JPH01294238A - 光学的記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
この発明は、マーク情報が熱膨張により中実バンプを形
成する機構による光学的記録媒体に関する。特に、この
発明は、活性層が光吸収性染料をその中に含む光学的記
録媒体に関する。
成する機構による光学的記録媒体に関する。特に、この
発明は、活性層が光吸収性染料をその中に含む光学的記
録媒体に関する。
[発明の背景]
信頼性がより高く、容量がより高いデータ記録および検
索システムに対する要求に応えて、いわゆる光デイスク
記録システムの研究および開発がかなりおこなわれてい
る。これらシステムは、レーザービームのように光の高
度に集束された変調ビームを用いており、これを相当量
の光を吸収し得る記録層上に指向させる。こうして発生
した熱は、高度に集束されたレーザービームによって打
撃された領域における光吸収性材料を化学的および/ま
たは物理的に変化させ、当該影響を受けた領域における
光学的性質例えば、透過率または反射率の変化をもたら
す、読み出しには、影響を受けていない吸収層部分の透
過光または反射光の量と、当該層のマークされた領域で
の光の量を測定する。このような記録システムの例が、
米国特許第3,314,073号および同第3,474
,457号を含めて多くの米国特許および文献に記載さ
れている。
索システムに対する要求に応えて、いわゆる光デイスク
記録システムの研究および開発がかなりおこなわれてい
る。これらシステムは、レーザービームのように光の高
度に集束された変調ビームを用いており、これを相当量
の光を吸収し得る記録層上に指向させる。こうして発生
した熱は、高度に集束されたレーザービームによって打
撃された領域における光吸収性材料を化学的および/ま
たは物理的に変化させ、当該影響を受けた領域における
光学的性質例えば、透過率または反射率の変化をもたら
す、読み出しには、影響を受けていない吸収層部分の透
過光または反射光の量と、当該層のマークされた領域で
の光の量を測定する。このような記録システムの例が、
米国特許第3,314,073号および同第3,474
,457号を含めて多くの米国特許および文献に記載さ
れている。
データを記録するに当り、光吸収性記録層を有する回転
するディスクをレーザー源からの変調された放射に供す
る。この放射は、変調器および適切な光学系を通り、高
度に集束されたレーザービームをディスクに向け、この
ディスクは、光吸収性層の化学的および/または物理的
反応により一連の非常に小さなマークを、光吸収性層内
の環状経路に沿って形成する。マークの周期は、変調器
入力により決定される。1ミクロンあるいはそれ以下の
集束スポット径を有するレーザービームを用いて、デー
タを108ビツト/cm”あるいはそれ以上の密度で記
録できる。
するディスクをレーザー源からの変調された放射に供す
る。この放射は、変調器および適切な光学系を通り、高
度に集束されたレーザービームをディスクに向け、この
ディスクは、光吸収性層の化学的および/または物理的
反応により一連の非常に小さなマークを、光吸収性層内
の環状経路に沿って形成する。マークの周期は、変調器
入力により決定される。1ミクロンあるいはそれ以下の
集束スポット径を有するレーザービームを用いて、デー
タを108ビツト/cm”あるいはそれ以上の密度で記
録できる。
ファイラー他は、EPO特許出願013111070号
において、マーク情報が、記録用レーザービームの作用
から発生する高温のような高温に同時に供されたとき異
なる物理的性質を有する2つのポリマー系層から構成さ
れる活性層に対するレーザービームの作用によるバンプ
の形態で達成される光学的記録媒体を開示している。
において、マーク情報が、記録用レーザービームの作用
から発生する高温のような高温に同時に供されたとき異
なる物理的性質を有する2つのポリマー系層から構成さ
れる活性層に対するレーザービームの作用によるバンプ
の形態で達成される光学的記録媒体を開示している。
効果的なバンプ形成を得るため、すなわちレーザービー
ムによって読むことができるバンプの形成を得るために
、上記2つのバンプ形成層の下層は、占き込みビーム波
長(830nm)において充分なエネルギーを吸収する
ために染料あるいは顔料を含むことが必要である。これ
まで、可視光領域(486〜633nm)で発するレー
ザーが、この種の媒体に使用されていた。この領域で光
を吸収する染料は多種のものが市販されている。それら
の中で、ニグロシン染料、アニリンブルー、カルコオイ
ルブルー ウルトラミンブルー,キノリンイエロー、メチレンブル
ークロリド、モナストラルブルー、マラカイトグリーン
オザレート、ローズベンガル、モナストラルレッド、ス
ーダンブラックBMおよびそれらの混合物のような染料
がある.染料の他の例には、米国特許第3,889,7
88号の第3欄1〜22行目、および同第4,338,
545号の第8欄53〜68行目に開示されているもの
がある.これら特許公報は、これら染料または顔料につ
いての参考としてここに含めておく。
ムによって読むことができるバンプの形成を得るために
、上記2つのバンプ形成層の下層は、占き込みビーム波
長(830nm)において充分なエネルギーを吸収する
ために染料あるいは顔料を含むことが必要である。これ
まで、可視光領域(486〜633nm)で発するレー
ザーが、この種の媒体に使用されていた。この領域で光
を吸収する染料は多種のものが市販されている。それら
の中で、ニグロシン染料、アニリンブルー、カルコオイ
ルブルー ウルトラミンブルー,キノリンイエロー、メチレンブル
ークロリド、モナストラルブルー、マラカイトグリーン
オザレート、ローズベンガル、モナストラルレッド、ス
ーダンブラックBMおよびそれらの混合物のような染料
がある.染料の他の例には、米国特許第3,889,7
88号の第3欄1〜22行目、および同第4,338,
545号の第8欄53〜68行目に開示されているもの
がある.これら特許公報は、これら染料または顔料につ
いての参考としてここに含めておく。
しかしながら、可視光領域で光を吸収する染料を使用す
るには,高価で信頼性の劣るガス放電レーザーを用いな
ければならない.したがって、近赤外(近IR)光領域
(833nm)において発光するより安価で信頼性のよ
り高い半導体レーザーを使用できるようにすることが非
常に望ましい、・残念ながら、この領域で光を効果的に
吸収する染料は、それ程多くはなく、またそのような染
料は、上記バンプ形成性光学的記録媒体のポリマー層中
に適切に分散させることが困難であり時に不可能である
。すなわち、これら染料は、ポリマー層中に適切に溶解
せず、したがって良好な読み出し可能なバンプ形成を低
濃度でおこなうように読み出しレーザービームから充分
なエネルギーを吸収しなかった。かくして、バンプ形成
性光学的記録媒体の有用性は、非常に制限されているの
である。
るには,高価で信頼性の劣るガス放電レーザーを用いな
ければならない.したがって、近赤外(近IR)光領域
(833nm)において発光するより安価で信頼性のよ
り高い半導体レーザーを使用できるようにすることが非
常に望ましい、・残念ながら、この領域で光を効果的に
吸収する染料は、それ程多くはなく、またそのような染
料は、上記バンプ形成性光学的記録媒体のポリマー層中
に適切に分散させることが困難であり時に不可能である
。すなわち、これら染料は、ポリマー層中に適切に溶解
せず、したがって良好な読み出し可能なバンプ形成を低
濃度でおこなうように読み出しレーザービームから充分
なエネルギーを吸収しなかった。かくして、バンプ形成
性光学的記録媒体の有用性は、非常に制限されているの
である。
[発明のJ!要]
第1の観点において、この発明は、
(a)寸法安定平坦基板と。
(b)該基板の表面に積層された活性層とを有し、該活
性層は、 (1)該基板の表面に直接積層された 下層のポリマー系膨張層であって低い熱伝導性、高いT
CEおよび20C未満のTgを有し、かつその中に完全
に溶解した0、5ないし15重量%の式 %式% (ここで、Rは、独立に、C1、+アルキル基から選択
され。
性層は、 (1)該基板の表面に直接積層された 下層のポリマー系膨張層であって低い熱伝導性、高いT
CEおよび20C未満のTgを有し、かつその中に完全
に溶解した0、5ないし15重量%の式 %式% (ここで、Rは、独立に、C1、+アルキル基から選択
され。
RMi独立に、−H,−′oP−R2、アルキル、アリ
ールまたはアルカリール基から選択され、これらはいず
れも置換されていてよく、さらにR′はポリメチン鎖と
あるいは環置換基を介して隣りのフェニル環と環式構造
を形成していてもよく、 Xはフルオロスルホネート;ペルフルオロアルキル、ア
ルキル、アルカリール、アールアルキル、アリール、フ
ルオロアリール、ビニルおよびアクリルスルホネート;
2−アクリルアミド−2−メチル−プロパンスルホネー
ト:並びにアルキル、アルカリール、アールアルキル、
アリール、フルオロアリールおよびアクリルカルボキシ
レートから選ばれたアニオン基)に対応する染料塩を含
むもの、および (2)該膨張層に結合した上層の保 持層であって、低い熱伝導性、低いTCEおよび70C
を越えるTgを有する固体非弾性ポリマーを含むもの を備えている ことを特徴とする光学的記録媒体に向けられている。
ールまたはアルカリール基から選択され、これらはいず
れも置換されていてよく、さらにR′はポリメチン鎖と
あるいは環置換基を介して隣りのフェニル環と環式構造
を形成していてもよく、 Xはフルオロスルホネート;ペルフルオロアルキル、ア
ルキル、アルカリール、アールアルキル、アリール、フ
ルオロアリール、ビニルおよびアクリルスルホネート;
2−アクリルアミド−2−メチル−プロパンスルホネー
ト:並びにアルキル、アルカリール、アールアルキル、
アリール、フルオロアリールおよびアクリルカルボキシ
レートから選ばれたアニオン基)に対応する染料塩を含
むもの、および (2)該膨張層に結合した上層の保 持層であって、低い熱伝導性、低いTCEおよび70C
を越えるTgを有する固体非弾性ポリマーを含むもの を備えている ことを特徴とする光学的記録媒体に向けられている。
[先行技術]
米国特許部4,384,986号は、光デイスク用の記
録層としてフィルム形成性ポリマーバインダーの染料含
有層を使用することを開示している。この層中の染料は
、レーザーエネルギーを吸収してそのエネルギーを熱に
変換し、この熱が染料に物理的変化(アブレーションお
よび/または溶融)をもたらして記録されたマークを生
じる。この特許は、このタイプの構造に好適なイオン性
染料の例として、1,1,5.5−テトラキス(p−ジ
メチルアミノフェニル)−2,4−ペンタジェン−1−
オールクロリドを記載している。
録層としてフィルム形成性ポリマーバインダーの染料含
有層を使用することを開示している。この層中の染料は
、レーザーエネルギーを吸収してそのエネルギーを熱に
変換し、この熱が染料に物理的変化(アブレーションお
よび/または溶融)をもたらして記録されたマークを生
じる。この特許は、このタイプの構造に好適なイオン性
染料の例として、1,1,5.5−テトラキス(p−ジ
メチルアミノフェニル)−2,4−ペンタジェン−1−
オールクロリドを記載している。
米国特許部4,547,444号は、光デイスク用の記
録層として、特定の対イオン(例えば、スルホネート)
と会合したある種のトリメチンおよびより長鎖のアリー
ルポリメチン染料を用いることを開示している。上記′
986号特許におけると同様に、染料は、レーザーエネ
ルギーを吸収して染料を熱的に変化させ、記録されたマ
ークを生じさせる。
録層として、特定の対イオン(例えば、スルホネート)
と会合したある種のトリメチンおよびより長鎖のアリー
ルポリメチン染料を用いることを開示している。上記′
986号特許におけると同様に、染料は、レーザーエネ
ルギーを吸収して染料を熱的に変化させ、記録されたマ
ークを生じさせる。
EPO#許出願0138070号は、膨張層における染
料の唯一の機能がレーザーエネルギーを吸収しこれを熱
に変換することにある記録構造に向けられている0発生
した熱は、膨張層にバンプ形成を生じさせ、かくして情
報が記録される。この構造において、染料はどのような
永続的な物理的変化をも生じない。
料の唯一の機能がレーザーエネルギーを吸収しこれを熱
に変換することにある記録構造に向けられている0発生
した熱は、膨張層にバンプ形成を生じさせ、かくして情
報が記録される。この構造において、染料はどのような
永続的な物理的変化をも生じない。
[発明の詳細な説明
A、基板
この発明において使用できる基板材料は、組立てられた
構造中で寸法的に安定なものである。基板材料は、好ま
しくは、低い熱膨張率(TCE)を有する。基板は、不
透明であっても透明であってもよく、アルミニウム、ガ
ラス、石英、銅、黄銅、鋼、マグネシウム、カドミウム
、銀、金、ポリエステルフィルム、ポリ(テトラフルオ
ロエチレン)フィルム、ポリアミドフィルム、ポリカー
ボネート、および他のプラスチックもしくは複合材料の
ようないずれの通常の基板材料でも本質的に形成できる
。加えて、基板は、さらなる表面均一性を提供するため
および/またはその上に被着される他の機能層のベース
として作用するために、接着性第2材料で形成された平
滑層で被覆されていてもよい、全ての場合において、長
期間にわたる化学的不活性性および寸法安定性は、どの
ような基板材料を選択しようとも、必須の性質であるこ
とが認められるであろう、アルミニウム、ポリカーボネ
ートおよびガラスが好ましい基板材料である。
構造中で寸法的に安定なものである。基板材料は、好ま
しくは、低い熱膨張率(TCE)を有する。基板は、不
透明であっても透明であってもよく、アルミニウム、ガ
ラス、石英、銅、黄銅、鋼、マグネシウム、カドミウム
、銀、金、ポリエステルフィルム、ポリ(テトラフルオ
ロエチレン)フィルム、ポリアミドフィルム、ポリカー
ボネート、および他のプラスチックもしくは複合材料の
ようないずれの通常の基板材料でも本質的に形成できる
。加えて、基板は、さらなる表面均一性を提供するため
および/またはその上に被着される他の機能層のベース
として作用するために、接着性第2材料で形成された平
滑層で被覆されていてもよい、全ての場合において、長
期間にわたる化学的不活性性および寸法安定性は、どの
ような基板材料を選択しようとも、必須の性質であるこ
とが認められるであろう、アルミニウム、ポリカーボネ
ートおよびガラスが好ましい基板材料である。
B、活性層
EPO特許出願0138070号において教示されてい
るように、この発明の染色ポリマー層を用いる消去可能
な光学的記録媒体は、基板と、それに積層された活性層
とを備え、この活性層は、膨張層用の第1の材料と保持
(retention)層剤の第2の材料とを含み、こ
のデュアル層は、膨張(expansion)および弛
Iii!(relaxation)に、熱的データ記録
に、光学的データ読み出しに、および好ましくは熱的お
よび機械的データ消去に敏感であり、第1の(膨張層)
材料および第2の(保持R)材料は結合(bond)さ
れ、かつ第1の材料および第2の材料は、デュアル層の
膨張および弛緩時に同じ物理的状態のままにあるもので
ある。データは、第2の材料をそのガラス転移温度を越
えて熱して第2の材料をゴム状にし、第1の材料を熱し
てこれをその弾性限界内で弾性的に膨張させ、かくして
熱せられた第1の材料を弾性的に膨張させ、熱せられた
第2の材料を押し上げることによってデュアル層構造上
に記録される。*張した第2の材料は、ついで、第1の
材料が伸張され膨張された状態にある間にその転移温度
未満に冷却され、冷却した第2の材料はついで可逆的に
固定された変形を形成するとともに第1の材料を伸張さ
れ膨張された状態に保持する。加熱は、この発明の染色
されたポリマー材料によるレーザー放射の吸収によって
これら層の少なくとも下層において達成される。典型的
に、データビットは、第1のレーザービームおよび第2
のレーザービームを発生させることにより記録媒体中で
記録および消去される。第1の材料は、第1のレーザー
ビームを吸収し、第2の材料は第1のレーザービームを
透過させ、第2の材料は第2のレーザービームを吸収す
る。第1のレーザービームは、第1の材料上に集束され
て第1の材料を加熱し弾性的に膨張させ、データビット
を3き込み、第2のレーザービームは第2の材料上に集
束されて第2の材料を加熱し、データビットを消去する
。データビットの3き込み中に、第2の材料は、膨張す
る材料によって充分に軟化され、膨張された材料上にド
ームを形成する。その迅速な冷却により、ドームは、第
1および第2の材料をその初期位置まで弛緩させる第2
の集束レーザーによってドームが加熱されるまで、膨張
した第1の材料をその場に保持あるいは維持する。かく
して、データビットは、中実バンプの形態にあるのであ
って、中空バンプもしくは「ブリスター」の形態にはな
い。
るように、この発明の染色ポリマー層を用いる消去可能
な光学的記録媒体は、基板と、それに積層された活性層
とを備え、この活性層は、膨張層用の第1の材料と保持
(retention)層剤の第2の材料とを含み、こ
のデュアル層は、膨張(expansion)および弛
Iii!(relaxation)に、熱的データ記録
に、光学的データ読み出しに、および好ましくは熱的お
よび機械的データ消去に敏感であり、第1の(膨張層)
材料および第2の(保持R)材料は結合(bond)さ
れ、かつ第1の材料および第2の材料は、デュアル層の
膨張および弛緩時に同じ物理的状態のままにあるもので
ある。データは、第2の材料をそのガラス転移温度を越
えて熱して第2の材料をゴム状にし、第1の材料を熱し
てこれをその弾性限界内で弾性的に膨張させ、かくして
熱せられた第1の材料を弾性的に膨張させ、熱せられた
第2の材料を押し上げることによってデュアル層構造上
に記録される。*張した第2の材料は、ついで、第1の
材料が伸張され膨張された状態にある間にその転移温度
未満に冷却され、冷却した第2の材料はついで可逆的に
固定された変形を形成するとともに第1の材料を伸張さ
れ膨張された状態に保持する。加熱は、この発明の染色
されたポリマー材料によるレーザー放射の吸収によって
これら層の少なくとも下層において達成される。典型的
に、データビットは、第1のレーザービームおよび第2
のレーザービームを発生させることにより記録媒体中で
記録および消去される。第1の材料は、第1のレーザー
ビームを吸収し、第2の材料は第1のレーザービームを
透過させ、第2の材料は第2のレーザービームを吸収す
る。第1のレーザービームは、第1の材料上に集束され
て第1の材料を加熱し弾性的に膨張させ、データビット
を3き込み、第2のレーザービームは第2の材料上に集
束されて第2の材料を加熱し、データビットを消去する
。データビットの3き込み中に、第2の材料は、膨張す
る材料によって充分に軟化され、膨張された材料上にド
ームを形成する。その迅速な冷却により、ドームは、第
1および第2の材料をその初期位置まで弛緩させる第2
の集束レーザーによってドームが加熱されるまで、膨張
した第1の材料をその場に保持あるいは維持する。かく
して、データビットは、中実バンプの形態にあるのであ
って、中空バンプもしくは「ブリスター」の形態にはな
い。
膨張層の第1の材料および保持層の第2の材料の主要成
分であるポリマー材料は、通常、入射レーザー放射に対
して比較的透明なものである。
分であるポリマー材料は、通常、入射レーザー放射に対
して比較的透明なものである。
それ故、染料もしくは着色剤は、典型的に、特定のレー
ザー光に対する吸収性を向上させるように各層に添加さ
れる。染料もしくは着色剤は、入射レーザー光を、物理
的熱効果を除き化学的変化を伴なわない実質的に非破壊
機構により熱エネルギーに変換する。必要な高い解像度
のために、使用した層の厚さにおいてレーザー光を効果
的に吸収する濃度で均質な固溶体を形成すべく、染料も
しくは着色剤は、ポリマーマトリ−、ケス中に完全に溶
解すべきである。
ザー光に対する吸収性を向上させるように各層に添加さ
れる。染料もしくは着色剤は、入射レーザー光を、物理
的熱効果を除き化学的変化を伴なわない実質的に非破壊
機構により熱エネルギーに変換する。必要な高い解像度
のために、使用した層の厚さにおいてレーザー光を効果
的に吸収する濃度で均質な固溶体を形成すべく、染料も
しくは着色剤は、ポリマーマトリ−、ケス中に完全に溶
解すべきである。
この発明の染料塩は、上記デュアル層構造における有用
な吸収剤であることがわかっており、特にスペクトルの
近赤外領域″11@発光するレーザー原剤に有用である
ことがわかっている。この染料塩は、均質で、固体のポ
リマー系溶体を形成し、これは、膨張層または保持層に
おいて有用である。
な吸収剤であることがわかっており、特にスペクトルの
近赤外領域″11@発光するレーザー原剤に有用である
ことがわかっている。この染料塩は、均質で、固体のポ
リマー系溶体を形成し、これは、膨張層または保持層に
おいて有用である。
エラストマーポリマー材料中のこれら染料の完全固溶体
が、膨張層として特に有用である。この発明の範囲内で
意図された染料塩は、構造(ここで、Rは、独立に、0
1〜+アルキル基から選択され、 Roは、独立に、−1(、<コ←H−、アルキル、アリ
ールまたはアルカリール基から選択され、これらはいづ
れも置換されていてよく、ざらにRoはポリメチン鎖と
あるいは環置換基を介して隣りのフェニル環と環式構造
を形成していてもよ〈。
が、膨張層として特に有用である。この発明の範囲内で
意図された染料塩は、構造(ここで、Rは、独立に、0
1〜+アルキル基から選択され、 Roは、独立に、−1(、<コ←H−、アルキル、アリ
ールまたはアルカリール基から選択され、これらはいづ
れも置換されていてよく、ざらにRoはポリメチン鎖と
あるいは環置換基を介して隣りのフェニル環と環式構造
を形成していてもよ〈。
Xはフルオロスルホネート;ペルフルオロアルキル、ア
ルキル、アルカリール、アールアルキル、7リール、フ
ルオロアリール、ビニルおよびアクリルスルホネート;
2−アクリルアミド−2−メチル−プロパンスルホネー
ト:並びにアルキル、アルカリール、アールアルキル、
アリール、フルオロアリールおよびアクリルカルボキシ
レートから選ばれたアニオン基)に対応する。これら染
料塩の中でも特に好ましいものは、l、1゜5.5−テ
トラキス(P−ジメチルアミノフェニル)−2,4−ペ
ンタジェン−1−オールトリフルオロメチルスルホネー
トである。
ルキル、アルカリール、アールアルキル、7リール、フ
ルオロアリール、ビニルおよびアクリルスルホネート;
2−アクリルアミド−2−メチル−プロパンスルホネー
ト:並びにアルキル、アルカリール、アールアルキル、
アリール、フルオロアリールおよびアクリルカルボキシ
レートから選ばれたアニオン基)に対応する。これら染
料塩の中でも特に好ましいものは、l、1゜5.5−テ
トラキス(P−ジメチルアミノフェニル)−2,4−ペ
ンタジェン−1−オールトリフルオロメチルスルホネー
トである。
適切な光吸収を得るために、保持層は、通常、染料塩を
少なくとも0.5重量%および少なくとも2重量%含有
する。しかしながら、このタイプの染料の利点の1つは
、非常に低濃度で効果的に用いることがでさるというこ
とである。かくして、膨張層および保持層のレオロジー
性質に悪影響を及ぼさない非常に少量を用いることがで
きる。したがって、染料塩を15重量%を越えて。
少なくとも0.5重量%および少なくとも2重量%含有
する。しかしながら、このタイプの染料の利点の1つは
、非常に低濃度で効果的に用いることがでさるというこ
とである。かくして、膨張層および保持層のレオロジー
性質に悪影響を及ぼさない非常に少量を用いることがで
きる。したがって、染料塩を15重量%を越えて。
好ましくは10.1量%あるいはそれ以下を越えて使用
する必要はない、より高い染料濃度、例えば10@驕%
までも使用できるが、それほど効果的でない。
する必要はない、より高い染料濃度、例えば10@驕%
までも使用できるが、それほど効果的でない。
第1の材料および第2の材料は、好ましくはポリマーで
あり、好ましくはアモルファスポリマーである。具体的
には、第1の材料は、例えば、上記熱可塑性性質および
物理的性質を有するエラストマーであり得る。好適なエ
ラストマーには、ブチルゴム、シリコーンゴム、天然ゴ
ム、エチレン共重合体、スチレン−ブタジェンゴム、お
よび多数の他の合成ゴムが含まれる。
あり、好ましくはアモルファスポリマーである。具体的
には、第1の材料は、例えば、上記熱可塑性性質および
物理的性質を有するエラストマーであり得る。好適なエ
ラストマーには、ブチルゴム、シリコーンゴム、天然ゴ
ム、エチレン共重合体、スチレン−ブタジェンゴム、お
よび多数の他の合成ゴムが含まれる。
第2の材料に好適なポリマーは、上記特性を有する熱硬
化性もしくは熱可塑性を有するアモルファスポリマーで
ある。これらには、例えば、セルロースアセテート、セ
ルロールアセテート−ブチレート、ポリスチレン、ポリ
スルホンアミド、ポリカーボネート、セルロースナイト
レート、ヒドロアビエチルアルコール例えばアビトール
AUK257(6)、ポリ(エチル−メタクリレート)
、ポリ(ビニルブチラール)、芳香族ポリエステル、ポ
リアミド、エポキシ樹脂、およびそれたの種々の組合せ
が含まれる。使用できる他のアモルファスポリマーには
、アクリル系ポリマー、ポリビニルアセテート、シリコ
ーン樹脂、アルキッド樹脂、スチレン−ブタジェン共重
合体、塩化ビニル−酢酸ヒニル共重合体、二)Oセルa
−ス、エチルセルロース、ポリビニルアルコール、ゼラ
チングルー、カゼイン、卵アルブミン、および種々の他
のポリマーが含まれる。
化性もしくは熱可塑性を有するアモルファスポリマーで
ある。これらには、例えば、セルロースアセテート、セ
ルロールアセテート−ブチレート、ポリスチレン、ポリ
スルホンアミド、ポリカーボネート、セルロースナイト
レート、ヒドロアビエチルアルコール例えばアビトール
AUK257(6)、ポリ(エチル−メタクリレート)
、ポリ(ビニルブチラール)、芳香族ポリエステル、ポ
リアミド、エポキシ樹脂、およびそれたの種々の組合せ
が含まれる。使用できる他のアモルファスポリマーには
、アクリル系ポリマー、ポリビニルアセテート、シリコ
ーン樹脂、アルキッド樹脂、スチレン−ブタジェン共重
合体、塩化ビニル−酢酸ヒニル共重合体、二)Oセルa
−ス、エチルセルロース、ポリビニルアルコール、ゼラ
チングルー、カゼイン、卵アルブミン、および種々の他
のポリマーが含まれる。
上記染料塩は、膨張層において常に使用されるが、第2
の(保持)層においても使用され得る。
の(保持)層においても使用され得る。
いずれか一方の層または両方の暦は、他の染料もしくは
第2IR料を含んでいてもよい、第1の材料または第2
の材料を同jl(tune)させるために使用できるそ
のような追加的染料もしくは顔料の例を挙げると、ニグ
ロシン染料、アニリンブルー、カルコオイルブルー、ク
ロームイエロー、ウルトラミンブルー、キノリンイエロ
ー、メチレンブルークロリド、モナストラルブルー、マ
ラカイトグリーンオザレート、ローズベンガル、モナス
トラルレッド、スーダンブラックBMおよびそれらの混
合物のような染料がある。染料の他の例には、米国特許
第3,689,788号の第3欄1〜22行目。
第2IR料を含んでいてもよい、第1の材料または第2
の材料を同jl(tune)させるために使用できるそ
のような追加的染料もしくは顔料の例を挙げると、ニグ
ロシン染料、アニリンブルー、カルコオイルブルー、ク
ロームイエロー、ウルトラミンブルー、キノリンイエロ
ー、メチレンブルークロリド、モナストラルブルー、マ
ラカイトグリーンオザレート、ローズベンガル、モナス
トラルレッド、スーダンブラックBMおよびそれらの混
合物のような染料がある。染料の他の例には、米国特許
第3,689,788号の第3欄1〜22行目。
および同第4.338,545号の第8欄53〜68行
目に開示されているものがある。これら特許公報は、こ
れら染料または顔料についての参考としてここに含めて
おく、なお、「アクリル」とは、アクリルおよびメタク
リルの双方を含む意味で用いられている。
目に開示されているものがある。これら特許公報は、こ
れら染料または顔料についての参考としてここに含めて
おく、なお、「アクリル」とは、アクリルおよびメタク
リルの双方を含む意味で用いられている。
この発明の染料含有層はEPO特許公告0138070
号(特公昭80−89848号に対応)に記載されてい
る光学的データ記録媒体およびシステムにおいて使用で
きる。この公報の主題は、参考としてここに含めておく
。
号(特公昭80−89848号に対応)に記載されてい
る光学的データ記録媒体およびシステムにおいて使用で
きる。この公報の主題は、参考としてここに含めておく
。
この発明の染色層の使用を、以下、図面を参照して説明
する。
する。
第1図は、ロジックlまたはロジックOの1つのデータ
ビットを記録するための光ディスクの小さいビット領域
の断面を示している。特に、この光ディスクの各ビット
領域は、基板10と、この基板lO,ヒに被着されたデ
ュアル層12を備えている。
ビットを記録するための光ディスクの小さいビット領域
の断面を示している。特に、この光ディスクの各ビット
領域は、基板10と、この基板lO,ヒに被着されたデ
ュアル層12を備えている。
以下詳述するように、デュアル層12は、11張および
弛緩に、熱的データ書き込み(W張)に、熱的および機
械的データ消去(弛IN)に、および光学的データ読み
出しに敏感である。第1図は、1つのロジック状態例え
ばロジック0に対応する弛緩の状態のデュアル層12を
示し、第2図は、他のロジック状態例えばロジック1を
表わす膨張の状態にあるデュアル層12を示している。
弛緩に、熱的データ書き込み(W張)に、熱的および機
械的データ消去(弛IN)に、および光学的データ読み
出しに敏感である。第1図は、1つのロジック状態例え
ばロジック0に対応する弛緩の状態のデュアル層12を
示し、第2図は、他のロジック状態例えばロジック1を
表わす膨張の状態にあるデュアル層12を示している。
デュアル層12は、一方の材料18の底部層14と、他
の材料20の頂部層18を備えている。材料18の膨張
および弛緩並びに材料2Gの遷移的軟化および固化以外
には、デュアル層12の膨張または弛緩に際し材料は物
理的状態が変化せず、それにより速度もしくはデータ率
を向上させ、およびデータビットが記録されおよび消去
されるパワー要求を減少させる。以後述べるように、デ
ータビットを高いデータ率で消去するように、材料18
および材料20は、それらの界面22で結合されている
。加えて、第2図に示すように、材料18は、デュアル
層12の膨張に際して界面24において材料18が基板
lOから離層しないように基板lO上に被着されている
。これにより、基板lOのまわりのfi14のどのよう
なりリープをも実質的に除去し、それにより、以後述べ
るように、ビット領域は、縁返しの消去/書き込みサイ
クルの後も光学的に平滑のままであるようになる。かく
して、第2図に示すように、界面22および界面24に
おける結合の結襲、デュアル層12の膨張に際して、材
料18および材料20は、互いに結合し続け、他方材料
18はなお基板lOからil1層することなく基板と接
触している。
の材料20の頂部層18を備えている。材料18の膨張
および弛緩並びに材料2Gの遷移的軟化および固化以外
には、デュアル層12の膨張または弛緩に際し材料は物
理的状態が変化せず、それにより速度もしくはデータ率
を向上させ、およびデータビットが記録されおよび消去
されるパワー要求を減少させる。以後述べるように、デ
ータビットを高いデータ率で消去するように、材料18
および材料20は、それらの界面22で結合されている
。加えて、第2図に示すように、材料18は、デュアル
層12の膨張に際して界面24において材料18が基板
lOから離層しないように基板lO上に被着されている
。これにより、基板lOのまわりのfi14のどのよう
なりリープをも実質的に除去し、それにより、以後述べ
るように、ビット領域は、縁返しの消去/書き込みサイ
クルの後も光学的に平滑のままであるようになる。かく
して、第2図に示すように、界面22および界面24に
おける結合の結襲、デュアル層12の膨張に際して、材
料18および材料20は、互いに結合し続け、他方材料
18はなお基板lOからil1層することなく基板と接
触している。
第2図において、材料18および材料20は、デュアル
層12の膨張に応答して発生した機械的力を受ける。以
後述べるように、この力は、一部において、データビー
、トを迅速に消去する目的でデュアル層12を第1図に
示す状態に弛緩させる作用をなす。
層12の膨張に応答して発生した機械的力を受ける。以
後述べるように、この力は、一部において、データビー
、トを迅速に消去する目的でデュアル層12を第1図に
示す状態に弛緩させる作用をなす。
膨張P?f14の材料18は、(1)低い熱伝導性、(
2)高い熱膨張係数、(3)雰囲気温度よりもかなり低
いガラス転移温度Tgを有する。すなわち、Tgに関し
ては、材料18は、雰囲気温度において、ガラス状ある
いはもろい状態とは反対に、ゴム状である。このことは
、わずかに比較的低いパワー加熱が、ゴム状材料を加熱
するために要求され、その結果、これら3つの性質のた
め材料18の局所化され、大規模もしくは大きく迅速な
膨張が得られることを意味する。また、この局所化され
た膨張の結果、高いデータ記録密度を達成することがで
きる。材料18は、また、比較的高度に架橋され、その
ため膨張に際し、粘性流動を実質的に示さない、加えて
、材料1Bは、弾性的であり(すなわち、高い弾性係数
を有する)、そのため膨張に際して、その弾性限界を越
えることなく伸張し、その結果、バネ的力F1が生じ、
これが、材料18を、冷却または応力の除去により弛緩
された状態に戻す、材料!8の他の物性および特性は以
下に記載する。
2)高い熱膨張係数、(3)雰囲気温度よりもかなり低
いガラス転移温度Tgを有する。すなわち、Tgに関し
ては、材料18は、雰囲気温度において、ガラス状ある
いはもろい状態とは反対に、ゴム状である。このことは
、わずかに比較的低いパワー加熱が、ゴム状材料を加熱
するために要求され、その結果、これら3つの性質のた
め材料18の局所化され、大規模もしくは大きく迅速な
膨張が得られることを意味する。また、この局所化され
た膨張の結果、高いデータ記録密度を達成することがで
きる。材料18は、また、比較的高度に架橋され、その
ため膨張に際し、粘性流動を実質的に示さない、加えて
、材料1Bは、弾性的であり(すなわち、高い弾性係数
を有する)、そのため膨張に際して、その弾性限界を越
えることなく伸張し、その結果、バネ的力F1が生じ、
これが、材料18を、冷却または応力の除去により弛緩
された状態に戻す、材料!8の他の物性および特性は以
下に記載する。
保持層16の材料20は、(1)雰囲気温度よりも実質
的に高いガラス転移温度Tg(例えば100℃)を有す
る。かくして、雰囲気温度もしくは常温において、材料
20はガラス状あるいはもろいが、そのガラス転移温度
を越えて加熱されると、直ちに、皮状もしくはたわみ状
態を経てゴム状状態に変換する。材料20は、また(2
)比較的低い熱伝導率、および(3)比較的低い熱膨張
係数(TCE)を有する。それ故、迅速にかつ局所的に
材料20を膨張させるためにこれら3つの性質により低
パワー加熱が使用できるのである。また、材料20は、
その頂表面を雰囲気条件にさらすことにより比較的迅速
にそのガラス転移温度未満の温度に冷却し、それにより
第2図に示したように、デュアル層12の膨張状態を「
凍結」する。
的に高いガラス転移温度Tg(例えば100℃)を有す
る。かくして、雰囲気温度もしくは常温において、材料
20はガラス状あるいはもろいが、そのガラス転移温度
を越えて加熱されると、直ちに、皮状もしくはたわみ状
態を経てゴム状状態に変換する。材料20は、また(2
)比較的低い熱伝導率、および(3)比較的低い熱膨張
係数(TCE)を有する。それ故、迅速にかつ局所的に
材料20を膨張させるためにこれら3つの性質により低
パワー加熱が使用できるのである。また、材料20は、
その頂表面を雰囲気条件にさらすことにより比較的迅速
にそのガラス転移温度未満の温度に冷却し、それにより
第2図に示したように、デュアル層12の膨張状態を「
凍結」する。
材料20は、軽度に架橋されているか、あるいは鎖から
み合いに依存していてもよく、また熱可塑性、粘弾性で
もよく、比較的低い弾性係数を持っていてもよい、それ
故、ll張に際し、架橋が粘性流動を制限し、材料20
の伸張が生じて力F3を発生する。また、力F2が、膨
張に際して材料20中に生じる。
み合いに依存していてもよく、また熱可塑性、粘弾性で
もよく、比較的低い弾性係数を持っていてもよい、それ
故、ll張に際し、架橋が粘性流動を制限し、材料20
の伸張が生じて力F3を発生する。また、力F2が、膨
張に際して材料20中に生じる。
さらに、材料20は、温度とともに変化し、膨張に際し
て力F4を生じさせる可変弾性率を有する。この弾性率
は、温度上昇とともに減少する。
て力F4を生じさせる可変弾性率を有する。この弾性率
は、温度上昇とともに減少する。
このことは、材料20が、材料20中に歪を誘起するた
めにより少ない応力を必要とすることを意味する。これ
により、低光パワーで非常に迅速に歪が生じ、第2図に
示すようなバンプが形成される。
めにより少ない応力を必要とすることを意味する。これ
により、低光パワーで非常に迅速に歪が生じ、第2図に
示すようなバンプが形成される。
層14および1Bは1層le中を伝播する実質的に全て
の光が7514中に吸収されるように光学的に結合され
ている。この光学的結合は、材料18とほぼ同じ屈折率
を有する材料20によって一提供される。かくして、実
質的に全てのこの光が頂層IBから底部7514まで結
合されているので、光の損失は実質的になく、低パワー
光源を使用することができる。
の光が7514中に吸収されるように光学的に結合され
ている。この光学的結合は、材料18とほぼ同じ屈折率
を有する材料20によって一提供される。かくして、実
質的に全てのこの光が頂層IBから底部7514まで結
合されているので、光の損失は実質的になく、低パワー
光源を使用することができる。
材料18および材料20は、また、複数の所望のもしく
は所定の波長の光のいづれかに光学的に同調され得る。
は所定の波長の光のいづれかに光学的に同調され得る。
この同調を達成するために、材料18および20は、そ
れぞれ1個々の材料18および20をして当該所定波長
の光を吸収させるように染料もしくは顔料を添加した光
透明性材料を構成し得る。
れぞれ1個々の材料18および20をして当該所定波長
の光を吸収させるように染料もしくは顔料を添加した光
透明性材料を構成し得る。
以下にさらに詳しく説明する理由により、材料18およ
び20は、異なる波長の光を吸収するように同調され、
材料20は材料18によって吸収され得る波長の光に対
して実質的ではあるが全体的ではなく透明である。この
光学的同調は、記録媒体が、現在入手できあるいは将来
入手できるようになる種々の異なるレーザー源で動作す
るように同調できるという点で光学的データ記録媒体を
高度にフレキシブルにするという利点を有する。
び20は、異なる波長の光を吸収するように同調され、
材料20は材料18によって吸収され得る波長の光に対
して実質的ではあるが全体的ではなく透明である。この
光学的同調は、記録媒体が、現在入手できあるいは将来
入手できるようになる種々の異なるレーザー源で動作す
るように同調できるという点で光学的データ記録媒体を
高度にフレキシブルにするという利点を有する。
層14および1Bは、熱的に互いに結合されている。す
なわち、材料18および材料20は異なる熱容;夛を有
し、材料18はデュアル層12の内側にあり、材料20
はその外側にあり、材料20は、上に述べたように、よ
り迅速に冷却し得る。
なわち、材料18および材料20は異なる熱容;夛を有
し、材料18はデュアル層12の内側にあり、材料20
はその外側にあり、材料20は、上に述べたように、よ
り迅速に冷却し得る。
圧り五立孟二」
第1図および第2図は、ビット領域でデータビットを熱
的に書き込む方法を示している。第1図を参照して、こ
の消去可能な光学的データ記録媒体が第1図に関して説
明した弛緩状態にあると仮定する。この弛緩状態におい
て、雰囲気温度で、材料18は、そのガラス転移温度を
越えており、それ故ゴム状であるが、材料20はそのガ
ラス転移温度よりも低く、それ故ガラス状である。また
、この時、機械的力F −F、は全く発生していない
、さらに材料18および材料20は、材料18および材
料20がそれぞれ高度に弾性的であり、および若干弾性
的であるということを含み、前述した他の性質および特
性を有する。
的に書き込む方法を示している。第1図を参照して、こ
の消去可能な光学的データ記録媒体が第1図に関して説
明した弛緩状態にあると仮定する。この弛緩状態におい
て、雰囲気温度で、材料18は、そのガラス転移温度を
越えており、それ故ゴム状であるが、材料20はそのガ
ラス転移温度よりも低く、それ故ガラス状である。また
、この時、機械的力F −F、は全く発生していない
、さらに材料18および材料20は、材料18および材
料20がそれぞれ高度に弾性的であり、および若干弾性
的であるということを含み、前述した他の性質および特
性を有する。
さて、熱的にデータビー2トを書き込むために、ち該方
法は、材料1Bを熱してこれをその弾性限界内で膨張さ
せることを含む、材料18を加熱するこの時点で、材料
20は、またそのガラス転移温度を越えて加熱されこれ
により材料20は軟化し、ゴム状となる。好ましくは、
第1図に示すように、材料18および20の加熱は、材
料2Gが実質的に透明であり、材料18が吸収性である
波長を有するレーザービームLWを発生させ、このレー
ザービームLWを、材料20を通して材料■8上に集束
させることによって達成される。レーザービームLWの
光は材料20によりわずかに吸収されて、この材料2G
をゴム状とする熱を発生し、および材料18によって実
質的に吸収されて材料18を材料20上に弾性的に膨張
させる。
法は、材料1Bを熱してこれをその弾性限界内で膨張さ
せることを含む、材料18を加熱するこの時点で、材料
20は、またそのガラス転移温度を越えて加熱されこれ
により材料20は軟化し、ゴム状となる。好ましくは、
第1図に示すように、材料18および20の加熱は、材
料2Gが実質的に透明であり、材料18が吸収性である
波長を有するレーザービームLWを発生させ、このレー
ザービームLWを、材料20を通して材料■8上に集束
させることによって達成される。レーザービームLWの
光は材料20によりわずかに吸収されて、この材料2G
をゴム状とする熱を発生し、および材料18によって実
質的に吸収されて材料18を材料20上に弾性的に膨張
させる。
ついで、第2図に示すように、加熱された材料18は膨
張し、加熱された材料2Gを押し上げ、中実変形すなわ
ちバンブを生じさせ、他方材料1Bは弾性的に伸張する
0次の工程は、材料18が伸張され膨張した状態にある
間に、膨張した材料18をそのガラス転移温度未満に冷
却してこれを固化することを含む、冷却により、材料2
0は可逆的に固定された変形もしくはバンブを形成し、
材料18を伸張され膨張した状態に保持する。かくして
、この時、1つのロジックレベル例えばロジック1は、
ピッ)1!城が第2図に関して説明した膨張した状態に
ある状態で書き込まれている。ロジック0をビット領域
で再度書き込もうとする場合、レーザービームLWは作
動させず、ビット領域は第2図の第2の位置に示した弛
緩状態にあるままである。
張し、加熱された材料2Gを押し上げ、中実変形すなわ
ちバンブを生じさせ、他方材料1Bは弾性的に伸張する
0次の工程は、材料18が伸張され膨張した状態にある
間に、膨張した材料18をそのガラス転移温度未満に冷
却してこれを固化することを含む、冷却により、材料2
0は可逆的に固定された変形もしくはバンブを形成し、
材料18を伸張され膨張した状態に保持する。かくして
、この時、1つのロジックレベル例えばロジック1は、
ピッ)1!城が第2図に関して説明した膨張した状態に
ある状態で書き込まれている。ロジック0をビット領域
で再度書き込もうとする場合、レーザービームLWは作
動させず、ビット領域は第2図の第2の位置に示した弛
緩状態にあるままである。
材料20がレーザービームLWの光をわずかながら吸収
するところの上記加熱工程の代りとして、材料20はそ
のような光を吸収しなくともよい、むしろ、材料18中
に吸収された光の少量を材料20に伝達あるいは移送し
て材料20をそのガラス転移温度を越えて加熱する。
するところの上記加熱工程の代りとして、材料20はそ
のような光を吸収しなくともよい、むしろ、材料18中
に吸収された光の少量を材料20に伝達あるいは移送し
て材料20をそのガラス転移温度を越えて加熱する。
また、レーザービームLWのみが使用されているところ
の第1図に示す加熱工程の代りとして、当該方法は、第
2のレーザービーム例えばLEを発生させ、そのレーザ
ービームを材料20上に集束させることによってまず材
料20をそのガラス転移温度を越えて加熱することを含
むことができる。
の第1図に示す加熱工程の代りとして、当該方法は、第
2のレーザービーム例えばLEを発生させ、そのレーザ
ービームを材料20上に集束させることによってまず材
料20をそのガラス転移温度を越えて加熱することを含
むことができる。
その直後に、レーザービームLWを作動させ、上記のよ
うに材料lB上に集束させ、そのとき熱的にデータビッ
トを書き込むための方法を上述のように続行させる。初
めに第2のレーザーを用いることの1つの利点は、材料
20をより迅速にゴム状態にすることであり、それによ
りデータビットをより迅速に形成できるのである。
うに材料lB上に集束させ、そのとき熱的にデータビッ
トを書き込むための方法を上述のように続行させる。初
めに第2のレーザーを用いることの1つの利点は、材料
20をより迅速にゴム状態にすることであり、それによ
りデータビットをより迅速に形成できるのである。
1人玉二ゴ
第3図は、熱的および機械的にデータビットを消去する
ための方法を示している。ビット領域は、材料20が材
料18を雰囲気温度で膨張され伸張された状態に保持し
ている第2図におけると同様のビット領域についての膨
張状態を示している第3図に記載されているように書き
込まれたデータビットを有すると仮定する。すると、こ
の方法は、材料20をそのガラス転移温度以上に加熱し
て材料20をゴム状にすることを含む、第3図に示され
ているこの材料20の加熱は、レーザービームLEを発
生させこれを材料20−fニーに集束させることによっ
て達成できる。材料20の加熱は、材料20による材料
18の保持作用を弛緩させ、それにより機械的力F1〜
F十をして迅速にビット領域を第1図に示す弛緩状態に
戻させる。特に、材料!8における弾性力F□はデュア
ル層12の弛緩状態への迅速な戻りを生じさせる支配的
な力である。この弛緩により、材料20は力Fiおよび
F3により引き戻され、ビットを形成する中間状態を持
つ、全体的に雰囲気温度まで冷却された後、材料20お
よび全体のデュアル層12は、第1図に関して説明した
ように、完全に弛緩した状態に戻る。デュアル層12は
、冷却により、材料20内のいずれのピークおよび谷(
図示せず)も光の波長の174よりも高くも低くもない
という光学的に平滑な状態に戻る。
ための方法を示している。ビット領域は、材料20が材
料18を雰囲気温度で膨張され伸張された状態に保持し
ている第2図におけると同様のビット領域についての膨
張状態を示している第3図に記載されているように書き
込まれたデータビットを有すると仮定する。すると、こ
の方法は、材料20をそのガラス転移温度以上に加熱し
て材料20をゴム状にすることを含む、第3図に示され
ているこの材料20の加熱は、レーザービームLEを発
生させこれを材料20−fニーに集束させることによっ
て達成できる。材料20の加熱は、材料20による材料
18の保持作用を弛緩させ、それにより機械的力F1〜
F十をして迅速にビット領域を第1図に示す弛緩状態に
戻させる。特に、材料!8における弾性力F□はデュア
ル層12の弛緩状態への迅速な戻りを生じさせる支配的
な力である。この弛緩により、材料20は力Fiおよび
F3により引き戻され、ビットを形成する中間状態を持
つ、全体的に雰囲気温度まで冷却された後、材料20お
よび全体のデュアル層12は、第1図に関して説明した
ように、完全に弛緩した状態に戻る。デュアル層12は
、冷却により、材料20内のいずれのピークおよび谷(
図示せず)も光の波長の174よりも高くも低くもない
という光学的に平滑な状態に戻る。
さらに、上に指摘したように、デュアル層12は、材料
18の粘弾性特性に応答して生じる力に一部依存する弛
緩時間を有する。この弛緩時間は材料20の温度を高め
ると促進される。
18の粘弾性特性に応答して生じる力に一部依存する弛
緩時間を有する。この弛緩時間は材料20の温度を高め
ると促進される。
LL血上玉=」
:i42図は、データビットを光学的に読み出す方法を
示している。データビット例えばロジックlが、バンブ
が上に述べたように形成されている第2図に示す左側ビ
ット領域に書き込まれていると仮定する。このデータビ
ットを読み取るために。
示している。データビット例えばロジックlが、バンブ
が上に述べたように形成されている第2図に示す左側ビ
ット領域に書き込まれていると仮定する。このデータビ
ットを読み取るために。
データビットを書き込みまたは消去するために使用され
たレベルよりも低いパワーレベルにあるレーザービーム
LRが発生され、材料20のバンブ上に集束される。同
様に、ロジック0のデータビットが第2図に示す右側ビ
ット領域に書き込まれている(すなわち、バンプが形成
されていない)と仮定する。再び、データビットを書き
込むまたは消去するために用いたレベルよりも低いパワ
ーレベルのレーザービーブLRが発生され、材料20上
に集束される。
たレベルよりも低いパワーレベルにあるレーザービーム
LRが発生され、材料20のバンブ上に集束される。同
様に、ロジック0のデータビットが第2図に示す右側ビ
ット領域に書き込まれている(すなわち、バンプが形成
されていない)と仮定する。再び、データビットを書き
込むまたは消去するために用いたレベルよりも低いパワ
ーレベルのレーザービーブLRが発生され、材料20上
に集束される。
両方の読み取りの場合において、レーザービームLRの
光は、材料20から反射されるであろう。
光は、材料20から反射されるであろう。
第2図の左側に示したデュアル層12の膨張状態と、第
2図の右側に示したデュアル層12の弛緩状態との厚さ
あるいは高さの差により、それぞれ材料20から反射さ
れるレーザービームLRの光の間に位相ずれ(phas
e 5hift)がある、この位相ずれあるいは差は、
ロジック1ビツトをロジックOビットから区別するため
に高い信号/ノイズ比をもって検出され得る。あるいは
、第2図の左側と右側とで散乱光における差、したがっ
て反射光の振幅における差がある。この振幅(ampl
itude)の差は、ロジックlおよびロジックOビッ
トとして高い信号/ノイズ比をもって検出し得る。第2
図の左側の状態においては、第2図の右側の状態よりも
より多くの散乱光したがって減少した振幅が検出される
。
2図の右側に示したデュアル層12の弛緩状態との厚さ
あるいは高さの差により、それぞれ材料20から反射さ
れるレーザービームLRの光の間に位相ずれ(phas
e 5hift)がある、この位相ずれあるいは差は、
ロジック1ビツトをロジックOビットから区別するため
に高い信号/ノイズ比をもって検出され得る。あるいは
、第2図の左側と右側とで散乱光における差、したがっ
て反射光の振幅における差がある。この振幅(ampl
itude)の差は、ロジックlおよびロジックOビッ
トとして高い信号/ノイズ比をもって検出し得る。第2
図の左側の状態においては、第2図の右側の状態よりも
より多くの散乱光したがって減少した振幅が検出される
。
この発明の光学的記Il!媒体の作製を以下実施例によ
り説明する。
り説明する。
支11
以下の実施例において、全ての混合および貯蔵は、成分
の化学的もしくは物理的変性を最小限とするために窒素
の不活性雰囲気中、室温でおこなった。
の化学的もしくは物理的変性を最小限とするために窒素
の不活性雰囲気中、室温でおこなった。
A、111張層
上記界面活性剤溶液および硬化剤溶液を順次上記樹脂溶
液に添加して膨張層溶液を作った。硬化剤溶液を加えた
ら、ろ過および塗布時間は2時間を越えてはならない、
膨張層溶液をタイプ316ステンレス鋼部品からなる4
7mm0.2ミクロンテフロンろ過装置を通して3回ろ
過した。ついで、コノ膨張層溶液(4mJl)を、40
Orpmで回転する清浄なポリカーボネート基板に5.
6秒で塗布した0次に、このポリカーボネート基板をゼ
ロ速度で5秒間保持して、レベリングをおこない、その
後最終のスピンオフを1100orpで30秒おこなっ
た。しかる後、この層を対流層中100℃で16時間垂
直に硬化させた。
液に添加して膨張層溶液を作った。硬化剤溶液を加えた
ら、ろ過および塗布時間は2時間を越えてはならない、
膨張層溶液をタイプ316ステンレス鋼部品からなる4
7mm0.2ミクロンテフロンろ過装置を通して3回ろ
過した。ついで、コノ膨張層溶液(4mJl)を、40
Orpmで回転する清浄なポリカーボネート基板に5.
6秒で塗布した0次に、このポリカーボネート基板をゼ
ロ速度で5秒間保持して、レベリングをおこない、その
後最終のスピンオフを1100orpで30秒おこなっ
た。しかる後、この層を対流層中100℃で16時間垂
直に硬化させた。
B、保持層
トリメリド酸無水物(TM^)30
TMA、RLSレッドおよびHITCを順次樹脂溶液に
添加して保持層溶液を作る。保持層溶液は、調製vk2
時間以内にろ過および塗布した。保持層溶液を、ポール
ウルチバーDFA0.2 ミクロン絶対テフロン(7)
フィルターで5psiでおよび2つの0.2ミクロン4
7mmミリポアフィルタ−で5〜1Opsi窒素で順次
ろ過した。この保持層溶液(4m文)を膨張層が塗布さ
れたディスクに40Orpmで2.6秒で塗布した。
添加して保持層溶液を作る。保持層溶液は、調製vk2
時間以内にろ過および塗布した。保持層溶液を、ポール
ウルチバーDFA0.2 ミクロン絶対テフロン(7)
フィルターで5psiでおよび2つの0.2ミクロン4
7mmミリポアフィルタ−で5〜1Opsi窒素で順次
ろ過した。この保持層溶液(4m文)を膨張層が塗布さ
れたディスクに40Orpmで2.6秒で塗布した。
このディスクを直ちに2500rpmで3o秒間スピン
オフした。完結したディスクを対流オーブン中125℃
で6時間水平に硬化させた。
オフした。完結したディスクを対流オーブン中125℃
で6時間水平に硬化させた。
−F2光ディスクは、60dBを越える信号/ノイズ比
で満足に動作することがわかった。
で満足に動作することがわかった。
証輩j
(1)ソリタンは、モートンチオコール社の、ウレタン
プレポリマーの商品名 (2)フルオラドFC−430は、3M社の、ヒドロキ
シル化アルキルスルホンアミどの商品名 (3) C−113−300はモートンチオコール社の
、トリグリコールポリエステル硬化剤の商業表示(4)
DEN−444は、ダウケミカル社の、エポキシプレ
ポリマーの商品名 (5)サントスケミカル社(北カロライナ州)(6)ア
ビトールはパーキュレス社の、ヒドロアビエチルアルコ
ールの商品名 (7)テフロンは、デュポン社の、フルオロカーボン樹
脂の登録商標
プレポリマーの商品名 (2)フルオラドFC−430は、3M社の、ヒドロキ
シル化アルキルスルホンアミどの商品名 (3) C−113−300はモートンチオコール社の
、トリグリコールポリエステル硬化剤の商業表示(4)
DEN−444は、ダウケミカル社の、エポキシプレ
ポリマーの商品名 (5)サントスケミカル社(北カロライナ州)(6)ア
ビトールはパーキュレス社の、ヒドロアビエチルアルコ
ールの商品名 (7)テフロンは、デュポン社の、フルオロカーボン樹
脂の登録商標
:j741図は、書き込みモードにおけるこの発明の記
録媒体の操作を説明する概略図、第2図は、読み出しモ
ードにおけるこの発明の記録媒体の操作を説明する概略
図、および第3図は、消去モードにおけるこの発明の記
録媒体の操作を説明する概略図。 10・・11基板、I2・・−デュアル層、14・・・
膨張層、16・・−保持層 出願入代ill )s弁理土鈴江武遂 図面の浄書(内容に変更なし) 手続補正書(ハ) 21発明の名称 光学的記録媒体 3、補正をする者 カンパニー 4、代理人 平成1年3月28日 6、補正の対象 図面 7、補正の内容 別紙の通り 図面の浄書(内容に変更なし)
録媒体の操作を説明する概略図、第2図は、読み出しモ
ードにおけるこの発明の記録媒体の操作を説明する概略
図、および第3図は、消去モードにおけるこの発明の記
録媒体の操作を説明する概略図。 10・・11基板、I2・・−デュアル層、14・・・
膨張層、16・・−保持層 出願入代ill )s弁理土鈴江武遂 図面の浄書(内容に変更なし) 手続補正書(ハ) 21発明の名称 光学的記録媒体 3、補正をする者 カンパニー 4、代理人 平成1年3月28日 6、補正の対象 図面 7、補正の内容 別紙の通り 図面の浄書(内容に変更なし)
Claims (7)
- (1)(a)寸法安定平坦基板と、 (b)該基板の表面に積層された活性層と を有し、該活性層は、 (1)該基板の表面に直接積層された 下層のポリマー系膨張層であって低い熱伝導性、高いT
CEおよび20C未満のTgを有し、かつその中に完全
に溶解した0.5ないし15重量%の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、Rは、独立に、C_1_〜_4アルキル基か
ら選択され、 R’は、独立に、−H、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、アル キル、アリールまたはアルカリール基から選択され、こ
れらはいずれも置換されていてよく、さらにR’はポリ
メチン鎖とあるいは環置換基を介して隣りのフェニル環
と環式構造を形成していてもよく、 Xはフルオロスルホネート;ペルフルオロ アルキル、アルキル、アルカリール、アールアルキル、
アリール、フルオロアリール、ビニルおよびアクリルス
ルホネート;2−アクリルアミド−2−メチル−プロパ
ンスルホ ネート;並びにアルキル、アルカリール、 アールアルキル、アリール、フルオロアリールおよびア
クリルカルボキシレートから選ばれたアニオン基)に対
応する染料塩を含むもの、および - (2)該膨張層に結合した上層の保 持層であって、低い熱伝導性、低いTCEおよび70C
を越えるTgを有する固体非弾性ポリマーを含むもの を備えていることを特徴とする光学的記録媒体。 (2)染料塩のカチオン基が1、1、5、5、−テトラ
キス[p−ジ(C_1_〜_4アルキル)−アミノフェ
ニル]−2、4−ペンタジエン−1−オールである請求
項1記載の媒体。 - (3)カチオン基内のジアルキル基がジメチルである請
求項2記載の媒体。 - (4)カチオン基内のジアルキル基がジエチルである請
求項2記載の媒体。 - (5)アニオン基がトリフルオロメタンスルホネートで
ある請求項1記載の媒体。 - (6)膨張層ポリマーがエラストマーである請求項1記
載の媒体。 - (7)保持層ポリマーがエポキシ樹脂である請求項1記
載の媒体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13247687A | 1987-12-14 | 1987-12-14 | |
US132,476 | 1987-12-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01294238A true JPH01294238A (ja) | 1989-11-28 |
Family
ID=22454235
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63316066A Pending JPH01294238A (ja) | 1987-12-14 | 1988-12-14 | 光学的記録媒体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0320834A3 (ja) |
JP (1) | JPH01294238A (ja) |
KR (1) | KR890010818A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0379277A3 (en) * | 1989-01-17 | 1991-05-29 | Teijin Limited | Napthtalocyanine based compound and optical recording medium containing the same |
MY105728A (en) * | 1989-06-30 | 1994-11-30 | Phillips And Du Pont Optical Company | Direct effect master/stamper for optical recording |
CA2026758A1 (en) * | 1989-10-03 | 1991-04-04 | Takeyuki Kawaguchi | Optical data storage medium formed of uv-curable resin and process for the production thereof |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7905914A (nl) * | 1979-08-01 | 1981-02-03 | Philips Nv | Kleurstof bevattend laagje van een filmvormend polymeer bindmiddel en toepassing ervan in een informatie- registratieeelement. |
JPS60500328A (ja) * | 1982-12-31 | 1985-03-14 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング コンパニ− | 光学デ−タ記憶用記録媒体 |
JPH07118090B2 (ja) * | 1983-08-22 | 1995-12-18 | オプティカル デ−タ インコ−ポレ−テッド | 消去可能光学デ−タ記憶媒体および該媒体のデ−タ記録方法 |
DE3413940A1 (de) * | 1984-04-13 | 1985-10-24 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Tetra (dialkylaminophenyl) cyanine, deren herstellung und verwendung |
JPS60252344A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-13 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体 |
-
1988
- 1988-12-10 EP EP19880120687 patent/EP0320834A3/en not_active Withdrawn
- 1988-12-13 KR KR1019880016615A patent/KR890010818A/ko not_active Application Discontinuation
- 1988-12-14 JP JP63316066A patent/JPH01294238A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0320834A2 (en) | 1989-06-21 |
KR890010818A (ko) | 1989-08-10 |
EP0320834A3 (en) | 1990-11-14 |
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