れていることが知ら
れている。従つて、この発明においても、この硬
質皮膜を使用することがとくに有効である。
3.4 この発明の実施例
実施例 １
通常の方法によつてAl合金の基板に膜厚6μｍ
の標準陽極酸化皮膜を生成し、これに対して浸漬
処理を行なつて、前記皮膜に形成されたポアの径
を拡大した後、非磁性体の一例としてSnを溶解
させた電解浴を使用した電解処理によりそのポア
の底部に厚さ2μｍのSnを析出させた。さらに、
その後、Feを含む電解浴により前記ポアの残余
部分にFeを析出させた後皮膜の表面を研磨し、
皮膜全体の厚さを4μｍとした。表面に固体潤滑
材SiO2を500Aスパツタし、液体潤滑材としてデ
ユポン社の商品「クライトツクス143AC」を三井
フロロケミカル社の商品「フレオンTF」で0.5重
量％に希釈し、スピンコートした。こうして得ら
れたデイスクに対して、Mn−Zn−Fe含金のテー
パーフラツト磁気ヘツドを使用して、荷重10ｇｆ
で、CSS（コンタクト・スタート・ストツプ）試
験を行なつた。その結果、３万回以上の耐久性を
有することが確認された。
の標準陽極酸化皮膜を生成し、これに対して浸漬
処理を行なつて、前記皮膜に形成されたポアの径
を拡大した後、非磁性体の一例としてSnを溶解
させた電解浴を使用した電解処理によりそのポア
の底部に厚さ2μｍのSnを析出させた。さらに、
その後、Feを含む電解浴により前記ポアの残余
部分にFeを析出させた後皮膜の表面を研磨し、
皮膜全体の厚さを4μｍとした。表面に固体潤滑
材SiO2を500Aスパツタし、液体潤滑材としてデ
ユポン社の商品「クライトツクス143AC」を三井
フロロケミカル社の商品「フレオンTF」で0.5重
量％に希釈し、スピンコートした。こうして得ら
れたデイスクに対して、Mn−Zn−Fe含金のテー
パーフラツト磁気ヘツドを使用して、荷重10ｇｆ
で、CSS（コンタクト・スタート・ストツプ）試
験を行なつた。その結果、３万回以上の耐久性を
有することが確認された。
実施例 ２
実施例１のAl合金に代えて、純Alを使用し、
その他は実施例１と同一の条件で試験したとこ
ろ、同様に３万回以上の耐久性が確認された。
その他は実施例１と同一の条件で試験したとこ
ろ、同様に３万回以上の耐久性が確認された。
実施例 ３
実施例１のSnに代えてCuを用い、その他は実
施例１と同一の条件で試験したところ、同様な結
果が得られた。
施例１と同一の条件で試験したところ、同様な結
果が得られた。
実施例 ４
実施例１と同様に、6μｍの皮膜のポアの底部
に2μｍのSnを析出させた後、Feをオーバーフロ
ーするまで析出させ、この後、膜厚が3μｍにな
るまで研磨してから、実施例１の場合と同様に保
護用潤滑油を生成し、同様な方法によりCSS試験
を行なつたところ、２万回で磁気ヘツドクラツシ
ユを起した。
に2μｍのSnを析出させた後、Feをオーバーフロ
ーするまで析出させ、この後、膜厚が3μｍにな
るまで研磨してから、実施例１の場合と同様に保
護用潤滑油を生成し、同様な方法によりCSS試験
を行なつたところ、２万回で磁気ヘツドクラツシ
ユを起した。
実施例 ５
以上は、標準酸化皮膜を使用した場合の例であ
るが、この実施例は、10〜15％のH2SO4、液温
−５〜０℃、電圧40〜50Vで硬質陽極酸化処理を
行なつて無数のポアを有する6μｍの硬質皮膜を
生成し、以後、実施例１の場合と同様にポア径拡
大処理、非磁性体の析出処理、強磁性体の析出処
理を行ない、滑潤材の充填処理後に、表面研磨を
行ない、CSS試験を行なつたところ、標準皮膜の
５〜10培以上の高い耐久性が確認された。
るが、この実施例は、10〜15％のH2SO4、液温
−５〜０℃、電圧40〜50Vで硬質陽極酸化処理を
行なつて無数のポアを有する6μｍの硬質皮膜を
生成し、以後、実施例１の場合と同様にポア径拡
大処理、非磁性体の析出処理、強磁性体の析出処
理を行ない、滑潤材の充填処理後に、表面研磨を
行ない、CSS試験を行なつたところ、標準皮膜の
５〜10培以上の高い耐久性が確認された。
実施例 ６
この実施例も、硬質皮膜を生成する例であり、
実施例５のH2SO4代わりに、H2SO4とシユウ酸
の５対１の割合による混酸を使用し、塩温−５〜
０℃、電圧50Vで硬質陽極酸化処理を行ない、以
下、実施例５と同一条光により処理を行ない、得
られたデイスクに対して同様なCSS試験を行なつ
た。実施例５と同様な結果が得られた。
実施例５のH2SO4代わりに、H2SO4とシユウ酸
の５対１の割合による混酸を使用し、塩温−５〜
０℃、電圧50Vで硬質陽極酸化処理を行ない、以
下、実施例５と同一条光により処理を行ない、得
られたデイスクに対して同様なCSS試験を行なつ
た。実施例５と同様な結果が得られた。
実施例 ７
シユウ酸とH2SO4の割合が10対１の混酸を使
用して、液温−５〜０℃、電圧60Vの条件で硬質
陽極酸化処理を行ない、厚さ6μｍの硬質皮膜を
得、以下、実施例５と同様に実施し、CSS試験を
行なつたところ、実施例５、６と同様な結果が確
認された。
用して、液温−５〜０℃、電圧60Vの条件で硬質
陽極酸化処理を行ない、厚さ6μｍの硬質皮膜を
得、以下、実施例５と同様に実施し、CSS試験を
行なつたところ、実施例５、６と同様な結果が確
認された。
3.5 この発明の効果
以上のように、この発明者は、特願58−138686
号明細書に開示されたように、磁性層の垂直方向
保磁力Hcは、膜面に対して垂直な磁化容易方向
を維持するため、約300〜1000Oeの範囲にある必
要がある点、オーバーライト特性は−30bB以上
であることが必要である点を考慮して各種試験を
行なつた結果、磁性層の各種の厚さとオーバーラ
イト特性と保磁力との拓互関係を示す第１図から
明白なように、磁性層の厚さは、ほぼ2μｍ以下
であることが必要であること究明した。
号明細書に開示されたように、磁性層の垂直方向
保磁力Hcは、膜面に対して垂直な磁化容易方向
を維持するため、約300〜1000Oeの範囲にある必
要がある点、オーバーライト特性は−30bB以上
であることが必要である点を考慮して各種試験を
行なつた結果、磁性層の各種の厚さとオーバーラ
イト特性と保磁力との拓互関係を示す第１図から
明白なように、磁性層の厚さは、ほぼ2μｍ以下
であることが必要であること究明した。
また、実用に供しうる程度のCSS回数を示す強
度をデイスクに備えるには、膜厚は少なくとも
3μｍ以上、望ましくは、6μｍ以上であることが
必要である。従つて、ポア中に充填される非磁性
体の厚さは、皮膜全体の厚さの約30％以上を占め
るものであることが必要である。
度をデイスクに備えるには、膜厚は少なくとも
3μｍ以上、望ましくは、6μｍ以上であることが
必要である。従つて、ポア中に充填される非磁性
体の厚さは、皮膜全体の厚さの約30％以上を占め
るものであることが必要である。
この発明による磁気記録媒体は、上記のよう
に、皮膜の所要の機械的強度を有するに足る厚さ
をもつて生成され、そのポア中にその底部より所
定の厚みまで非磁性体を充填し、その後に強磁性
体を充填させてなるものであるから、優れた記録
再生特性を有し、かつ、デイスクに使用した場合
に、磁気ヘツドの走行に対して秀でた耐久性を有
する。
に、皮膜の所要の機械的強度を有するに足る厚さ
をもつて生成され、そのポア中にその底部より所
定の厚みまで非磁性体を充填し、その後に強磁性
体を充填させてなるものであるから、優れた記録
再生特性を有し、かつ、デイスクに使用した場合
に、磁気ヘツドの走行に対して秀でた耐久性を有
する。
第１図は磁性層及び保磁力との関係におけるオ
ーバーライト特性を示すグラフ、第２図は膜厚−
硬度特性を示すグラフ、第３図はこの発明による
垂直磁気記録媒体の要部の拡大模写図、第４図は
膜厚と耐久性の関係を示すグラフである。 １……陽極酸化皮膜、１ａ……ポーラス層、１
ｂ……バリア層、２……ポア、３……非磁性体、
４……強磁性体、５……基板。
ーバーライト特性を示すグラフ、第２図は膜厚−
硬度特性を示すグラフ、第３図はこの発明による
垂直磁気記録媒体の要部の拡大模写図、第４図は
膜厚と耐久性の関係を示すグラフである。 １……陽極酸化皮膜、１ａ……ポーラス層、１
ｂ……バリア層、２……ポア、３……非磁性体、
４……強磁性体、５……基板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ アルミニウム又はその合金の陽極酸化皮膜に
生成される微細孔（以下、ポアという。）中に強
磁性体を析出充填させてなる垂直磁気記録媒体に
おいて、 (イ) 前記陽極酸化皮膜を所要の機械的強度を有す
るに足る厚さに生成させ、 (ロ) その皮膜のポア中にその底部より所定の厚み
まで非磁性体を充填し、次いで強磁性体を充填
させたことを特徴とする垂直磁気記録媒体。 ２ 陽極酸化皮膜の厚さが約6μｍ以上であり、
ポアに充填されている強磁性体の厚さが約2μｍ
以下であることを特徴とする特許請求の範囲第１
項に記載の垂直磁気記録媒体。 ３ 陽極酸化皮膜が硬質皮膜であることを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載の垂直磁気記録
媒体。 ４ 非磁性体がSn、Cuなどの導電体であつて、
ポア中に析出可能な金属又は合金であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項に記載の垂直磁気
記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16319984A JPH0245243B2 (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | Suichokujikikirokubaitai |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16319984A JPH0245243B2 (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | Suichokujikikirokubaitai |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6142721A JPS6142721A (ja) | 1986-03-01 |
| JPH0245243B2 true JPH0245243B2 (ja) | 1990-10-08 |
Family
ID=15769158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16319984A Expired - Lifetime JPH0245243B2 (ja) | 1984-08-02 | 1984-08-02 | Suichokujikikirokubaitai |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0245243B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0620318U (ja) * | 1992-02-08 | 1994-03-15 | 光洋電機株式会社 | 物品収納装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0191319A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-04-11 | Noboru Tsuya | 磁気ディスクの製造方法 |
| CN1288636C (zh) * | 2003-02-06 | 2006-12-06 | 富士通株式会社 | 磁记录媒体及其制造方法、用于磁记录媒体的磁媒体基板以及磁存储装置 |
| CN100351905C (zh) * | 2003-03-19 | 2007-11-28 | 富士通株式会社 | 磁记录介质及其制造方法、以及磁记录装置和磁记录方法 |
| JP5103712B2 (ja) | 2005-06-16 | 2012-12-19 | 富士通株式会社 | ナノホール構造体の製造方法 |
-
1984
- 1984-08-02 JP JP16319984A patent/JPH0245243B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0620318U (ja) * | 1992-02-08 | 1994-03-15 | 光洋電機株式会社 | 物品収納装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6142721A (ja) | 1986-03-01 |
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