JPH01301503A - 窒素生産膜装置及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 意１ＬＬＱ刑」し欠野 本発明は窒素の生産に関する。より詳細には、本発明は
安価な高純度窒素を生産する膜力法及び系に関する。

良米五弦斐 高純度窒素の生産は、何年も極低温蒸留技法に基づく技
術の現状の空気分離技術を用いて行われてきた。かかる
極低温蒸留の場合、スケールアップが経済的に好都合で
あることから、トン数の大きい窒素の使用者には、使用
者の所に極低温プラントを建設し、それから窒素をバイ
ブで送って供給する。トン数の少ない、すなわち２〜３
０トン／日或はそれより少ない使用者には、窒素を中央
に配置した液体窒素生産プラントから使用者の所にトラ
ックで運んで供給するのが代表的である。

窒素ガスを液化しかつ液体窒素をオフサイト極低温プラ
ントから使用者の所に輸送する費用は使用者に供給する
窒素の値段を相当に増大させることがわかる。

よって、近年になって、使用者の所で安価な窒素゛ガス
を有効に生産することができる少トン数の空気分離プラ
ントを開発しようとする当分野の主要な挑戦が出てきた
。圧力スイング吸着（ＰＳＡ）及び膜技術に関係する最
近の発展は低純度のトン数の小さい窒素を生産するオン
サイト系の費用を相当に低減させるのに役立ってきた。

他方、かかるＰＳＡ或は膜系によっては、高純度窒素は
、実用上の制限が所要動力及びかかる系の価格を禁止的
にさせることから、経済的に生産することができない。

オンサイト高純度窒素の値段を低減させることができる
膜或はＰＳＡ系及びアプローチを開発しようとする要求
が当分野にある。オンサイト、高純度窒素の値段を低減
させるために採用されてきた１つのアプローチは、膜或
はＰＳＡ系を微量酸素残留系に結合させて用いて窒素製
品を最終精製することを必要とする。このアプローチで
は、膜或はＰＳＡ系を初めの空気分離用に用いて酸素３
，０００ｐｐｍまで或はそれ以上の窒素を生産し、次い
で触媒系を使用して更に酸素を除いて残留酸素含量がｌ
　Ｏｐｐｍ或はそれ以下の精製窒素製品を生産する。こ
のアプローチは膜或はＰＳＡ系単独によるのに比べて高
純度窒素をオンサイトでより安い価格で生産することを
可能にするが、それでもそれによって達成される費用の
節約は、液体窒素をトラックで使用者の所に供給するこ
とに伴う費用に比べてほんのわずかな改善を表わすにす
ぎない。これは、主に、部分精製した窒素流中に存在す
る酸素と反応させて酸素を除（のに要する水素の値段が
比較的高いことによる。しかし値段の安い水素供給源が
使用者の所で入手し得るならば、このアプローチは液体
窒素のトラック輸送に比べて実用的商業的意義が太き（
なり得よう。

現在、高純度窒素を必要とし、かつまたオンサイトで人
手し得る安価な水素を有する工業的用途は多数有り、特
に石油化学産業において多い、しかし、この安価な入手
可能な水素は純粋でなく。

種々の炭化水素を含有することがよくある。このような
不純の水素を用いれば、最終窒素精製する触媒系の運転
に関して不利になる。しかし、かかる不純水素を比較的
少ない費用で精製し得るならば、生成した高純度水素を
次いで触媒系において効率的かつ有効に用いて最終のオ
ンサイト窒素精製をなし得よう。

透過性膜系は固有に簡単なことから、高純度窒素をオン
サイト生産するかかる系及び関連した方法を開発しよう
とする強い誘因及び要望が当分野にある。また、当業者
であれば、膜系が固有に簡潔であるにもかかわらず、オ
ンサイトＰＳＡ系が膜系よりも適している特定の総括加
工操作があることを認めるものと思う。これより、オン
サイト、高純度窒素を生産する改良された総括膜及びＰ
ＳＡ系についての当分野における要望は、最終窒素生産
用触媒系を用いるアプローチにおいて、使用者の所で入
手し得ることがよくある安価な不純水素を高純度窒素の
生産において商業上実行可能なかつ効率的方法で有効に
利用する手段を開発することを含むものとみなされよう
。

よって、発明の目的は、オンサイト、高純度窒素を生産
する改良された系及び方法を提供するにある。

発明の別の目的は、オンサイト、高純度窒素生産膜或は
ｌ）　Ｓ　Ａ系を利用した改良された総括系及び方法を
提供するにある。

発明のそれ以上の目的は膿或はＰＳＡ系及びオンサイト
で人手し得る利用可能な安価な不純水素を利用すること
によって、オンサイト高純度窒素を生産する総括系及び
方法を提供するにある。

これらや他の目的を心に留めて１発明を本明細書中以降
に詳細に説明し１発明の新規な特徴を特に特許請求の範
囲に示す。

免艶立且裁 オンサイト膜或はＰＳＡ系から回収した部分精製された
窒素を触媒或は燃焼系に通して酸素含有物と精製した水
素流とを反応させることによって最終精製する。使用者
の所で入手し得る安価な不純水素からかかる精製水素流
を回収するのに分離膜或はＰＳＡ系を使用する。３つの
分離系及び方法をかかる統合したやり方で用いて、高純
度窒素を生産する費用を有意に低減させ、かつオンサイ
ト、高純度窒素を生産する可能性を認め（４る程に高め
ることを可能にする。

ｌユ立正豊ス１１ 発明の目的は、３つの系及び加工操作を独特に組合せて
用いて高純度窒素を生産することによって達成する。こ
のような系及び処理加工は、膜或はＰＳＡ技術のよく認
められかつ望まれる利点を適合する通りに用いることを
可能にし、同時にまた使用者の所で入手し得る安価な不
純水素源を高純度窒素生産操作において有効に使用する
。

発明の実施において用いる膜、ＰＳＡ及び接触燃焼系は
、個々によく知られた商業士入手し得る技術を構成する
ことは理解されるものと思う。本明細書中及び特許請求
の範囲ニコポする通りにこれらの技術を独特に組合わせ
ることによって、使用者の所で入手し得る安価な不純水
素流を用いて、使用者の所で使用するトン数が比較的少
ない場合に、中央に位置させた液体窒素プラントから液
体窒素をトラックで使用者の所に運んで用いることに実
用的商業的に代るものとして、高純度窒素の簡便なオン
サイト生産を当分野で望まれる通りに実行可能にするこ
とができる。本明細書中で言う膜系は、安価な低純度窒
素流を生成する初めの空気分離操作及び使用者の所で入
手し得る安価な不純水素流を精製した後に最終窒素精製
操作において用いる両方の場合に用い得ることを認める
ものと思う。代りに、ＰＳＡ系をこれらの操作の両方に
ついて用いることができる。また、所定の用途の技術的
及び経済的要求及びかかる要求に関してｆｌｌ用し得る
膜及び系の総括能力に応じて、−方の操作に膜系を他方
の操作にＰＳＡ系を採用することも発明の範囲内である
。水素を加える触媒系も、また、発明の種々の実施態様
で最終の窒素精製について用いる。任意の特定の高純度
窒素製産操作において用いる特定の系及び方法は該操作
の条件及び要件に依存するが、初期の空気分離工程を膜
系で精製した水素によって最終窒素精製する触媒燃焼ユ
ニットと組合わせて用いることが通常好ましい。

当業者ならば、膜系は一層容易に透過し得る成分及びそ
れ程容易には透過し得ない成分を含有する供給ガス混合
物の内の一層容易に透過し得る成分を選択的に透過し得
ることを認めるものと思う。任意の所望のタイプの膜、
例えば複合膜、非対称膜或はその他任意の形の膜構造を
発明の実施において用いることができる０発明の空気分
離の目的に適したかかる膜は、通常、酸素を空気の内の
一層容易に透過し得る成分として選択的に透過すること
ができ、それ程容易には透過し得ない成分としての窒素
を窒素リッチな非透過質ガスとして回収する分離材料を
含む。しかし、また、窒素が一層容易に透過し得る成分
であり、酸素リッチガス流を除き、窒素リッチガス流を
透過質ガスとして回収する空気からの初期窒素分離膜系
を用いることも発明の範囲内である。使用者の所で入手
し得る不純な水素源を精製する発明の種々の実地態様に
おいて用いる膜系では、精製した水素を透過質ガスとし
て回収するのが普通である。水素を精製非透過質ガス流
として回収することができる膜系が発明の目的で不純水
素ガス流の所望のレベルの精製を達成することができる
ならば、かかる糸も用いることができる。

上述した通りに、ＰＳＡ系は、所定の高純度窒素製産用
途に関する特有の要件及び操作条件に応じて、発明の空
気分離工程において及び／又は不純水素の精製工程にお
いて用いるのに適し得る。

当業者ならば、かかるＰＳＡ系は一層容易に吸着し得る
成分及びそれ程容易には吸着し得ない成分を含有する供
給ガスの内の一層容易に吸着し得る成分を選択的に吸着
することができる吸着剤物質の床を１つ或はそれ以上収
容することを認めるものと思う。かかるＰＳＡ系は種々
の加工サイクルを採用し、各床は通常順次に吸着−脱着
サイクルを受け、該サイクルにおいて、供給ガス混合物
を一層高い吸着圧レベルで床に導入する間にそれ程容易
には吸着し得ない成分を床から抜き出し及び−層低い脱
着圧で床再生する間に一層容易に吸着し得る成分を床か
ら抜き出すことは理解されるものと思う。空気を分離し
て窒素を所望の生成物として回収するのに用いるＰＳＡ
系は、通常、酸素を空気の内の一層容易に吸着し得る成
分として選択的に吸着することができる吸着剤床を用い
るが、窒素を一層容易に吸着し得る成分として選択的に
吸着するＰＳＡ系を用いることもまた発明の範囲内であ
る。ＰＳＡ系は各々の床で行なわれる加工サイクルにお
いて、通常側々の工程を数多（含むことが知られている
が、特定の実施態様において用いるＰＳＡ加エサイクル
、例えば均圧、パージ及び再加圧工程の細部は発明の核
心に及ばず、本明細書中詳細に説明する必要はない。

発明の実施態様の実施において用いる触媒燃焼系及び方
法は、当分野で通常「デオキソ」ユニットとして知られ
ており、同様に膜或はＰＳＡ系において空気分離によっ
て得られる部分精製窒素流の酸素レベルを更に減少させ
るよく知られた確立された技術を含む、デオキソユニッ
トは、代表的には、貴金属触媒、例えばアルミナ基材に
白金或は白金−パラジウムを担持された触媒を用いる。

触媒燃焼系は１つ或はそれ以上の触媒床を含むことがで
き、触媒床では、適当な膜或はＰＳＡ系において空気分
離によって生成した部分精製窒素流の酸素含有物を１本
明細書中、石油精油所或はその他の適当な使用者の所で
入手し得る安価な不純流からもたらす通りに精製した水
素或は燃料ガス、例えばメタンと反応させる。すなわち
、触媒燃焼窒素精製操作は、精製する窒素流から酸素を
除いて所望の低レベルの残留酸素含量に下げるのを助長
することができる適した市販されている触媒を用いてｌ
或はそれ以上の触媒段階で実施することができる。当業
者ならば、精製した水素を反応体として用いる場合、か
かる触媒燃焼系を通常必要とすることを理解するものと
思う。

以上から、当分野で容易に入手し得る種々の市販されて
いる系及び関連する加工特徴を、本明細書中に記数しか
つ特許請求の範囲に記載する通りに有利に組合わせた３
つの分離精製系及び方法に用いて高純度窒素を生産する
ことができることは理解されるものと思う。しかし、通
常、発明の好ましい実施態様は初期分離のための膜系を
、最終窒素精製のためのデオキソ触媒ユニットと共に使
用することを含み、デオキソユニットに水素を供給して
空気分離から得た部分精製窒素流中に存在する酸素と反
応させる０反応体の水素もまた膜系で精製したものであ
る。

膜を初めの空気分離操作するのに用いる好ましい実施態
様では１部分精製した窒素流の酸素含量は代表的には約
１．ｏｏｏｐｐｍの低いレベルから約５０．０００ｐｐ
■まで、代表的にはｔｏ、ｏｏｏ〜３０．０ＯＯｐｐ■
の範囲になる。発明の実施において生産する高純度窒素
流は代表的には約５．　ＯＯＯｐｐｍより少ない残留酸
素含量を有し、残留酸素含量は発明の特定の実施態様で
は約１．　ＯＯＯｐｐａ＋より少ない、最終精製操作に
おいて用いる精製水素反応体及び該精製反応体を誘導す
る不純反応体は、所定の用途の要求に応じて初期及び最
終純度レベルが変わることができる０反応体水素は代表
的には精製して通常使用者の所で入手し得る任意の低い
純度の流れから水素的９５°％にする。特定の用途で用
いる実際の水素純度限界は、通常、使用者の最終窒素生
成物純度要求に応じて変わる。当業者ならば、発明は所
定の用途に関係する神々の技術的及び経済的要因に応じ
て任意の大きさの高純度窒素生産ユニットに関して有利
に用いることができるが、発明は経済的見地から５、０
００〜５０，０ＯＯｆｔ’／時間（１４０〜１．４００
Ｍ’／時間）の範囲の高純度窒素生産ユニットについて
特に魅力があることを認めるものと思う。発明が、すぐ
使える安価な水素源が容易に入手可能でありかつ経済的
に魅力的な価格で高純度窒素を生産する最終精製操作に
おいて反応体として有利に用いることができる精油所或
はその他の石油化学施設において特に有益であることは
了解されるものと思う１本明細書中で説明しかつ特許請
求の範囲に記載する通りの簡便な反応体精製操作の実施
は、利用可能な安価な不純水素のかかる所望の使用を実
用的、商業上実行可能な方法で達成することを可能にす
る。

発明を本明細書中以降、添付図によって更に詳細に説明
する。添付図を参照すれば、供給空気は管路ｌより膜或
はＰＳＡオンサイト系２に通り、そこで窒素を酸素と分
離して部分精製窒素流として管路３で回収することが分
かるものと思う。窒素から分離した１例えば代表的な、
膜系の透過質流としての、酸素リッチ流を主題の窒素生
産プロセスの廃棄流として管路４より排出する。該廃棄
流は廃棄するか或はある他の所望の目的に使用する０部
分精製した窒素流は管路３から適当な触媒燃焼系５に通
り、そこから高純度窒素生成物を管路６で回収する０反
応体水素或はメタンと部分精製した窒素流中に存在する
酸素とを反応させた際に生成する廃棄水を、所望ならば
、管路７より取り出すことができる。水素反応体は、使
用者の施設で入手し得る安価な不純水素或はメタンを管
路ｌＯより膜或はＰＳＡ分離系９に通して精製し、該分
離系９から管路８により触媒或は燃焼系５に通す、該分
離系９からの廃ガス、すなわち、代表的には非透過質ガ
スを系から管路１１に通して排出するか或は所望の方法
で用いる８分離系９は、また、極低温水素精製或は品質
向上ユニットも含み得ることに注意すべきである。

初めの空気分離にｎＱ系を用いるのが通常好ましいのは
、ＰＳＡ系の場合、必要なパルピングや圧縮機の使用が
必ず伴うのに比べて、膜系は固有に簡潔であることに基
づく。膜は、ガスを分離して比較的低い純度の生成物、
例えば酸素含量が１％或はそれ以上の窒素を生産するの
に極めて望ましいが、成果アプローチによって高純度生
成物を生産するには通常高い動力消費量及び比較的多量
の有効膜表面を要し、これらが膜系単独ではかかる高純
度用途用には経済的でないものにさせる傾向にかある。

純度の一層高い生成物１例えば、酸素不純物レベルが一
層低い生成物を必要とする用途について、従来実用的見
地から実行し得なかった膜系と触媒燃焼系とを組合わせ
ることが、発明に従って実施する場合に、望ましくかつ
有利になった。上述した通りに、空気分離膜系からの酸
素含量ｌ゛％の窒素を触媒系に通し、そこに高純度水素
を反応体として加えて窒素流中に存在する酸素と反応さ
せて水を生成することができる。水は、必要ならば、精
製した窒素流から簡便な方法で除く。

水素反応体流中に存在する不純物は、触媒系において反
応させないならば、最後に最終窒素生成物流中に至るこ
とはもち論である。水素反応体流がかかる不純物を比較
的多量に含有するならば、かかる不純物は触媒系に対し
て悪い作用を与え、並びに窒素生成物中に不純物が容認
し得ないレベルで存在するに至り得る。触媒系において
、比較的高い純度、すなわち９５′″％の水素を用いる
のが望ましいのはこのような理由からである。

高純度水素の供給が高純度窒素生産の総括費用の内の相
当のコストファクターを占めることを認めるものと思う
、触媒系及び水素供給は、代表的には、かかる高純度窒
素生成物を生産するための低純度窒素費を５０％増す。

代表的には、この５０％の増加の内の６０〜７０％は高
純度水素反応体の価格に関係する０種々の精油所及びそ
の他の産業施設では、不純水素は極めて安い価格で利用
することができる。この安価な不純水素を発明の実施に
従って触媒系用反応体として用いるならば、高純度窒素
の総括費の相当の低下を実現することができる。

発明の一実施態様では、空気を初めオンサイト膜系にお
いて分離して酸素約３０，０ＯＯｐｐｒｏを有する部分
精製した窒素流を生産する。この比較的低純度の窒素流
をデオキソ触媒系に通し、精製水素と反応させて酸素含
量を低減させてｌＯｐｐｍより低くする。精製水素は使
用者のところで入手し得る純度７７％の水素源から得、
該不純水素を膜系において精製して９８％にした後に触
媒ユニットに注入し、系の総括的な組合せは図に示す通
りである。入手し得る、安価な不純水素を最終の窒素精
製反応に用い、このようにして高純度窒素を生産するこ
とによって、初めの低純度窒素製造費を越える高純度窒
素の製造費の増加分は、高価な高純度水素を最終精製工
程において用いる場合の５０％増加から、使用者の所で
入手し得る低純度水素を発明の実施において膜系で簡便
にかつ経済的に精製する場合の２０％増加に低減される
。発明の実施に従って高純度窒素を生産するこの有利な
利点の結果として、高純度窒素の総括製造費を約２５％
低減させることができる。この認め得る費用の低減はト
ン数が比較的小さい空気分離プラントを商業上実行可能
にしかつオフサイト領域にある液体窒素プラントから液
体窒素を使用者の所に輸送することに代る魅力のある物
にさせる。

当業者ならば、発明の詳部において、特許請求の範囲に
記載する通りの発明の範囲から逸脱しないで種々の変更
及び変更態様をなし得ることを認めるものと思う、すな
わち、通常、発明の実施において用いる透過性膜を、代
表的には囲いの内に位置させる膜アセンブリーにおいて
用いて成果の主要素を構成する膜モジュールを形成する
。発明に関係して理解される通りに、成果は膜モジュー
ル或はかかるモジュールを多数パラレルか或はシリーズ
のいずれかの操作に配列させて成る。膜モジュールは簡
便な中空繊維の形に、或はスパイラルウーンド、ブリー
テッドフラットシート膜アセンブリーに、或は任意の他
の所望の構造に作ることができる。膜モジュールは供給
空気表面側及び反対の透過質ガス出口側を有するように
作る。中空ｍ維膜の場合、供給空気を中空繊維の内腔側
か或は他の表面側のいずれかに加えることができる。

また、空気分離膜及び水素精製膜用に用いる膜材料は供
給ガス、すなわち、空気或は不純水素の内の一層容易に
透過し得る成分を選択的に透過することができる任意の
適した材料にし得ることも認めるものと思う、セルロー
ス誘導体、例えばセルロースアセテート、セルロースア
セテートブチレート、等；アリールポリアミド及びアリ
ールポリイミドを含むポリアミド及びポリイミド；ポリ
スルホン；ポリスチレン、等はかかる材料の代表である
。複合膜、例えばポリスルホン基材にエチルセルロース
を付着させたもの、は多くの空気分離及びその他の用途
について分離層の材料として便利であり、複合材料の分
離特性を決め、所定の用途の特有の性能要求及び操作条
件に合わせて製造することができる。

発明の実施において用いるＰＳＡ系は１代表的には、数
多くの吸着剤床を、実際に用いる床の数、適用可能な操
作条件、所定の用途の所望の性能要求に適応させた加工
サイクルに従って作動させて成る。各々の床において用
いる吸着剤物質は、供給空気或は不純水素の内の一層容
易に吸着し得る成分を選択的に吸着することができ、供
給ガスの内のそれ程容易には吸着し得ない成分を床から
抜き出すことができる任意の適した吸着剤物質にするこ
とができる。ゼオライトモレキュラーシーブ材料、例え
ば５Ａ及び１３Ｘ材料は、不純水素流から不純物を選択
吸着し、供給空気から窒素を選択吸着する簡便な吸着剤
床材料である。他方、カーボンモレキュラーシーブは異
なる吸着機構に従って機能し、空気分離用途に用いた場
合。

酸素を一層容易に吸着し得る成分として選択吸着するこ
とになり、窒素を供給空気の内のそれ程容易には吸着し
得ない成分として回収する。

当業者ならば、任意のよ（知られた市販されているデオ
キソ触媒を最終の窒素精製操作において用い得ることを
認めるものと思う。脱及びＰＳＡ系の場合のように、精
製する窒素流中に存在する酸素と水素との所望の反応を
達成するのに、■或はそれ以上の触媒段階を採用するこ
とができる。

反応は本来発熱であるので、適当な熱交換手段を簡便に
用いて通常約５００℃程の反応温度で起きる反応操作に
おいて効率的に熱利用するのがよい。

発明を本明細書中オンサイト施設に関して説明した０発
明の目的から、このようなオンサイト施設は、代表的に
は、高純度窒素を望む使用者の所の簡便な場所に位置さ
せた本明細書中に開示しかつ特許請求の範囲に記載する
通りの分離及び反応系の独特の組合せを意味するものと
見なされる。

しかし、使用者の所とは、特定の使用の所の所有範囲を
狭く規定するものと考えるべきでない。反対に、オンサ
イト膜、ＰＳＡ或は反応系をフェンスを越えて或は別の
関係で使用者の所と呼ぶ土地付近の（土地の上にでなく
）ある他の簡便な場合に位置させることは発明の範囲内
である。領域については便宜であるが、使用者の所から
何マイルもある場所に地理的局所の液体窒素プラントを
置き、液体窒素を該局所の位置からトラックで供給する
のに対照して、かかる任意の便宜な場所は発明の目的か
らオンサイト操作を構成するものと見なされる。

精油所及びその他の産業の場所において、低酸素含量が
安全或は生成物品質のために必要或は望ましいガスシー
ル、不活性化或はパージ操作等に高純度窒素の必要が増
大していることから考えて、発明はこのような必要を経
済的に実行し得る費用で簡便なオンサイト施設によって
満足させる究めて望ましい方法及び系を提供する。発明
はこれより簡便、極めて便利かつ極めて実用的な膜技術
かつまた重要な商業上の要求を満足させる際の圧力スイ
ング吸着技術の使用について常に成長している用途の範
囲を更に拡大する当分野におけるイ１意な進歩をもたら
す。膜系、ＰＳＡ系或はこれらの組合せを簡便に適用し
て所定の用途の要求を満足させる発明の汎用性は、重要
な商業上の要求を各々特定の用途の特有の要求に合わせ
た極めて望ましい方法で満足させて発明の重装性を更に
高める。

【図面の簡単な説明】

第１図は発明の有利な三成分系の実施態様を表わす略図
である。 １′Ｆ。 代理人の氏名　　倉　内　基　弘　、ｉ′１［二１ 同　　風間弘志　・１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）空気を分離して残留酸素を含有する部分精製
   した窒素流及び酸素リッチな排出流にすることができる
   第１膜或は圧力スイング吸着分離系と、 （ｂ）供給空気を該第１膜或は圧力スイング吸着分離系
   に送って分離する手段と、 （ｃ）比較的純粋な水素と比較的高いレベルの不純物を
   含有する不純な水素流とを分離し、それで不純物のレベ
   ルが望ましい程に低い精製水素を生成することができる
   第２膜、圧力スイング吸着或は極低温分離系と、 （ｄ）オンサイトで入手し得る不純な水素供給ガスを該
   第２膜、圧力スイング吸着或は極低温分離系に供給して
   精製する手段と、 （ｅ）該精製水素流と部分精製した窒素流中に存在する
   残留酸素とを反応させるように適応させた触媒燃焼系と
   、 （ｆ）該第１及び第２分離系からの部分精製した窒素及
   び精製した水素を該触媒燃焼系に通す手段と、 （ｇ）該触媒燃焼系から残留酸素含量が望ましい程に少
   ない高純度窒素流を回収する手段 とを含み、オンサイトで入手し得る安価な不純の水素を
   簡便に精製し及びそれを部分精製した窒素流の最終精製
   において経済的に使用して高純度窒素をオンサイトで有
   利に生産することができる空気から高純度窒素を生産す
   るためのオンサイト系。 ２、前記第１分離系が膜系を含む特許請求の範囲第１項
   記載の系。 ３、前記第２分離系が膜系を含む特許請求の範囲第１項
   記載の系。 ４、第１及び第２分離系の両方が膜系を含む特許請求の
   範囲第１項記載の系。 ５、前記第１分離系が膜系を含み及び前記第２分離系が
   極低温系を含む特許請求の範囲第１項記載の系。 ６、前記第１分難系が圧力スイング吸着系を含み及び前
   記第２分離系が極低温系を含む特許請求の範囲第１項記
   載の系。 ７、前記第１分離系が圧力スイング吸着系を含む特許請
   求の範囲第１項記載の系。 ８、前記第２分離系が圧力スイング吸着系を含む特許請
   求の範囲第１項記載の系。 ９、前記第１及び第２分離系が圧力スイング吸着系を含
   む特許請求の範囲第１項記載の系。 １０、（ａ）供給空気を第１膜或は圧力スイング吸着分
   離系に通して分離し、 （ｂ）残留酸素を含有する部分精製した窒素流及び酸素
   リッチな排出流を第１分離系から抜き出し （ｃ）オンサイトで入手し得る不純な水素を第２膜、圧
   力スイング吸着或は極低温分離系に通して精製し、 （ｄ）精製した水素と部分精製した窒素流中に存在する
   残留酸素とを触媒燃焼系において反応させ、 （ｅ）触媒燃焼系から残留酸素含量が望ましい程に少な
   い高純度窒素流を回収する ことを含み、それでオンサイトで入手し得る安価な不純
   水素を簡便に精製し、それを部分精製した窒素の最終精
   製において使用して高純度窒素をオンサイトで有利に生
   産することができる空気から高純度窒素をオンサイト製
   造する方法。 １１、前記第１分離系が膜系を含む特許請求の範囲第１
   ０項記載の方法。 １２、前記第２分離系が膜系を含む特許請求の範囲第１
   ０項記載の方法。 １３、前記第１及び第２分離系が膜系を含む特許請求の
   範囲第１０項記載の方法。 １４、前記第１分離系が膜系を含み及び前記第２分離系
   が極低温系を含む特許請求の範囲第１０項記載の方法。 １５、前記第１分離系が圧力スイング吸着系を含み及び
   前記第２分離系が極低温系を含む特許請求の範囲第１０
   項記載の方法。 １６、前記第１分離系が圧力スイング吸着系を含む特許
   請求の範囲第１０項記載の方法。 １７、前記第２分離系が圧力スイング吸着系を含む特許
   請求の範囲第１０項記載の方法。 １８、前記第１及び第２分離系が圧力スイング吸着系を
   含む特許請求の範囲第１０項記載の方法。 １９、部分精製した窒素流が酸素含量１，０００〜５０
   ，０００ｐｐｍを有する特許請求の範囲第１０項記載の
   方法。 ２０、前記酸素含量が１０，０００〜３０，０００ｐｐ
   ｍである特許請求の範囲第１９項記載の方法。 ２１、前記高純度窒素流が５，０００ｐｐｍより少ない
   残留酸素含量を有する特許請求の範囲第項１０記載の方
   法。 ２２、前記残留酸素含量が１，０００ｐｐｍより少ない
   特許請求の範囲第２１項記載の方法。