JPH01290732A - 磁気ヘッド用磁性材料及び磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッド用磁性材料及び磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH01290732A JPH01290732A JP12064688A JP12064688A JPH01290732A JP H01290732 A JPH01290732 A JP H01290732A JP 12064688 A JP12064688 A JP 12064688A JP 12064688 A JP12064688 A JP 12064688A JP H01290732 A JPH01290732 A JP H01290732A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- amorphous
- alloy
- magnetic head
- corrosion resistance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 59
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 22
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 16
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 16
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract description 7
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 7
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 6
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001029 Hf alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000005280 amorphization Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007782 splat cooling Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野〕
本発明は非晶質磁性合金の磁気ヘッド用磁性材料及びそ
れを用いた磁気ヘッドに関する。
れを用いた磁気ヘッドに関する。
【従来の技術]
近年磁気ヘッド用磁性材料として、結晶磁気異方性がな
く、比較的簡単に高い飽和磁束密度Bs、透磁率が得ら
れる非晶質磁性合金が、従来の結晶質磁性合金にかわり
注目されており、その製造技術としてスパッタリングな
どの薄膜形成技術等が開発されると供に数々の研究が行
なわれ、現在のところ、メタロイド元素を含まない金属
−金属系非晶質合金は磁気特性に優れ、特にHfを5%
(原子%、以下%表示は全て原子%を意味する)以上含
有させ非晶質化したCo−Hf非晶質磁性合金は飽和磁
束密度Bsが高く、耐摩耗性。
く、比較的簡単に高い飽和磁束密度Bs、透磁率が得ら
れる非晶質磁性合金が、従来の結晶質磁性合金にかわり
注目されており、その製造技術としてスパッタリングな
どの薄膜形成技術等が開発されると供に数々の研究が行
なわれ、現在のところ、メタロイド元素を含まない金属
−金属系非晶質合金は磁気特性に優れ、特にHfを5%
(原子%、以下%表示は全て原子%を意味する)以上含
有させ非晶質化したCo−Hf非晶質磁性合金は飽和磁
束密度Bsが高く、耐摩耗性。
軟磁気特性も優れているということが知られていた。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、Hfを5%以上含有してはじめてCo−Hf合
金は非晶質化するが、反面耐食性が劣化するという問題
があり、この合金を磁性材料として磁気ヘッドに用いた
場合、特に磁気テープの接触する磁気ギャップ部分での
環境耐久性(湿度、温度耐性)が問題になり品質が劣化
するという問題点があった。
金は非晶質化するが、反面耐食性が劣化するという問題
があり、この合金を磁性材料として磁気ヘッドに用いた
場合、特に磁気テープの接触する磁気ギャップ部分での
環境耐久性(湿度、温度耐性)が問題になり品質が劣化
するという問題点があった。
本発明は従来知られていたCo−Hf非晶質磁性合金の
優れた磁気特性を維持しつつ、かつ上述のような欠点を
取り除いた磁気ヘッド用磁性材料を提供し、かつそれを
用いた磁気ヘッドを提供するものである。
優れた磁気特性を維持しつつ、かつ上述のような欠点を
取り除いた磁気ヘッド用磁性材料を提供し、かつそれを
用いた磁気ヘッドを提供するものである。
[課題を解決するための手段]
本発明によれば、従来のCo−Hf系にX物質を加え、
XはW、Ta、Nbのうちいずれか1つの元素であり、
さらにAβ又はAI2及びCrを含有させCoa Hf
b Xe Al2a又はCoa Hfb Xc Al2
a Cr*と表わした時、原子%でそれぞれ81.0≦
a≦93.5゜5.0≦b≦17.5,0.5≦c≦8
.0゜0.5≦d≦5.0,0.5≦e≦5.0となる
ように組成したものである。
XはW、Ta、Nbのうちいずれか1つの元素であり、
さらにAβ又はAI2及びCrを含有させCoa Hf
b Xe Al2a又はCoa Hfb Xc Al2
a Cr*と表わした時、原子%でそれぞれ81.0≦
a≦93.5゜5.0≦b≦17.5,0.5≦c≦8
.0゜0.5≦d≦5.0,0.5≦e≦5.0となる
ように組成したものである。
以上のよう゛な元素組成を有する合金において、COの
含有量は合金の飽和磁束密度Bsを大きく左右するが、
Bsは基本的磁気特性として非常に重要な要素であり、
高保磁力テープにも対応するためにはBS≧8KGが一
般に必要であるので、Goの含有量はCo281%でな
ければならず、これ未満では充分なりsが得られない。
含有量は合金の飽和磁束密度Bsを大きく左右するが、
Bsは基本的磁気特性として非常に重要な要素であり、
高保磁力テープにも対応するためにはBS≧8KGが一
般に必要であるので、Goの含有量はCo281%でな
ければならず、これ未満では充分なりsが得られない。
またC。
の含有量がCo>93.5%では、得られる合金は非晶
質磁性合金とはなりえず、結晶質磁性合金となるので結
晶磁気異方性等の問題が生ずることとなり好ましくない
。これはCOそれ自体は結晶質磁性体であり非晶質化す
るためにはHf元素等が必要になるという理由による。
質磁性合金とはなりえず、結晶質磁性合金となるので結
晶磁気異方性等の問題が生ずることとなり好ましくない
。これはCOそれ自体は結晶質磁性体であり非晶質化す
るためにはHf元素等が必要になるという理由による。
Hfは非晶質化に必要でありHf≧5%でなければなら
ない。またHfは合金の結晶化温度に関係し、Hfの含
有量が増加すると結晶化温度は上昇する。一方Hfを5
%以上含むとHfが極めて酸化しやすい金属であるため
、耐酸化性、耐食性が劣化する。
ない。またHfは合金の結晶化温度に関係し、Hfの含
有量が増加すると結晶化温度は上昇する。一方Hfを5
%以上含むとHfが極めて酸化しやすい金属であるため
、耐酸化性、耐食性が劣化する。
またXは非晶質合金の磁歪を調整するために有効な物質
であり、W、Ta、Nbのうちのいずれか1つの元素で
得られた非晶質磁性合金の磁歪を少なくする効果を有す
る。W、Ta、Nbのいずれでもかまわないが0,5%
以上含有させることが必要である。反面、0.5%以上
含有させるとHfと同様得られた合金の耐食性を劣化さ
せてしまう。
であり、W、Ta、Nbのうちのいずれか1つの元素で
得られた非晶質磁性合金の磁歪を少なくする効果を有す
る。W、Ta、Nbのいずれでもかまわないが0,5%
以上含有させることが必要である。反面、0.5%以上
含有させるとHfと同様得られた合金の耐食性を劣化さ
せてしまう。
このためCo−Hf−X非晶質磁性合金は優れた磁気特
性を有しつるにもかかわらず、環境耐久性には問題があ
ったが、さらに研究を重ねた結果この欠点は八βまたは
A℃及びCrの添加によって抑制できることを見い出し
た。この効果は八β≧0.5%で認められるものである
。又上限は5%であり、これら以上含有するとBs及び
結晶化温度は低下し、l気持性及び耐摩耗性の劣化が生
じる。
性を有しつるにもかかわらず、環境耐久性には問題があ
ったが、さらに研究を重ねた結果この欠点は八βまたは
A℃及びCrの添加によって抑制できることを見い出し
た。この効果は八β≧0.5%で認められるものである
。又上限は5%であり、これら以上含有するとBs及び
結晶化温度は低下し、l気持性及び耐摩耗性の劣化が生
じる。
八βを添加しさらにCrを添加すると効果は一石大きく
なる。この場合のAI2及びCrの含有量はそれぞれ0
.5%≦AI2≦5%、0.5%≦cr≦5%であり、
それぞれの範囲内で自由に選ぶことができるが、これら
以上含有させると、へβ単独添加の場合と同様にBs及
び結晶化温度は低下し磁気特性及び耐摩耗性の劣化が生
じる。
なる。この場合のAI2及びCrの含有量はそれぞれ0
.5%≦AI2≦5%、0.5%≦cr≦5%であり、
それぞれの範囲内で自由に選ぶことができるが、これら
以上含有させると、へβ単独添加の場合と同様にBs及
び結晶化温度は低下し磁気特性及び耐摩耗性の劣化が生
じる。
又Cr単独の添加は効果がない。
Hfの含有による耐食性の劣化は、Afl又はA℃及び
Crの添加によって改良されるが、Hfの含有量は17
5%が限度であり、これを越えるとA℃又はAΩ及びC
rの添加によっても抑制しきれなくなるばかりか、CO
の含有量が相対的に減少してくるためBsの低下をまね
くこととなり、これ以上含有させる添加は意味がない。
Crの添加によって改良されるが、Hfの含有量は17
5%が限度であり、これを越えるとA℃又はAΩ及びC
rの添加によっても抑制しきれなくなるばかりか、CO
の含有量が相対的に減少してくるためBsの低下をまね
くこととなり、これ以上含有させる添加は意味がない。
このような構成の非晶質磁性合金は一般にはスパッタリ
ング装置によりフェライト基板、結晶化ガラス基板等高
い耐摩耗性を有する基板上に形成することができるが、
従来のスプラットクーリング法等によっても可能である
。得られた非晶質磁性合金膜は該膜がスパッタされてい
る基板のトに形成され基板と一体化した状態で得られる
。
ング装置によりフェライト基板、結晶化ガラス基板等高
い耐摩耗性を有する基板上に形成することができるが、
従来のスプラットクーリング法等によっても可能である
。得られた非晶質磁性合金膜は該膜がスパッタされてい
る基板のトに形成され基板と一体化した状態で得られる
。
特に磁気ヘッドにおいて磁気テープが接触する磁気ギャ
ップ部分の環境耐久性を向上させるために強磁性酸化物
により成る基板の上面にトラック幅規制溝を設け、この
トラック幅規制溝に高融点ガラスを流し込んだ後、該基
板上面に本発明の非晶質磁性合金膜をスパッタリング等
により被着させ、トラック幅規制溝に沿って、不要部分
を平面研削により、除去し一対の磁気コアブロックを作
製しこれら磁気コアブロックの非晶質磁性合金膜面同士
を突き合わせた後、低融点ガラスで接合し、′a数のへ
ラドチップに切断することによって容易に非晶質磁性合
金膜をギャップ部分に有する磁気ヘッドを得ることがで
きる。
ップ部分の環境耐久性を向上させるために強磁性酸化物
により成る基板の上面にトラック幅規制溝を設け、この
トラック幅規制溝に高融点ガラスを流し込んだ後、該基
板上面に本発明の非晶質磁性合金膜をスパッタリング等
により被着させ、トラック幅規制溝に沿って、不要部分
を平面研削により、除去し一対の磁気コアブロックを作
製しこれら磁気コアブロックの非晶質磁性合金膜面同士
を突き合わせた後、低融点ガラスで接合し、′a数のへ
ラドチップに切断することによって容易に非晶質磁性合
金膜をギャップ部分に有する磁気ヘッドを得ることがで
きる。
以下実施例を示すが磁気ヘッドの特性値は一般にコアに
使用する合金の特性値で予測することが出来るので、磁
性合金材料の測定値をもって、そ九を使用した磁気ヘッ
ドの特性を評価した。
使用する合金の特性値で予測することが出来るので、磁
性合金材料の測定値をもって、そ九を使用した磁気ヘッ
ドの特性を評価した。
(実施例)
実施例1
アルゴン圧を5x 10−3To r rにし、高周波
2極スパツタリング装置を用いフェライト基板上に表に
示す元素組成の非晶質合金を約2時間スパッタし、それ
ぞれの元素組成における非晶質合金膜(厚み4.0μm
)を得た。これら非晶質合金膜の特性を調べたところ表
に示すような結果が得られた。(表中comp、は比較
例を示す。)尚、腐食電流は′fJ1図に示すようにそ
れぞれの非晶質合金膜を白金と供に水の中に入れ、その
2金属間を銅線で結び60分後そこに流れる電流を測定
し、その?!流を腐食電流とした。又、飽和磁束密度B
s、結晶化温度はそれぞれVMS法。
2極スパツタリング装置を用いフェライト基板上に表に
示す元素組成の非晶質合金を約2時間スパッタし、それ
ぞれの元素組成における非晶質合金膜(厚み4.0μm
)を得た。これら非晶質合金膜の特性を調べたところ表
に示すような結果が得られた。(表中comp、は比較
例を示す。)尚、腐食電流は′fJ1図に示すようにそ
れぞれの非晶質合金膜を白金と供に水の中に入れ、その
2金属間を銅線で結び60分後そこに流れる電流を測定
し、その?!流を腐食電流とした。又、飽和磁束密度B
s、結晶化温度はそれぞれVMS法。
TMA法によ7て測定した。
得られた合金の磁気特性、耐食性等の評価基準は次のよ
うに設定しそわぞわの項目を総合的に評価し最終評価と
した。
うに設定しそわぞわの項目を総合的に評価し最終評価と
した。
・飽和磁束密度Bs:8.0KG以上を磁性特性良、そ
れ以下を不良 ・結晶温度 :480℃以上を耐摩耗性良、それ
以下を不良 ・腐食電流 :2.0uA/cは以下を耐食性良
、それ以上を不良 ・結晶状態 :結晶質は不可 表に見るように、本発明のCo a Hf h X c
A 12m又はCot Hfb Xe Afla Cr
*の元素組成により得られた合金膜N013゜No、6
〜No、12及びNO,16はBs、結晶化温度を一定
レベル以上に保ったまま、腐食電流が顕著に小さく、磁
気特性、耐食性に優れた非晶質磁性合金であり、又No
、2.No、13〜N0.15及びNO,17も総合的
には良好なものであった。
れ以下を不良 ・結晶温度 :480℃以上を耐摩耗性良、それ
以下を不良 ・腐食電流 :2.0uA/cは以下を耐食性良
、それ以上を不良 ・結晶状態 :結晶質は不可 表に見るように、本発明のCo a Hf h X c
A 12m又はCot Hfb Xe Afla Cr
*の元素組成により得られた合金膜N013゜No、6
〜No、12及びNO,16はBs、結晶化温度を一定
レベル以上に保ったまま、腐食電流が顕著に小さく、磁
気特性、耐食性に優れた非晶質磁性合金であり、又No
、2.No、13〜N0.15及びNO,17も総合的
には良好なものであった。
実施例2
実施例1で得たNO3の非晶質磁性合金膜(膜i%5.
0LLm)、を磁気ヘッド用磁性材料としてR−DAT
用磁気ヘッドのコアのギャップ近傍にスパッタリングに
より形成し、第2図に示す磁気ヘッドを得た。
0LLm)、を磁気ヘッド用磁性材料としてR−DAT
用磁気ヘッドのコアのギャップ近傍にスパッタリングに
より形成し、第2図に示す磁気ヘッドを得た。
このものを環境耐久試験にかけたところ、非晶質合金で
の結果と同様、環境耐久性がありかつ、飽和磁束密度も
高く高保磁力テープにも適する磁気ヘッドであった。
の結果と同様、環境耐久性がありかつ、飽和磁束密度も
高く高保磁力テープにも適する磁気ヘッドであった。
実施例3
実施例1で得たNO7の非晶質合金膜(膜厚5.0μm
)をR−DAT用磁気ヘッドのコアのギャップ部分にス
パッタリングにより第3図に示すように形成した結果、
実施例2で得た磁気ヘッドと同様、環境耐久性を有した
磁気ヘッドを得た。
)をR−DAT用磁気ヘッドのコアのギャップ部分にス
パッタリングにより第3図に示すように形成した結果、
実施例2で得た磁気ヘッドと同様、環境耐久性を有した
磁気ヘッドを得た。
[発明の効果]
本発明は、以上のような構成を有する非晶質磁性合金で
あるため、一般に非晶質合金のもつ特性である製造加工
の仕易さ、高い透磁率、飽和磁束密度等の優れた性質を
有し、耐摩耗、耐食性についても比較的優れた磁気ヘッ
ド用磁性材料であり、このものを磁気ヘッドに用いた場
合、高保磁力テープに適した環境耐久性のある磁気ヘッ
ドがえらえれる。
あるため、一般に非晶質合金のもつ特性である製造加工
の仕易さ、高い透磁率、飽和磁束密度等の優れた性質を
有し、耐摩耗、耐食性についても比較的優れた磁気ヘッ
ド用磁性材料であり、このものを磁気ヘッドに用いた場
合、高保磁力テープに適した環境耐久性のある磁気ヘッ
ドがえらえれる。
第1図は実施例1で得られた非晶質磁性合金膜の耐食性
の試験方法の模式図、第2図は実施例2で得られた磁気
ヘッドの断面図、第3図は実施例3で得られた磁気ヘッ
ドの断面図である。 1・・・非晶質磁性合金膜、 2・・・合金板、 3・・・水、4−・・ビ
ーカー、 5・・・電流計、6・・・磁気へッ
トコア基板材、 7・・・ガラス、 8・・・コイル。
の試験方法の模式図、第2図は実施例2で得られた磁気
ヘッドの断面図、第3図は実施例3で得られた磁気ヘッ
ドの断面図である。 1・・・非晶質磁性合金膜、 2・・・合金板、 3・・・水、4−・・ビ
ーカー、 5・・・電流計、6・・・磁気へッ
トコア基板材、 7・・・ガラス、 8・・・コイル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)XがW,Ta,Nbのうちいずれか1つの元素で
ある元素組成Co_aHf_bX_cAl_dの非晶質
合金において、A,b,c,dは原子%でそれぞれ81
.0≦a≦93.5, 5.0≦b≦17.5,0.5≦c≦ 8.0,0.5≦d≦5.0,a+b+c+d=100
であることを特徴とする磁気ヘッド用磁性材料。 (2)XがW,Ta,Nbのうちいずれか1つの元素で
ある元素組成Co_aHf_bX_cAl_dCr_e
の非晶質合金において、a,b, c,d,eは原子%でそれぞれ81.0≦a≦93.5
,5.0≦b≦17.5,0.5≦c≦8.0,0.5
≦d≦5.0,0.5≦e≦5.0,a+b+c+d+
e=100であることを特徴とする磁気ヘッド用磁性材
(3)磁気ヘッドにおいて、少なくとも磁気コア部の磁
気テープが接触する磁気ギャップ部分が、請求項1又は
請求項2記載の磁気ヘッド用磁性材料から成っている磁
気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12064688A JPH01290732A (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 磁気ヘッド用磁性材料及び磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12064688A JPH01290732A (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 磁気ヘッド用磁性材料及び磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01290732A true JPH01290732A (ja) | 1989-11-22 |
Family
ID=14791378
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12064688A Pending JPH01290732A (ja) | 1988-05-19 | 1988-05-19 | 磁気ヘッド用磁性材料及び磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01290732A (ja) |
-
1988
- 1988-05-19 JP JP12064688A patent/JPH01290732A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1272591A (en) | Magnetic thin film | |
KR930002396B1 (ko) | 자성박막 | |
CA1278770C (en) | Magnetic alloy thin film | |
EP0206774B1 (en) | Magnetic head made from amorphous magnetic film | |
JPS6238424B2 (ja) | ||
JPH01290732A (ja) | 磁気ヘッド用磁性材料及び磁気ヘッド | |
JPH0359978B2 (ja) | ||
JPS61194609A (ja) | 複合磁気ヘツド | |
KR900002758B1 (ko) | 자기헤드용 비정질합금 | |
JPS6151023B2 (ja) | ||
JP3019400B2 (ja) | 非晶質軟磁性材料 | |
JP2774708B2 (ja) | 軟磁性薄膜およびそれを用いた薄膜磁気ヘッド | |
JPH0413420B2 (ja) | ||
JP3087265B2 (ja) | 磁性合金 | |
JPS63168006A (ja) | マンガン亜鉛フエライト及び複合磁気ヘツド | |
JP3221035B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH01269208A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH05267031A (ja) | 磁心材料 | |
JPH04252006A (ja) | 耐食軟磁性膜及びこれを用いた磁気ヘッド | |
JPH0789527B2 (ja) | 結晶質軟磁性薄膜 | |
JPH0270041A (ja) | 磁歪が小さく透磁率の高いコバルト基非晶質合金 | |
JPH01205047A (ja) | 非晶質磁性合金及びこれを用いた磁気ヘッド | |
JPH0789526B2 (ja) | 結晶質軟磁性薄膜 | |
JPS6115935A (ja) | 磁気ヘツド用磁性材料 | |
JPS62139846A (ja) | 強磁性材料 |