JPH01287574A - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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JPH01287574A
JPH01287574A JP33356987A JP33356987A JPH01287574A JP H01287574 A JPH01287574 A JP H01287574A JP 33356987 A JP33356987 A JP 33356987A JP 33356987 A JP33356987 A JP 33356987A JP H01287574 A JPH01287574 A JP H01287574A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は短波長側及び長波長側の両者の光感度を高めて
普通紙複写機に好適になった電子写真感光体に関するも
のである。
(従来技術及びその問題点) 近年、超高速複写機やレーザービームプリンターなどの
開発が活発に進められており、これに伴って、この機器
に搭載される電子写真感光体ドラムに安定した動作特性
並びに耐久性が要求されている。この要求に対してアモ
ルファスシリコンが耐摩耗性、耐熱性、無公害性並びに
光感度特性などに優れるという点で注目されている。
このアモルファスシリコン(以下、a−Siと略す)か
ら成る電子写真感光体には第3図に示す通りの積層型感
光体が提案されている。
即ち、第3図によれば、アルミニウムなどの導電性基板
(1)の上にキャリア注入阻止層(2) 、a−3iキ
ャリア発生N(3)及び表面保護層(4)を順次積層し
ており、このキャリア注入阻止層(2)は基板(1)か
らのキャリアの注入を阻止すると共に残留電位を低下さ
せるために形成されており、また、表面保護!(4)に
は高硬度な材料を用いて感光体の耐久性を高めている。
しかしながら、このようなa−S+感光体においては、
長波長側の光感度が高くなっており、そのため、この感
光体をハロゲンランプ等の白色光を光源として用いた普
通紙複写機(以下、rpcと略す)に搭載した場合、赤
色付近の波長帯に対して再現性に劣る。かかる問題を解
決するためにフィルタを用いて赤色波長光をカットする
ようにしているが、これに伴って感光層に入射する光の
強度が低下し、その結果、感光体自体の光感度が見かけ
上低下する。
(発明の目的) 従って本発明は短波長側及び長波長側の光感度を高める
ことができた電子写真感光体を提供することにある。
本発明の他の目的はppc用に適した電子写真感光体を
提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明によれば、4電性基板上に、少なくとも、光五電
性a−St層及び光導電性アモルファスシリコンカーバ
イド層(以下、アモルファスシリコンカーバイドをa−
SiCと略す)を順次形成した電子写真感光体であって
、前記a−SiC層のシリコン(Si)元素とカーボン
(C)元素の原子比率がSi(+−x+ CXのX値で
0.01≦X≦0.5の範囲内にあり且つその厚みが0
゜05〜5μmの範囲内に設定され、更に該a−SiC
ji5が0.5〜1100ppの周期律表第nla族元
素を含有していることを特徴とする電子写真感光体が提
供される。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明電子写真感光体の基本的層構成は第1図に示す通
りであり、導電性基板(5)の上に光導電性a−5tj
W(6)及び光導電性amSiC層(7)が順次積層さ
れている。
本発明者等の実験によれば、上記のa−SiC層(7)
に所定量の周期律表第ma族元素(以下、IIIa族元
素と略す)を含有させた場合に短波長側の光感度が顕著
に高められることが見出され、そして、この知見に基づ
いて本発明が完成されるに至った。
即ち、第1図に示す層構成によれば、その層(7)の厚
みを所定の範囲内に設定すると入射した光のうち短波長
側がa−9iC層(7)で吸収され、しかも、そのa−
SiC層(7)を透過した光、即ち、長波長側の光がa
−Si屡(6)で吸収され、これにより、短波長側及び
長波長側の両者ともに光感度を高めることが特徴である
先ず、a−3iC層(7)によれば、アモルファス化し
たSi元素及びC元素を不可欠な構成元素と成し、その
ダングリングボンドを終端させるべく水素(H)元素や
ハロゲン元素を所要の範囲内で含有させることによって
光導電性が生じる。本発明者等がカーボンの含有比率を
幾通りにも変えて光導電性を確かめる実験を行ったとこ
ろ、Si元素とC元素の原子比率、即ち、Si (1−
X) Cx (7)X値が0.01 :i;X≦0.5
、好適には0.05≦X≦0.3の範囲内に設定された
場合、暗導電率が小さくなり、短波長側の光感度を高め
ることができる。
また、■元素やハロゲン元素などのダングリングボンド
終端用元素への含有量は(Si(+−XI Cx)+−
,(t)yで表したy値が0.05≦y≦0.5、好適
には0.05≦y≦0.4、最適には0.1≦y≦0.
3の範囲内になるように設定するとよい。このような元
素Aにはダングリングボンドの終端部に取り込まれ易く
てバンドギャップ中の局在準位密度が低減化されるとい
う点で通常H元素が用いられる。
このようなa−SiC71(7)の厚みは0.05〜5
 am 。
好適には0.1〜3μmの範囲内に設定するとよく、こ
の厚みが0.05μm未満の場合には短波長光の吸収が
不十分となって光感度を高めることができず、5μmを
超える場合には残留電位が大きくなる。
ある場合、又は、そのX値が変化する場合のいずれでも
よい。
X値が層厚方向に亘って変化する場合には、そのX値が
0.01≦X≦0.5の範囲内で層(7)の厚みが決め
られ、このようにして決められた厚みも0゜05〜5μ
m、好適には0.1〜3μmの範囲内に設定する必要が
ある。
このようにX値が層厚方向に亘って変化する場合のカー
ボンドーピング分布には、例えば、第4図〜第9図に示
す通りがある。
各々の図において、横軸はa−SiC層(7)の層厚方
向を示し、aはa−3t  層(6)との界面であり、
bはその反対側の界面であり、縦軸はカーボン含有量を
表す。
また、このa−SiC層(7)にはma族元素をその層
厚方向に亘って均一に0.5〜1100pp、好適には
1〜50ppmの範囲内で含有させるとよく、この含有
量が9.5ppm未満の場合には十分に大きな光感度が
得られず、一方、1100ppを超える場合には帯電能
が低下する。
上記ma族元素にはB、AI、Ga、In等があるが、
就中、Bが共有結合性に優れて半W体特性を敏感に変え
得る点で、その上、優れた帯電能並びに光感度が得られ
るという点で望ましい。
このようにa−SiCJW(7)にma族元素を含有さ
せるに当たり、そのドーピング分布はその層厚方向に亘
って不均一にしてもよく、例えば第10図〜第15図に
示す通りがある。
各々の図において、横軸はa−SiCN(7)の層厚方
向を示し、aはa−SiJii(6) との界面であり
、bはその反対側の界面であり、そして、縦軸はma族
元素含有量を表す。
このようにma族元素含有量を層厚方向に亘って変化さ
せた場合、その含有量はa−SiC層(7)全体当たり
の平均値である。
また、前記a−SiF!(6)はアモルファス化したS
i元素と、そのダングリングボンドを終端させるための
H元素やハロゲン元素から成り、入射光のうち長波長側
の光が吸収される。
このa−Si層(6)の厚みは5〜100μm、好適に
は10〜50μmの範囲内に設定するのが望ましく、こ
の範囲内であれば、高い帯電能が得られ、しかも、長波
長光が有効に吸収されるという点で有利である。
また、a−Si層(6)は実質上カーボン元素を含有し
ない層であるが、非常に微少量のカーボンが含有しても
よい。その場合、このカーボンが11000pp以下、
好適には500ppm以下の範囲内であれば、長波長光
の光感度が顕著に低下しない。
更に、a−Si層(6)にはma族元素を0.01〜1
0ppm 、好適には0.1〜5ppmの範囲内で含有
させてもよく、この範囲内であれば、高い帯電能が得ら
れ、しかも、残留電位を低減化できるという点で有利で
ある。尚、この■a族元素のドーピング分布は層厚方向
に亘って均−又は不均一のいずれでもよく、不均一にド
ーピングする場合の含有量はその層(6)の全体当たり
の平均値である。
そして、このようにa−SiN(6)に含有させるma
族元素にはB、^l、Ga+In等がある。
かくして、本発明の電子写真感光体が、ハロゲンランプ
等の白色光を光源として用いたPPCに搭載された場合
、短波長側の光が主にa−3iCNで吸収され、しかも
、長波長側の光が主にa−SiJfflで吸収されるよ
うになり、これにより、赤外波長光をカットするための
フィルタが不要となり、感光体自体の光感度が著しく富
められる。
本発明の電子写真感光体は上記のような二層構造が不可
欠であるが、それ以外にキャリア注入阻止層や表面保護
層を形成してもよい。
例えば、第2図は典型的層構造を表しており、基板(5
)とa−SiJii(6)の間にキャリア注入阻止層(
8)を、そして、a−3iC層(7)の上に表面保護層
(9)を形成している。
前記キャリア注入阻止N(8)については、基板(5)
からのキャリアの注入を阻止するものであり、表面保護
層(9)についてはa−3iCi!(7)を保護して耐
湿性などを向上させるものであり、しかも、両者の層(
8)及び層(9)はいずれも感光体の暗導電率を小さく
して帯電能を高めることができる。
この表面保護層(9)にはそれ自体高絶縁性、高耐蝕性
並びに高硬度性を有するものであるならば種々の材料を
用いることができる。例えばポリイミド樹脂などの有機
材料、SiC、SiO、AIto3、SiNなどの無機
材料を用いることができる。
また、キャリア注入阻止層(8)も上記表面保護層用材
料と同じ材料を用いることができる。
次に本発明に係る電子写真感光体の製法を述べる。
a−Si層又はa−SiC層を形成するにはグロー放電
分解法、イオンブレーティング法、反応性スパンクリン
グ法、真空蒸着法、CVO法等の薄膜形成ガスを、又は
そのガスとC元素含有ガスを組合せ、グロー放電分解す
る。このSt元素含有ガスには5tH4,SiJ6.S
i3Hs 、SiF4.5IC14,5jllC1:+
等々があり、また、C元素含有ガスにはCH4、C21
14、Cz H□、C3H11等々があり、就中、C,
+1.は高速成膜性が得られるという点で望ましい。
本発明の実施例に用いられる容量結合型グロー放電分解
装置を第16図により説明する。
図中、第1、第2、第3、第4、第5、第6タンク(1
0) (11) (12) (13) (14) (1
5)には、それぞれSiH4、C21h、BzH6(H
zガス希釈で0.2χ含有) 、B、1I6(H,ガス
希釈で38ppm含有’) 、H,、Noガスが密封さ
れており、++zはキャリアガスとしても用いられる。
これらのガスはそれぞれ対応する第1、第2、第3、第
4、第5、第6調整弁(16) (17) (18) 
(19)(20) (21)を開放することにより放出
され、その流量がマスフローコントローラ(22) (
23) (24) (25) (26) (27)によ
り制御され、第1、第2、第3、第4、第5タンク(1
0) (11) (12) (13) (14)からの
ガスは第1主管(28)へ、第6タンク(15)からの
Noガスは第2主管(29)へ送られる。尚、(30)
 (31)は止め弁である。第1主管(28)及び第2
主管(29)を通じて流れるガスは反応管(32)へと
送り込まれるが、この反応管(32)の内部には容量結
合型放電用電極(33)が設置されており、それに印加
される高周波電力は50−〜3に−が、また周波数は1
〜50MIIzが適当である。反応管(32)の内部に
はアルミニウムから成る筒状の成膜基板(34)が試料
保持台(35)の上に載置されており、この保持台(3
5)はモーター(36)により回転駆動されるようにな
っており、そして、基板(34)は適当な加熱手段によ
り約200〜400℃、好適には約200〜350℃の
温度に均一に加熱される。更に反応管(32)の内部は
a−3iC膜形成時に高度の真空状態(放電圧0.1〜
2.0Torr)を必要とすることにより回転ポンプ(
37)と拡散ポンプ(38)に連結されている。
以上のように構成されたグロー放電分解装置において、
例えばa−SiC膜を基板(34)に形成する場合、第
1、第2、第5調整弁(16) (17) (20)を
開いてそれぞれよりS i If a、C2II ff
i、H2ガスを放出し、その放出量はマスフローコント
ローラ(22) (23) (26)により制御され、
SiHa、C211□、11□の混合ガスは第1主管(
28)を介して反応管(32)へ流し込まれる。
そして、反応管(32)の内部が0.1〜2.Torr
程度の真空状態、基板温度が200〜400℃、容量結
合型放電用電極(33)に印加される高周波電力が50
W〜3KW 、また周波数が1〜50MIIzに設定さ
れていることに相俟ってグロー放電が起こり、ガスが分
解してa−SiC膜が基板上に高速で形成される。
(実施例) 次に本発明の詳細な説明する。
(例1) 第16図のグロー放電分解装置を用いて第1表に示す通
りの成膜条件によりアルミニウム製基板上に光導電性a
−Sill(6)及び光i電性a−3iCN (7)を
順次積層し、第1図に示す通りの感光体ドラムを製作し
た。
かくして得られた感光体ドラムに、可視光分光器により
分光された0、3μW/cn+”の単色光を照射し、表
面電位の半減時間を求めて分光感度を測定したところ、
第17図に示す通りの結果が得られた。
同図において、横軸は波長であり、縦軸は光感度であり
、そして、○印は測定結果のプロットであり、aはその
特性曲線である。
また第17図には上記感光体ドラムより光導電性a−S
iCJtlJが除かれた感光体ドラムが比較例として示
されており、その分光感度を測定したところ、・印に示
される測定結果のプロットが得られ、bはその特性曲線
である。
この結果より明らかな通り、本発明の感光体ドラムは短
波長側の光感度が顕著に大きくなっていることが判る。
尚、上記光導電性a−SiC層のカーボン量をESCA
分析により求めたところ、Si1−xCつのX値で0゜
12であり、また、そのB含有量を二次イオンfff1
分析計により求めたところ、6ppmであった。
(例2) 本例においては、第2表に示す通りの成膜条件によりア
ルミニウム製基板上にキャリア注入阻止!(8) 、光
!電性a−3ilW(6) 、光4ii性a−SiCJ
i!1(7)及び表面保護N(9)を順次積層し、第2
図に示す通りの感光体ドラムを製作した。
(以下、余白) かくして得られた感光体ドラムをPPCに搭載し、そし
て、赤色カットフィルタを用いないでハロゲンランプを
投光源とし、更にコロナチャージャで+5.6KVの電
圧を印加して正帯電させ、これにより、表面電位、光感
度並びに残留電位を測定したところ、下記に示す通りの
結果が得られた。
表面電位・・・・・・・・+390v 光感度(記録露光ff1)  ・・0.54 lux 
 −5ec残留電位(露光開始5秒後の値)・・20V
また、この感光体ドラムを高速PPCに搭載し、50枚
/分の速度にて画像出しテストを行ったところ、黒色部
及び赤色部に対する忠実なる再現性が得られ、しかも、
高い濃度で且つカプリのない鮮明な画像が得られた。
(例3) 次に本例においては、(例2)にて得られた感光体ドラ
ムについて、光導電性a−SiCrrJの厚みを幾通り
にも変え、これによって得られる感光体ドラムA−Gの
表面電位、光感度(記録露光N)並びに残留電位(露光
開始5秒後の値)を測定したところ、第3表に示す通り
の結果が得られた。
第3表 本印の感光体ドラムは本発明の範囲外のものである第3
表より明らかな通り、本発明の感光体ドラムB−Fは表
面電位が高く、残留電位が小さく、しかも、優れた光感
度が得られていることが判る。
然るに感光体ドラムAは光感度に劣っており、感光体ド
ラムGは残留電位が大きくなっている。
(例4) 本例においては、(例2)にて得られた感光体ドラムに
ついて、光導電性a−3iCNのカーボン含有量とB含
有量をそれぞれ幾通りにも変え、これによって得られる
感光体ドラム11〜0の表面電位、光感度(記録露光量
)並びに残留電位(露光開始5秒後の値)を測定したと
ころ、第4表に示す通りの結果が得られた。
(以下、余白) 第4表 中印の感光体ドラhL林発明の範囲外のものである第4
表より明らかな通り、本発明の感光体ドラムJ−には表
面電位が畜<、残留電位が小さく、しかも、優れた光感
度が得られていることが判る。
然るに感光体ドラムHとIは光感度に劣っており、感光
体ドラムNとOはいずれも表面電位が小さく、残留電位
が大きく、しかも、光感度に劣っている。
また、本発明者等は上記感光体ドラムB−F及びJ−M
をそれぞれ高速PPCに搭載し、50枚/分の速度にて
画像出しテストを行ったところ、黒色部及び赤色部に対
する忠実なる再現性が得られ、しかも、高い濃度で且つ
カブリのない鮮明な画像が得られることを確認した。
(発明の効果) 以上の通り、本発明の電子写真感光体によれば、光導電
性a−Si層と光導電性a−SiC層をMI層し、その
a−SiC層の原子比率及び厚み並びにI[[a族元素
含有量をそれぞれ所定の範囲内に設定し、これにより、
長波長側及び短波長側の両者の光感度を高めることがで
き、その結果、赤外波長光カットフイルタを用いないで
優れた光感度が得られるPPC用の電子写真感光体が提
供される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明電子写真感光体の基本的な層構造を示す
断面図、第2図は本発明電子写真感光体の典型的層構造
を示す断面図、第3図は従来の電子写真感光体の層構造
を示す断面図、第4図、第5図、第6図、第7図、第8
図及び第9図はカーボンドーピング分布を示す線図、第
10図、第11図、第12図、第13図、第14図及び
第15図は周期律表第ma族元素ドーピング分布を示す
線図、第16図はグロー放電分解装置の概略図、第17
は分光感度を示す線図である。 1.5 ・・導電性基板 2.8・・・キャリア注入■止層 4.9・・・表面保護層 6・・・・先導t 性アモルファスシリコン層7・・・
・光”L 電性アモルファスシリコンカーバイド層 第4−      N5図 第6図     第7図 第8図      第9図 、1o、        第■図 第り図       第利図 第14図       第15図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  導電性基板上に、少なくとも、光導電性アモルファス
    シリコン層及び光導電性アモルファスシリコンカーバイ
    ド層を順次形成した電子写真感光体であって、前記アモ
    ルファスシリコンカーバイド層のシリコン元素とカーボ
    ン元素の原子比率がSi_(_1_−_x_)C_xの
    x値で0.01≦x≦0.5の範囲内にあり且つその厚
    みが0.05〜5μmの範囲内に設定され、更に該アモ
    ルファスシリコンカーバイド層が0.5〜100ppm
    の周期律表第IIIa族元素を含有していることを特徴と
    する電子写真感光体。
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