JPH01287574A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JPH01287574A JPH01287574A JP33356987A JP33356987A JPH01287574A JP H01287574 A JPH01287574 A JP H01287574A JP 33356987 A JP33356987 A JP 33356987A JP 33356987 A JP33356987 A JP 33356987A JP H01287574 A JPH01287574 A JP H01287574A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
- G03G5/082—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
- G03G5/08214—Silicon-based
- G03G5/08221—Silicon-based comprising one or two silicon based layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は短波長側及び長波長側の両者の光感度を高めて
普通紙複写機に好適になった電子写真感光体に関するも
のである。
普通紙複写機に好適になった電子写真感光体に関するも
のである。
(従来技術及びその問題点)
近年、超高速複写機やレーザービームプリンターなどの
開発が活発に進められており、これに伴って、この機器
に搭載される電子写真感光体ドラムに安定した動作特性
並びに耐久性が要求されている。この要求に対してアモ
ルファスシリコンが耐摩耗性、耐熱性、無公害性並びに
光感度特性などに優れるという点で注目されている。
開発が活発に進められており、これに伴って、この機器
に搭載される電子写真感光体ドラムに安定した動作特性
並びに耐久性が要求されている。この要求に対してアモ
ルファスシリコンが耐摩耗性、耐熱性、無公害性並びに
光感度特性などに優れるという点で注目されている。
このアモルファスシリコン(以下、a−Siと略す)か
ら成る電子写真感光体には第3図に示す通りの積層型感
光体が提案されている。
ら成る電子写真感光体には第3図に示す通りの積層型感
光体が提案されている。
即ち、第3図によれば、アルミニウムなどの導電性基板
(1)の上にキャリア注入阻止層(2) 、a−3iキ
ャリア発生N(3)及び表面保護層(4)を順次積層し
ており、このキャリア注入阻止層(2)は基板(1)か
らのキャリアの注入を阻止すると共に残留電位を低下さ
せるために形成されており、また、表面保護!(4)に
は高硬度な材料を用いて感光体の耐久性を高めている。
(1)の上にキャリア注入阻止層(2) 、a−3iキ
ャリア発生N(3)及び表面保護層(4)を順次積層し
ており、このキャリア注入阻止層(2)は基板(1)か
らのキャリアの注入を阻止すると共に残留電位を低下さ
せるために形成されており、また、表面保護!(4)に
は高硬度な材料を用いて感光体の耐久性を高めている。
しかしながら、このようなa−S+感光体においては、
長波長側の光感度が高くなっており、そのため、この感
光体をハロゲンランプ等の白色光を光源として用いた普
通紙複写機(以下、rpcと略す)に搭載した場合、赤
色付近の波長帯に対して再現性に劣る。かかる問題を解
決するためにフィルタを用いて赤色波長光をカットする
ようにしているが、これに伴って感光層に入射する光の
強度が低下し、その結果、感光体自体の光感度が見かけ
上低下する。
長波長側の光感度が高くなっており、そのため、この感
光体をハロゲンランプ等の白色光を光源として用いた普
通紙複写機(以下、rpcと略す)に搭載した場合、赤
色付近の波長帯に対して再現性に劣る。かかる問題を解
決するためにフィルタを用いて赤色波長光をカットする
ようにしているが、これに伴って感光層に入射する光の
強度が低下し、その結果、感光体自体の光感度が見かけ
上低下する。
(発明の目的)
従って本発明は短波長側及び長波長側の光感度を高める
ことができた電子写真感光体を提供することにある。
ことができた電子写真感光体を提供することにある。
本発明の他の目的はppc用に適した電子写真感光体を
提供することにある。
提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明によれば、4電性基板上に、少なくとも、光五電
性a−St層及び光導電性アモルファスシリコンカーバ
イド層(以下、アモルファスシリコンカーバイドをa−
SiCと略す)を順次形成した電子写真感光体であって
、前記a−SiC層のシリコン(Si)元素とカーボン
(C)元素の原子比率がSi(+−x+ CXのX値で
0.01≦X≦0.5の範囲内にあり且つその厚みが0
゜05〜5μmの範囲内に設定され、更に該a−SiC
ji5が0.5〜1100ppの周期律表第nla族元
素を含有していることを特徴とする電子写真感光体が提
供される。
性a−St層及び光導電性アモルファスシリコンカーバ
イド層(以下、アモルファスシリコンカーバイドをa−
SiCと略す)を順次形成した電子写真感光体であって
、前記a−SiC層のシリコン(Si)元素とカーボン
(C)元素の原子比率がSi(+−x+ CXのX値で
0.01≦X≦0.5の範囲内にあり且つその厚みが0
゜05〜5μmの範囲内に設定され、更に該a−SiC
ji5が0.5〜1100ppの周期律表第nla族元
素を含有していることを特徴とする電子写真感光体が提
供される。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明電子写真感光体の基本的層構成は第1図に示す通
りであり、導電性基板(5)の上に光導電性a−5tj
W(6)及び光導電性amSiC層(7)が順次積層さ
れている。
りであり、導電性基板(5)の上に光導電性a−5tj
W(6)及び光導電性amSiC層(7)が順次積層さ
れている。
本発明者等の実験によれば、上記のa−SiC層(7)
に所定量の周期律表第ma族元素(以下、IIIa族元
素と略す)を含有させた場合に短波長側の光感度が顕著
に高められることが見出され、そして、この知見に基づ
いて本発明が完成されるに至った。
に所定量の周期律表第ma族元素(以下、IIIa族元
素と略す)を含有させた場合に短波長側の光感度が顕著
に高められることが見出され、そして、この知見に基づ
いて本発明が完成されるに至った。
即ち、第1図に示す層構成によれば、その層(7)の厚
みを所定の範囲内に設定すると入射した光のうち短波長
側がa−9iC層(7)で吸収され、しかも、そのa−
SiC層(7)を透過した光、即ち、長波長側の光がa
−Si屡(6)で吸収され、これにより、短波長側及び
長波長側の両者ともに光感度を高めることが特徴である
。
みを所定の範囲内に設定すると入射した光のうち短波長
側がa−9iC層(7)で吸収され、しかも、そのa−
SiC層(7)を透過した光、即ち、長波長側の光がa
−Si屡(6)で吸収され、これにより、短波長側及び
長波長側の両者ともに光感度を高めることが特徴である
。
先ず、a−3iC層(7)によれば、アモルファス化し
たSi元素及びC元素を不可欠な構成元素と成し、その
ダングリングボンドを終端させるべく水素(H)元素や
ハロゲン元素を所要の範囲内で含有させることによって
光導電性が生じる。本発明者等がカーボンの含有比率を
幾通りにも変えて光導電性を確かめる実験を行ったとこ
ろ、Si元素とC元素の原子比率、即ち、Si (1−
X) Cx (7)X値が0.01 :i;X≦0.5
、好適には0.05≦X≦0.3の範囲内に設定された
場合、暗導電率が小さくなり、短波長側の光感度を高め
ることができる。
たSi元素及びC元素を不可欠な構成元素と成し、その
ダングリングボンドを終端させるべく水素(H)元素や
ハロゲン元素を所要の範囲内で含有させることによって
光導電性が生じる。本発明者等がカーボンの含有比率を
幾通りにも変えて光導電性を確かめる実験を行ったとこ
ろ、Si元素とC元素の原子比率、即ち、Si (1−
X) Cx (7)X値が0.01 :i;X≦0.5
、好適には0.05≦X≦0.3の範囲内に設定された
場合、暗導電率が小さくなり、短波長側の光感度を高め
ることができる。
また、■元素やハロゲン元素などのダングリングボンド
終端用元素への含有量は(Si(+−XI Cx)+−
,(t)yで表したy値が0.05≦y≦0.5、好適
には0.05≦y≦0.4、最適には0.1≦y≦0.
3の範囲内になるように設定するとよい。このような元
素Aにはダングリングボンドの終端部に取り込まれ易く
てバンドギャップ中の局在準位密度が低減化されるとい
う点で通常H元素が用いられる。
終端用元素への含有量は(Si(+−XI Cx)+−
,(t)yで表したy値が0.05≦y≦0.5、好適
には0.05≦y≦0.4、最適には0.1≦y≦0.
3の範囲内になるように設定するとよい。このような元
素Aにはダングリングボンドの終端部に取り込まれ易く
てバンドギャップ中の局在準位密度が低減化されるとい
う点で通常H元素が用いられる。
このようなa−SiC71(7)の厚みは0.05〜5
am 。
am 。
好適には0.1〜3μmの範囲内に設定するとよく、こ
の厚みが0.05μm未満の場合には短波長光の吸収が
不十分となって光感度を高めることができず、5μmを
超える場合には残留電位が大きくなる。
の厚みが0.05μm未満の場合には短波長光の吸収が
不十分となって光感度を高めることができず、5μmを
超える場合には残留電位が大きくなる。
ある場合、又は、そのX値が変化する場合のいずれでも
よい。
よい。
X値が層厚方向に亘って変化する場合には、そのX値が
0.01≦X≦0.5の範囲内で層(7)の厚みが決め
られ、このようにして決められた厚みも0゜05〜5μ
m、好適には0.1〜3μmの範囲内に設定する必要が
ある。
0.01≦X≦0.5の範囲内で層(7)の厚みが決め
られ、このようにして決められた厚みも0゜05〜5μ
m、好適には0.1〜3μmの範囲内に設定する必要が
ある。
このようにX値が層厚方向に亘って変化する場合のカー
ボンドーピング分布には、例えば、第4図〜第9図に示
す通りがある。
ボンドーピング分布には、例えば、第4図〜第9図に示
す通りがある。
各々の図において、横軸はa−SiC層(7)の層厚方
向を示し、aはa−3t 層(6)との界面であり、
bはその反対側の界面であり、縦軸はカーボン含有量を
表す。
向を示し、aはa−3t 層(6)との界面であり、
bはその反対側の界面であり、縦軸はカーボン含有量を
表す。
また、このa−SiC層(7)にはma族元素をその層
厚方向に亘って均一に0.5〜1100pp、好適には
1〜50ppmの範囲内で含有させるとよく、この含有
量が9.5ppm未満の場合には十分に大きな光感度が
得られず、一方、1100ppを超える場合には帯電能
が低下する。
厚方向に亘って均一に0.5〜1100pp、好適には
1〜50ppmの範囲内で含有させるとよく、この含有
量が9.5ppm未満の場合には十分に大きな光感度が
得られず、一方、1100ppを超える場合には帯電能
が低下する。
上記ma族元素にはB、AI、Ga、In等があるが、
就中、Bが共有結合性に優れて半W体特性を敏感に変え
得る点で、その上、優れた帯電能並びに光感度が得られ
るという点で望ましい。
就中、Bが共有結合性に優れて半W体特性を敏感に変え
得る点で、その上、優れた帯電能並びに光感度が得られ
るという点で望ましい。
このようにa−SiCJW(7)にma族元素を含有さ
せるに当たり、そのドーピング分布はその層厚方向に亘
って不均一にしてもよく、例えば第10図〜第15図に
示す通りがある。
せるに当たり、そのドーピング分布はその層厚方向に亘
って不均一にしてもよく、例えば第10図〜第15図に
示す通りがある。
各々の図において、横軸はa−SiCN(7)の層厚方
向を示し、aはa−SiJii(6) との界面であり
、bはその反対側の界面であり、そして、縦軸はma族
元素含有量を表す。
向を示し、aはa−SiJii(6) との界面であり
、bはその反対側の界面であり、そして、縦軸はma族
元素含有量を表す。
このようにma族元素含有量を層厚方向に亘って変化さ
せた場合、その含有量はa−SiC層(7)全体当たり
の平均値である。
せた場合、その含有量はa−SiC層(7)全体当たり
の平均値である。
また、前記a−SiF!(6)はアモルファス化したS
i元素と、そのダングリングボンドを終端させるための
H元素やハロゲン元素から成り、入射光のうち長波長側
の光が吸収される。
i元素と、そのダングリングボンドを終端させるための
H元素やハロゲン元素から成り、入射光のうち長波長側
の光が吸収される。
このa−Si層(6)の厚みは5〜100μm、好適に
は10〜50μmの範囲内に設定するのが望ましく、こ
の範囲内であれば、高い帯電能が得られ、しかも、長波
長光が有効に吸収されるという点で有利である。
は10〜50μmの範囲内に設定するのが望ましく、こ
の範囲内であれば、高い帯電能が得られ、しかも、長波
長光が有効に吸収されるという点で有利である。
また、a−Si層(6)は実質上カーボン元素を含有し
ない層であるが、非常に微少量のカーボンが含有しても
よい。その場合、このカーボンが11000pp以下、
好適には500ppm以下の範囲内であれば、長波長光
の光感度が顕著に低下しない。
ない層であるが、非常に微少量のカーボンが含有しても
よい。その場合、このカーボンが11000pp以下、
好適には500ppm以下の範囲内であれば、長波長光
の光感度が顕著に低下しない。
更に、a−Si層(6)にはma族元素を0.01〜1
0ppm 、好適には0.1〜5ppmの範囲内で含有
させてもよく、この範囲内であれば、高い帯電能が得ら
れ、しかも、残留電位を低減化できるという点で有利で
ある。尚、この■a族元素のドーピング分布は層厚方向
に亘って均−又は不均一のいずれでもよく、不均一にド
ーピングする場合の含有量はその層(6)の全体当たり
の平均値である。
0ppm 、好適には0.1〜5ppmの範囲内で含有
させてもよく、この範囲内であれば、高い帯電能が得ら
れ、しかも、残留電位を低減化できるという点で有利で
ある。尚、この■a族元素のドーピング分布は層厚方向
に亘って均−又は不均一のいずれでもよく、不均一にド
ーピングする場合の含有量はその層(6)の全体当たり
の平均値である。
そして、このようにa−SiN(6)に含有させるma
族元素にはB、^l、Ga+In等がある。
族元素にはB、^l、Ga+In等がある。
かくして、本発明の電子写真感光体が、ハロゲンランプ
等の白色光を光源として用いたPPCに搭載された場合
、短波長側の光が主にa−3iCNで吸収され、しかも
、長波長側の光が主にa−SiJfflで吸収されるよ
うになり、これにより、赤外波長光をカットするための
フィルタが不要となり、感光体自体の光感度が著しく富
められる。
等の白色光を光源として用いたPPCに搭載された場合
、短波長側の光が主にa−3iCNで吸収され、しかも
、長波長側の光が主にa−SiJfflで吸収されるよ
うになり、これにより、赤外波長光をカットするための
フィルタが不要となり、感光体自体の光感度が著しく富
められる。
本発明の電子写真感光体は上記のような二層構造が不可
欠であるが、それ以外にキャリア注入阻止層や表面保護
層を形成してもよい。
欠であるが、それ以外にキャリア注入阻止層や表面保護
層を形成してもよい。
例えば、第2図は典型的層構造を表しており、基板(5
)とa−SiJii(6)の間にキャリア注入阻止層(
8)を、そして、a−3iC層(7)の上に表面保護層
(9)を形成している。
)とa−SiJii(6)の間にキャリア注入阻止層(
8)を、そして、a−3iC層(7)の上に表面保護層
(9)を形成している。
前記キャリア注入阻止N(8)については、基板(5)
からのキャリアの注入を阻止するものであり、表面保護
層(9)についてはa−3iCi!(7)を保護して耐
湿性などを向上させるものであり、しかも、両者の層(
8)及び層(9)はいずれも感光体の暗導電率を小さく
して帯電能を高めることができる。
からのキャリアの注入を阻止するものであり、表面保護
層(9)についてはa−3iCi!(7)を保護して耐
湿性などを向上させるものであり、しかも、両者の層(
8)及び層(9)はいずれも感光体の暗導電率を小さく
して帯電能を高めることができる。
この表面保護層(9)にはそれ自体高絶縁性、高耐蝕性
並びに高硬度性を有するものであるならば種々の材料を
用いることができる。例えばポリイミド樹脂などの有機
材料、SiC、SiO、AIto3、SiNなどの無機
材料を用いることができる。
並びに高硬度性を有するものであるならば種々の材料を
用いることができる。例えばポリイミド樹脂などの有機
材料、SiC、SiO、AIto3、SiNなどの無機
材料を用いることができる。
また、キャリア注入阻止層(8)も上記表面保護層用材
料と同じ材料を用いることができる。
料と同じ材料を用いることができる。
次に本発明に係る電子写真感光体の製法を述べる。
a−Si層又はa−SiC層を形成するにはグロー放電
分解法、イオンブレーティング法、反応性スパンクリン
グ法、真空蒸着法、CVO法等の薄膜形成ガスを、又は
そのガスとC元素含有ガスを組合せ、グロー放電分解す
る。このSt元素含有ガスには5tH4,SiJ6.S
i3Hs 、SiF4.5IC14,5jllC1:+
等々があり、また、C元素含有ガスにはCH4、C21
14、Cz H□、C3H11等々があり、就中、C,
+1.は高速成膜性が得られるという点で望ましい。
分解法、イオンブレーティング法、反応性スパンクリン
グ法、真空蒸着法、CVO法等の薄膜形成ガスを、又は
そのガスとC元素含有ガスを組合せ、グロー放電分解す
る。このSt元素含有ガスには5tH4,SiJ6.S
i3Hs 、SiF4.5IC14,5jllC1:+
等々があり、また、C元素含有ガスにはCH4、C21
14、Cz H□、C3H11等々があり、就中、C,
+1.は高速成膜性が得られるという点で望ましい。
本発明の実施例に用いられる容量結合型グロー放電分解
装置を第16図により説明する。
装置を第16図により説明する。
図中、第1、第2、第3、第4、第5、第6タンク(1
0) (11) (12) (13) (14) (1
5)には、それぞれSiH4、C21h、BzH6(H
zガス希釈で0.2χ含有) 、B、1I6(H,ガス
希釈で38ppm含有’) 、H,、Noガスが密封さ
れており、++zはキャリアガスとしても用いられる。
0) (11) (12) (13) (14) (1
5)には、それぞれSiH4、C21h、BzH6(H
zガス希釈で0.2χ含有) 、B、1I6(H,ガス
希釈で38ppm含有’) 、H,、Noガスが密封さ
れており、++zはキャリアガスとしても用いられる。
これらのガスはそれぞれ対応する第1、第2、第3、第
4、第5、第6調整弁(16) (17) (18)
(19)(20) (21)を開放することにより放出
され、その流量がマスフローコントローラ(22) (
23) (24) (25) (26) (27)によ
り制御され、第1、第2、第3、第4、第5タンク(1
0) (11) (12) (13) (14)からの
ガスは第1主管(28)へ、第6タンク(15)からの
Noガスは第2主管(29)へ送られる。尚、(30)
(31)は止め弁である。第1主管(28)及び第2
主管(29)を通じて流れるガスは反応管(32)へと
送り込まれるが、この反応管(32)の内部には容量結
合型放電用電極(33)が設置されており、それに印加
される高周波電力は50−〜3に−が、また周波数は1
〜50MIIzが適当である。反応管(32)の内部に
はアルミニウムから成る筒状の成膜基板(34)が試料
保持台(35)の上に載置されており、この保持台(3
5)はモーター(36)により回転駆動されるようにな
っており、そして、基板(34)は適当な加熱手段によ
り約200〜400℃、好適には約200〜350℃の
温度に均一に加熱される。更に反応管(32)の内部は
a−3iC膜形成時に高度の真空状態(放電圧0.1〜
2.0Torr)を必要とすることにより回転ポンプ(
37)と拡散ポンプ(38)に連結されている。
4、第5、第6調整弁(16) (17) (18)
(19)(20) (21)を開放することにより放出
され、その流量がマスフローコントローラ(22) (
23) (24) (25) (26) (27)によ
り制御され、第1、第2、第3、第4、第5タンク(1
0) (11) (12) (13) (14)からの
ガスは第1主管(28)へ、第6タンク(15)からの
Noガスは第2主管(29)へ送られる。尚、(30)
(31)は止め弁である。第1主管(28)及び第2
主管(29)を通じて流れるガスは反応管(32)へと
送り込まれるが、この反応管(32)の内部には容量結
合型放電用電極(33)が設置されており、それに印加
される高周波電力は50−〜3に−が、また周波数は1
〜50MIIzが適当である。反応管(32)の内部に
はアルミニウムから成る筒状の成膜基板(34)が試料
保持台(35)の上に載置されており、この保持台(3
5)はモーター(36)により回転駆動されるようにな
っており、そして、基板(34)は適当な加熱手段によ
り約200〜400℃、好適には約200〜350℃の
温度に均一に加熱される。更に反応管(32)の内部は
a−3iC膜形成時に高度の真空状態(放電圧0.1〜
2.0Torr)を必要とすることにより回転ポンプ(
37)と拡散ポンプ(38)に連結されている。
以上のように構成されたグロー放電分解装置において、
例えばa−SiC膜を基板(34)に形成する場合、第
1、第2、第5調整弁(16) (17) (20)を
開いてそれぞれよりS i If a、C2II ff
i、H2ガスを放出し、その放出量はマスフローコント
ローラ(22) (23) (26)により制御され、
SiHa、C211□、11□の混合ガスは第1主管(
28)を介して反応管(32)へ流し込まれる。
例えばa−SiC膜を基板(34)に形成する場合、第
1、第2、第5調整弁(16) (17) (20)を
開いてそれぞれよりS i If a、C2II ff
i、H2ガスを放出し、その放出量はマスフローコント
ローラ(22) (23) (26)により制御され、
SiHa、C211□、11□の混合ガスは第1主管(
28)を介して反応管(32)へ流し込まれる。
そして、反応管(32)の内部が0.1〜2.Torr
程度の真空状態、基板温度が200〜400℃、容量結
合型放電用電極(33)に印加される高周波電力が50
W〜3KW 、また周波数が1〜50MIIzに設定さ
れていることに相俟ってグロー放電が起こり、ガスが分
解してa−SiC膜が基板上に高速で形成される。
程度の真空状態、基板温度が200〜400℃、容量結
合型放電用電極(33)に印加される高周波電力が50
W〜3KW 、また周波数が1〜50MIIzに設定さ
れていることに相俟ってグロー放電が起こり、ガスが分
解してa−SiC膜が基板上に高速で形成される。
(実施例)
次に本発明の詳細な説明する。
(例1)
第16図のグロー放電分解装置を用いて第1表に示す通
りの成膜条件によりアルミニウム製基板上に光導電性a
−Sill(6)及び光i電性a−3iCN (7)を
順次積層し、第1図に示す通りの感光体ドラムを製作し
た。
りの成膜条件によりアルミニウム製基板上に光導電性a
−Sill(6)及び光i電性a−3iCN (7)を
順次積層し、第1図に示す通りの感光体ドラムを製作し
た。
かくして得られた感光体ドラムに、可視光分光器により
分光された0、3μW/cn+”の単色光を照射し、表
面電位の半減時間を求めて分光感度を測定したところ、
第17図に示す通りの結果が得られた。
分光された0、3μW/cn+”の単色光を照射し、表
面電位の半減時間を求めて分光感度を測定したところ、
第17図に示す通りの結果が得られた。
同図において、横軸は波長であり、縦軸は光感度であり
、そして、○印は測定結果のプロットであり、aはその
特性曲線である。
、そして、○印は測定結果のプロットであり、aはその
特性曲線である。
また第17図には上記感光体ドラムより光導電性a−S
iCJtlJが除かれた感光体ドラムが比較例として示
されており、その分光感度を測定したところ、・印に示
される測定結果のプロットが得られ、bはその特性曲線
である。
iCJtlJが除かれた感光体ドラムが比較例として示
されており、その分光感度を測定したところ、・印に示
される測定結果のプロットが得られ、bはその特性曲線
である。
この結果より明らかな通り、本発明の感光体ドラムは短
波長側の光感度が顕著に大きくなっていることが判る。
波長側の光感度が顕著に大きくなっていることが判る。
尚、上記光導電性a−SiC層のカーボン量をESCA
分析により求めたところ、Si1−xCつのX値で0゜
12であり、また、そのB含有量を二次イオンfff1
分析計により求めたところ、6ppmであった。
分析により求めたところ、Si1−xCつのX値で0゜
12であり、また、そのB含有量を二次イオンfff1
分析計により求めたところ、6ppmであった。
(例2)
本例においては、第2表に示す通りの成膜条件によりア
ルミニウム製基板上にキャリア注入阻止!(8) 、光
!電性a−3ilW(6) 、光4ii性a−SiCJ
i!1(7)及び表面保護N(9)を順次積層し、第2
図に示す通りの感光体ドラムを製作した。
ルミニウム製基板上にキャリア注入阻止!(8) 、光
!電性a−3ilW(6) 、光4ii性a−SiCJ
i!1(7)及び表面保護N(9)を順次積層し、第2
図に示す通りの感光体ドラムを製作した。
(以下、余白)
かくして得られた感光体ドラムをPPCに搭載し、そし
て、赤色カットフィルタを用いないでハロゲンランプを
投光源とし、更にコロナチャージャで+5.6KVの電
圧を印加して正帯電させ、これにより、表面電位、光感
度並びに残留電位を測定したところ、下記に示す通りの
結果が得られた。
て、赤色カットフィルタを用いないでハロゲンランプを
投光源とし、更にコロナチャージャで+5.6KVの電
圧を印加して正帯電させ、これにより、表面電位、光感
度並びに残留電位を測定したところ、下記に示す通りの
結果が得られた。
表面電位・・・・・・・・+390v
光感度(記録露光ff1) ・・0.54 lux
−5ec残留電位(露光開始5秒後の値)・・20V
また、この感光体ドラムを高速PPCに搭載し、50枚
/分の速度にて画像出しテストを行ったところ、黒色部
及び赤色部に対する忠実なる再現性が得られ、しかも、
高い濃度で且つカプリのない鮮明な画像が得られた。
−5ec残留電位(露光開始5秒後の値)・・20V
また、この感光体ドラムを高速PPCに搭載し、50枚
/分の速度にて画像出しテストを行ったところ、黒色部
及び赤色部に対する忠実なる再現性が得られ、しかも、
高い濃度で且つカプリのない鮮明な画像が得られた。
(例3)
次に本例においては、(例2)にて得られた感光体ドラ
ムについて、光導電性a−SiCrrJの厚みを幾通り
にも変え、これによって得られる感光体ドラムA−Gの
表面電位、光感度(記録露光N)並びに残留電位(露光
開始5秒後の値)を測定したところ、第3表に示す通り
の結果が得られた。
ムについて、光導電性a−SiCrrJの厚みを幾通り
にも変え、これによって得られる感光体ドラムA−Gの
表面電位、光感度(記録露光N)並びに残留電位(露光
開始5秒後の値)を測定したところ、第3表に示す通り
の結果が得られた。
第3表
本印の感光体ドラムは本発明の範囲外のものである第3
表より明らかな通り、本発明の感光体ドラムB−Fは表
面電位が高く、残留電位が小さく、しかも、優れた光感
度が得られていることが判る。
表より明らかな通り、本発明の感光体ドラムB−Fは表
面電位が高く、残留電位が小さく、しかも、優れた光感
度が得られていることが判る。
然るに感光体ドラムAは光感度に劣っており、感光体ド
ラムGは残留電位が大きくなっている。
ラムGは残留電位が大きくなっている。
(例4)
本例においては、(例2)にて得られた感光体ドラムに
ついて、光導電性a−3iCNのカーボン含有量とB含
有量をそれぞれ幾通りにも変え、これによって得られる
感光体ドラム11〜0の表面電位、光感度(記録露光量
)並びに残留電位(露光開始5秒後の値)を測定したと
ころ、第4表に示す通りの結果が得られた。
ついて、光導電性a−3iCNのカーボン含有量とB含
有量をそれぞれ幾通りにも変え、これによって得られる
感光体ドラム11〜0の表面電位、光感度(記録露光量
)並びに残留電位(露光開始5秒後の値)を測定したと
ころ、第4表に示す通りの結果が得られた。
(以下、余白)
第4表
中印の感光体ドラhL林発明の範囲外のものである第4
表より明らかな通り、本発明の感光体ドラムJ−には表
面電位が畜<、残留電位が小さく、しかも、優れた光感
度が得られていることが判る。
表より明らかな通り、本発明の感光体ドラムJ−には表
面電位が畜<、残留電位が小さく、しかも、優れた光感
度が得られていることが判る。
然るに感光体ドラムHとIは光感度に劣っており、感光
体ドラムNとOはいずれも表面電位が小さく、残留電位
が大きく、しかも、光感度に劣っている。
体ドラムNとOはいずれも表面電位が小さく、残留電位
が大きく、しかも、光感度に劣っている。
また、本発明者等は上記感光体ドラムB−F及びJ−M
をそれぞれ高速PPCに搭載し、50枚/分の速度にて
画像出しテストを行ったところ、黒色部及び赤色部に対
する忠実なる再現性が得られ、しかも、高い濃度で且つ
カブリのない鮮明な画像が得られることを確認した。
をそれぞれ高速PPCに搭載し、50枚/分の速度にて
画像出しテストを行ったところ、黒色部及び赤色部に対
する忠実なる再現性が得られ、しかも、高い濃度で且つ
カブリのない鮮明な画像が得られることを確認した。
(発明の効果)
以上の通り、本発明の電子写真感光体によれば、光導電
性a−Si層と光導電性a−SiC層をMI層し、その
a−SiC層の原子比率及び厚み並びにI[[a族元素
含有量をそれぞれ所定の範囲内に設定し、これにより、
長波長側及び短波長側の両者の光感度を高めることがで
き、その結果、赤外波長光カットフイルタを用いないで
優れた光感度が得られるPPC用の電子写真感光体が提
供される。
性a−Si層と光導電性a−SiC層をMI層し、その
a−SiC層の原子比率及び厚み並びにI[[a族元素
含有量をそれぞれ所定の範囲内に設定し、これにより、
長波長側及び短波長側の両者の光感度を高めることがで
き、その結果、赤外波長光カットフイルタを用いないで
優れた光感度が得られるPPC用の電子写真感光体が提
供される。
第1図は本発明電子写真感光体の基本的な層構造を示す
断面図、第2図は本発明電子写真感光体の典型的層構造
を示す断面図、第3図は従来の電子写真感光体の層構造
を示す断面図、第4図、第5図、第6図、第7図、第8
図及び第9図はカーボンドーピング分布を示す線図、第
10図、第11図、第12図、第13図、第14図及び
第15図は周期律表第ma族元素ドーピング分布を示す
線図、第16図はグロー放電分解装置の概略図、第17
は分光感度を示す線図である。 1.5 ・・導電性基板 2.8・・・キャリア注入■止層 4.9・・・表面保護層 6・・・・先導t 性アモルファスシリコン層7・・・
・光”L 電性アモルファスシリコンカーバイド層 第4− N5図 第6図 第7図 第8図 第9図 、1o、 第■図 第り図 第利図 第14図 第15図
断面図、第2図は本発明電子写真感光体の典型的層構造
を示す断面図、第3図は従来の電子写真感光体の層構造
を示す断面図、第4図、第5図、第6図、第7図、第8
図及び第9図はカーボンドーピング分布を示す線図、第
10図、第11図、第12図、第13図、第14図及び
第15図は周期律表第ma族元素ドーピング分布を示す
線図、第16図はグロー放電分解装置の概略図、第17
は分光感度を示す線図である。 1.5 ・・導電性基板 2.8・・・キャリア注入■止層 4.9・・・表面保護層 6・・・・先導t 性アモルファスシリコン層7・・・
・光”L 電性アモルファスシリコンカーバイド層 第4− N5図 第6図 第7図 第8図 第9図 、1o、 第■図 第り図 第利図 第14図 第15図
Claims (1)
- 導電性基板上に、少なくとも、光導電性アモルファス
シリコン層及び光導電性アモルファスシリコンカーバイ
ド層を順次形成した電子写真感光体であって、前記アモ
ルファスシリコンカーバイド層のシリコン元素とカーボ
ン元素の原子比率がSi_(_1_−_x_)C_xの
x値で0.01≦x≦0.5の範囲内にあり且つその厚
みが0.05〜5μmの範囲内に設定され、更に該アモ
ルファスシリコンカーバイド層が0.5〜100ppm
の周期律表第IIIa族元素を含有していることを特徴と
する電子写真感光体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62333569A JP2678449B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 電子写真感光体 |
US07/288,949 US4977050A (en) | 1987-12-28 | 1988-12-21 | Electrophotographic sensitive member |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62333569A JP2678449B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01287574A true JPH01287574A (ja) | 1989-11-20 |
JP2678449B2 JP2678449B2 (ja) | 1997-11-17 |
Family
ID=18267509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62333569A Expired - Fee Related JP2678449B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2678449B2 (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6194054A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-12 | Toshiba Corp | 光導電部材 |
JPS61189558A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-23 | Canon Inc | 光受容部材 |
JPS61238065A (ja) * | 1985-04-15 | 1986-10-23 | Canon Inc | 光受容部材 |
JPS61256354A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-13 | Canon Inc | 光受容部材 |
JPS61267057A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-26 | Canon Inc | 光受容部材 |
JPS61272748A (ja) * | 1985-05-28 | 1986-12-03 | Canon Inc | 光受容部材 |
-
1987
- 1987-12-28 JP JP62333569A patent/JP2678449B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6194054A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-12 | Toshiba Corp | 光導電部材 |
JPS61189558A (ja) * | 1985-02-19 | 1986-08-23 | Canon Inc | 光受容部材 |
JPS61238065A (ja) * | 1985-04-15 | 1986-10-23 | Canon Inc | 光受容部材 |
JPS61256354A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-13 | Canon Inc | 光受容部材 |
JPS61267057A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-26 | Canon Inc | 光受容部材 |
JPS61272748A (ja) * | 1985-05-28 | 1986-12-03 | Canon Inc | 光受容部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2678449B2 (ja) | 1997-11-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |