JPH01285035A - 貼り合わせ型光ディスク - Google Patents
貼り合わせ型光ディスクInfo
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- JPH01285035A JPH01285035A JP63113003A JP11300388A JPH01285035A JP H01285035 A JPH01285035 A JP H01285035A JP 63113003 A JP63113003 A JP 63113003A JP 11300388 A JP11300388 A JP 11300388A JP H01285035 A JPH01285035 A JP H01285035A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［産業上の利用分野］
本発明は、光を用いて情報の記録、再生または消去を行
う貼り合わせ型光ディスクに関する。
う貼り合わせ型光ディスクに関する。
従来の貼り合わせ型光ディスクは、基板の内周側と外周
側には記録層や保護層が達しないようにして貼り合わせ
ていた。射出成形により形成した基板は内周側にスタン
バ押えによる溝が形成されるが、通常この内周側までは
記録層部は成膜せず、この溝の１から４ｍｍ程度外側ま
でしか成膜しなかった。 ［発明が解決しようとする課題］ しかし前述の従来技術では、スタンバ押えによる溝の１
から４ｍｍ程度外側までしか成膜しないので基板の樹脂
面が露出した形になり、エポキシ樹脂を用いた貼り合わ
せのとき基板の樹脂面をエポキシ樹脂により接着すると
いうことになるが、基板の樹脂とエポキシ樹脂は、接着
力が弱く、この部分で剥離して記録層の酸化の原因とな
りやすい。 そこで本発明はこのような課題を解決するものでその目
的とするところは、基板の内周側まで記録層部を形成す
ることにより、エポキシ樹脂を用いた貼り合わせでも、
剥離して記録層が酸化しない貼り合わせ型光ディスクを
提供するところにある。 ［課題を解決するための手段］ 本発明の貼り合わせ型光ディスクは透明基鈑を用いる貼
り合わせ型光ディスクにおいて、基板の片面に記録層お
よびセラミックスの保護層からなる記録層部を成膜した
ものを貼り合わせするとき、基板の内周側まで前記記録
層部もしくは保護層の１つを形成して、エポキシ樹脂を
用いて貼り合わせたことを特徴とする。 本発明において基板の内周側まで記録層もしくはセラミ
ックス層のみを成膜方法としては次のようなものが考え
られる。記録層部を形成するときに用いる中心部を押え
るのに用いられるセンターマスクに穴をあける方法。穴
の大きさは記録層部が成膜される程度に大きければよい
し、形状は円、四角、三角、放射状など様々なものが考
＾られる。センターマスクを射出成形のときのスタンバ
押λの溝の部分より小さくする。記録層部を形成する前
もしくは後に基板の内周側にセラミックス層を成膜する
などである。 ［実 施 例］ 以下本発明について図面に基づいて詳細に説明する。 第１図及び第２図は本発明の貼り合わせ型光ディスクの
基本構成図である。第３図は従来の貼り合わせ型光ディ
スクの図である。第１図は射出成形のときのスタンパ押
えによる溝の部分まで記録層部を成膜した場合であり、
第２図はスタンバ押λによる溝の内周側まで５ｉＡＩＮ
層のみを成膜した場合である。 第１図、第２図及び第３図の、貼り合わせる前のディス
クは以下のようにして形成した。射出圧縮成形により１
．６μｍピッチでスパイラル状の溝を形成したあと、５
ｉＡｌの焼結ターゲットを用いたＲＦ反応マグネトロン
スパッタ法により５ｉＡｌｎ層を８００人成膜して、そ
の上にＮｄＤｙＦｅＣｏの合金ターゲットを用いたＤＣ
マグネトロンスパッタ法により９００人成膜して、さら
にその上に５ｉＡ１の焼結ターゲットを用いたＲＦ反応
マグネトロンスパッタ法により８００人成膜した。貼り
合わせは以下の様にして行った。 基板の記録層が成膜されている側にエポキシの接着剤を
ドーナツ状に塗布した後、真空系内において脱泡して別
の基板と貼り合わせた。このとき貼り合わせに用いた基
板は記録層が成膜されていない、５ｉＡＩＮ層のみ成膜
されたものを用いたが、両面型のディスクにするため記
録層が成膜されたもの同士を貼り合わせてもよい、貼り
合わせに用いたエポキシ樹脂は大日本インキ化学工業■
のエビクロンＳ−１２９を主剤として、油化シェルエポ
キシ■のエビキュアーＩＢＭＩ−１２を硬化剤としたも
のを用いた。配合は主剤２５に対して硬化剤１である。 接着剤の硬化は６０℃で１０時間仮硬化させた後、９０
℃で５時間本硬化させた。接着層が硬化した後の光ディ
スクは外端部を紫外線硬化樹脂を用いて被覆した。被覆
に用いた紫外線硬化樹脂はジペンクエリスリトールハキ
サアクリレート３０部、トリメチロールプロパントリア
クリレート３０部、１．６−ヘキサンジオールジアクリ
レート３０部、ベンジルジメチルケタール５部、γ−グ
リシドキシプロビルトリメトキシシラン５部の混合物で
ある。これを接着剤を硬化させた後の光ディスクの外端
部に塗布した後、１００ｍＷ／ｃｍの高圧水銀灯を用い
てｌｏｃｍの距離から１５秒照射して硬化させた。 第１図の１は基板の外端面、２は記録層部が形成された
部分、３は射出成形のときのスタンバ押えの溝の部分、
４は内周側まで成膜された記録層部、５はディスクのセ
ンターホール部である。第２図の６は基板の外端面、７
は記録層部が形成された部分、８は射出成形のときのス
タンパ押えの溝の部分、９は記録層部が形成されたあと
にさらに成膜された５ｉＡＩＮ層、ｌＯはディスクのセ
ンターホール部である。第３図の１１は基板の外端面、
１２は記録層部が形成された部分、１３は射出成形のと
きのスタンパ押えの溝の部分、１４はディスクのセンタ
ーホール部である。 次に、第１図、第２図及び第３図に示す貼り合わせ型光
ディスクを９０℃９０％ＲＨ下にｌｏ。 ０時間放置する耐候試験後の性状を表１に示す。 本発明になる第１図及び第２図の貼り合わせ型光ディス
クは９０℃９０％１０００時間でも剥離が生じないため
に長期信頼性があることがわかる。 それに比べて従来例の第３図に示す光ディスクは内周側
に剥離を生じてそこの部分から記録層の酸化が進行して
いた。 基板の内周側まで記録層部や保護層を成膜する方法につ
いて説明する０通常、スタンパ押＾によ□る溝より１か
ら４ｍｍ程度外側までしか成膜しない、これはその溝が
完全に覆われるようにセンターマスクをして成膜してい
るからである。第１図に示すディスクではそのセンター
マスクをスタンバ押えによる溝よりも小さくした、第２
図に示すディスクでは記録層部を成膜したあと記録層部
が成膜されている全面に５ｉＡＩＮの保護層をさらに成
膜した。 しかし、本発明ではこれらの実施例に限定されるものと
考えられるべきではなく本発明の主旨を逸脱しない限り
種々の変更は可能である６例えば本発明では第１図及び
第２図に示すディスクに用いた方法により基板の内周側
まで成膜したが、センターマスクに穴をあけて記録層部
を成膜したり、Ｓ ｉ Ａ Ｉ Ｎなどのセラミック層
を全面に成膜した後に記録層部を成膜しても構わない、
また、本発明ではエポキシ樹脂は１種類しか用いていな
いが、エポキシ基を有するもので樹脂との密着力が弱い
ものであれば適用できる。さらに、本発明ではエポキシ
樹脂と直接接着するセラミックスが５ｉＡＩＮ層となっ
ているが、ＳｉＮ層、ＡＩＮ層、５ｉＯＦｌなどほとん
どのセラミックス層に適用できる。 表 １ 〔発明の効果］ 本発明の貼り合わせ型光ディスクは樹脂基板の内周側ま
で記録層部を形成することにより、エポキシ樹脂を用い
た貼り合わせにおいて、高温高湿下の長時間放置しても
貼り合わせ面から剥離して記録層を酸化させない信頼性
の高い貼り合わせ型光ディスクを提供するという効果を
有する。
側には記録層や保護層が達しないようにして貼り合わせ
ていた。射出成形により形成した基板は内周側にスタン
バ押えによる溝が形成されるが、通常この内周側までは
記録層部は成膜せず、この溝の１から４ｍｍ程度外側ま
でしか成膜しなかった。 ［発明が解決しようとする課題］ しかし前述の従来技術では、スタンバ押えによる溝の１
から４ｍｍ程度外側までしか成膜しないので基板の樹脂
面が露出した形になり、エポキシ樹脂を用いた貼り合わ
せのとき基板の樹脂面をエポキシ樹脂により接着すると
いうことになるが、基板の樹脂とエポキシ樹脂は、接着
力が弱く、この部分で剥離して記録層の酸化の原因とな
りやすい。 そこで本発明はこのような課題を解決するものでその目
的とするところは、基板の内周側まで記録層部を形成す
ることにより、エポキシ樹脂を用いた貼り合わせでも、
剥離して記録層が酸化しない貼り合わせ型光ディスクを
提供するところにある。 ［課題を解決するための手段］ 本発明の貼り合わせ型光ディスクは透明基鈑を用いる貼
り合わせ型光ディスクにおいて、基板の片面に記録層お
よびセラミックスの保護層からなる記録層部を成膜した
ものを貼り合わせするとき、基板の内周側まで前記記録
層部もしくは保護層の１つを形成して、エポキシ樹脂を
用いて貼り合わせたことを特徴とする。 本発明において基板の内周側まで記録層もしくはセラミ
ックス層のみを成膜方法としては次のようなものが考え
られる。記録層部を形成するときに用いる中心部を押え
るのに用いられるセンターマスクに穴をあける方法。穴
の大きさは記録層部が成膜される程度に大きければよい
し、形状は円、四角、三角、放射状など様々なものが考
＾られる。センターマスクを射出成形のときのスタンバ
押λの溝の部分より小さくする。記録層部を形成する前
もしくは後に基板の内周側にセラミックス層を成膜する
などである。 ［実 施 例］ 以下本発明について図面に基づいて詳細に説明する。 第１図及び第２図は本発明の貼り合わせ型光ディスクの
基本構成図である。第３図は従来の貼り合わせ型光ディ
スクの図である。第１図は射出成形のときのスタンパ押
えによる溝の部分まで記録層部を成膜した場合であり、
第２図はスタンバ押λによる溝の内周側まで５ｉＡＩＮ
層のみを成膜した場合である。 第１図、第２図及び第３図の、貼り合わせる前のディス
クは以下のようにして形成した。射出圧縮成形により１
．６μｍピッチでスパイラル状の溝を形成したあと、５
ｉＡｌの焼結ターゲットを用いたＲＦ反応マグネトロン
スパッタ法により５ｉＡｌｎ層を８００人成膜して、そ
の上にＮｄＤｙＦｅＣｏの合金ターゲットを用いたＤＣ
マグネトロンスパッタ法により９００人成膜して、さら
にその上に５ｉＡ１の焼結ターゲットを用いたＲＦ反応
マグネトロンスパッタ法により８００人成膜した。貼り
合わせは以下の様にして行った。 基板の記録層が成膜されている側にエポキシの接着剤を
ドーナツ状に塗布した後、真空系内において脱泡して別
の基板と貼り合わせた。このとき貼り合わせに用いた基
板は記録層が成膜されていない、５ｉＡＩＮ層のみ成膜
されたものを用いたが、両面型のディスクにするため記
録層が成膜されたもの同士を貼り合わせてもよい、貼り
合わせに用いたエポキシ樹脂は大日本インキ化学工業■
のエビクロンＳ−１２９を主剤として、油化シェルエポ
キシ■のエビキュアーＩＢＭＩ−１２を硬化剤としたも
のを用いた。配合は主剤２５に対して硬化剤１である。 接着剤の硬化は６０℃で１０時間仮硬化させた後、９０
℃で５時間本硬化させた。接着層が硬化した後の光ディ
スクは外端部を紫外線硬化樹脂を用いて被覆した。被覆
に用いた紫外線硬化樹脂はジペンクエリスリトールハキ
サアクリレート３０部、トリメチロールプロパントリア
クリレート３０部、１．６−ヘキサンジオールジアクリ
レート３０部、ベンジルジメチルケタール５部、γ−グ
リシドキシプロビルトリメトキシシラン５部の混合物で
ある。これを接着剤を硬化させた後の光ディスクの外端
部に塗布した後、１００ｍＷ／ｃｍの高圧水銀灯を用い
てｌｏｃｍの距離から１５秒照射して硬化させた。 第１図の１は基板の外端面、２は記録層部が形成された
部分、３は射出成形のときのスタンバ押えの溝の部分、
４は内周側まで成膜された記録層部、５はディスクのセ
ンターホール部である。第２図の６は基板の外端面、７
は記録層部が形成された部分、８は射出成形のときのス
タンパ押えの溝の部分、９は記録層部が形成されたあと
にさらに成膜された５ｉＡＩＮ層、ｌＯはディスクのセ
ンターホール部である。第３図の１１は基板の外端面、
１２は記録層部が形成された部分、１３は射出成形のと
きのスタンパ押えの溝の部分、１４はディスクのセンタ
ーホール部である。 次に、第１図、第２図及び第３図に示す貼り合わせ型光
ディスクを９０℃９０％ＲＨ下にｌｏ。 ０時間放置する耐候試験後の性状を表１に示す。 本発明になる第１図及び第２図の貼り合わせ型光ディス
クは９０℃９０％１０００時間でも剥離が生じないため
に長期信頼性があることがわかる。 それに比べて従来例の第３図に示す光ディスクは内周側
に剥離を生じてそこの部分から記録層の酸化が進行して
いた。 基板の内周側まで記録層部や保護層を成膜する方法につ
いて説明する０通常、スタンパ押＾によ□る溝より１か
ら４ｍｍ程度外側までしか成膜しない、これはその溝が
完全に覆われるようにセンターマスクをして成膜してい
るからである。第１図に示すディスクではそのセンター
マスクをスタンバ押えによる溝よりも小さくした、第２
図に示すディスクでは記録層部を成膜したあと記録層部
が成膜されている全面に５ｉＡＩＮの保護層をさらに成
膜した。 しかし、本発明ではこれらの実施例に限定されるものと
考えられるべきではなく本発明の主旨を逸脱しない限り
種々の変更は可能である６例えば本発明では第１図及び
第２図に示すディスクに用いた方法により基板の内周側
まで成膜したが、センターマスクに穴をあけて記録層部
を成膜したり、Ｓ ｉ Ａ Ｉ Ｎなどのセラミック層
を全面に成膜した後に記録層部を成膜しても構わない、
また、本発明ではエポキシ樹脂は１種類しか用いていな
いが、エポキシ基を有するもので樹脂との密着力が弱い
ものであれば適用できる。さらに、本発明ではエポキシ
樹脂と直接接着するセラミックスが５ｉＡＩＮ層となっ
ているが、ＳｉＮ層、ＡＩＮ層、５ｉＯＦｌなどほとん
どのセラミックス層に適用できる。 表 １ 〔発明の効果］ 本発明の貼り合わせ型光ディスクは樹脂基板の内周側ま
で記録層部を形成することにより、エポキシ樹脂を用い
た貼り合わせにおいて、高温高湿下の長時間放置しても
貼り合わせ面から剥離して記録層を酸化させない信頼性
の高い貼り合わせ型光ディスクを提供するという効果を
有する。
第１図及び第２図は本発明の貼り合わせ型光ディスクの
基本構成図である。第３図は従来の貼り合わせ型光ディ
スクの図である。 １・・・基板の外端面 ２・・・記録層部 ３・・・スタンバ押＾による溝の部分 ４・・・内周側まで成膜された記録層部５・・・ディス
クのセンターホール部 ６・・・基板の外端面 ７・・・記録層部 ８・・・スタンパ押＾による溝の部分 ９・・・５ｉＡＩＮ層 １０・・・ディスクのセンターホール部１１・・・基板
の外端面 １２・・・記録層部 １３・・・スタンバ押えによる溝の部分１４・・・ディ
スクのセンターホール部以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 上 柳 雅 誉（他１名）４＝、ｆ；
ζ１ｆｆｉｆｌ’Ｊ １浪月！” ｆ’ｔｉ３乙１ｉｐ
しζ１ｆＰ駕 １ 記 名 ２ 圓 纂 ３ 固
基本構成図である。第３図は従来の貼り合わせ型光ディ
スクの図である。 １・・・基板の外端面 ２・・・記録層部 ３・・・スタンバ押＾による溝の部分 ４・・・内周側まで成膜された記録層部５・・・ディス
クのセンターホール部 ６・・・基板の外端面 ７・・・記録層部 ８・・・スタンパ押＾による溝の部分 ９・・・５ｉＡＩＮ層 １０・・・ディスクのセンターホール部１１・・・基板
の外端面 １２・・・記録層部 １３・・・スタンバ押えによる溝の部分１４・・・ディ
スクのセンターホール部以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 上 柳 雅 誉（他１名）４＝、ｆ；
ζ１ｆｆｉｆｌ’Ｊ １浪月！” ｆ’ｔｉ３乙１ｉｐ
しζ１ｆＰ駕 １ 記 名 ２ 圓 纂 ３ 固
Claims (1)
- 透明基板を用いる貼り合わせ型光ディスクにおいて、
前記基板の片面に記録層およびセラミックスの保護層か
らなる記録層部を成膜したものを貼り合わせするとき、
前記基板の内周側まで前記記録層部もしくは前記保護層
の１つを形成して、エポキシ樹脂を用いて貼り合わせた
ことを特徴とする貼り合わせ型光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63113003A JPH01285035A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 貼り合わせ型光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63113003A JPH01285035A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 貼り合わせ型光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01285035A true JPH01285035A (ja) | 1989-11-16 |
Family
ID=14601007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63113003A Pending JPH01285035A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | 貼り合わせ型光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01285035A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6258432B1 (en) | 1996-11-14 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Optical information recording medium and production method thereof |
-
1988
- 1988-05-10 JP JP63113003A patent/JPH01285035A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6258432B1 (en) | 1996-11-14 | 2001-07-10 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Optical information recording medium and production method thereof |
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